JPS5958631A - 磁気デイスク塗布方法 - Google Patents
磁気デイスク塗布方法Info
- Publication number
- JPS5958631A JPS5958631A JP16751882A JP16751882A JPS5958631A JP S5958631 A JPS5958631 A JP S5958631A JP 16751882 A JP16751882 A JP 16751882A JP 16751882 A JP16751882 A JP 16751882A JP S5958631 A JPS5958631 A JP S5958631A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- paint
- substrates
- magnetic
- tank
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１） 発明の技術分野
本発明は磁気ディスクの塗布方法に関し、更に詳しくは
多数枚の基板（ディスク）１ｒニ一回の操作で基板両面
に均一に塗布することのできる磁気ディスクの塗布方法
に関する。
多数枚の基板（ディスク）１ｒニ一回の操作で基板両面
に均一に塗布することのできる磁気ディスクの塗布方法
に関する。
（２） 技術の背景並びに従来技術と問題点磁気ディ
スクに塗料を塗布する場合、（１）その方法が生産性が
すぐれていることおよび（２）均一な塗布がなされるこ
と等が特に要求さ扛る。
スクに塗料を塗布する場合、（１）その方法が生産性が
すぐれていることおよび（２）均一な塗布がなされるこ
と等が特に要求さ扛る。
このような要求に対し、従来、磁気ディスク、の塗布方
法はフィルタを有するノズルより回転するアルミ基板上
に塗料を滴下し塗布する、いわゆるスピンコード法が採
用せられていた。しかるにこの方法による場合、良質な
塗膜を得ることは可能であるがフィルターの目詰まりに
より塗料の流出帖が変化してしまう。従って一定時間後
には、ノズルにかける圧力を強くしたり、あるいは又フ
ィルターの交換等を行う必賛が量産性に欠ける欠点があ
った。更に又、ノズル先端の塗料が乾燥することにより
塗布欠陥が発生することがあった。更に又スピンコード
法による場合多数枚の基板の六面を一度に塗布すること
は不可能であった。一方。
法はフィルタを有するノズルより回転するアルミ基板上
に塗料を滴下し塗布する、いわゆるスピンコード法が採
用せられていた。しかるにこの方法による場合、良質な
塗膜を得ることは可能であるがフィルターの目詰まりに
より塗料の流出帖が変化してしまう。従って一定時間後
には、ノズルにかける圧力を強くしたり、あるいは又フ
ィルターの交換等を行う必賛が量産性に欠ける欠点があ
った。更に又、ノズル先端の塗料が乾燥することにより
塗布欠陥が発生することがあった。更に又スピンコード
法による場合多数枚の基板の六面を一度に塗布すること
は不可能であった。一方。
スピンコード法とは別に塗料槽に一定時間基板を浸漬す
るディプ方式も行なわｎていた。しかし。
るディプ方式も行なわｎていた。しかし。
この方歩による場合、を産性は向上するが均一な膜厚を
得ることができない欠陥があった。
得ることができない欠陥があった。
（３）発明の目的および構成
本発明はかかる従来の欠点を解消するためになさｎたも
ので、１枚あるいは複数枚の基板を、回転可能な軸に支
持せしめ１次いで循環濾過装置を有する磁性塗料が導入
さ扛た塗料槽に前記回転軸に支持せしめた基板を所定の
深さまで浸漬し、該回転軸を回転せしめることにより磁
性塗料を該基板に均一塗布し、更に所望により塗布した
基板を配向工程に付することを特徴とする。
ので、１枚あるいは複数枚の基板を、回転可能な軸に支
持せしめ１次いで循環濾過装置を有する磁性塗料が導入
さ扛た塗料槽に前記回転軸に支持せしめた基板を所定の
深さまで浸漬し、該回転軸を回転せしめることにより磁
性塗料を該基板に均一塗布し、更に所望により塗布した
基板を配向工程に付することを特徴とする。
すなわち１本発明は１枚又は多数枚の基板を塗料槽に浸
漬し基板を所定速度で回転せしめて塗料を全面塗布し、
しかる後′、塗料槽から基板をひき上げ高速回転させ塗
膜の薄膜にする。次いで基板に配向性をもたせる九め配
向工程に付するものである。
漬し基板を所定速度で回転せしめて塗料を全面塗布し、
しかる後′、塗料槽から基板をひき上げ高速回転させ塗
膜の薄膜にする。次いで基板に配向性をもたせる九め配
向工程に付するものである。
以下、本発明の実施例を第１図〜第３図に基づいて更に
説明する。
説明する。
（４）実施例
磁性粉と樹脂を溶剤に分散せしめた塗料１を塗料槽２に
導入する。この導入は、塗料槽外に設けたフィルター３
により塗料を濾過し、ポンプ４により該Ｆ３Ａ塗料を吸
引循環させることにより行なわれる。尚、塗料槽２の塗
料はその沈降をｉ’１５＋ｈするためポンプ４により４
１ｉ環、攪拌ぜら扛フィルター３により濾過さ扛る。
導入する。この導入は、塗料槽外に設けたフィルター３
により塗料を濾過し、ポンプ４により該Ｆ３Ａ塗料を吸
引循環させることにより行なわれる。尚、塗料槽２の塗
料はその沈降をｉ’１５＋ｈするためポンプ４により４
１ｉ環、攪拌ぜら扛フィルター３により濾過さ扛る。
複数枚の基板５を、モーター６に直結した回転軸７に支
持し、スペーサー８で挟持する。このような基板支持装
置Ａ全体を所定の上下駆動装置（図示せず）により垂直
下方方向に駆φカさせ、塗料槽３の所定深さまで浸漬す
る。この場合、その深さは基板の下半分が浸漬さ扛かつ
スペーサー８が浸漬さ扛ない深さとする。こｔ′Ｌ、は
、スペーサー８に塗料１が付着すると基板５とスペーサ
ー８のすき間より塗料が流ｎ出し均一な膜が得ら扛ない
。
持し、スペーサー８で挟持する。このような基板支持装
置Ａ全体を所定の上下駆動装置（図示せず）により垂直
下方方向に駆φカさせ、塗料槽３の所定深さまで浸漬す
る。この場合、その深さは基板の下半分が浸漬さ扛かつ
スペーサー８が浸漬さ扛ない深さとする。こｔ′Ｌ、は
、スペーサー８に塗料１が付着すると基板５とスペーサ
ー８のすき間より塗料が流ｎ出し均一な膜が得ら扛ない
。
従って、スペーサー８に塗料１が付着しないように浸漬
する必要があるからである。次に基板５を全面塗布する
ために基板５を回転させる。基板５の回転は、モーター
６の駆動により軸７が回転することに行なわ扛る。基板
５の回転数ｔ′ｉ５〜３゜ｒｐｍが好ましい。何故なら
、これ以上の回転数では塗料１が飛散してしまうからで
ある。基板１全面に塗料１を塗布した後に、基板支持装
ｊｄＡを。
する必要があるからである。次に基板５を全面塗布する
ために基板５を回転させる。基板５の回転は、モーター
６の駆動により軸７が回転することに行なわ扛る。基板
５の回転数ｔ′ｉ５〜３゜ｒｐｍが好ましい。何故なら
、これ以上の回転数では塗料１が飛散してしまうからで
ある。基板１全面に塗料１を塗布した後に、基板支持装
ｊｄＡを。
上下駆動装置を駆動させて塗料槽２から上方に引き上げ
る。次いで基板５を例えば３００〜２０００ｒｐｍの回
転数で高速回転させ余剰塗料を除去し塗膜の薄膜化を行
なう。
る。次いで基板５を例えば３００〜２０００ｒｐｍの回
転数で高速回転させ余剰塗料を除去し塗膜の薄膜化を行
なう。
次いで塗布さｎた磁性粉の方向を一定にして基板５に配
向性金持たせる友め配向用マグネット（永久磁石又は電
磁石ン９によって発生した磁界の中に該基板５を百＜、
この場合、スペーサー８の間隔は基板と基板との間に配
向用マグネット９を入社るため予じめ所定間隔に定めら
れている。配向用マグネットによる基板５への配向性の
付与により磁気ディスクの塗布は終了する。
向性金持たせる友め配向用マグネット（永久磁石又は電
磁石ン９によって発生した磁界の中に該基板５を百＜、
この場合、スペーサー８の間隔は基板と基板との間に配
向用マグネット９を入社るため予じめ所定間隔に定めら
れている。配向用マグネットによる基板５への配向性の
付与により磁気ディスクの塗布は終了する。
（５）発明の効果
本発明は２以上説明したように構成したものであるから
、多数枚の基板を一回の処理により均一に塗布でき同一
膜厚の基板を効率的に一畦産できる効果を有する。
、多数枚の基板を一回の処理により均一に塗布でき同一
膜厚の基板を効率的に一畦産できる効果を有する。
第１図は本発明方法を実施するための塗料槽の断面図。
第２図は１本発明方法を実施するための塗料槽に基板を
浸漬した状態を示す断面図、 第３図は基板を配向二［程に付している状態を示す断面
図である。 １・・・塗料、 ２・・・塗料槽。 ５・・・基板、 ７・・・軸。 ８・・・スペーサー。 ９・・・マグネット。
浸漬した状態を示す断面図、 第３図は基板を配向二［程に付している状態を示す断面
図である。 １・・・塗料、 ２・・・塗料槽。 ５・・・基板、 ７・・・軸。 ８・・・スペーサー。 ９・・・マグネット。
Claims (1)
- １．１枚あるいは複数枚の基板を１回転可能な軸に支持
せしめ、次いで循環濾過装置を有する磁性塗料が導入さ
扛た塗料槽に前記回転軸に支持せしめた基板を所定の深
さまで浸漬し、該回転軸を回転せしめることにより磁性
塗料を該基板に均一塗布し、更に所望により塗布した基
板を配向工程に付することを特徴とする。磁気ディスク
の塗布かつスペーサーが浸漬されない深さである。特許
請求の範囲第１項記載の磁気ディスクの塗布方法。 ３、前記軸の回転が５〜３０ｒｐｍである。特許Ｍ＋１
求の範囲第１項記載の磁気ディスクの塗布方法、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16751882A JPS5958631A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 磁気デイスク塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16751882A JPS5958631A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 磁気デイスク塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5958631A true JPS5958631A (ja) | 1984-04-04 |
Family
ID=15851171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16751882A Pending JPS5958631A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 磁気デイスク塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5958631A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61137488U (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-26 | ||
| JPS6384666A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-15 | Haneda Seisakusho:Kk | 回転塗布装置 |
| US4876778A (en) * | 1987-03-30 | 1989-10-31 | Toyo Radiator Co., Ltd. | Method of manufacturing a motorcycle radiator |
| US5510140A (en) * | 1993-12-01 | 1996-04-23 | Tdk Corporation | Method for preparing magnetic recording medium |
| JP2008041114A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
| JP2011101831A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-26 | Nakata Coating Co Ltd | ディップコーティング装置及びディップコーティング方法 |
-
1982
- 1982-09-28 JP JP16751882A patent/JPS5958631A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61137488U (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-26 | ||
| JPS6384666A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-15 | Haneda Seisakusho:Kk | 回転塗布装置 |
| US4876778A (en) * | 1987-03-30 | 1989-10-31 | Toyo Radiator Co., Ltd. | Method of manufacturing a motorcycle radiator |
| US5510140A (en) * | 1993-12-01 | 1996-04-23 | Tdk Corporation | Method for preparing magnetic recording medium |
| JP2008041114A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
| JP2011101831A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-26 | Nakata Coating Co Ltd | ディップコーティング装置及びディップコーティング方法 |
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