JPS6050733A - 光学式記録媒体及びその原盤の製造装置 - Google Patents
光学式記録媒体及びその原盤の製造装置Info
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- JPS6050733A JPS6050733A JP58159457A JP15945783A JPS6050733A JP S6050733 A JPS6050733 A JP S6050733A JP 58159457 A JP58159457 A JP 58159457A JP 15945783 A JP15945783 A JP 15945783A JP S6050733 A JPS6050733 A JP S6050733A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はプリグループ及びアドレスピットを有する光学
的に記録及び再生の可能な光学式記録媒体及びその原盤
の製造装置に関する。
的に記録及び再生の可能な光学式記録媒体及びその原盤
の製造装置に関する。
背景技術とその問題点
先ず第1図及び第2図を参照して、従来の記録及び再生
の可能な光学式記録媒体について説明する。第1図及び
第2図において(1)は光学式記録媒体(ディスク)を
全体として示し、第1図においてPGはプリグループ(
図示の場合は同心円プリグループであるが、円に近い渦
巻き状プリブループでも良い)、scはその各プリグル
ープPGのセクタ、APはそのプリグループPGの番号
及びセクタSCの番号を表わすべくプリグループPG内
に於いて各セクタscの端部に形成されたアドレスピッ
トである。尚、プリグループPGのピッチが2.0μm
1その幅が0.8μmである。
の可能な光学式記録媒体について説明する。第1図及び
第2図において(1)は光学式記録媒体(ディスク)を
全体として示し、第1図においてPGはプリグループ(
図示の場合は同心円プリグループであるが、円に近い渦
巻き状プリブループでも良い)、scはその各プリグル
ープPGのセクタ、APはそのプリグループPGの番号
及びセクタSCの番号を表わすべくプリグループPG内
に於いて各セクタscの端部に形成されたアドレスピッ
トである。尚、プリグループPGのピッチが2.0μm
1その幅が0.8μmである。
この光学式記録媒体Il+は第2図に示すごとく、アク
リル等の透明なプラスチック基板+2)上に情報を光学
的に記録すべきプリグループPGの形成された一層又は
多層の低融点金輌層(反射金属層)(3)が形成されて
いる。尚、LDは金属層(310ランド部である。(4
1は金属層(3)上に被着形成されたプラスチックから
成る保護層である。かかる光学式記録媒体(1;に於い
ては、レーザ光源よりのレーザビームを金属層(3)の
プリグループPGにトラッキングをとりながら走査させ
、そのプリグループPG内に情報を光学的に記録してい
くものである。その記録の仕方は、プリグループPGに
レーザビームを照射することによって、その金属層(3
)の構造を変化させてその反射率を高めることにより、
音声、ビデオ、データ信号等を周波数変調、位相変調、
PCM等による光学的ドツトの列として記録トラックを
形成する如く記録する。尚、金属層(3)をレーザビー
ムによって融解してその反射率を低下させることによっ
て、又はその下層の他の金属層を露呈させてそれにより
反射率を高めることによって光学的ドツトを形成するこ
ともできる。
リル等の透明なプラスチック基板+2)上に情報を光学
的に記録すべきプリグループPGの形成された一層又は
多層の低融点金輌層(反射金属層)(3)が形成されて
いる。尚、LDは金属層(310ランド部である。(4
1は金属層(3)上に被着形成されたプラスチックから
成る保護層である。かかる光学式記録媒体(1;に於い
ては、レーザ光源よりのレーザビームを金属層(3)の
プリグループPGにトラッキングをとりながら走査させ
、そのプリグループPG内に情報を光学的に記録してい
くものである。その記録の仕方は、プリグループPGに
レーザビームを照射することによって、その金属層(3
)の構造を変化させてその反射率を高めることにより、
音声、ビデオ、データ信号等を周波数変調、位相変調、
PCM等による光学的ドツトの列として記録トラックを
形成する如く記録する。尚、金属層(3)をレーザビー
ムによって融解してその反射率を低下させることによっ
て、又はその下層の他の金属層を露呈させてそれにより
反射率を高めることによって光学的ドツトを形成するこ
ともできる。
次に第3図を参照して、上述した光学式記録媒体を製造
するーための原盤(1)について説明する。第3図の人
はその原盤(1)の部分的上面図、Bはその部分的断面
図である。(5)は例えばガラス基板であって、上述の
光学式記録媒体(11に対する記録及び再生用ビームの
波長なλ、記録及び再生用ビームの透過する光透過層、
即ち透明基板(21の屈折率を、λ nとするとき、厚さか而となるごとくフォトレジスト層
(61を均一に被着形成し、これをガラス基板(5)上
に至るまでのカッティングを行ない、即ちレーザビーム
を照射し、これを現像することによりλ 夫々共VC8nの位相深さのプリグループPG及びアド
レスピッ)APを形成する。
するーための原盤(1)について説明する。第3図の人
はその原盤(1)の部分的上面図、Bはその部分的断面
図である。(5)は例えばガラス基板であって、上述の
光学式記録媒体(11に対する記録及び再生用ビームの
波長なλ、記録及び再生用ビームの透過する光透過層、
即ち透明基板(21の屈折率を、λ nとするとき、厚さか而となるごとくフォトレジスト層
(61を均一に被着形成し、これをガラス基板(5)上
に至るまでのカッティングを行ない、即ちレーザビーム
を照射し、これを現像することによりλ 夫々共VC8nの位相深さのプリグループPG及びアド
レスピッ)APを形成する。
そして、その後は従来周知のごとく、この原盤(11の
ガラス基板(5)上に残存したフォトレジスト層(61
の上にメッキを行ない、これを素にしてメタルマスクを
作り、このメタルマスクからマザーを作る。そして、こ
のマザーからスタンパを作り、このスタンバを用いてア
クリル等の光透過性樹脂をスタンプして透明基板(21
を形成し、その上に光反射金属層(3)を被着形成し、
その上に保睦層(4)を被着形成するものである(第2
図参照)。
ガラス基板(5)上に残存したフォトレジスト層(61
の上にメッキを行ない、これを素にしてメタルマスクを
作り、このメタルマスクからマザーを作る。そして、こ
のマザーからスタンパを作り、このスタンバを用いてア
クリル等の光透過性樹脂をスタンプして透明基板(21
を形成し、その上に光反射金属層(3)を被着形成し、
その上に保睦層(4)を被着形成するものである(第2
図参照)。
ところで、この第3図に図示の光学式記録媒体(11の
原盤11+においては、ガラス基板(5)上に塗布する
フォトレジスト層(6)の厚さが600〜800X程度
と極く薄く、厚さが不均一となり、ピンホールも生じる
という欠点がある他、プリグループPGの位相深さも、
アドレスピットAPの位相深さも共に人であるために、
次のような間趙が生じる。即n ち、先ず最終的に形成される第1図及び第2図に示した
光学式記録媒体(ディスク)…の金属層(31による反
射光量を第4図を用いて説明する。光反射金属層(31
が理想的な鏡面である場合の反射光量をIOとすると、
金属層(3)のランド部T、D上の反射光量ITOPは
略■0に匹敵する。SAPはアドレスピッ)APによる
反射光景の変調部分を示し、そのピークレベルをTPP
とする。SRPは、プリグルーブPG内に情報信号の記
録を行ない、それを再生した場合の反射光量の変調を示
し、IRPはそのピーク値を示す。プリグループPCの
位相深さが主であるので、トラッキングエラー信号(プ
ツシn ニブル信号)のレベルは犬となるが、その反面、アドレ
スピットAPの位相深さがプリグループPGλ のそれと同様に茄であるために、この第4図から分かる
ように、アドレスピットAPからの再生光量のピーク値
はIOの20〜30%と頗る少ないことが分かる。
原盤11+においては、ガラス基板(5)上に塗布する
フォトレジスト層(6)の厚さが600〜800X程度
と極く薄く、厚さが不均一となり、ピンホールも生じる
という欠点がある他、プリグループPGの位相深さも、
アドレスピットAPの位相深さも共に人であるために、
次のような間趙が生じる。即n ち、先ず最終的に形成される第1図及び第2図に示した
光学式記録媒体(ディスク)…の金属層(31による反
射光量を第4図を用いて説明する。光反射金属層(31
が理想的な鏡面である場合の反射光量をIOとすると、
金属層(3)のランド部T、D上の反射光量ITOPは
略■0に匹敵する。SAPはアドレスピッ)APによる
反射光景の変調部分を示し、そのピークレベルをTPP
とする。SRPは、プリグルーブPG内に情報信号の記
録を行ない、それを再生した場合の反射光量の変調を示
し、IRPはそのピーク値を示す。プリグループPCの
位相深さが主であるので、トラッキングエラー信号(プ
ツシn ニブル信号)のレベルは犬となるが、その反面、アドレ
スピットAPの位相深さがプリグループPGλ のそれと同様に茄であるために、この第4図から分かる
ように、アドレスピットAPからの再生光量のピーク値
はIOの20〜30%と頗る少ないことが分かる。
逆に、アドレスピッ)APからの再生光量のピーク値I
PPを大にするために、アドレスピットAP及びプリグ
ループPGの位相深さを共に石にすると、トラッキング
ニジ−信号のレベルが小さくなると共に、プリグループ
PGの変調度が太きくなって再生情報信号のS/Nが低
下してしまう。
PPを大にするために、アドレスピットAP及びプリグ
ループPGの位相深さを共に石にすると、トラッキング
ニジ−信号のレベルが小さくなると共に、プリグループ
PGの変調度が太きくなって再生情報信号のS/Nが低
下してしまう。
そこで両要求を満足させるためには、原盤(1′)のλ
製造時において、ガラス基板(5)上に茹厚の7オトレ
ジスト層(6)を被着形成しておき、同一ビームの形成
のための崩光において異ならしめて、夫々プなるように
することも考えられる。しかし、この場合には、フォト
レジスト層がプリグループPGの部分に於いてハーフト
ーンで露光されるため、そのプロセスコントロールが困
難であり、しかもハーフトーンで露光されたフォトレジ
スト層は現像の不均一性から、アドレスピッ)APの位
相深さが不均一となり、これを基にして作ったディスク
Il+に記録を行ない、これからアドレスピット、什を
再生l−た場合、ぞの再生信号のS/Nが悪くなるとい
う欠点がある。
ジスト層(6)を被着形成しておき、同一ビームの形成
のための崩光において異ならしめて、夫々プなるように
することも考えられる。しかし、この場合には、フォト
レジスト層がプリグループPGの部分に於いてハーフト
ーンで露光されるため、そのプロセスコントロールが困
難であり、しかもハーフトーンで露光されたフォトレジ
スト層は現像の不均一性から、アドレスピッ)APの位
相深さが不均一となり、これを基にして作ったディスク
Il+に記録を行ない、これからアドレスピット、什を
再生l−た場合、ぞの再生信号のS/Nが悪くなるとい
う欠点がある。
又、従来は光学式記録媒体(1)のプリグループPG内
に情報を記録していたため、再生情報信号のS/Nが小
さく、しかもドロップアウトの可能性が高かった。
に情報を記録していたため、再生情報信号のS/Nが小
さく、しかもドロップアウトの可能性が高かった。
発明の目的
斯る点に鑑み第1の本発明は、プリグループ及びアドレ
スピットを有し、光学的に記録及び再生の可能な光学式
記録媒体において、トラッキングエラー信号のレベルが
大で、アドレスピットの再生信号のS/Nが良好で、且
つドロップアウトが少なく、S/Nの良好な情報信号を
再生することのできるものを提案しようとするものであ
る。
スピットを有し、光学的に記録及び再生の可能な光学式
記録媒体において、トラッキングエラー信号のレベルが
大で、アドレスピットの再生信号のS/Nが良好で、且
つドロップアウトが少なく、S/Nの良好な情報信号を
再生することのできるものを提案しようとするものであ
る。
第2の本発明は、第1の本発明による光学式記録媒体の
原盤を容易に製造することのできる光学式記録媒体の原
盤の製造装置を得んとするものである。
原盤を容易に製造することのできる光学式記録媒体の原
盤の製造装置を得んとするものである。
発明の概要
本発明による光学式記録媒体は、記録及び再生用ビーム
の波長をλ、記録及び再生用ビームの透過する光透過層
の屈折率をnと夫々したとき、光学的に記録及び再生の
可能な金属層のビーム入射λ の間の石の位相深さを有するアドレスピットとが形成さ
れて成るものである。
の波長をλ、記録及び再生用ビームの透過する光透過層
の屈折率をnと夫々したとき、光学的に記録及び再生の
可能な金属層のビーム入射λ の間の石の位相深さを有するアドレスピットとが形成さ
れて成るものである。
期る本発明によれば、プリグループ及びアドレスピット
を有し、光学的に記録及び再生の可能な光学式記録媒体
において、トラッキングエラー信号のレベルが大で、ア
ドレスピットの再生信号のS/Nが良好で、且つドロッ
プアウトが少なく、S/Nの良好な情報信号を再生する
ことのできるものを得ることができる。
を有し、光学的に記録及び再生の可能な光学式記録媒体
において、トラッキングエラー信号のレベルが大で、ア
ドレスピットの再生信号のS/Nが良好で、且つドロッ
プアウトが少なく、S/Nの良好な情報信号を再生する
ことのできるものを得ることができる。
本発明による光学式記録媒体の原盤の製造装置は、光源
と、この光源からの出射ビームを第1及び第2のビーム
に2分する光分割手段と、第2のビームを記録すべきア
ドレス情報に応じて光変調する光変調器と、第1のビー
ム及び光変調器によりて光変調された第2のビームの供
給される対物レンズを有し、フォトレジスト層の被着形
成された基板上のそのフォトレジスト層を対物レンズに
よって集束されt−第1及び第2のビームによって走査
して、光学式記録媒体に対する記録及び再生用ビームの
波長なλ、記録及び再生用ビームの透過ス する光透過層の屈折率をnと夫々したとき、踊の位相深
さを有するプリグループ及びその間に配さλ れた扁の位相深さを有するアドレスピットを上記フォト
レジスト層に形成して、光学式記録媒体の原盤を製造す
るようにしたものである。
と、この光源からの出射ビームを第1及び第2のビーム
に2分する光分割手段と、第2のビームを記録すべきア
ドレス情報に応じて光変調する光変調器と、第1のビー
ム及び光変調器によりて光変調された第2のビームの供
給される対物レンズを有し、フォトレジスト層の被着形
成された基板上のそのフォトレジスト層を対物レンズに
よって集束されt−第1及び第2のビームによって走査
して、光学式記録媒体に対する記録及び再生用ビームの
波長なλ、記録及び再生用ビームの透過ス する光透過層の屈折率をnと夫々したとき、踊の位相深
さを有するプリグループ及びその間に配さλ れた扁の位相深さを有するアドレスピットを上記フォト
レジスト層に形成して、光学式記録媒体の原盤を製造す
るようにしたものである。
斯る本発明によれば第1の本発明による光学式記録媒体
の原盤を容易に製造することのできる光学式記録媒体の
原盤の製造装置を得ることができる。
の原盤を容易に製造することのできる光学式記録媒体の
原盤の製造装置を得ることができる。
実施例
以下に第5図を参照して、本発明による光学式記録媒体
の原盤の構成について説明する。上述の第1図及び第2
図と同様に、ガラス基板(5)上にフォトレジスト層(
61を被着形成するが、その場合のλ 厚さを石とする。そして、後述するところから明らかに
なるが、2本のビームを用いて、アドレスピットAPと
してはそのフォトレジスト層(6)をガラス基板(5)
の表面に達するまで露光及び現像によリカツテイングし
、プリグループPGはアドレスピッ)APを形成するビ
ームに比らべて光値の少λ ないビームを用いて福の位相深さに形成する。
の原盤の構成について説明する。上述の第1図及び第2
図と同様に、ガラス基板(5)上にフォトレジスト層(
61を被着形成するが、その場合のλ 厚さを石とする。そして、後述するところから明らかに
なるが、2本のビームを用いて、アドレスピットAPと
してはそのフォトレジスト層(6)をガラス基板(5)
の表面に達するまで露光及び現像によリカツテイングし
、プリグループPGはアドレスピッ)APを形成するビ
ームに比らべて光値の少λ ないビームを用いて福の位相深さに形成する。
そして、このようにして形成した原盤+I+を用い冒頭
に述べたような手順をふんで第6図に示すごとき光学式
記録媒体(11を得る。即ち、アクリル等形成された低
融点金属層(3;が被着形成される。(41は保護層で
ある。この場合、プリグループPGは金属層(31のラ
ンド部LD上に形成され、そのピッチは2μm、プリグ
ループPG及びアドレスピットAP間の間隔は1μm、
夫々の幅は0.5μmである。
に述べたような手順をふんで第6図に示すごとき光学式
記録媒体(11を得る。即ち、アクリル等形成された低
融点金属層(3;が被着形成される。(41は保護層で
ある。この場合、プリグループPGは金属層(31のラ
ンド部LD上に形成され、そのピッチは2μm、プリグ
ループPG及びアドレスピットAP間の間隔は1μm、
夫々の幅は0.5μmである。
情報信号は金属層(3)のランド部LDの中央に記録さ
れる。
れる。
尚、記録及び再生時共光学系よりのビームは透明基板1
2+側から媒体(1)の金属層(31に入射するのは勿
論である。このようにして得られた光学式記録媒体11
+の反射光量を第7図を参照して説明するも、第7図に
おいて第4図と対応する部分には同一符号を付して重複
説明を省略する。この場合にはアドレスピットの反射光
量の変調によるピークレベルIPPはIoの50〜60
%とS4図の場合に比し大幅に大となっていることが分
かる。
2+側から媒体(1)の金属層(31に入射するのは勿
論である。このようにして得られた光学式記録媒体11
+の反射光量を第7図を参照して説明するも、第7図に
おいて第4図と対応する部分には同一符号を付して重複
説明を省略する。この場合にはアドレスピットの反射光
量の変調によるピークレベルIPPはIoの50〜60
%とS4図の場合に比し大幅に大となっていることが分
かる。
爵、このようにして形成された光学式記録媒体は1本の
ビームを用い、ランド部上のアドレスピットAPの再生
及びトラッキングエラー信号の検出と共に、ドツ、トに
よるランド部LDへの情報信号の記録を行なう。また、
3本のビームを用いてトラッキングエラーの検出と、ア
ドレスピットの再生、情報信号の記録を行なうようにし
てもよい。
ビームを用い、ランド部上のアドレスピットAPの再生
及びトラッキングエラー信号の検出と共に、ドツ、トに
よるランド部LDへの情報信号の記録を行なう。また、
3本のビームを用いてトラッキングエラーの検出と、ア
ドレスピットの再生、情報信号の記録を行なうようにし
てもよい。
再生時においても、同じ装置を用いてランド部LDに記
録されたドツトの位相変調、或いは胸波数変調、PCM
された情報信号を再生することができる。
録されたドツトの位相変調、或いは胸波数変調、PCM
された情報信号を再生することができる。
上述せる光学式記録媒体によれば、トラッキングエラー
信号のレベルが大で、プリグループの変調度に多少バラ
ツキがあっても、再生情報信号への影響は少なく、アド
レスピットをS/N良く再生でき、歩留りが模く、S7
どNが良好でドロップアウトの可能性の少ない情報信号
を再生できる。又、アドレスピットに対するトラッキン
グエラー信号は零なので、アドレスピットによってトラ
ッキングエラー信号に外乱が混入しない。プリグループ
には情報4a号を記録しないので、その幅を狭くするこ
とができ、記録密度の向上につながる。
信号のレベルが大で、プリグループの変調度に多少バラ
ツキがあっても、再生情報信号への影響は少なく、アド
レスピットをS/N良く再生でき、歩留りが模く、S7
どNが良好でドロップアウトの可能性の少ない情報信号
を再生できる。又、アドレスピットに対するトラッキン
グエラー信号は零なので、アドレスピットによってトラ
ッキングエラー信号に外乱が混入しない。プリグループ
には情報4a号を記録しないので、その幅を狭くするこ
とができ、記録密度の向上につながる。
次に第8図を参照して上述の光学式記録媒体の原盤の製
造装置について説明する。(7)はレーザ光源(例えば
Ar又はHe−Cdレーザ光源)であってこれより例え
ばS偏光のレーザビームLBoを発射させ、これをビー
ムスプリッタ(8)に入射して第1及び第2のビームL
Bi 、LB2に分離する。第1のビームLBムはビー
ムスプリッタ(81によってその光路が90 偏向せし
められ、第2のビームLBsは直進した後、ミラー(9
)によってその光路が90偏向せしめられる。
造装置について説明する。(7)はレーザ光源(例えば
Ar又はHe−Cdレーザ光源)であってこれより例え
ばS偏光のレーザビームLBoを発射させ、これをビー
ムスプリッタ(8)に入射して第1及び第2のビームL
Bi 、LB2に分離する。第1のビームLBムはビー
ムスプリッタ(81によってその光路が90 偏向せし
められ、第2のビームLBsは直進した後、ミラー(9
)によってその光路が90偏向せしめられる。
これら第1及び第2のビームLB1、LB2は夫々レン
ズa〔、auを介して第1及び第2の光変調器(電気−
光学素子)Q211Q31に供給される。第1の光変調
器(121には直流電源(14+よりの直流電圧が与え
られる。第2の光変調器(13には信号源(151より
のパル2信号、即ちトラック番号及びセクタ番号を示す
アドレス信号が供給されて、第2のビームLB2が光変
調される。第9図及び第10図は夫々第1及び第2の光
変調器α2、α3)から得られたビームの波形を示す。
ズa〔、auを介して第1及び第2の光変調器(電気−
光学素子)Q211Q31に供給される。第1の光変調
器(121には直流電源(14+よりの直流電圧が与え
られる。第2の光変調器(13には信号源(151より
のパル2信号、即ちトラック番号及びセクタ番号を示す
アドレス信号が供給されて、第2のビームLB2が光変
調される。第9図及び第10図は夫々第1及び第2の光
変調器α2、α3)から得られたビームの波形を示す。
尚、第1及び第2の光変調器(+21、(1′5に加え
る電圧によって、フォトレジスト層(6)を露光するビ
ームの強さを、前者が弱く、稜渚が強くなるように調整
できる。
る電圧によって、フォトレジスト層(6)を露光するビ
ームの強さを、前者が弱く、稜渚が強くなるように調整
できる。
これら採l及び第2の光変調器t121. +131か
ら得られた夫々s、、p偏光のビームLB t、L]1
2は夫々凸レンズ+161.、aηを介して夫々ミラー
(+81.01に入射して、その光路が90 偏向せし
められる。第1のビームLB1は更にミラー(イ)によ
ってその光路は90 偏向せしめられて偏光ビームスプ
リッタCl1lに入射せしめられる。又、ミラー(11
によって90 偏向せしめられた第2のビームLB2も
偏向ビームスプリッタt2nに入射せしめられる。
ら得られた夫々s、、p偏光のビームLB t、L]1
2は夫々凸レンズ+161.、aηを介して夫々ミラー
(+81.01に入射して、その光路が90 偏向せし
められる。第1のビームLB1は更にミラー(イ)によ
ってその光路は90 偏向せしめられて偏光ビームスプ
リッタCl1lに入射せしめられる。又、ミラー(11
によって90 偏向せしめられた第2のビームLB2も
偏向ビームスプリッタt2nに入射せしめられる。
そして、偏光ビームスプリッタ1211を出射した第1
及び第2のビームLB、、LB2が凸レンズ■を介して
ミラー(ハ)に入射してその光路が90 偏向せしめら
れた後、対物レンズc!41に入射して集束ビームとな
され、これら・ビームLBI、LB2が1μmの間隔を
以って上述のガラス基板(5)上に形成されたフオトレ
ジス) Jb f(il 、1:に照射ぜしめられ、そ
のフォトレジスト層(6)が照光せしめられる。この露
光されたフォトレジスト鳩(6)は現像さJすることに
より、光に感光した部分が除去され゛C1第5図に示し
た如きプリグループP G及びアドレスピットAP が
形成される。
及び第2のビームLB、、LB2が凸レンズ■を介して
ミラー(ハ)に入射してその光路が90 偏向せしめら
れた後、対物レンズc!41に入射して集束ビームとな
され、これら・ビームLBI、LB2が1μmの間隔を
以って上述のガラス基板(5)上に形成されたフオトレ
ジス) Jb f(il 、1:に照射ぜしめられ、そ
のフォトレジスト層(6)が照光せしめられる。この露
光されたフォトレジスト鳩(6)は現像さJすることに
より、光に感光した部分が除去され゛C1第5図に示し
た如きプリグループP G及びアドレスピットAP が
形成される。
」二連せる光学式記録媒体の原盤の製造装置によれば、
」:述の光学式記録媒体のJjA盤を容易に製造するこ
とができる。
」:述の光学式記録媒体のJjA盤を容易に製造するこ
とができる。
尚、トラッキングサーボ回路の極性を入れ替えることに
より、従来の光学式記録ディスクを用いて本発明による
光学式記録ディスクのトラッキングは容易である。
より、従来の光学式記録ディスクを用いて本発明による
光学式記録ディスクのトラッキングは容易である。
発明の効果
上述せる第1の本発明によれば、プリグループ及びアド
レスピットを有し、光学的に記録及び再生の可能な光学
式記録媒体において、トラッキンクエラー信号のレベル
が大で、アドレスピットの再生4N−リのS/Nが良好
で、1つドロップが少なく、S/Nの良好な情報信号を
再生することのできるものを得ることができる。
レスピットを有し、光学的に記録及び再生の可能な光学
式記録媒体において、トラッキンクエラー信号のレベル
が大で、アドレスピットの再生4N−リのS/Nが良好
で、1つドロップが少なく、S/Nの良好な情報信号を
再生することのできるものを得ることができる。
第2の本発明によれば第10本発ゆ」による光学式記録
媒体の原盤を容易に製造することのできる光学式配録媒
体の原盤の製造装置をイ!することかできる。
媒体の原盤を容易に製造することのできる光学式配録媒
体の原盤の製造装置をイ!することかできる。
第1図及び第2図は従来の記録再生可能な光学式記録媒
体の平面図及び断面図、第3図A、Uは第1図及び第2
図の光学式記録媒体の原盤を示す平面図及び断面図、第
4図は従来の光学式記録媒体の反射光の特性を示す曲線
図、第5図A、 Bは本発明による光学式記録媒体の原
盤を示す平面図及び断面図、第6図はその原盤を用いて
得られた本発明による光学式記録媒体を示す断面図、第
7図はその光学式記録媒体の反射光の特性を示す曲線図
、第8図は本発明による光学式記録媒体の原盤の製造装
置を示す配置図、第9図及び第10図は第8図の装置の
第1及び第2の光変調器の出力ビームの波形を示す波形
図である。 (1)は光学式記録媒体、(21は光透過層としての透
明基板、(31はその上に形成された反射金属層、(4
1はその上に形成された保一層、PGはプリグループ、
AI’はアドレスピッ)、+71は光諒、(8)は分割
手段、+121. +13は第1及び第2の光変調器、
0.IIは対物レンズ、(1)は原盤である。 5 第1図 イ 第10図
体の平面図及び断面図、第3図A、Uは第1図及び第2
図の光学式記録媒体の原盤を示す平面図及び断面図、第
4図は従来の光学式記録媒体の反射光の特性を示す曲線
図、第5図A、 Bは本発明による光学式記録媒体の原
盤を示す平面図及び断面図、第6図はその原盤を用いて
得られた本発明による光学式記録媒体を示す断面図、第
7図はその光学式記録媒体の反射光の特性を示す曲線図
、第8図は本発明による光学式記録媒体の原盤の製造装
置を示す配置図、第9図及び第10図は第8図の装置の
第1及び第2の光変調器の出力ビームの波形を示す波形
図である。 (1)は光学式記録媒体、(21は光透過層としての透
明基板、(31はその上に形成された反射金属層、(4
1はその上に形成された保一層、PGはプリグループ、
AI’はアドレスピッ)、+71は光諒、(8)は分割
手段、+121. +13は第1及び第2の光変調器、
0.IIは対物レンズ、(1)は原盤である。 5 第1図 イ 第10図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 記録及び拘止用ビームの波長をλ、該記録及び再
生用ビームの透過する光透過層の屈折率をnと夫々した
とき、光学的に記録及び再生の可λ 有するプリグループと、その間の石の位相深さを有する
アドレスピットとが形成されて成るととを特徴とする光
学式記録媒体。 2、光源と、該光源からの出射ビームを第1及び第2の
ビームに2分する光分割手段と、上記第2のビームを記
録すべきアドレス情報に応じて光変調する光変調器と、
」二記第1のビーム及び上記光変調器によって光変調さ
れた上記第2のビームの供給される対物レンズとを有し
、フォトレジスト層の被着形成された基板上の該フォト
レジスト層を上記対物レンズによって集束された上記第
1及び第2のビームによって走査して、光学式記録媒体
に対する記録及び再生用ビームの波長をλ、該記録及び
再生用ビームの透過する光透過層の屈折率をnと夫々し
たとき、λ に配された石の位相深さを有するアドレスピットを上記
フォトレジスト層に形成して、光学式記録媒体の原盤を
製造することを特徴とする光学式記録媒体の原盤の製造
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58159457A JPS6050733A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光学式記録媒体及びその原盤の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58159457A JPS6050733A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光学式記録媒体及びその原盤の製造装置 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6334465A Division JP2611681B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 光学式記録媒体 |
JP9049034A Division JP2998681B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 光学式記録媒体及びその原盤の作成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6050733A true JPS6050733A (ja) | 1985-03-20 |
JPH0534737B2 JPH0534737B2 (ja) | 1993-05-24 |
Family
ID=15694179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58159457A Granted JPS6050733A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 光学式記録媒体及びその原盤の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6050733A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH01107336A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-25 | Hitachi Ltd | 光デイスク |
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-
1983
- 1983-08-31 JP JP58159457A patent/JPS6050733A/ja active Granted
Patent Citations (11)
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JP2613199B2 (ja) * | 1986-12-10 | 1997-05-21 | 株式会社日立製作所 | 情報再生方法および光ディスク |
JPS63171445A (ja) * | 1987-01-09 | 1988-07-15 | Hitachi Ltd | 光デイスク原盤作製装置 |
US4953152A (en) * | 1987-01-09 | 1990-08-28 | Hitachi, Ltd. | Mastering machine for making an on-land recording master disk with two beam alignment servo loops |
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EP0503961A2 (en) * | 1991-03-15 | 1992-09-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of fabricating glass substrate for disk |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0534737B2 (ja) | 1993-05-24 |
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