JPH04178936A - 光学ディスクマスターの製造方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野〕 本発明は光学ディスク（以下ＯＤと称する）マスターの
製造方法に関する。該ＯＤマスターにはデータが記録さ
れ、また前記ＯＤマスターから、該ＯＤマスターと同一
の多くのＯＤを大量複製するためのＯＤスタンバ−が、
従来通りの電気的形成手段によって形成される。前記Ｏ
Ｄマスターの製造方法は別様には、データバックアップ
記録のための、或は記録済ＯＤの一般的製造のための検
査及び確認のための一回書き込み複数回数読出し式ＯＤ
（以下Ｏ１１０ＲＭと称する）作成のために使用され得
る。 ［従来技術の説明］ コンパクトディスク（ＣＤ）マスターをも含み得るＯＤ
マスターは、それによって実質的に全ての、大量生産型
の記録済コンシューマＯＤが連続的に成型されるところ
の物品である。実際上、ＯＤマスターは多くのＯＤを製
造するスタンパ−のための種型である。この種型はＯＤ
製造方法における最初の物品であり、ディスク或はプラ
ッタ上に光学手段によって読み出し得るデータ或は情報
を出現させ、またこれを使用することによってその複製
を作成し得るものである。全ての連続的なＯＤ製造及び
複製方法或は作業では、同一形状、フォーマット及びデ
ータが、１つの物品、即ちディスクから次のディスクへ
と真空蒸着、電鋳／メツキ、或は射出成形プロセス処理
を含む種々の手段によって転写される。ＯＤマスター作
成に先立ち、データ或は情報がテープその他記憶デバイ
ス上に従来通り記録され、その大量複製のために前記デ
ータは前記記憶デバイスから光学的手段によってＯＤマ
スターに変換される。 マスター製造のための従来技術が種々の工業における既
存の技術と組み合わされた。こうした技術の内で最も傑
出したものは半導体工業のフォトレジスト概念であった
。ＯＤマスター及び、連続成型され且つ複製されたＯＤ
は、光学的に記録された情報を表す一連のビットを含み
、これらビットはディスク中心に近い半径方向内側から
開始され５その周囲付近の半径方向外側へと連続する実
際の或は仮想のライン或はトラック上に配置される。好
都合には、前記ビットは幅が概略０．６ミクロンであり
、長さが０．９から３．３ミクロンであり、深さが０、
１２ミクロンであり、そして各側に於て隣合うトラック
から１．６ミクロン（１０−’メートル）離間されてい
る。前記フォーマットを実現するために、半導体工業に
於て一般に使用されるフォトレジスト技術が使用された
。フォトレジスト薄板を載置したガラスプレートは次い
でフォトレジストを硬化させるためのオーブンに配置さ
れた。フォトレジストでコーティングされたガラスプレ
ートは次にターンテーブル上に載置された。該ターンテ
ーブルは、ガラスプレート上の、ガラスプレートの中心
から半径方向外側へと移動する地点に於て毎秒約１．２
メ−）ルの一定の直線速度（ＣＬＶ）を生じさせるべく
可変的に減少する速度割合で旋回せしめられる。こうし
たシステムでは、データ変調レーザーがガラスプレート
直上に設置される。該データ変調レーザーは比較的大型
で且つ複雑な移送機構にして、該データ変調レーザーを
して極めて徐々に、然も一定の半径率に於て、旋回する
ガラスプレートの中心から外側へと移動せしめ、その一
方で、ガラスプレートの表面を付随的に照射する前記移
送機構によって懸架される。前記付随的な照射はフォト
レジスト材料にデータの螺旋トラックを創成する。この
方法はマスタリングとして参照される。ビット化される
べく指定された部分はガラスプレートの回転につれて螺
旋通路に沿ってレーザー光に露呈される。ガラスプレー
ト上のフォトレジスト薄板に全てのデータが記録された
後、ガラスプレートは代表的にはマルチステッププロセ
スにおける現像溶液の少なくとも１つの浴内に配置され
る。ここでフォトレジストのレーザー光に露呈された部
分が溶蝕され、一連のビットが残される。溶蝕されたフ
ォトレジストを具備するガラスプレートは次いでオーブ
ン乾燥され、続いて前記フォトレジスト薄膜の金属処理
が、薄肉の金属から成る導電性薄膜を真空蒸着させるこ
とによって為され、これにより所望のマスターが製造さ
れる。このマスターは最終的に、スタンバ−及び複製を
作成するための電気的形成に先立って、分析及び確認プ
ロセスを受ける。 前述の形式のマスター製造システムは、関連する主要設
備、労働力、空間、移動及び衝撃に対する影響の受は易
さ５時間及びコストによって、極めて高価なものとなる
。単一のマスターを製造するための運転コストは比較的
高価なものと成り得る。 フォトレジストマスター製造システムの別態様として他
の技術が展開され、そこではレーザーに露呈された場合
に融触されそれによって所望のビットが形成される材料
が使用された。この方法はフォトレジストプロセスを上
回る数多（の利益をもたらした。そうした利益には中で
も、現像及び硬化段階が除去されたことによるプロセス
処理段階の減少が含まれる。これによって、手順上の費
用が減少され、手順完了までの時間が一段と短縮され、
ディスクの品質監視が、ディスク上にデータを記録する
マスター製造プロセスと同時に行なえるようになった。 このマスター製造プロセスは非−フォトレジスト（ＮＰ
Ｒ）方法として知られるものであるが、乾燥プロセス処
理方式（ＤＰＦＩフォトリアクティブコーティングとし
て参照される材料を使用する。この場合にはオーブン乾
燥、現像或は乾燥手順を必要としない独特の材料が、ガ
ラスプレートディスク上に旋回コーティングされる。ガ
ラスプレート及び乾燥プロセス処理方式（ＤＰＦ）フォ
トリアクティブコーティング材料は次いで、マスター製
造及び付随する分析のためのターンテーブル上にセット
される。レーザーが融触によってリアルタイムでビット
を創成し、それによって、エラー率及び基準に対する一
致を分析するための、書き込み後の同時的な直接読み出
しくＤＲＡＷ）が可能となる。ビットが形成された層の
金属処理が実施されマスター製造プロセスが完了される
。マスターが作成されると、スタンバ−製造のための従
来通りの電気メツキ及び複製プロセス処理が実施される
。スタンバ−は次いで、従来通りの射出成型プロセス処
理によるＯＤの大量複製のために使用される。 この非−フォトレジスト（ＮＰＲ）方法は、溶蝕プロセ
ス及びオーブン硬化を除去した点に大きく依存して、従
来技術を上回る幾つかの改良をもたらすものである。し
かしこの方法では、移動に対する影響の受は易さのみな
らず、高価で複雑な移送機構の必要性、そしてガラス再
コンディショニングプロセスは除去されない、そうした
システムのための資本費用は相変わらず著しいものであ
り、然も、単一マスターの製造費用は尚、比較的高価で
ある。 更に別のマスター製造方法がダイレクトメタルマスクリ
ング（ＤＭＭ）方法として参照される。該ダイレクトメ
タルマスクリング方法に於ては、表面材料を露呈或は融
触せしめるために、レーザーの使用に代えて、通常は金
属である表面に実際に係合する小さなダイヤモンド針が
使用される。技術的には容易であるものの、この概念は
恐らくは、”無接触”のレーザーシステムによって機械
的システムを上回る信頼性、耐久性そして効率がもたら
されることから、それを適用することは工業的に意味が
ない。従って、その時点での意図目的に対しては満足さ
れたものであっても、そうした従来技術には固有の制限
事項が存在することから、もっと効率的で時間浪費の少
ない、そして安価なＯＤマスター製造方法に対する需要
が長く存在していた。本発明はそうした需要に答えるＯ
Ｄマスター製造方法を提供する。 〔発明が解決しようとする課題〕 解決しようとする課題は、従来からのＯＤマスター製造
方法が非−効率的で時間浪費が多く、費用が嵩む点であ
り、 簡単でコンパクトな、製造速度の比較的早い、安価で且
つ効率的なＯＤマスター製造システムがない点であり、 ＯＤマスターだけでなくエラーチエツク用の且つデータ
確認用のＯＤ　ＷＯＲＭをも製造するための早く且つ安
価なＯＤマスター製造プロセスがない点である。 ［課題を解決するための手段］ 本発明によればＯＤマスター製造のための方法及び関連
する装置にして、複製ＯＤを大量生産するためのＯＤス
タンバ−を製造するために使用され得、或は別様にはＯ
Ｄ　ＷＯＲＭ作成のために使用され得る方法及び関連す
る装置が提供される。本発明は、光学的トラッキング溝
或は螺旋清かその一方側に正確な寸法形状に於て成型さ
れた或はエツチングされた、光学的に透明なポリマーデ
ィスクの使用が意図される。光学的に活性な薄膜が、ク
リーンルーム環境に於て旋回コーティング手段によって
ディスク表面の溝に塗布される。この光学的に活性な薄
膜は次いで、レーザー手段によってドツト及びダッシュ
から成る可変長さのビット形態に於てデータコード化さ
れる。前記レーザー手段は、データ変調されたビームが
最終的にディスクの各側からディスク上の前記光学的に
活性な薄膜に照射され、一方、前記螺旋溝に沿ったトラ
ッキングによって前記光学的に活性な薄膜が前記螺旋溝
の寸法形状によって決定される所望ビットのビットへと
ほぼ全体的に融触せしめられる。次いで、極めて薄肉の
導電性の薄膜は、コード化された前記光学的に活性な薄
膜上に被着されそれにより、ＯＤスタンバ−製造用の電
気形成プロセスのために準備されたＯＤマスターが出来
上がる。前記ＯＤスタンバ−は結局、ＯＤマスターを大
量複製するために使用される。 別様には、導電性の薄膜は反射性をも有することから、
前記出来上がったＯＤマスターは反射性の薄膜に保護層
を追加するだけでＯＤ　ＷＯＲＭへと変更され得る。つ
まり、ここに開示される方法はＯＤマスターか或はＯＤ
　ＷＯＲＭの製造に対して実施され得るものである。 本発明の主たる目的は簡単でコンパクトな、比較的製造
時間の短い、安価で且つ効率的なＯＤマスター製造シス
テムを作成することにある。 本発明の他の目的は、ＯＤマスターだけでなくエラーチ
エツク用の且つデータ確認用のＯＤＷＯＲＭをも製造す
るための早く且つ安価なＯＤマスター製造プロセスを提
供することにある。 本発明の他の目的は、市販入手し得る光学ヘッド及びレ
ーザー、光学的ビームトラッキングのための、予め溝付
けされた光学的に透明な安価なポリマー基材を、高価な
主要設備の必要性を回避するために、また嵩高でしかも
複雑な、従来のＯＤマスター製造システムに於て見出さ
れる慣例的な光学機器、移送システムそして高価なガラ
スディスク配列体に対する必要性を回避するべく新規に
適用することによって、ＯＤマスター製造システムを作
成することにある。 本発明の他の目的は、所定の且つ独特の寸法形状のトラ
ッキング溝にして、該トラッキング溝の表面全体にディ
スクの各側からデータ変調レーザービームが正確に集中
され且つ照射されることにより、隣合う光学的に活性の
層が自然に且つほぼ全体的に融触されてデータビットが
形成せしめられ、該データビットの輪郭及び境界が基材
の溝それ自身であるような、明確な且つ独特の寸法形状
のトラッキング溝を使用することにある。 本発明の更に他の目的は、容易に作成し得る或は入手し
得る且つ安価な予備溝付けされたポリカーボネート製デ
ィスクを使用しそれによって、繰り返し使用し得るが、
それを再利用するためには徹底的な洗浄及び研磨手順の
必要性がある従来からの高価なガラスプレート支持体を
除外することによってＯＤマスター製造に際しての運転
コストを低減することにある。 本発明の更に他の目的は、伝統的なガラス準備段階、オ
ーブン乾燥段階、現像及びオーブン乾燥プロセス処理段
階を含む従来通りの幾つかの段階を省くことによって、
ＯＤマスター製造における製造速度を速め且つ運転コス
トを減少させることにある。 本発明の更に他の目的は、ＯＤマスター製造プロセスを
簡単なものとしそれにより、従来通りのマスター製造技
術の種々のルーチンを達成するための熟練作業員数を減
らすことにある。 本発明の更に他の目的は、ＯＤマスター製造における周
辺機器コンポーネントの数を減らしそれにより、ＯＤマ
スター製造方法のために必要な空間量を低減し、実質的
にコストを節減することにある。 本発明の更に他の目的は、ディスクの各側から記録し且
つ読み出しし得るＣＤマスター及び別様にはＣＤ　ＷＯ
ＲＭを作成することにある。 〔実施例の説明〕 本発明は既存のＯＤマスター製造技術に対する新規な方
策を含む０本方法の最初の段階は、好都合には、これに
限定されるものではないが、厚さ約１．２　＋ｅａ＋、
直径的１３０ｍｍの第１図に例示されるような成型ポリ
マーディスク基材１０（以下単にディスク１０と称する
）を作成或は入手することによって開始される。該ディ
スク１０はその一体部分として、光学的トラッキング通
路がそこに成型され或はエツチングされる。該光学的ト
ラッキング通路は好ましくは溝１２であり、また前記デ
ィスクｌＯは中央スピンドル孔１４を具備している。 ディスク１０は好ましくは透明なポリカーボネート製で
あるが、同様に透明なポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）その他類似の透明な基材にして、トラッキング通
路を有する透明な基材であり得る。また更には、もしレ
ーザー記録動作が底部から、即ち従来通り、またここで
説明されるようにディスク１０の非−溝付は側からでは
なくむしろ上方、即ち基材１０の溝側から為される場合
には透明である必要はない。？ｆｔ１２は、そこに限定
されるものではないが、従来通りの螺旋トラックにして
、半径方向内側の半径位置ｒ°に於て開始され半径方向
外側の半径位置ｒ”の位置に於て終端する前記螺旋トラ
ックを有する。ディスク１０を半分に切断した第１の断
面図が第２図に例示され、溝１２の拡大部分断面図が、
好ましい溝の寸法形状の一層明瞭なる理解のために第３
図に例示されている。 溝の寸法形状が最終的に、光学的に活性な薄膜の溶合に
よってそこに形成される情報のビット或はビットの寸法
形状を決定することから、溝の寸法形状は所望のビット
のそれであることが必要である。好ましい具体例におけ
る溝１２の寸法形状は実質的には第３図に示される如き
ものであり、溶合されない前記光学的に活性な薄膜が残
る恐れは低減されている。好ましくは、これに限定され
るものではないが、前記溝１２は幅が０．６ミクロンで
あり、深さが０．０６５ミクロンでありまた、順次する
トラック或は溝間の”ランド”３８を含むトラックピッ
チ、即ちトラック間距離は１．６ミクロンである。 こうした寸法形状により、所望に応じ５乃至１５ミリワ
フトのレーザーを使用して、深さ１／８から１７４（約
２０００人）の、幅０．４から０．６ミクロンの、そし
て長さ０．９から３．３ミクロンのビットが溶合によっ
て形成される。 第４図には本方法の第２の段階が例示される。 予備溝付けされた光学的に透明なポリカーボネートから
成るディスク１０に、旋回コーティング手段１６によっ
て厚さ約０．１３ミクロンの光学的に活性な基材から成
る極めて薄い薄層１８が積層される。 該薄膜は好ましい具体例に於ては、７８０ナノメータ波
長感光性の染料であるニトロセルロースの染料ポリマー
化合物の溶液である。 第５ａ図は第４図を線５−５で切断した断面図であるが
、ディスクｌＯにおける単一のトラッキング用の溝１２
の短いストリップ或は区分の長手方向側面が例示され、
前記溝１２の表面２０には光学的に活性なニトロセルロ
ースの薄層１８が積層されている。 第５ｂ図には本方法の第３の段階が例示されている。該
第３の段階はデータ記録段階である。該第５ｂ図には、
レーザービーム３４を、光学ヘッド２２の上方で旋回す
る透明なディスクを貫通させることによって、光学的に
活性な前記薄層】８上を照射しデータを記録する状況が
例示されている。しかしながら、前記光学ヘッド２２を
ディスク上方に配置し、従来技術に於て慣例的に為され
るように下方からではなく上方から前記薄層１８を照射
することも等しく容易である。その場合ディスク１０は
透明である必要はない。しかし、薄層１８の上面にはデ
ィスクｌＯの底面よりも溶射物質その他漂遊粒状物が多
く更には、ディスク１０の底面の粒状物が薄層１８上の
粒状物のようには該薄層１８を遮光しないことから、光
学ヘッド２２を旋回するディスク１０の下方に配置する
ことが好ましい。前述のように、ディスクｌＯの底面の
粒状物が薄層１８上の粒状物のようには該薄層１８を遮
光しないのは、比較的大きなレーザービーム３４がディ
スク１０を貫通して溝１２の底面２０及び隣接する薄層
１８の直径約１ミクロンの地点に集中されるからである
。しかしながら、好ましい具体例に於てはディスク１０
の下方に位置付けられた７８０ナノメータ波長のレーザ
ー源、即ち光学ヘッド２２が、微細に集中されたレーザ
ービーム３４をしてディスク１０を貫いて送達し、薄層
１８上に焦点を合わせしめる。薄層１８のニトロセルロ
ース化合物から成る染料が７８０ナノメータ波長の光線
を吸収しその結果、薄層１８内の実質的な熱エネルギー
を吸収する。そうした熱エネルギーは薄層１８をして自
然分解せしめ、それにより薄層１８はその殆ど全部が溶
合せしめられてビット２４が形成される。光学ヘッド２
２はレーザービームが集中され且つ追随するところの溝
１２に対して静止されるが、満１２それ自身は矢印２６
で示されるように光学ヘッド２２に関して移動され、そ
こへの一連のデータの記録を可能としている。 光学ヘッド２２は実際にはディスク１０が旋回するに際
し、ディスク１０の１点に対して毎秒的１．２メ−）ル
の一定の直線速度（ＣＬＶ）を維持するために次第に減
速する速度に於て、溝１２を追随しつつ前記ディスクの
中心から直線状に半径方向外側へと移動する。 データが完全に記録されると本方法の第４の段階に於て
、真空蒸着２８その地回等の方法によって極めて薄い厚
さ約１０００人の、導電性の且つ光学的に反射性の、好
ましい具体例では銀（八ｇ）である薄膜３０が被着され
、ＯＤマスターが完成される。 第６図には記録されたデータのトラックの平面図が溝１
２に沿って例示され、前記トラックには溶合されたビッ
ト２４が例示されている。これらビットは代表的には深
さが１７４であり、幅が０．６ミクロンであり、そして
長さが０．９から３．３ミクσンであり、ＣＤフォーマ
ットにおける３から１１のビットを表し、或は別のフォ
ーマットにおける単一乃至多数のビットを表している。 第６図には第３図に示される溝が、そこにデータを記録
した状態で長手方向から見た状態が例示されている。 第７ａ図、７ｂ図及び７０図は、第６図を線７−７で切
断した断面図であり、ここではＯＤマスター製造中に為
される手順がもつと明瞭に示されている。第７ａ図には
、溝１２及び溝壁２０を具備する第３図のディスク１０
に、光学的に活性な薄層１８が被着された後の状態が示
される。溝１２及び溝壁２０には特定の記号ｗ、ｘ、ｙ
及び２が付記されている。第７ｂ図にはＯＤマスター製
造における重要な改善が例示されている。この改善によ
って、光学的手段によって記録される各データ或は複数
のデータの寸法形状及び理想的形状が正確に決定され得
る。ニトロセルロースその他の、同様の目的に使用され
るべき光学的に活性な材料から成る薄層１８が、レーザ
ービーム３４からの熱エネルギーの吸収に際し、僅かな
化学的爆発態様で自然に且つ急速に反応することから、
記録及び再生が厳密な態様に於て常に且つ不変に為され
る態様でのＯＤマスター大量生産のために最終的に数多
くが複製されるところの、ＯＤマスターに記録されるべ
きデータのビットの厳密な寸法形状、性質及び形状を予
備決定することは慣例的に困難である。ディスク上に印
加される溝の形状寸法は、実際上、従来技術に於て慣例
的な種々の手段、中でも機械的／物理的エツチング、フ
ォトレジストエツチング及び連続ウェーブ（Ｃｌ）レー
ザービームによる層の連続的溶合をも含む手段によって
かなり正確に決定され得る。従って、ビット／データ形
状寸法のそれとなるべき寸法形状の溝を使用することに
よって、記録及び複製用のデータの精度は著しく助長さ
れる。光学的に活性な薄層１８から成るビットを全体的
に或は部分的に溶合することにより溝壁２０或は極（僅
かの薄膜だけが残されそれにより、記録されたデータの
形状寸法は高い精度で予備決定される。こにより、ニト
ロセルロース化合物溶液中の光吸収性の染料溶液から成
る可変の或は非−均質の溶液によってもたらされる、従
来技術でのビット形成に際しての変数が除去される。こ
うした変数は実際上翼なる化学反応を生じせしめ、その
結果、データビットの寸法及び形状を変化させる。実際
上、光学的に活性な薄層１８の厚さの変化によってさえ
もビット２４の形成は変化する。しかしながら、データ
がビット２４として記録されるべき位置に於て溝１２か
ら薄層１８が全体的或は部分的に溶融されることにより
、各ビットの境界及び形状寸法はかなりの精度でもって
決定される。 第７ｂ図にはデータ記録プロセス処理の各段階が、記録
以前の溝（Ｘ）、記録中の溝（Ｗ）そして記録後の溝（
ｙ及びＺ）に於て夫々例示されている。該第７ｂ図では
、レーザービーム３４はレンズ３２によって、満１２を
追随しつつ溝１２の”Ｗ”として例示される部分の溝壁
２０の全体に集中せしめられている。情報のビットが記
録される場合には、レーザービーム３４の出力は点線で
示される溝壁２０及び発散する状況を表す４つの矢印に
よって表されるような、溝壁２０の全体的或は部分的な
溶融を生じせしめるに十分に増強される。こうして、光
学的に活性な薄層１８はほぼ全体的に溶融され、情報の
ビット２４が溝壁２０の厳密な或は相関する寸法形状に
於て形成される。そうしたビットは第６図に於てはデー
タが記録された部分”Ｚ”及び　”ｙ”として表されて
いる。満１２の、データの記録されていない部分“Ｘ”
が、薄層１８が所望に応じてそのまま残された部分であ
ることを銘記されたい。 第７ｃ図には、薄層１８がコーティングされ、そこにデ
ータが記録され、そして第５Ｃ図に関連して説明された
金属処理プロセス中における、第６図を線７−７で切断
した断面図が例示されている。 第８図を参照するに、第７ｃ図の部分拡大断面図が例示
される。何れの図もここで開示され、従来からＷＯＲＭ
　（−回書き込み複数回読み出し）と称されるところの
、ＯＤマスターから複製されたＯＤ上に記録したデータ
の読み出しに際して利用される。従来からの光学的事項
が簡単に説明されている。ここではまた本発明の追加的
変化例が示されている。 第８図には、点線３６を含まない部分に於て、本発明に
よって開示されるＯＤマスター製品の詳細が例示されて
いる。ＯＤマスターは、完成された場合、光学的に活性
の薄層１８を具備する予備溝付けされた透明なポリマー
基材或はディスク１０を含む、前記薄層１８は満１２の
部分”ｙ”に於ては全体的或は部分的に溶融されており
、ここにデータのビットが記録される。”ランド”３８
（溝どうしの間隔部分）はそのままである。また部分”
Ｘ”にはデータは記録されていない、何れの部分も、導
電性薄膜３０によって被覆されている。もし第３の保護
層３６が前記導電性薄膜３０に被着される場合は、該導
電性薄膜３０もまた光学的に反射性の物質、例えば、こ
れに限定されるものではなし）が、銀（Ａｇ）とされる
、ＯＤマスターは、データを記録し且つ読出すためにそ
こをレーザービーム３４が貫通するところのディスク１
０の屈折率（１，ｓ）によって、表示されるような寸法
形状を有するＯ　Ｄ　ＷＯＲＭへと有効に変更される。 第８図における全ての寸法形状は、各層の相対比較を容
易とするためにオングストローム（１０７”メートル）
で表されるが、代表的には１．２ｎ＋ｍであり得るポリ
マーかも成るディスクｌＯ及び、所望に応じて可変であ
るが、約１ｍｍのポリマーから成る保護層３６は除外さ
れる。 ＯＤマスター或はＯＤ　ＷＡＲＭの製造に際しては、記
録された情報のビットは、７８００人レーザーを使用し
てその深さを１／４即ち約１９５９人（実際は屈折率を
考慮して１３００人、１９５０／１．５＝１３００１の
範囲とするのが好ましい、そうすることで、ビット２４
を貫通する光は反射距離であるところの２×ス：％の距
離を移動し、入力レーザービーム及び反射レーザービー
ム間に於て１８０°の位相差を生じそれが結局、データ
として判読され得る破壊され得る干渉縞を生じせしめる
。レーザービーム３４は満１２にデータを記録するだけ
でなく、対応状態で溝１２を追随もする。溝１２の部分
”Ｘ”の如きを追随するためには、溝１２及び反射性の
薄膜３０の厚さは１／８即ち、９７５人（実際は６５０
人、９７５／１．５＝６５０）の範囲とされる。反射さ
れたレーザービーム３４は溝１２を横断し、次いで反射
距離であるところの２Ｘｌ／８・属の距離を横断し、反
射レーザービームにおける９０°の位相差を生じ、それ
によって追随が正しいことを意味する光の分散を生じせ
しめる。 従って、先に言及されたＯＤマスター製造方法に於て主
要に意図され且つ重要とされた意図は、従来からの、マ
スターの多数の複製を生み出すＯＤスタンパ−がそれに
よって製造され得るところのマスターを作成することで
はあるが、光学的に活性な且つ反射性／導電性の極めて
薄い薄膜を覆って保護層を追加することにより、同一の
方法及び設備を使用してＯＤ　ＷＯＲＭを製造すること
もまた選択され得る。 第８図には、読み出ししつつ書き込みし得る能力もまた
、本発明の他の新規な特徴として例示されている。書き
込み用のレーザービーム３４がビット２４を形成するた
めに薄層１８を溶合することによってデータを記録する
間、レーザービーム３４と対践する第２の読出し用のレ
ーザービーム４０が、前記ビット２４形成のための前記
溶合が実施される際にその溶合を監視するために設けら
れ得る。全てのデータがマスター或はＷＯＲＭに記録さ
れるまでは反射性の層３０或は保護層３６は存在しない
が、ポリマーから成るディスク１０が、屈折性を有する
のに加えて透過性を有することから、前記第２の読出し
用のレーザービーム４０よって実際に監視され得る制限
的なな反射特性もまた存在することを銘記されたい。こ
れはさして重要なことではないが、しかし通常の読み出
しモードはレーザービーム３４が通常の書き込みモード
にある正にその時にレーザービーム３４によって為され
ることもまた理解されたい、従って、前記第２の読出し
用のレーザービーム４０はレーザービーム３４によって
書き込まれたデータの反転像を読出す、しかしながら先
に指摘したように、あまり望まくはないが第２の読出し
用のレーザービーム４０を記録用のレーザービームとし
て使用することによってマスターを製造し得、この場合
、該第２の読出し用のレーザービーム４ｏは同様に通常
の読み出しモードに於て使用される。 第８図には本発明の１つの追加的な特徴が例示されてい
る。記録されていない部分”Ｘ”における点ＩＩ！４２
は、好ましいが完全なものとする必要はない具体例を例
示するものである。光学的に活性な薄層１８が予備溝付
けされたポリマー製のディスク１０上に旋回コーティン
グされる際、液体であるところの前記薄層１８はディス
クｌＯ上で溝１２の輪郭をなぞる傾向を有する。従って
、薄層１８はディスク１０の溝壁２０が溝付けされるに
際して同様に溝付けされ、そして引き続いて追加される
導電性の／反射性の薄膜３０も勿論、溝付けされる。し
かしながら、薄層１８及びそこに積層される導電性の、
反射性の薄膜３０を、点線４２で例示されるようなラン
ド３８と同一高さ或は同一平面とするのが好ましい。そ
れによって、マスターの良好な複製特性及びＷＯＲＭの
良好な反射特性が達成され得る。 先のプロセスに於て使用される光学ヘッド、即ちレーザ
ー２２は好ましくは７８０ナノメータ波長のレーザーで
あり、これに限定するものではないが２単一スポツトト
ラツキング能力を有する光学ヘッドに取付けられる。異
なるレーザー波長が異なる溝及びビット寸法形状を形成
し得ることを理解されたい、前記光学ヘッドは０．６ミ
クロンの多くの孔を有するレンズ３２を具備し、従って
レーザービーム３４は、それがディスク１０を貫くに際
し満１２の、０．６ミクロンの幅に概略等しい直径を有
する一点に集中される。レーザービーム３２が集中され
ると、溝１２は前記光学へラド２２がディスクｌＯ上を
移動しディスクの光学的コード化のために必要な螺旋通
路を追随可能ならしめるための手段となる。実用システ
ムに於ては、レーザービーム３４がディスクの半径方向
の最も内側の溝半径方向位ｆ（ｒ’）からその最も外側
の半径方向位置（ｒ”）にかけて一定の直線速度（ＣＬ
Ｖ　”）で溝１２を追随し得るような態様に於て、光学
ヘッド２２がディスク１０を半径方向に移動するようデ
ィスフ１０の旋回速度を調整するために、従来通りのサ
ーボ手段が使用される。 本発明に於て使用されるレーザーダイオードは光学的に
活性の薄層を溶合するための十分な出力を有するもので
ある。該レーザーダイオードは、所望のデータストリー
ムを使用して記録中に変調されそれにより、溝１２に沿
って整列した種々の長さのビット２４が溶合形成される
。 段階４の金属処理が完了すると、ＯＤマスターは次いで
、多くの同一のディスクを複製するためのＯＤスタンパ
−を形成するための従来通りの手段によって電気メツキ
される。別様には、そうして出来上がったマスターは反
射層に単に保護層を塗布するだけによってＷＯＲＭへと
変更され得る。 以上本発明を具体例を参照して説明したが、本発明の内
で多くの変更を成し得ることを理解されたい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明における基材として使用される螺旋溝付
けされたポリマーディスクの斜視図である。 第２図は第１図のポリマーディスクを半分に切断した断
面図である。 第３図は螺旋溝部分の簡略化された拡大部分断面図であ
る。 第４図は光学的に活性な薄膜の旋回コーティング段階（
段階２）を例示する部分断面図である。 第５ａ図は光学的に活性な薄膜を重ねた状態で示される
、螺旋溝に沿った部分拡大断面図である。　、 第５ｂ図は、静止されたレーザーが螺旋溝を図面で左側
に移動させることによって光学的に活性な薄膜をほぼ全
体的に融触してビットを創成する段階（段階３）を例示
する、前記螺旋溝に沿った部分拡大断面図である。 第５ｃ図は真空蒸着、即ち金属処理プロセス（段階４）
によって反射性及び導電性の薄膜な形成する状況を例示
する部分拡大断面図である。 第６図は第１図に例示されたディスクの螺旋溝部分の部
分平面図であり、該螺旋溝には情報が記録されたビット
が具備されている。 第７ａ図は、第６図に示される部分拡大断面図を線７−
７で切断した部分拡大断面図であり、光学的に活性な薄
膜の融触及び金属処理以前の状況が例示され、第５ａ図
の状況に相当している。 第７ｂ図は、融触されたビット（２及びｙ）、非−融触
ビット（Ｘ）、そして融触されつつあるビット（ｗ）を
例示する。融触によるデータ記録のプロセス期間中の状
況を例示する、第５ｂ図に相当する部分拡大断面図であ
る。 第７ｃ図は、光学的に活性の薄層を旋回コーティングし
、該光学的に活性の薄層上に情報を記録し他後の、第５
ｃ図に相当する実際の部分拡大断面図である。 第８図は融触された溝（ｙ）及び非−耐蝕溝（ｘ）の物
理的／光学的及び相対的寸法形状を表す、第７ｃ図の部
分拡大詳細断面図である。 尚、図中主な部分の名称は以下の通りである。 １０：成型ポリマーディスク基材 １２：溝 １４：中央スピンドル孔 １６ｚ旋回コーティング手段 １８：薄膜 ２２：光学ヘッド ２４：ビット 手続ネ甫正書（方式） 平成３年２月１日 特許庁長官　植　松　　　敏　殿 事件の表示　　平成２年特許願第２７９４７９号発明の
名称　　光学ディスクマスターの製造方法〒１０３ 補正命令通知の日付　　平成３年１月２２日補正の対象 補正の内容　　別紙の通り 図面の浄書（内容に変更なし）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光学ディスクＷＯＲＭを作成し得る光学ディスクマ
   スターを製造するための方法であって、ディスク基材に
   して、所定の寸法形状の光学トラッキング通路がその一
   方側に形成された前記ディスク基材を作成する段階と、 均質の、光学的に活性の薄層を、前記ディスク基材の前
   記光学トラッキング通路が形成された側に塗布する段階
   と、 該光学的に活性の薄層上に、前記光学トラッキング通路
   に沿って、可変長さのビットから成る一連のフォーマッ
   トに於てデータを光学的に書き込むデータ書き込み段階
   にして、前記ビットの寸法形状が前記光学トラッキング
   通路の寸法形状によって実質的に制御され且つ予備決定
   される前記データ書き込み段階と、 導電性の且つ光学的に反射性の薄膜を前記光学的に活性
   の薄層上に塗布する段階と を包含する、前記光学ディスクＷＯＲＭを作成し得る光
   学ディスクマスターを製造するための方法。 ２、ディスク基材はポリマー製である請求の範囲第１項
   記載の前記光学ディスクＷＯＲＭを作成し得る光学ディ
   スクマスターを製造するための方法。 ３、光学トラッキング通路は、ディスク基材の半径方向
   内側から開始され、前記ディスク基材の半径方向外側に
   於て終端する螺旋形状を有している請求の範囲第１項記
   載の前記光学ディスクＷＯＲＭを作成し得る光学ディス
   クマスターを製造するための方法。 ４、光学トラッキング通路は、ディスク基材の中心位置
   を共通の中心とする複数の同心状の円を具備し、該複数
   の同心状の円はディスク基材の半径方向内側から開始さ
   れ、前記ディスク基材の半径方向外側に於て終端する請
   求の範囲第１項記載の前記光学ディスクＷＯＲＭを作成
   し得る光学ディスクマスターを製造するための方法。 ５、光学トラッキング通路は溝である請求の範囲第１項
   記載の前記光学ディスクＷＯＲＭを作成し得る光学ディ
   スクマスターを製造するための方法。 ６、光学的に活性の薄層の溶蝕によって、光学トラッキ
   ング通路に沿ってデータビットが光学的に書き込まれ、
   それによって可変長さの一連のビットが形成される請求
   の範囲第１項記載の前記光学ディスクＷＯＲＭを作成し
   得る光学ディスクマスターを製造するための方法。 ７、導電性の、光学的に反射性の薄膜は金属である請求
   の範囲第１項記載の前記光学ディスクＷＯＲＭを作成し
   得る光学ディスクマスターを製造するための方法。 ８、光学ディスクＷＯＲＭ及び光学ディスクスタンパー
   を作成し得る光学ディスクマスターを製造するための方
   法であって、 ディスク基材にして、定義された寸法形状の光学トラッ
   キング通路がその一方側に形成された前記ディスク基材
   を作成する段階と、 均質の、光学的に活性の薄層を、前記ディスク基材の前
   記光学トラッキング通路が形成された側に塗布する段階
   と、 前記光学トラッキング通路に沿ってコード化されたデー
   タを、前記光学トラッキング通路それ自身の物理的特徴
   によって実質的に決定される形態に於て、前記ディスク
   基材の前記光学トラッキング通路が形成された側に位置
   決めされたレーザー手段によって光学的に書き込むデー
   タ書き込み段階と、 光学ディスクの前記光学トラッキング通路が形成された
   側に位置決めされたレーザー手段によってデータが光学
   的に書き込まれた側とは反対側に位置決めされたレーザ
   ー手段によって、前記データ書き込み中に、前記コード
   化されたデータを読み出し且つその精度を監視する段階
   と、 導電性の且つ光学的に反射性の薄膜を前記コード化され
   たデータが書き込まれた光学的に活性な薄膜に塗布する
   段階と 包含する、前記光学ディスクＷＯＲＭ及び光学ディスク
   スタンパーを作成し得る光学ディスクマスターを製造す
   るための方法。 ９、光学ディスクＷＯＲＭ及び光学ディスクスタンパー
   を作成し得る光学ディスクマスターを製造するための方
   法であって、 ディスク基材にして、定義された寸法形状の光学トラッ
   キング通路がその一方側に形成された前記ディスク基材
   を作成する段階と、 均質の、光学的に活性の薄層を、前記ディスク基材の前
   記光学トラッキング通路が形成された側に塗布する段階
   と、 前記光学的に活性な薄膜上に、前記光学トラッキング通
   路に沿って可変長さのビットを一連のフォーマットに於
   て光学的に書き込むビット書き込み段階にして、前記ビ
   ットの寸法形状が前記光学トラッキング通路の寸法形状
   によって実質的に制御され且つ予備決定される前記ビッ
   ト書き込み段階と、 導電性の且つ光学的に反射性の薄膜を前記光学的に活性
   な薄膜に塗布してＯＤマスターを形成する段階と 導電性の且つ光学的に反射性の薄膜を塗布した前記光学
   的に活性な薄膜に保護層を塗布してＯＤＷＯＲＭを形成
   する段階と 包含する、前記光学ディスクＷＯＲＭ及び光学ディスク
   スタンパーを作成し得る光学ディスクマスターを製造す
   るための方法。