JPS59171050A - 光デイスク用盤の製造方法 - Google Patents
光デイスク用盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS59171050A JPS59171050A JP58044228A JP4422883A JPS59171050A JP S59171050 A JPS59171050 A JP S59171050A JP 58044228 A JP58044228 A JP 58044228A JP 4422883 A JP4422883 A JP 4422883A JP S59171050 A JPS59171050 A JP S59171050A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disc
- dye
- optical disc
- layer
- master
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、染料を含むノボラック樹脂全感光層として用
いたビデオディスク、オーデオディスク。
いたビデオディスク、オーデオディスク。
記録再生型光ディスク用盤の製造方法に関するものであ
る。
る。
従来表面に凹凸の情報信号を有する盤、例えば原盤はガ
ラス基板上に塗布されたホトレジスト層にレーザ光ビー
ムを照射し、現像処理をおこなって作製されている。こ
の現像処理は少なからず盤の品質バラツキの原因になっ
ているし、また現像工程中に付着する塵埃により欠陥数
の増加等好ましくない影響を及ぼす。従って現像工程を
省略できる盤製造方法は工程短縮の利点金持つほかに、
上記の欠点を取り除くことができるものと期待される。
ラス基板上に塗布されたホトレジスト層にレーザ光ビー
ムを照射し、現像処理をおこなって作製されている。こ
の現像処理は少なからず盤の品質バラツキの原因になっ
ているし、また現像工程中に付着する塵埃により欠陥数
の増加等好ましくない影響を及ぼす。従って現像工程を
省略できる盤製造方法は工程短縮の利点金持つほかに、
上記の欠点を取り除くことができるものと期待される。
本発明は、現像工程を必要としない光デイスク用盤の作
製方法を提供することを目的とする。
製方法を提供することを目的とする。
光デイスク用盤はポジ型ホトレジスト（例ＡＺ−１３５
０）層にアルゴンレーザ光（波長４５０１１１Ｔｌ）ビ
ームを照射し、これを現像してはじめて情報信号として
の凹凸が形成されて盤となる。現像全省略するためには
感光層としてはレーザ光の吸収率を高め、それにより発
生する熱のために表面に凹凸が形成されるような材料を
使用すれば良いと予想した。この要求全満足させる材料
として染料を含むノボラック樹脂が適していること金兄
い出した。
０）層にアルゴンレーザ光（波長４５０１１１Ｔｌ）ビ
ームを照射し、これを現像してはじめて情報信号として
の凹凸が形成されて盤となる。現像全省略するためには
感光層としてはレーザ光の吸収率を高め、それにより発
生する熱のために表面に凹凸が形成されるような材料を
使用すれば良いと予想した。この要求全満足させる材料
として染料を含むノボラック樹脂が適していること金兄
い出した。
原盤は光ディースフを複製するための金型を作る上で必
須なものである。原盤は平坦なガラス基板上に塗布され
たポジ型ホトレジスト層に溝、穴の情報パターンが形成
されているものである。原盤から金型を作るためには最
初にレジスト層表面に無電解メッキ、あるいは蒸着、ス
パッタ法によりＡ ｇ ＋ Ｎ １等の金属薄膜を付け
る。その薄膜の上に電解メッキ法により厚さ約３００μ
ｍのニッケル層を形成する。金属層とホトレジスト層の
界面で剥離して金ｍを得る。この金型よ多情報を転写し
て複製ディスクを得る方法としては熱可塑性樹脂を加熱
し、これを金型間でプレス成形するコンプレッション法
や、金型間に注入するインジェクション法、および紫外
線硬化樹脂を用いた２Ｐ法（ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ
１ｚａｔ ｔｏｎ ）がある。複製ディスクの品質は
もとになる原盤の品質に負うところがきわめて大きい。
須なものである。原盤は平坦なガラス基板上に塗布され
たポジ型ホトレジスト層に溝、穴の情報パターンが形成
されているものである。原盤から金型を作るためには最
初にレジスト層表面に無電解メッキ、あるいは蒸着、ス
パッタ法によりＡ ｇ ＋ Ｎ １等の金属薄膜を付け
る。その薄膜の上に電解メッキ法により厚さ約３００μ
ｍのニッケル層を形成する。金属層とホトレジスト層の
界面で剥離して金ｍを得る。この金型よ多情報を転写し
て複製ディスクを得る方法としては熱可塑性樹脂を加熱
し、これを金型間でプレス成形するコンプレッション法
や、金型間に注入するインジェクション法、および紫外
線硬化樹脂を用いた２Ｐ法（ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ
１ｚａｔ ｔｏｎ ）がある。複製ディスクの品質は
もとになる原盤の品質に負うところがきわめて大きい。
したがって、バラツキが小さく、欠陥数の少ない原盤の
作製方法が重要になっている。
作製方法が重要になっている。
〔発明の実施例〕
以下本発明による原盤作製方法を具体的な実施例に基づ
いて説明する。
いて説明する。
ノボラック樹脂にスルホン基金弁して感光基であるキノ
ンジアザイドを結合させた高分子材料の溶液（例ＡＺ−
１３５０）に染料として１−ｐＭｎｙｌａｚｏ −’ｌ
ｎａｐｈｔｈｏｌ ｆ高分子面形分に対し２５重量％
を添加した溶液を調合した。ガラス基板上に回転塗布に
より染料人りノボラック樹脂膜を形成した。膜厚は０．
１〜０．２μｍである。
ンジアザイドを結合させた高分子材料の溶液（例ＡＺ−
１３５０）に染料として１−ｐＭｎｙｌａｚｏ −’ｌ
ｎａｐｈｔｈｏｌ ｆ高分子面形分に対し２５重量％
を添加した溶液を調合した。ガラス基板上に回転塗布に
より染料人りノボラック樹脂膜を形成した。膜厚は０．
１〜０．２μｍである。
８０Ｃで３００分間グリベルを行い、その後変調された
アルゴンレーザビームを照射する。照射された部分が溝
、あるいは穴が形成される。この溝、穴は０．５μｍ程
度の巾と直径のものが得られる。
アルゴンレーザビームを照射する。照射された部分が溝
、あるいは穴が形成される。この溝、穴は０．５μｍ程
度の巾と直径のものが得られる。
溝の両側、穴のふちには高分子材料の盛り上りが形成さ
れるが、実用的Ｖｒ、は問題がない。
れるが、実用的Ｖｒ、は問題がない。
この原盤を用いてニッケル金型を作り、これから紫外線
硬化樹脂を用いて得た複製ディスクはバラツキの小さい
、欠陥数の少ない光ディスクであった。
硬化樹脂を用いて得た複製ディスクはバラツキの小さい
、欠陥数の少ない光ディスクであった。
また染料としては上記染料以外に選択することは可能で
ある。つまりノボラック樹脂との相溶性が良く、シかも
使用するレーザ光波長に吸収金持つ染料であれば十分で
ある。
ある。つまりノボラック樹脂との相溶性が良く、シかも
使用するレーザ光波長に吸収金持つ染料であれば十分で
ある。
通常はガラス基板の表面にクロム薄膜、あるいはシラン
カップリング剤の薄膜を形成し、その上にホトレジスト
膜を塗布している。これは主に現像工程中にホトレジス
ト膜がガラス表面から剥離するのを防ぐためである。本
発明では現像工程全必要としないのでガラスの基板表面
のクロム蒸着、あるいはシランカップリング剤の処理を
省略できるという利点もある。
カップリング剤の薄膜を形成し、その上にホトレジスト
膜を塗布している。これは主に現像工程中にホトレジス
ト膜がガラス表面から剥離するのを防ぐためである。本
発明では現像工程全必要としないのでガラスの基板表面
のクロム蒸着、あるいはシランカップリング剤の処理を
省略できるという利点もある。
本発明によれば現像工程なしに唯し−ザ光ビーム！’射
するのみで、光デイスク用原盤として必要な巾１μｍ以
下の溝および１μｍ以下の穴を信号パターンとして有す
る原盤を作ることができるので、工程の短縮、原盤間の
バラツキ低下および欠陥低減の点で効果がある。
するのみで、光デイスク用原盤として必要な巾１μｍ以
下の溝および１μｍ以下の穴を信号パターンとして有す
る原盤を作ることができるので、工程の短縮、原盤間の
バラツキ低下および欠陥低減の点で効果がある。
第１図（ａ）は平坦基板上に染料を含むノボラック樹脂
層を塗布した円板の断面図、（ｂ）はレーザビーム照射
により高分子層に穴、あるいは溝が形成される様子を示
した概略図である。 １・・・平坦な基板、２・・・染料を含むノボラック樹
脂層、３・・・レーザ光ビームによって形成６れた穴。 第１図
層を塗布した円板の断面図、（ｂ）はレーザビーム照射
により高分子層に穴、あるいは溝が形成される様子を示
した概略図である。 １・・・平坦な基板、２・・・染料を含むノボラック樹
脂層、３・・・レーザ光ビームによって形成６れた穴。 第１図
Claims (1)
- １、支持体上にレーザ光ビーム叩射により凹凸の表面に
することのできる染料を含むノボラック樹脂層を形成す
ることを特徴とする光デイスク用盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58044228A JPS59171050A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 光デイスク用盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58044228A JPS59171050A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 光デイスク用盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171050A true JPS59171050A (ja) | 1984-09-27 |
Family
ID=12685678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58044228A Pending JPS59171050A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 光デイスク用盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171050A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04178936A (ja) * | 1990-10-19 | 1992-06-25 | Del Mar Avionics | 光学ディスクマスターの製造方法及び装置 |
| WO2006072859A2 (en) * | 2005-01-06 | 2006-07-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Mastering based on heat-induced shrinkage of organic dyes |
| JP2009277335A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-26 | Fujifilm Corp | スタンパの製造方法およびスタンパを用いた光情報記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58044228A patent/JPS59171050A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04178936A (ja) * | 1990-10-19 | 1992-06-25 | Del Mar Avionics | 光学ディスクマスターの製造方法及び装置 |
| JP2517470B2 (ja) * | 1990-10-19 | 1996-07-24 | デル・マール・アビオニクス | 光学ディスクマスタ―の製造方法及び装置 |
| WO2006072859A2 (en) * | 2005-01-06 | 2006-07-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Mastering based on heat-induced shrinkage of organic dyes |
| WO2006072859A3 (en) * | 2005-01-06 | 2006-10-05 | Koninkl Philips Electronics Nv | Mastering based on heat-induced shrinkage of organic dyes |
| JP2009277335A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-26 | Fujifilm Corp | スタンパの製造方法およびスタンパを用いた光情報記録媒体の製造方法 |
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