JPS59171629A - 光デイスクの作製方法 - Google Patents
光デイスクの作製方法Info
- Publication number
- JPS59171629A JPS59171629A JP4422683A JP4422683A JPS59171629A JP S59171629 A JPS59171629 A JP S59171629A JP 4422683 A JP4422683 A JP 4422683A JP 4422683 A JP4422683 A JP 4422683A JP S59171629 A JPS59171629 A JP S59171629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- stamper
- substrate
- replica
- optical disc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明に光ディスクの作製方法に関するものであり、特
にそのプレス型の作製方法として性能の良いものを提供
することができる方法に関する。
にそのプレス型の作製方法として性能の良いものを提供
することができる方法に関する。
ここに、光ティスフとはレーザー光線を用いて、ガラス
等の円板状基板の上にある記録膜に、所望の信号を記録
したものである。その応用例としては、ビデオディスク
、ＰＣＭディスク、文書ファイルディジタルディスク、
ホログラフィディスク等が考えられている。
等の円板状基板の上にある記録膜に、所望の信号を記録
したものである。その応用例としては、ビデオディスク
、ＰＣＭディスク、文書ファイルディジタルディスク、
ホログラフィディスク等が考えられている。
従来、ディヌクの作製方法は記録済のフォトレジスト付
ガラス原盤から、メッキ技術により作製されたスタンバ
−金型を基に、レプリカを作製していた。ところが、メ
ッキで作られたスタンノく一金型は、平坦性が悪い為に
これから作られたレプリカは厚みムラがあり、回転させ
た際に上下振れが太きいものとなる。また、レグリカの
作製時にレプリカ表面に泡”を生じやすく、その為に信
号の欠落が起こり、再生信号のドロップアウトとなりレ
プリカの性能劣化の一因となっている。
ガラス原盤から、メッキ技術により作製されたスタンバ
−金型を基に、レプリカを作製していた。ところが、メ
ッキで作られたスタンノく一金型は、平坦性が悪い為に
これから作られたレプリカは厚みムラがあり、回転させ
た際に上下振れが太きいものとなる。また、レグリカの
作製時にレプリカ表面に泡”を生じやすく、その為に信
号の欠落が起こり、再生信号のドロップアウトとなりレ
プリカの性能劣化の一因となっている。
本発明は、かかる欠点を除去する為、ディスク複製時の
スタンバ金型を平坦に作る方法全提供し、さらにこの平
坦なスタンバを用いて、レプリカを作る方法に関する。
スタンバ金型を平坦に作る方法全提供し、さらにこの平
坦なスタンバを用いて、レプリカを作る方法に関する。
〔発明の概要〕
本発明は紫外線硬化樹脂を用いてレジンスタンパを作り
、このスタンノくを用いて下地膜付きレプリカを作成す
ることを特徴とする。
、このスタンノくを用いて下地膜付きレプリカを作成す
ることを特徴とする。
本発明に係るスタンバ−金型の作製方法を第１図に示す
。まず厚いガラス基板１の上にフォトレジスト２を塗布
し、これにレーザ光で所望の信号を記録し、現像して表
面が凹凸になったガラス原盤３を作る。このガラス原盤
に、表面の膨潤や変質を防いだり、剥離を確実にする為
ＫＡＬ、Ｎｉ等の金属４を付け、さらに必要により剥離
剤（例えばシリコンオイル、カルコゲ／化物、すなわち
ＴｅＳｅ、Ｓのうちの少なくとも一考を含む混合物や化
合物等）を′蒸着等の方法でコーティングする。さらに
紫外線硬化樹脂（以下ＵＶ樹脂と称する）５−１を塗布
し、透明なアクリル板あるいはガラス板などの基板６を
押し付けた後、紫外線を照射し、ＵＶ樹脂５−１を硬化
させる。最後にＡ４等の金属層４とＵＶ樹脂５−１の境
界から剥離させると、原盤のパターンを基板側に写しと
ることができる。ただし凹凸は逆となる為に、レコード
プロセスでいうマスターあるいは、スタンバ−９として
用いることができる。なお剥離する際、剥離剤やｋｔ等
の金属も同時にとれてしまった場合は、あらためてガラ
ス原盤３の全面にっけ直し、その後同様の工程を行うと
、再びマスターあるいはスタンパ−を作ることが可能で
あり、この様にしてガラス原盤３の凹凸パターンがこわ
れるまで何回も使って上記のスタンパ−を作ることがで
きる。フォトレジスト層までスタンバ側に移ってしまっ
た場合１−１ｌ：溶媒またはアルカリでスタンバ上から
除去する必要がある。その後、ＵＶ樹脂５−１基板６以
外は取り去る必要がある。
。まず厚いガラス基板１の上にフォトレジスト２を塗布
し、これにレーザ光で所望の信号を記録し、現像して表
面が凹凸になったガラス原盤３を作る。このガラス原盤
に、表面の膨潤や変質を防いだり、剥離を確実にする為
ＫＡＬ、Ｎｉ等の金属４を付け、さらに必要により剥離
剤（例えばシリコンオイル、カルコゲ／化物、すなわち
ＴｅＳｅ、Ｓのうちの少なくとも一考を含む混合物や化
合物等）を′蒸着等の方法でコーティングする。さらに
紫外線硬化樹脂（以下ＵＶ樹脂と称する）５−１を塗布
し、透明なアクリル板あるいはガラス板などの基板６を
押し付けた後、紫外線を照射し、ＵＶ樹脂５−１を硬化
させる。最後にＡ４等の金属層４とＵＶ樹脂５−１の境
界から剥離させると、原盤のパターンを基板側に写しと
ることができる。ただし凹凸は逆となる為に、レコード
プロセスでいうマスターあるいは、スタンバ−９として
用いることができる。なお剥離する際、剥離剤やｋｔ等
の金属も同時にとれてしまった場合は、あらためてガラ
ス原盤３の全面にっけ直し、その後同様の工程を行うと
、再びマスターあるいはスタンパ−を作ることが可能で
あり、この様にしてガラス原盤３の凹凸パターンがこわ
れるまで何回も使って上記のスタンパ−を作ることがで
きる。フォトレジスト層までスタンバ側に移ってしまっ
た場合１−１ｌ：溶媒またはアルカリでスタンバ上から
除去する必要がある。その後、ＵＶ樹脂５−１基板６以
外は取り去る必要がある。
この様にして作られるスタンパは、その内径と原盤の信
号パターンと同芯になる様に作製されている。この時内
径へ樹脂がはみ出して、硬化すると次のレプリカ作製の
際障害となる為、この部分に樹脂の逃げ部分が必要であ
シ、その為に、スタンパ基板部材の内径部分を而ｔＨし
ておくと都合が艮い。
号パターンと同芯になる様に作製されている。この時内
径へ樹脂がはみ出して、硬化すると次のレプリカ作製の
際障害となる為、この部分に樹脂の逃げ部分が必要であ
シ、その為に、スタンパ基板部材の内径部分を而ｔＨし
ておくと都合が艮い。
次に上記の様にして作られたスタンパを用いて第２図に
示すレプリカ１０を作製する工８を第３図に示す。
示すレプリカ１０を作製する工８を第３図に示す。
まずスタンパにセルロースアセテートするいはニトロセ
ルロースなどの材料８を塗布し、はくりの境界層とする
。次に、その上にあるいは、レプリカの基板となる透光
性基板７のガラスあるいはアクリルなどの上に紫外線硬
化樹脂５−２（ＵＶレジン）を塗布した後、先の基板と
、スタンバを押し付け、ＵＶレジン５−２を硬化きせる
。この後、スタンパからはくりし、レプリカができあが
る。あとは目的に応じて、この上に記録膜あるいは反射
膜を付けて使用する。
ルロースなどの材料８を塗布し、はくりの境界層とする
。次に、その上にあるいは、レプリカの基板となる透光
性基板７のガラスあるいはアクリルなどの上に紫外線硬
化樹脂５−２（ＵＶレジン）を塗布した後、先の基板と
、スタンバを押し付け、ＵＶレジン５−２を硬化きせる
。この後、スタンパからはくりし、レプリカができあが
る。あとは目的に応じて、この上に記録膜あるいは反射
膜を付けて使用する。
レプリカの偏心をスタンパの信号パターンと一致させる
方法として、第４図のようにスタンバ９とレプリカ１０
の基板との内径を等しくシ、そこに同径の治具１１をは
め込む方法がある。また、全面を硬化させると、内径部
分でＵ Ｖレジンにより接着されるおそれがあるが、こ
の為には、第５図に示す如く内径部分を硬化さぞない様
にマスク１２を使用しても良い。あるいは、先のスタン
バの時と同様に、レプリカ基板の内径を面取り１３して
おくことによっても対策できる。あるいは内逆部分１２
にはめ込む治具の周囲に接着防止処理、例えば、テフロ
ンコートまたは、グリースを塗布することも可能である
。
方法として、第４図のようにスタンバ９とレプリカ１０
の基板との内径を等しくシ、そこに同径の治具１１をは
め込む方法がある。また、全面を硬化させると、内径部
分でＵ Ｖレジンにより接着されるおそれがあるが、こ
の為には、第５図に示す如く内径部分を硬化さぞない様
にマスク１２を使用しても良い。あるいは、先のスタン
バの時と同様に、レプリカ基板の内径を面取り１３して
おくことによっても対策できる。あるいは内逆部分１２
にはめ込む治具の周囲に接着防止処理、例えば、テフロ
ンコートまたは、グリースを塗布することも可能である
。
ここで使用できる紫外線硬化樹脂としては、種種あるが
、アクリレート系＃ｔｊ脂がよく用いられ、その構成は
、例えば、光重合開始剤として１−ヒドロキシへキシル
フェニルケトンさらに主剤としては、ヒドロキシブチル
メタクリレート、ポリブタジェン、１，６ヘキサンジオ
ールジメタクリレートなどを含むものである。
、アクリレート系＃ｔｊ脂がよく用いられ、その構成は
、例えば、光重合開始剤として１−ヒドロキシへキシル
フェニルケトンさらに主剤としては、ヒドロキシブチル
メタクリレート、ポリブタジェン、１，６ヘキサンジオ
ールジメタクリレートなどを含むものである。
以上説明したごとく、本発明はメッキ工程を含まないで
平坦性の良いスタンパ−を、手軽に早く作ることができ
、さらに、これを用いて作ら扛たレプリカは、平坦性の
艮いものとなる。
平坦性の良いスタンパ−を、手軽に早く作ることができ
、さらに、これを用いて作ら扛たレプリカは、平坦性の
艮いものとなる。
第１図は本発明のスタンパ作製方法全説明するための光
ディスクの構成を示す図、第２図は光デイスクレプリカ
の構成を示す図、第３図は、上記スタンパからレプリカ
を作る構成を示す図、第４図及び第５図はレプリカの偏
心をなくす方法を説明する図である。 １・・・原盤用基板、２・・・フォトレジスタ、４・・
・金属層、５−１．５−２・・・紫外線硬化樹脂、６・
・・スタンパ用部材、７・・・レプリカ用基板、８・・
・ハく９層、第 １ 口 第 ２ 図 ■ ３ 図 ■ ４ 図 第 ５ 図
ディスクの構成を示す図、第２図は光デイスクレプリカ
の構成を示す図、第３図は、上記スタンパからレプリカ
を作る構成を示す図、第４図及び第５図はレプリカの偏
心をなくす方法を説明する図である。 １・・・原盤用基板、２・・・フォトレジスタ、４・・
・金属層、５−１．５−２・・・紫外線硬化樹脂、６・
・・スタンパ用部材、７・・・レプリカ用基板、８・・
・ハく９層、第 １ 口 第 ２ 図 ■ ３ 図 ■ ４ 図 第 ５ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 所定基板上のフォトレジスト材に光学的に情報を
記録された原盤に、金端膜を付ける工程と、紫外線硬化
樹脂を塗布する工程と、透光性部材を上記樹脂に押し付
ける工程と、上記樹脂に紫外線を照射する工程と、上記
樹脂を上記原盤からはく離する工程とからなり、上記部
材をスタンパとし、その上ｖｃｎ＜り剤を塗布するＩ８
と、紫外線硬化樹脂を糸布する工程と、透光性基板を前
記樹脂に押し付ける工程と、それらに紫外線を照射し、
樹脂を硬化する工程と、硬化した樹脂と基板を一体どし
て、スタンバからばくりする工程とからなる光ディスク
の作製方法。 ２、 請求範囲第１項記載の光デイスク作製方法におい
て、スタンパ用部材の内径部分が面取りしであることを
％徴とする光ディスクの作製方法。 ３、請求範囲第１項記載の光デイスク作製方法において
、スタンパ用部材及びレプリカ基板の内径が等しいこと
を特徴とする光ディスクの作製方法。 ４、請求範囲第１項記載の光デイスク作製方法において
、透光性基板の内径部分が面取りしであることを喝徴と
する光ディスクの作製方法。 ５、請求範囲第１項記載の光デイスク作製方法において
、透光性基板上の樹脂を硬化させる際に、周径部分の露
光を妨げるマスクを使用することを特徴とする光ディス
クの作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4422683A JPS59171629A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 光デイスクの作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4422683A JPS59171629A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 光デイスクの作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171629A true JPS59171629A (ja) | 1984-09-28 |
Family
ID=12685622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4422683A Pending JPS59171629A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 光デイスクの作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171629A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5090982A (en) * | 1987-12-03 | 1992-02-25 | Pilkington Plc | Method of producing a surface microstructure on glass |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP4422683A patent/JPS59171629A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5090982A (en) * | 1987-12-03 | 1992-02-25 | Pilkington Plc | Method of producing a surface microstructure on glass |
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