JP2008041114A - 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008041114A JP2008041114A JP2006209643A JP2006209643A JP2008041114A JP 2008041114 A JP2008041114 A JP 2008041114A JP 2006209643 A JP2006209643 A JP 2006209643A JP 2006209643 A JP2006209643 A JP 2006209643A JP 2008041114 A JP2008041114 A JP 2008041114A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- magnetic
- nonmagnetic substrate
- substrate
- resist solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】レジスト層形成工程が、レジスト溶液11の液面11aよりも上方に内周領域3が配置され、かつ、前記レジスト溶液11の液面11aよりも下方にデータ記録領域4の一部が配置されるように、前記レジスト溶液11中に前記非磁性基板31の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部37の中心を通って前記非磁性基板31の厚み方向に延びる回転軸37aを中心として、前記レジスト溶液11中に浸漬された前記非磁性基板31を回転させながら、前記レジスト溶液11中から前記非磁性基板31を取り出す取出工程とを備える磁気記録媒体の製造方法とする。
【選択図】図3
Description
これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、磁気記録層の高保磁力化と高信号対雑音比(SNR)、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では、線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。
特許文献1に記載の磁気記録媒体は、非磁性基板上に複数の凸部と凹部とを持つ軟磁性層と、この軟磁性層上に形成された強磁性層とを有するものである。この磁気記録媒体では、凸部領域に周囲と物理的に分断された垂直磁気記録領域が形成されている。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法で製造された磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
(1)中央に開口部が設けられ、ドーナツ状のデータ記録領域と、前記データ記録領域と前記開口部との間に位置する内周領域とを有する円盤状の非磁性基板上に、磁気記録パターンとなる磁性層を形成する磁性層形成工程と、前記磁性層の形成された前記非磁性基板上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層を用いて前記磁気記録パターンを形成するパターン形成工程とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えることを特徴とする。
(2)前記浸漬工程において、前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させることを特徴とする(1)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(4)前記非磁性基板の回転速度を、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時よりも上昇させることを特徴とする(3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(5)前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時の前記非磁性基板の回転速度が、350回/分〜500回/分の範囲内であり、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記非磁性基板の回転速度を5000回/分〜6000回/分の範囲内に上昇させることを特徴とする(3)または(4)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(7)前記レジスト層形成工程において、前記非磁性基板が、前記非磁性基板の厚み方向に離間して複数枚配置されていることを特徴とする(1)〜(6)の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(8)前記複数枚の非磁性基板間の距離が、12mm以上であることを特徴とする(7)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の各実施形態に限定されるものではない。
図1は、本発明の製造方法で製造された磁気記録媒体の一例を模式的に示した断面図である。本実施形態においては、記録トラックが磁気的に不連続に配置されたディスクリートトラック型の磁気記録媒体を例に挙げて説明する。
図1に示す磁気記録媒体30は、磁気ヘッドを用いて読み書きされるものであり、非磁性基板31の表面に、軟磁性層32aと、中間層32bと、磁性層からなる磁気記録パターン33と非磁性化層34とが交互に配置されてなる磁気記録層33aと、保護膜層35と、潤滑層36とが順に形成されたものである。
また、非磁性基板31の平均表面粗さ(Ra)は、1nm以下、さらには0.5nm以下であることが好ましく、中でも0.1nm以下であることが好ましい。
なお、保護膜層35の上には潤滑層36を形成することが好ましいが、潤滑層36を形成しなくてもよい。
図1に示す磁気記録媒体を製造するには、まず、図2に示す非磁性基板31のデータ記録領域4上に、スパッタリング法などを用いて、軟磁性層32a、中間層32b、磁気記録層33aとなる磁性層を順に形成する(磁性層形成工程)。次いで、磁気記録層33aとなる磁性層の表面にスパッタリング法やCVD法などを用いて、保護膜層35を形成する。
まず、保護膜層35の表面にレジスト層を形成する(レジスト層形成工程)。
レジスト層形成工程では、まず、駆動装置によって回転されるスピンドル部を備えた塗布装置に非磁性基板31を装着する。スピンドル部への非磁性基板31の装着(チャッキング)は、図3(a)に示すように、スピンドル部のチャック41を構成する3本の棒状体に、非磁性基板31の開口部37を貫通させ、3本の棒状体を中心から外側に向かって広げることにより、3本の棒状体に非磁性基板31の開口部37の内端を支持させて固定する。
次いで、図3(a)に示すように、レジスト溶液11の液面11aよりも上方に非磁性基板31の内周領域3が配置され、かつ、レジスト溶液11の液面11aよりも下方に非磁性基板31のデータ記録領域4の一部が配置されるように、レジスト溶液11中に非磁性基板31の一部を浸漬させる(浸漬工程)。
これに対し、非磁性基板31を回転させながらレジスト溶液11中に浸漬することで、非磁性基板31の内周領域3にレジスト溶液11が付着することを防止できる。
さらに、本実施形態においては、非磁性基板31をレジスト溶液11中から取り出した後も連続して回転軸37aを中心として非磁性基板31を回転させる。このことにより、非磁性基板31の内周領域3にレジスト溶液11を付着させることなく、データ記録領域4にレジスト溶液11をより一層均一な膜厚で塗布することができる。
非磁性基板31をレジスト溶液11中に浸漬しているときの非磁性基板31の回転速度は、塗布したレジスト溶液11が重力により下方にたれて、非磁性基板31の内周領域3にレジスト溶液11が付着しない程度の強さの遠心力が得られるように定められる。非磁性基板31をレジスト溶液11中に浸漬している時の回転速度(回転数)を必要以上に高めると、非磁性基板31へのレジスト溶液11の付着が阻害されるし、レジスト溶液11の液面が乱されて、非磁性基板31の内周領域3にレジスト溶液11が付着しやすくなる。
具体的には、非磁性基板31をレジスト溶液11から取り出した後に上昇された回転速度は、5000回/分〜6000回/分の範囲内とするのが望ましく、レジスト溶液11の粘度や非磁性基板31の大きさによって適宜決定できる。
次いで、レジスト層の表面側から原子を照射する。このことにより、レジスト層の薄い部分またはレジスト層のない部分の磁性層に部分的に原子が注入されて非磁性化層34が形成されるとともに、レジスト層のある部分に原子が注入されていない磁性層からなる磁気記録パターン33が形成され、磁気記録パターン33と非磁性化層34とが交互に配置されてなる磁気記録層33aを形成される。
磁性層に注入される原子としては、例えば、B、F、Si、P、Ar、Kr、In、Xeなどが挙げられる。ここでの磁性層への原子の注入によって、磁性層の結晶構造はアモルファス化され、磁性層が非磁性化される。
その後、レジスト層を全て除去し、保護膜層35の上に潤滑層36を形成して、図1に示す磁気記録媒体30とする。
また、本実施形態においては、レジスト層形成工程の取出工程において、回転軸37aを中心としてレジスト溶液11中に浸漬された非磁性基板31を回転させながら、非磁性基板31をレジスト溶液11中から取り出すので、非磁性基板31に付着した余分なレジスト溶液11を遠心力で飛散させることができ、非磁性基板31にレジスト溶液11を均一に塗布できる。
上述した第1実施形態の製造方法では、レジスト層形成工程において、1枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成する場合を例に挙げて説明したが、図3(b)に示すように、一度に複数枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成してもよい。図3(b)は、レジスト層形成工程の浸漬工程のほかの例を説明するための図であり、非磁性基板31とレジスト溶液11のみを示した概略斜視図である。本実施形態の磁気記録媒体の製造方法が上述した第1実施形態と異なるところは、レジスト層形成工程においてレジスト溶液が塗布される非磁性基板31の枚数のみであるので、その他の説明は省略する。
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、第1実施形態と同様にして、塗布装置に非磁性基板31を装着する。すなわち、図3(b)に示すように、スピンドル部への4枚の非磁性基板31の装着(チャッキング)は、スピンドル部のチャック41を構成する3本の棒状体に、4枚の非磁性基板31の開口部37を貫通させ、3本の棒状体を中心から外側に向かって広げることにより、3本の棒状体に非磁性基板31の開口部37の内端を支持させて固定する。
したがって、本実施形態においても、レジスト層形成工程の浸漬工程において、内周領域3がレジスト溶液11中に浸漬されることはなく、内周領域3にレジスト溶液11が触れることが防がれる。また、本実施形態においても、非磁性基板31に付着した余分なレジスト溶液11を遠心力で飛散させることができるので、非磁性基板31にレジスト溶液11を均一に塗布できる。
また、本実施形態の製造方法において、複数枚の非磁性基板間31の距離を12mm以上とすることで、非磁性基板31が複数枚配置されている場合におけるレジスト溶液11の塗りむらを防止できる。
したがって、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても、得られたレジスト層を用いて精度良く磁気記録パターンを形成することができ、高い記録再生特性が得られるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる。
また、レジスト層形成工程は、上述した実施形態のように、保護膜層35を形成した後で潤滑層を設ける前に行うことができるが、磁気記録層となる磁性層を形成した後であればどの段階で行なってもよく、例えば、磁気記録層となる磁性層を形成した直後に行なってもよいし、潤滑層を設けた後に行なってもよい。
さらに、図3(b)に示す例においては、一度に4枚の非磁性基板に対してレジスト層を形成する場合を例に挙げて説明したが、非磁性基板の枚数は何枚であってもよく、特に限定されない。
次に、本発明の磁気記録再生装置について説明する。図4は、本発明の磁気記録再生装置の一例を説明するための概略構成図である。図4に示す磁気記録再生装置は、磁気記録媒体30と、磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部21と、記録部と再生部とからなる磁気ヘッド27と、磁気ヘッド27を磁気記録媒体30に対して相対運動させるヘッド駆動部28と、磁気ヘッド27への信号入力と磁気ヘッド27からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段29とを具備したものである。図4に示す磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体30として、上記の磁気記録媒体の製造方法で製造された図1に示す磁気記録媒体が用いられている。
(実施例)
Li2Si2O5、Al2O3−K2O、Al2O3−K2O、MgO−P2O5、Sb2O3−ZnOを構成成分とする結晶化ガラスからなる直径1.89”(φ48mm)のハードディスク(HD)用の図2に示す非磁性基板31を用意し、非磁性基板31をスパッタリング装置の真空チャンバ内に配置して、真空チャンバ内を圧力が1.0×10−5Pa以下となるまで真空排気した。
それぞれの層の膜厚は、軟磁性層600Å、中間層100Å、磁性層150Å、保護膜層4nm、潤滑層2nmとした。
レジスト層形成工程では、まず、非磁性基板31の内周領域3を縦置きスピンドルに取り付け、回転軸37aを中心として、非磁性基板31を350回/分〜500回/分の回転速度で回転させながら、レジスト溶液11の液面11aが非磁性基板31の内周領域3の2〜3mm下方の位置となるように非磁性基板31を配置して、レジスト溶液11中に非磁性基板31の一部を10秒間浸漬させた(浸漬工程)。
電磁変換特性の評価には、米国GUZIK社製リードライトアナライザ1632およびスピンスタンドS1701MPを用いて行なった。記録再生ヘッドは、GMRヘッドを用いた。
実施例と同様の非磁性基板31のデータ記録領域4上に、実施例と同様にして軟磁性層32a、中間層32b、磁性層、保護膜層35、潤滑層36を形成した。その後、以下に示すようにして、実施例と同様のレジスト溶液を非磁性基板31の全体に塗布した。
基板の開口部のチャッキング位置まで基板をレジスト溶液に浸漬し、400rpmで10秒間、基板にレジストを塗布した。その後、基板をレジストから取り出し、基板を500rpmで12秒間回転させてレジストを振り切った。
この磁気記録ビットの欠損の発生原因は、非磁性基板31の内周領域3近傍に塗布されたレジスト溶液の膜厚にバラツキがあったため、フォトリソグラフィーにおける磁気記録パターンの現像の精度が不十分となり、所定の形状を有する磁気記録パターンが形成されなかったためであった。
Claims (9)
- 中央に開口部が設けられ、ドーナツ状のデータ記録領域と、前記データ記録領域と前記開口部との間に位置する内周領域とを有する円盤状の非磁性基板上に、磁気記録パターンとなる磁性層を形成する磁性層形成工程と、
前記磁性層の形成された前記非磁性基板上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、
前記レジスト層を用いて前記磁気記録パターンを形成するパターン形成工程とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、
前記レジスト層形成工程は、レジスト溶液の液面よりも上方に少なくとも前記開口部の周辺が配置され、かつ、前記液面よりも下方に前記データ記録領域の一部が配置されるように、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させる浸漬工程と、
前記開口部の中心を通って前記非磁性基板の厚み方向に延びる回転軸を中心として、前記レジスト溶液中に浸漬された前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中から前記非磁性基板を取り出す取出工程とを備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記浸漬工程において、前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させながら、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板の一部を浸漬させることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後も連続して前記回転軸を中心として前記非磁性基板を回転させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記非磁性基板の回転速度を、前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時よりも上昇させることを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記レジスト溶液中に前記非磁性基板を浸漬させている時の前記非磁性基板の回転速度が、350回/分〜500回/分の範囲内であり、
前記非磁性基板を前記レジスト溶液中から取り出した後に、前記非磁性基板の回転速度を5000回/分〜6000回/分の範囲内に上昇させることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 前記非磁性基板の直径が15mm〜100mmの範囲内であり、
前記非磁性基板の径方向における前記データ記録領域と前記開口部との間の距離が、2mm〜3mmの範囲内であることを特徴とする請求項1〜請求項5の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 前記レジスト層形成工程において、前記非磁性基板が、前記非磁性基板の厚み方向に離間して複数枚配置されていることを特徴とする請求項1〜請求項6の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記複数枚の前記非磁性基板間の距離が、12mm以上であることを特徴とする請求項7に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 磁気記録媒体と、
該磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、
記録部と再生部とからなる磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、
前記磁気ヘッドへの信号入力と前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段とを具備してなる磁気記録再生装置であって、
前記磁気記録媒体が、請求項1〜請求項8の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法で製造されたものであることを特徴とする磁気記録再生装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006209643A JP2008041114A (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
PCT/JP2007/064863 WO2008015996A1 (fr) | 2006-08-01 | 2007-07-30 | procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique et appareil d'enregistrement/reproduction magnétique |
CNA2007800364612A CN101523487A (zh) | 2006-08-01 | 2007-07-30 | 磁记录介质的制造方法以及磁记录再生装置 |
TW096127709A TW200832372A (en) | 2006-08-01 | 2007-07-30 | Process for producing magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
US12/375,497 US20110199700A1 (en) | 2006-08-01 | 2007-07-30 | Process for producing magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006209643A JP2008041114A (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008041114A true JP2008041114A (ja) | 2008-02-21 |
Family
ID=38997172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006209643A Pending JP2008041114A (ja) | 2006-08-01 | 2006-08-01 | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110199700A1 (ja) |
JP (1) | JP2008041114A (ja) |
CN (1) | CN101523487A (ja) |
TW (1) | TW200832372A (ja) |
WO (1) | WO2008015996A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010108559A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8281332B2 (en) * | 2007-05-02 | 2012-10-02 | Google Inc. | Animated video overlays |
US8368661B2 (en) * | 2009-07-13 | 2013-02-05 | Apple Inc. | Method for fabricating touch sensor panels |
JP5214691B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2013-06-19 | 株式会社東芝 | 磁気メモリ及びその製造方法 |
US9940963B1 (en) * | 2016-11-17 | 2018-04-10 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic media with atom implanted magnetic layer |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5114242A (ja) * | 1974-07-26 | 1976-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | Bunpasochi |
JPS5958631A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク塗布方法 |
JPH0340219A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-21 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
JP2001250217A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2002288813A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2004306032A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Komag Inc | ディップ・スピン・コータ |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5114242B1 (ja) * | 1969-12-29 | 1976-05-08 | ||
US6331364B1 (en) * | 1999-07-09 | 2001-12-18 | International Business Machines Corporation | Patterned magnetic recording media containing chemically-ordered FePt of CoPt |
CN1174380C (zh) * | 2000-03-31 | 2004-11-03 | 松下电器产业株式会社 | 母盘和使用其的磁盘制造方法 |
JP3349143B2 (ja) * | 2000-04-21 | 2002-11-20 | 松下電器産業株式会社 | マスターディスクおよび磁気ディスクの製造方法 |
JP2004164692A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
US20050036223A1 (en) * | 2002-11-27 | 2005-02-17 | Wachenschwanz David E. | Magnetic discrete track recording disk |
US7147790B2 (en) * | 2002-11-27 | 2006-12-12 | Komag, Inc. | Perpendicular magnetic discrete track recording disk |
JP4427392B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2010-03-03 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録再生装置 |
-
2006
- 2006-08-01 JP JP2006209643A patent/JP2008041114A/ja active Pending
-
2007
- 2007-07-30 CN CNA2007800364612A patent/CN101523487A/zh active Pending
- 2007-07-30 WO PCT/JP2007/064863 patent/WO2008015996A1/ja active Application Filing
- 2007-07-30 US US12/375,497 patent/US20110199700A1/en not_active Abandoned
- 2007-07-30 TW TW096127709A patent/TW200832372A/zh unknown
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5114242A (ja) * | 1974-07-26 | 1976-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | Bunpasochi |
JPS5958631A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスク塗布方法 |
JPH0340219A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-21 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
JP2001250217A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-14 | Hitachi Maxell Ltd | 情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2002288813A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2004306032A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Komag Inc | ディップ・スピン・コータ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010108559A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200832372A (en) | 2008-08-01 |
US20110199700A1 (en) | 2011-08-18 |
CN101523487A (zh) | 2009-09-02 |
WO2008015996A1 (fr) | 2008-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4519668B2 (ja) | パターンド磁気記録媒体、パターンド磁気記録媒体作製用スタンパー、パターンド磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 | |
JP4597933B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、並びに磁気記録再生装置 | |
JP4675722B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP4488236B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP2008052860A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP2007273067A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP2007226862A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP4098784B2 (ja) | 磁気記録媒体、磁気記録装置、スタンパおよびスタンパの製造方法 | |
JP4634354B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2008041114A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP5244380B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 | |
JP2009271973A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
JP5186345B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4413703B2 (ja) | 磁気ディスクおよび磁気ディスク装置 | |
JP2006079805A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法と磁気記録再生装置 | |
JPWO2009072439A1 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置 | |
JP2006155863A (ja) | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法並びに磁気記録再生装置 | |
JP4927778B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2011054254A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 | |
JP2010140541A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体、並びに磁気記録再生装置 | |
JP5345562B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4799667B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体、磁気記録装置 | |
JP4799681B2 (ja) | 磁気記録再生装置 | |
JP4138857B2 (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録装置 | |
JP2009295278A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法、インプリント用スタンパ、及びその原盤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091016 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091117 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100316 |