JP2728676B2 - 光学的情報記録原盤の製造方法 - Google Patents
光学的情報記録原盤の製造方法Info
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- JP2728676B2 JP2728676B2 JP63120949A JP12094988A JP2728676B2 JP 2728676 B2 JP2728676 B2 JP 2728676B2 JP 63120949 A JP63120949 A JP 63120949A JP 12094988 A JP12094988 A JP 12094988A JP 2728676 B2 JP2728676 B2 JP 2728676B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光ビームを用いて情報の記録および／または
再生を行う光デイスク、光カード等の光学的情報記録媒
体の製造に供する原盤の製造方法に関する。
再生を行う光デイスク、光カード等の光学的情報記録媒
体の製造に供する原盤の製造方法に関する。
［従来の技術］ 集光したレーザビームにより情報を記録及び／又は再
生する光学的情報記録媒体の一例として表面に微細な凹
凸構造を有するものがある。表面の微細な凹凸構造と
は、予め設けられた番地等の情報信号及び／又は新たに
設けられる記録信号のピツトの寸法よりも小さい凹凸構
造であつて、該凹凸構造の個々が、情報信号及び／又は
記録信号のピツトを通常は意味せず、いわばバツクグラ
ウンドと称されるものである。そして、通常、該凹凸構
造は、光学的情報記録媒体の反射率を低下せしめる。
生する光学的情報記録媒体の一例として表面に微細な凹
凸構造を有するものがある。表面の微細な凹凸構造と
は、予め設けられた番地等の情報信号及び／又は新たに
設けられる記録信号のピツトの寸法よりも小さい凹凸構
造であつて、該凹凸構造の個々が、情報信号及び／又は
記録信号のピツトを通常は意味せず、いわばバツクグラ
ウンドと称されるものである。そして、通常、該凹凸構
造は、光学的情報記録媒体の反射率を低下せしめる。
光学的情報記録媒体上には、案内溝及び／又は情報信
号部などの、バツクグラウンドとは光学的性質（例えば
反射率）が異なる部分を設けなければならない。そし
て、上記案内溝および／または情報信号部は、バツクグ
ラウンドの反射率よりも高い反射率を有することが望ま
しい場合がある。
号部などの、バツクグラウンドとは光学的性質（例えば
反射率）が異なる部分を設けなければならない。そし
て、上記案内溝および／または情報信号部は、バツクグ
ラウンドの反射率よりも高い反射率を有することが望ま
しい場合がある。
バツクグラウンドの反射率よりも高い反射率の部分を
形成するためには上記微細な凹凸構造をなくしてしまう
か、または凹凸の深さを浅くすれば良いことはよく知ら
れている。このために従来より、第２図に示すように、
ガラス盤17上に積層されたフオトレジスト層16に強力な
レーザ光を照射したのちに、ガラス盤表面に達するまで
フオトレジストを現像して凹部15を形成する方法があ
る。
形成するためには上記微細な凹凸構造をなくしてしまう
か、または凹凸の深さを浅くすれば良いことはよく知ら
れている。このために従来より、第２図に示すように、
ガラス盤17上に積層されたフオトレジスト層16に強力な
レーザ光を照射したのちに、ガラス盤表面に達するまで
フオトレジストを現像して凹部15を形成する方法があ
る。
［発明が解決しようとする課題］ 上記従来技術では、強力なレーザ光を用いなければな
らないために、照射により形成される凹部の幅が広くな
りがちであり、高密度で該案内溝等を形成することは困
難であつた。しかも、フオトレジストの現像工程におい
て凹部15の深さを決定する因子はフオトレジストの厚さ
及び現像による膜減り、さらに微細な凹凸構造の形成工
程における膜減りなどもあり、所望の凹部の深さを得る
ことは難しい。また、極めて深い凹部はそれだけ構造が
複雑で、製造はより困難であつた。
らないために、照射により形成される凹部の幅が広くな
りがちであり、高密度で該案内溝等を形成することは困
難であつた。しかも、フオトレジストの現像工程におい
て凹部15の深さを決定する因子はフオトレジストの厚さ
及び現像による膜減り、さらに微細な凹凸構造の形成工
程における膜減りなどもあり、所望の凹部の深さを得る
ことは難しい。また、極めて深い凹部はそれだけ構造が
複雑で、製造はより困難であつた。
更に、かかる従来法で製造した原盤から得られた光学
的情報記録媒体では、記録／再生時に、バツクグラウン
ド部とレーザ光照射部との間に位相差を生じ反射率が低
下する結果、所望の反射率が得られない問題があつた。
これは、該光学的情報記録原盤より製造された光学的情
報記録媒体の記録および再生時にトラツキング不良をき
たすものである。
的情報記録媒体では、記録／再生時に、バツクグラウン
ド部とレーザ光照射部との間に位相差を生じ反射率が低
下する結果、所望の反射率が得られない問題があつた。
これは、該光学的情報記録原盤より製造された光学的情
報記録媒体の記録および再生時にトラツキング不良をき
たすものである。
本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであつて、
湿式の現像工程を必要とせずにバツクグラウンド部より
も高反射率の部分を形成でき、かつ、簡略な製造工程で
あることを特徴とする光学的情報記録原盤の製造方法
と、上記原盤により製造される記録および再生時に良好
なトラツキング特性を示すとともに、再生時に良質の情
報信号および記録信号を出力し得る光学的情報記録媒体
を提供することを目的とする。
湿式の現像工程を必要とせずにバツクグラウンド部より
も高反射率の部分を形成でき、かつ、簡略な製造工程で
あることを特徴とする光学的情報記録原盤の製造方法
と、上記原盤により製造される記録および再生時に良好
なトラツキング特性を示すとともに、再生時に良質の情
報信号および記録信号を出力し得る光学的情報記録媒体
を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明に係る光学的情報記録原盤の製造方法は、表面
に微細な凹凸構造をすでに有する基板に集光レーザ光等
のビームを照射し、照射部の該凹凸構造を非照射部に比
べ平坦にし、レーザ光未照射部とレーザ光照射部とが互
いに異なつた表面構造を形成することにより案内溝及び
／又は情報信号部を設けることを特徴とするものであ
る。すなわち、案内溝及び／又は情報信号部は、表面に
微細な凹凸構造を有する上記基板に、集光レーザ光を照
射し、照射部の該凹凸部を熔融及び／又は熱分解するこ
とによつて刻設される。尚、ここに云う熱分解とは、昇
華現像を包括したガス化も含むものである。
に微細な凹凸構造をすでに有する基板に集光レーザ光等
のビームを照射し、照射部の該凹凸構造を非照射部に比
べ平坦にし、レーザ光未照射部とレーザ光照射部とが互
いに異なつた表面構造を形成することにより案内溝及び
／又は情報信号部を設けることを特徴とするものであ
る。すなわち、案内溝及び／又は情報信号部は、表面に
微細な凹凸構造を有する上記基板に、集光レーザ光を照
射し、照射部の該凹凸部を熔融及び／又は熱分解するこ
とによつて刻設される。尚、ここに云う熱分解とは、昇
華現像を包括したガス化も含むものである。
本発明に係る光学的情報記録原盤の製造方法の一例を
示す断面概略図を第１図に示す。（ａ）は表面に微細な
凹凸構造21を有する基板20に集光レーザ光22を照射し、
若干熔融せしめて、より平坦な凹凸構造23を形成する場
合、（ｂ）は、該照射部を平滑平面24に加工し、位相差
による反射率低下を防止する場合、（ｃ）は更に高温、
高熱量を加えて熱分解を伴なうことにより凹部25を形成
する場合である。
示す断面概略図を第１図に示す。（ａ）は表面に微細な
凹凸構造21を有する基板20に集光レーザ光22を照射し、
若干熔融せしめて、より平坦な凹凸構造23を形成する場
合、（ｂ）は、該照射部を平滑平面24に加工し、位相差
による反射率低下を防止する場合、（ｃ）は更に高温、
高熱量を加えて熱分解を伴なうことにより凹部25を形成
する場合である。
基板20は集光レーザ光を吸収し、熔融及び／又は熱分
解する材料であれば特に限定されるものではない。例え
ば、ガラス盤、金属盤、セラミツクス盤等の上にフオト
レジストを積層すればよい。フオトレジストの例とし
て、ノボラツク系ポジ型フオトレジストの場合、（１）
解像度、コントラストを高めるために、ベースレジンの
分子量を低くして且つ分子量分布も狭くした系、（２）
耐ポストベーク特性、即ち耐熱性を高めるためにベース
レジンの分子量を高くして且つクロスリンク剤を加えた
系に分けることができるが、両者共、120℃以上、より
好ましくは150℃以上に加熱することにより流動現象を
開始する。従つて、発振波長325nmのHe−Cdレーザ光の
如き集光レーザ光を上述の微細な凹凸構造に照射し、走
査することにより、該照射部の凹凸構造をより平坦にす
ることが可能となる。つまり、案内溝及び又は情報信号
部を形成するためにフオトレジストの現像工程を必要と
しない。また基板20は上記ガラス盤等の上に、レーザ光
を吸収する着色剤で着色されたポリメチルメタクリレー
ト等の高分子物質を積層してもよく、上記着色高分子物
質のみで基板20を形成してもよい。着色剤としてはカー
ボンブラツク、アニリンブラツク、１−フエニルアゾ−
２−ナフトール、フエニルアゾ−２−レゾルシノール等
を挙げることができ、使用するレーザ光の波長及び分散
媒との相溶性を考慮し、幅広く選択することができる。
解する材料であれば特に限定されるものではない。例え
ば、ガラス盤、金属盤、セラミツクス盤等の上にフオト
レジストを積層すればよい。フオトレジストの例とし
て、ノボラツク系ポジ型フオトレジストの場合、（１）
解像度、コントラストを高めるために、ベースレジンの
分子量を低くして且つ分子量分布も狭くした系、（２）
耐ポストベーク特性、即ち耐熱性を高めるためにベース
レジンの分子量を高くして且つクロスリンク剤を加えた
系に分けることができるが、両者共、120℃以上、より
好ましくは150℃以上に加熱することにより流動現象を
開始する。従つて、発振波長325nmのHe−Cdレーザ光の
如き集光レーザ光を上述の微細な凹凸構造に照射し、走
査することにより、該照射部の凹凸構造をより平坦にす
ることが可能となる。つまり、案内溝及び又は情報信号
部を形成するためにフオトレジストの現像工程を必要と
しない。また基板20は上記ガラス盤等の上に、レーザ光
を吸収する着色剤で着色されたポリメチルメタクリレー
ト等の高分子物質を積層してもよく、上記着色高分子物
質のみで基板20を形成してもよい。着色剤としてはカー
ボンブラツク、アニリンブラツク、１−フエニルアゾ−
２−ナフトール、フエニルアゾ−２−レゾルシノール等
を挙げることができ、使用するレーザ光の波長及び分散
媒との相溶性を考慮し、幅広く選択することができる。
なお、基板材料としては特に、感光性を示すキノンジ
アジドをスルホン酸基を介して結合させたノボラツク樹
脂を主成分とするポジ型フオトレジストが有効であり、
更に、光吸収性着色剤を含有することにより一層好適に
用いることができる。
アジドをスルホン酸基を介して結合させたノボラツク樹
脂を主成分とするポジ型フオトレジストが有効であり、
更に、光吸収性着色剤を含有することにより一層好適に
用いることができる。
上記原盤から例えば電鋳法により得られたニツケルス
タンパーを金型として用いて得られた光学的情報記録媒
体は、案内溝及び／又は情報信号部を設けた部位と該部
位以外の部位とは異なつた表面形状を有する。ここで、
上記スタンパーに再度電鋳工程を施すことによつて得ら
れる金型を用いて複製すると、第１図に示した形状に嵌
合するレプリカを得ることも可能となる。すなわち凹凸
の反転した光学的情報記録媒体が得られるので、案内溝
及び／又は情報信号部は、上述のレーザ光22が照射され
た部位ではなく、未照射部位であつても良い。
タンパーを金型として用いて得られた光学的情報記録媒
体は、案内溝及び／又は情報信号部を設けた部位と該部
位以外の部位とは異なつた表面形状を有する。ここで、
上記スタンパーに再度電鋳工程を施すことによつて得ら
れる金型を用いて複製すると、第１図に示した形状に嵌
合するレプリカを得ることも可能となる。すなわち凹凸
の反転した光学的情報記録媒体が得られるので、案内溝
及び／又は情報信号部は、上述のレーザ光22が照射され
た部位ではなく、未照射部位であつても良い。
該凹凸構造の形状は直線状、曲線状、島状のいずれで
も良く、又その配列は周期的であつても非周期的であつ
ても良いが、その粗さ（凹部及び凸部の水平方向の２次
元的な形状の最大長さ及び垂直方向の深さ）は、記録及
び／再生に使用する光ビームの波長以下に設定されるこ
とが好ましい。なお、該基板の微細な凹凸構造は、
（１）薬品による化学的ウエツトエツチング、（２）イ
オンや無機物微細粒子による物理的ドライエツチング等
の方法により形成することができる。特にフオトレジス
トを塗布した基板はAr+レーザ又はHe−Cdレーザ等から
出射されるレーザビームを（３）擦りガラス等の拡散板
に照射および透過させることにより、所謂スペツクルパ
ターンの潜像を形成した後、現像処理を行う方法、
（４）上述のコヒーレントな平行レーザビームを２方向
から照射するレーザ干渉露光法によりいわゆるグレーテ
イング状の潜像を形成した後、現像処理を行う方法等に
より形成することができるので、より好適に用いること
ができる。
も良く、又その配列は周期的であつても非周期的であつ
ても良いが、その粗さ（凹部及び凸部の水平方向の２次
元的な形状の最大長さ及び垂直方向の深さ）は、記録及
び／再生に使用する光ビームの波長以下に設定されるこ
とが好ましい。なお、該基板の微細な凹凸構造は、
（１）薬品による化学的ウエツトエツチング、（２）イ
オンや無機物微細粒子による物理的ドライエツチング等
の方法により形成することができる。特にフオトレジス
トを塗布した基板はAr+レーザ又はHe−Cdレーザ等から
出射されるレーザビームを（３）擦りガラス等の拡散板
に照射および透過させることにより、所謂スペツクルパ
ターンの潜像を形成した後、現像処理を行う方法、
（４）上述のコヒーレントな平行レーザビームを２方向
から照射するレーザ干渉露光法によりいわゆるグレーテ
イング状の潜像を形成した後、現像処理を行う方法等に
より形成することができるので、より好適に用いること
ができる。
［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
実施例 ガラス円盤上にポジ型フオトレジストをスピンコート
法により1.2μｍの厚さで塗布した後、80℃にて30分間
プリベークを行つた。次に該フオトレジスト表面をアル
ゴンガスでスパツタエツチングし、水平方向の２次元的
な形状の最大長さ及び垂直方向の深さが各々約0.4μ
ｍ、約0.5μｍである微細な凹凸を有する基板を作製し
た。引き続き、該基盤を回転させ、集光したHe−Cdレー
ザ光を半径方向に移動させることにより、第１図（ｂ）
に示す形状の光学的情報記録原盤を作製した。この際、
微細な凹凸構造部位21の平均的な表面レベルと平滑部位
24の表面レベルとの距離は約70nmであつた。
法により1.2μｍの厚さで塗布した後、80℃にて30分間
プリベークを行つた。次に該フオトレジスト表面をアル
ゴンガスでスパツタエツチングし、水平方向の２次元的
な形状の最大長さ及び垂直方向の深さが各々約0.4μ
ｍ、約0.5μｍである微細な凹凸を有する基板を作製し
た。引き続き、該基盤を回転させ、集光したHe−Cdレー
ザ光を半径方向に移動させることにより、第１図（ｂ）
に示す形状の光学的情報記録原盤を作製した。この際、
微細な凹凸構造部位21の平均的な表面レベルと平滑部位
24の表面レベルとの距離は約70nmであつた。
次に上記方法で製造した該光学的情報記録原盤から通
常の電鋳法により製造されたニツケルスタンパーを用い
てポリカーボネート板の射出成型を行いプラスチツクレ
プリカを作製し、引き続いて該プラスチツクレプリカ上
へ金属記録薄膜の成膜を行い光デイスクを作製した。
常の電鋳法により製造されたニツケルスタンパーを用い
てポリカーボネート板の射出成型を行いプラスチツクレ
プリカを作製し、引き続いて該プラスチツクレプリカ上
へ金属記録薄膜の成膜を行い光デイスクを作製した。
該光デイスクの微細な凹凸構造部位21を、スリービー
ム方式でトラツキングしながら試験信号を記録した後に
再生したところ、記録部位の反射率は未記録部位の反射
率よりも増大していたが、良好なトラツキング特性及び
再生信号特性を示した。又、記録後の該光デイスクをプ
ツシユプル方式で再生しても、同様に、良好なトラツキ
ング特性及び再生信号特性を示した。
ム方式でトラツキングしながら試験信号を記録した後に
再生したところ、記録部位の反射率は未記録部位の反射
率よりも増大していたが、良好なトラツキング特性及び
再生信号特性を示した。又、記録後の該光デイスクをプ
ツシユプル方式で再生しても、同様に、良好なトラツキ
ング特性及び再生信号特性を示した。
［発明の効果］ 以上説明したように、この発明によれば、光学的情報
記録原盤を簡略化された工程で、制御性良く製造するこ
とができ、この原盤から得られた光学的情報記録媒体は
良好なトラツキング特性および再生信号特性を示す。
記録原盤を簡略化された工程で、制御性良く製造するこ
とができ、この原盤から得られた光学的情報記録媒体は
良好なトラツキング特性および再生信号特性を示す。
第１図（ａ）ないし（ｃ）は本発明に係る光学的情報記
録原盤の１つの例を示す部分断面図、第２図は光学的情
報記録原盤の従来例を示す断面図である。 20……基板、21……微細な凹凸構造、22……集光レーザ
光。
録原盤の１つの例を示す部分断面図、第２図は光学的情
報記録原盤の従来例を示す断面図である。 20……基板、21……微細な凹凸構造、22……集光レーザ
光。
Claims (2)
- 【請求項１】表面に微細な凹凸構造を有する基板に光ビ
ームを照射し、照射部の上記凹凸構造を熔融および／ま
たは熱分解することによって、照射部の凹凸構造の凹部
と凸部との段差を非照射部の凹凸構造の凹部と凸部との
段差よりも小さくすることにより案内溝および／または
情報信号部を設けることを特徴とする光学的情報記録原
盤の製造方法。 - 【請求項２】上記基板が上記光ビームを吸収する着色剤
を含有している請求項１記載の光学的情報記録原盤の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120949A JP2728676B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学的情報記録原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63120949A JP2728676B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学的情報記録原盤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01290142A JPH01290142A (ja) | 1989-11-22 |
| JP2728676B2 true JP2728676B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=14798961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63120949A Expired - Lifetime JP2728676B2 (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 光学的情報記録原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2728676B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3503767B2 (ja) * | 1994-10-21 | 2004-03-08 | 日本ビクター株式会社 | 光記録媒体 |
| KR100667771B1 (ko) * | 2004-11-10 | 2007-01-11 | 삼성전자주식회사 | 정보 저장 매체 제작용 기록 마스터 및 그 제조 방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63239630A (ja) * | 1987-03-26 | 1988-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 光記録媒体およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-05-17 JP JP63120949A patent/JP2728676B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01290142A (ja) | 1989-11-22 |
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