JPS5940341A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光学的に情報が読取られるようになした情報
記録媒体、例えばビデオ及び／又はオーディオ情報を反
射光で読取って光電変換し、情報を読出すようにした光
ディスクの製造方法に関するものである。

この種の光ディスクを用いた装置として、第１図に示す
如き方式が知られている。　これによれば、レーザー光
源１からのレーザー光２を偏光ビームスプリッタ３、偏
光面を４分の１波長分だけ回転させるλ／４板３１、ミ
ラー４、対物レンズ５を介してディスク６に導びき、こ
のディスクでの反射光をミラー４、ビームスプリッタ３
５照射することによってディスク６からの反射光のみを
シリンドリカルレンズ７方向へ反射せしめ、更に４分割
フォトダイオードから々るフォトディテクタ８に導びき
、いわゆる非点収差法によってフォーカシングを行ない
ながら光学系をディスクの径方向（白矢印方向）へ精密
に送るようにしている０上記光デイスクにおける情報の
書込み時又は読取シ時のトラッキング法として、一般に
プリグループ方式と称す案内トラックを有す方式が採用
されている。　例えば第２図に示す如く、ディスクの透
明樹脂基板９の一面に断面矩形状のトラッキング用プリ
グループ１０が多数本形成され、この上の全面にＴｅＯ
ｘ等の記録材料層１１が被着される。

そして、一点鎖線で示すレーザー光２を基板９側から照
射し、そのスポット径に対応した照射位置にある記録材
料が例えば昇華して選択的に除去され、これによって例
えば幅０．８μｍ１深さ７００Ａの溝１０に所定の書込
み部分１２がビット状に形成される。　従って、書込み
（又は読取り）ビームの中心が案内トラックであるプリ
グループ１０の中心から外れた場合、その反射光分布は
グループ１０の長さ方向（紙面垂直方向）の軸を中心と
して非対称となシ、この非対称成分を上記のディテクタ
で光電変換して検知することによって、ビームが案内ト
ラック（グループ）の中心からはずれている旨を示すト
ラッキングエラー信号を検出することができる。

ところが、上記の公知の光デイスク方式では次の（１）
〜（２）の如き欠点があることが分った。

（１）、トラッキング可能区間が短かいこと。

例えばトラックピッチ（プリグループのピッチ）は２．
５μｍ１プリグループの幅は０．８μｍル−ザー光のス
ポットサイズは１．０ｐｍであるが、第２図に２′で示
す二点鎖線のレーザー光のスポット位置がトラッキング
可能区間Ａ（即ち１．８μｍ幅の領域）を外れると、ス
ポットはグループ１０に全くかからず、トラッキングエ
ラー信号が得られないことになる。

（２）、プリグループのサイズ変化による反射光量の変
化が大きいこと。

プリグループの条件として、その形状によって反射光量
を減少させないようにすることが挙げられる。　このだ
め、プリグループの設計時には、グループの幅及び深さ
等が制御される。　しかし、幅及び深さ等が設計値から
ずれた場合、グループ形状が上記の如く矩形状であるか
ら、その段差部分の位置やサイズの影響で反射光量及び
トラッキングエラー信号が大きく変化し、再生信号に悪
影響を及はしたシ、トラッキングが正しく行なわれない
ことがある。

上記に加えて、公知のディスクでは、記録材料層を一様
に形成できないことが分った。　即ち、記録材料を基板
上に塗布形成する場合、第２図に示しだ如く、グループ
内では厚めに塗布され易く、これが書込み特性や光反射
率等の不均一さを招いてしまう。　また、記録材料を真
空蒸着で被着するときには、矩形断面の段差部における
エツジに対して材料の付きが悪くなる。

本発明者は、上記した欠陥について検討を重ねた結果、
プリグループを独得の形状とした情報記録媒体を効果的
に製造することに成功し、本発明に到達したものである
。

曲線状（特にガウス型又は正弦型で近似される形状）の
案内トラック（プリグループ）を基体上に形成する工程
と、この基体の案内トラック面上に塗布によって記録層
を形成する工程とを有するととを特徴とするものである
。

この方法によれば、基体面が例えば好ましい例として曲
線状の断面のプリグループを有しているために、塗布に
よって均一な膜厚の記録層を容易に形成でき、しかも後
述のことから明らかな如く工数を減らして容易かつ精度
良くプリグループを形成できる。

以下、本発明を実施例について図面参照下に詳細に説明
する。

まず第３図及び第４図について、本発明による方法で得
られた光ディスクの一例を説明する。

このディスクで注目すべき構成は、透明樹脂基板９の一
面に、断面が規則的で連続な少なくとも斜面を有したシ
、曲線状のプリグループ２ｏが設けられていることであ
る。　この特に好ましい断面形状としては、ガウス型で
近似されたものが望ましいが、正弦型で近似されたもの
や他の曲線形状であってもよい。

このように構成すれば、下記の如く、既述した公知のデ
ィスクの諸欠陥をことごとく解消することができる。　
以下、特に断面が曲線状である場合について述べる。

（１１、）ラッキング可能区間を大きくできること。

上記のプリグループ２０はトラ、り間隔に亘って断面曲
線状に形成されているから、例えばグループ２０又は記
録部分１２の位置がずれてレーザー光２のスポット位置
が二点鎖線の如く（２′として示す）にずれても、その
スポット位置はなおプリグループ２０にかかつているこ
とになる。　このために、トラッキング可能区間Ａは、
トラック間隔に等しい長さまで（例えば２．５μｍにン
拡大できる。　第５図には、トラッキングエラー信号（
相対値を示す）の様子を示したが、従来の第２図に示し
たような矩形状のグループに比べ、本発明によるグルー
プではトラッキング可能区間が大きいためにエラー信号
が拾い易くなるため、エラー信号をよシ大きくすること
ができる。　これは、トラッキングサーボを行なう上で
大きな利点である。

（２）、プリグループのサイズ変化による反射光量の変
化が小さいこと。

プリグループの深さを種々変えたところ、第６図の如く
、本発明によるプリグループでは、充分なトラッキング
エラー信号の得られる範囲を拡大できる。　ここでλは
レーザー光の波長を示す。

これは、本発明によるプリグループプ；断面曲線状であ
るために、このプリグループの深さの影響が、矩形断面
のものに比べて顕著には生じないからであパ従って再生
信号が良好となり、　　）ラッキングを正しく行なうこ
とができる。

（３）、トラッキングエラーによってディスクからの反
射光量が減少しないこと。

トラッキングエラーが殆んどないときには、従来のディ
スクでもプリグループによる反射光量の減少は少ないが
、トラッキングエラーが生じると矩形グループでは反射
光量が著しく減少してしまう（第７図参照）。　これに
対し、本発明によるディスクではプリグループが断面曲
線状であるために、トラッキングエラ一時の反射光量の
減少はそれ和牛じない。

上記の光ディスクは製造が容易であり、一様な記録材料
層を形成できる。

第８図にディスクの製造工程を示したが、まず第８Ａ図
の如く、ガラス、アクリル樹脂等のディスク状基板３０
の上にフォトレジスト３１を塗布し、次に例えばガウス
分布で近似される強度分布をもつレーザー光３２を選択
的に照射する。　レーザー光３２の強度とフォトレジス
ト３１の厚さ′を調節することによって、現像後に第８
Ｂ図の如く、ビーム３２の照射部分にはガウス分布の形
状を有するグループ３３が形成される。　この際、光学
系を精密に機械送りしながら基板（資）を定速回転させ
ると、基板全面にグループ３３を形成できるが、このグ
ループ３３は上述したプリグループ２０に正確に対応す
べきものである。　得られた原＠アをマザー盤として、
一般にこれに二、ケル等のメッキ加工を施し、第８Ｃ図
の如きスタンパ３５を製作する。　従って第８Ｂ図のマ
ザー盤から直接スタンパを得ることができるので、エツ
チング等の工程は不要となυ、製造工数を減らせる。　
次に、第８Ｄ図の如く、スタンパ３５によジアクリル樹
脂又はポリ塩化ビニル等の樹脂９をプレス成形し、第８
Ｅ図の如くプリグループ２０付きのディスク９を形成す
る。　更に、第８Ｆ図の如く、ディスク基板９上に記録
材料１１、例えばＴｅＯｘやハロゲン化銀乳剤を厚さ約
１０００　Ｘに被着する。　この場合、回転塗布法や真
空蒸着法等で記録材料１１を被着すると、グループ加は
曲線状であるから、グループの全体に被着された均一な
厚みの記録材料層を形成できる。　第８Ｇ図は、既述の
図面では省略した透明樹脂膜３６を被覆した状態を示し
、これで書込み前の光ディスクを完成する。

上記したことから明らかなように、本発明によるディス
クの製作工程では、グループが曲線形状であるから、プ
レス時の成形不良が生じ難く、シかも記録層が均一に塗
布可能である。

なお、上述した例において、プリグループ２０の断面形
状は種々選択できると共に、使用する記録材料もレーザ
ー光で形状変化する（例えば昇華する）タイプや熱又は
光によシ光反射率が低下するもの（例えばフォトポリマ
ー）等が使用可能である０

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は従来例を示すものであって、第１図
は情報記録（再生）装置の光学系の概略図、 第２図はその光ディスクの拡大断面図、第３図〜第８図
は本発明の実施例を示すものであって、 第３図は光ディスクの拡大断面図、 第４図はその斜視図、 第５図はプリグループの位置ずれに対するトラッキング
エラー信号の変化を示すグラフ、第６図はプリグループ
の深さによるトラッキングエラー信号の変化を示すグラ
フ、 第７図はプリグループの位置ずれに対する反射光量比を
示すグラフ、 第８Ａ図・〜第８Ｇ図は光ディスクの製造方法を工程順
に示す各拡大断面図、 である。 なお、図面に示された符号において、 １−・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・レーｆ−光源２．２′、３２・・・・・・・・
・レーサー光３・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・ビームスプリッタ３１・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・λ／４
板４・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・ミラー５−・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・対物レンズ６．１６・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・光ディスク７・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・シリンドリカル
レンズ８・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・フォトディテクタ９・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・基板１０．２０・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・プリグループ
１１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・記録材料層１２・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・記録部分３１・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・フォト
レジストあ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・マザー盤３５・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・　スタンパである。 代理人　弁理士　　逢　坂　　　先 箱１　日 ＠２日 第３Ｎ 第４０ 第８Ａ囚 ↓　に”′）　↓ 第８Ｂ口 ４ 第８６図 第８Ｄ日 ＠８Ｅ日 条８Ｆ国

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光学的に情報が読取られ若しくは書込みでき工程と
   、この基体の案内トラック面上に塗布によって記録層を
   形成する工程とを有することを特徴とする情報記録媒体
   の製造方法。 ２、断面形状がガラス型又は正弦型で近似される案内ト
   ラックを特徴する特許請求の範囲の第１項に記載した方
   法。 ３、記録層として、熱により形状変化を生ずる材料から
   なるものを特徴する特許請求の範囲の第１項又は第２項
   に記載した方法。 ４、記録層として、熱又は光によって反射率が変化する
   材料からなるものを特徴する特許請求の範囲の第１項又
   は第２項に記載した方法。