JPH09265661A

JPH09265661A - 記録媒体およびその製造方法

Info

Publication number: JPH09265661A
Application number: JP8070124A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Ishii; 和慶石井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1996-03-26
Filing date: 1996-03-26
Publication date: 1997-10-07

Abstract

(57)【要約】【課題】スタンパーを用い射出成形法により転写工程
を行なっていたため、生産性や解像度を向上させること
が難しかった。【解決手段】シート状の基板１０は送出シリンダー２
０に巻き付けられており、送出シリンダー２０の回転に
伴って順次送り出され、この搬送の過程で、第１工程
（記録層形成）、記録層表面において光の透過率、反射
率、吸収率のいずれかを部分的に変化させて、情報信号
マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号用マーク等を形成し
た第２工程（転写）、第３工程（反射膜形成）、第４工
程（保護膜形成）、第５工程（切断）を経て連続的に光
記録媒体が製造される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度で情報信号
が記録される記録媒体およびその製造方法に関する。特
に、記録された情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マーク等を光の照射によって検出する方式の装置に
使用される光記録媒体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より高密度で情報信号が記録された
光記録媒体として、例えばＣＤ（コンパクトディス
ク）、ＭＤ（ミニディスク）、ビデオディスク等の再生
専用の光ディスクが知られている。このような従来の光
ディスクの製造方法の一例を図７及び図８に示す。以
下、図７及び図８を参照して光ディスクの製造方法を説
明する。

【０００３】光ディスクの製造工程は大きく２つの工程
に分けられる。１つはスタンパー製造の工程、もう１つ
はディスク複製の工程である。

【０００４】スタンパー製造の工程においては、まず図
７の（ａ）に示すように原盤４０が作製される。通常、
原盤４０にはガラスの円盤が使用され、その表面が研磨
加工、洗浄される。

【０００５】次に、図７の（ｂ）に示すように原盤４０
の表面に均一な厚さでフォトレジスト４１が塗布され
る。

【０００６】フォトレジスト４１が塗布された原盤４０
は図７の（ｃ）に示すようにカッティング装置によって
情報信号の記録が行われる。情報信号の記録は、原盤４
０を回転駆動させながら、記録されるべき情報信号で変
調されたレーザ光４５を収束してフォトレジストの膜に
照射し露光することによって行なわれる。レーザ光４５
の照射位置を半径方向に徐々に移動させることによっ
て、原盤４０にはらせん状に情報信号、アドレス信号、
同期用信号の記録トラックが形成される。また必要に応
じてトラッキング用の溝、またはトラッキング用の信号
も同様にして記録される。

【０００７】露光された原盤４０は図７の（ｄ）に示す
現像処理が行われる。これによりフォトレジスト４１の
露光部分のみが除去される。

【０００８】現像された原盤４０の表面は導体化処理さ
れた後、その表面に図７の（ｅ）に示すようにニッケル
等の金属からなる厚い電鋳膜４２が析出形成される。

【０００９】原盤４０に形成された電鋳膜４２を剥離す
ると、図７の（ｆ）に示すように情報信号等に対応した
らせん状の凹凸の列やトラッキング用の溝が形成された
表面を持つスタンパー４３が完成する。

【００１０】次に上記の工程によって得られたスタンパ
ー４３を用いて情報信号が記録された光ディスクの大量
複製が行なわれる。

【００１１】このディスク複製の工程において、スタン
パー４３は図８の（ａ）に示すように射出成形機の金型
４４内に取り付けられる。金型４４内に高温で溶融した
透明樹脂材料、例えばＰＣ（ポリカーボネート）やＰＭ
ＭＡ（ポリメチルメタクリレート）が注入され基板５０
が形成される。基板５０は冷却された後に該基板５０に
中心孔が打ち抜いて形成され、射出成形機から取り出さ
れる。基板５０の表面には、図８の（ｂ）に示すように
スタンパー４の表面に形成された凹凸が反転してできる
ピット５１やトラッキング用の溝が転写形成されてい
る。形成されるピット５１の長さは通常０．４μｍ〜２
μｍ程度であり、またトラッキング用の溝の幅は通常
０．４μｍ〜１μｍ程度である。

【００１２】射出成形機より取り出された基板５０の表
面には図８の（ｃ）に示すように蒸着、スパッタリング
等の方法でアルミニウム等の金属から成る反射膜５２を
形成される。さらに反射膜５２の上に樹脂材料から成る
保護膜５３が塗布形成され、光ディスク５５が完成す
る。

【００１３】このようにして製造された光ディスク５５
については適宜、情報信号の再生が行なわれる。図９は
光ディスクの再生装置の一例を表した模式図である。再
生装置は図９に示すように、光ディスク５５を回転駆動
するスピンドルモータ６０と、光ヘッド６１と、情報信
号の再生回路６２と、サーボ回路６３とを備える。光ヘ
ッド６１はレーザ光源６４、ビームスプリッタ６５、対
物レンズ６６、ディテクタ６７、および対物レンズを駆
動するアクチュエータ６８より構成される。光ディスク
５５に記録された情報信号を再生する場合には、光ディ
スク５５をスピンドルモーター６０によって回転駆動し
た状態でレーザ光源６４を点灯させ、レーザ光をビーム
スプリッタ６５、対物レンズを通して光ディスク５５の
反射膜５２に微小な光スポットに収束して照射する。光
ディスク５５の反射膜５２で反射された光はビームスプ
リッタ６５で反射し、ディテクタ６７に入射する。ディ
テクタ６７は入射光量を電気信号に変換し、情報信号の
再生回路６２およびサーボ回路６３に出力する。光ディ
スク５５からの反射光量は光ディスク５５に形成された
ピットによって変化する。これにより再生回路６２は情
報信号を再生し出力するのである。またピットとして記
録されているディスク上の位置を示すアドレス信号や情
報信号記録再生の際に用いる同期用の信号も同様にして
再生される。

【００１４】同時にサーボ回路６３は、ディテクタ６７
の出力信号から、光スポット位置のトラック（ピット
列）の中心から半径方向への変位、および光ディスク５
５の表面に垂直な方向への焦点の変位を検出し、この検
出信号に基づいてアクチュエータ６８に駆動信号を出力
し、これにより対物レンズ６６を駆動して、常に光スポ
ットがトラックを正確に追従するように制御する。光デ
ィスク５５には情報信号に対応したピットとともにこの
ようなトラッキング制御に用いるための溝やピットを形
成しておく場合もある。

【００１５】また従来、上記のような射出成形法以外
に、圧縮成形法や２Ｐ（フォトポリマー）法などの基板
製造方法も知られているが、このような方法においても
スタンパーを用いて基板に転写する点については射出成
形法と同じである。

【００１６】上記の従来技術は再生専用の光ディスクを
例に採って説明したがこれ以外に、情報信号の追記が可
能な光ディスクや、情報信号の書き換えが可能な光ディ
スクについても、トラッキング用の溝、トラッキング用
ピット、あるいはアドレス信号や信号記録再生の際に用
いる同期信号等を予めピットとして記録するために上記
のような製造方法が用いられている。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
光ディスクにおいては射出成形法により基板にトラッキ
ング用の溝や情報信号のピット等を形成していた。した
がってこの工程のみでも所要時間は１枚の基板につき１
０〜２０秒と長いため生産能力が低く、大量生産には不
向きである。もし大量生産を必要とする場合には、多数
の射出成形装置を用意する必要があることから多額の設
備投資が生じ、製造コストが低くできないという問題点
があった。

【００１８】また上記のように基板が１枚ずつ射出成形
により製造されるために、その後の全ての工程において
も光ディスクを１枚ずつ、もしくは少数ずつ処理し、さ
らに次の工程へ搬送しなければならず、一層生産効率が
悪いという問題点があった。

【００１９】さらには上記の射出成形法では、樹脂材料
の流動性等による転写能力の限界からトラッキング用の
溝をさらに狭く、また情報信号のピットをさらに小さく
形成することは困難であり、情報信号の記録密度（トラ
ック密度および線記録密度）を増大させることができな
いという問題点があった。

【００２０】さらにはスタンパーは繰返し使用すること
によって劣化するため、その都度交換を必要とし、光デ
ィスクを大量生産する場合にはスタンパーを多数作製し
なければならないという問題点もあった。

【００２１】そこで本発明の目的は、上記従来技術の問
題点に鑑み、生産効率を向上させ、低コストで製造でき
る記録媒体およびその製造方法を提供することにある。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明による記録媒体は、トラッキング用ガイド、ト
ラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マ
ークのうち少なくとも１つが形成された記録媒体におい
て、該記録媒体は第１の波長の光の照射によって前記第
１の波長とは異なる第２の波長の光の透過率、反射率、
吸収率のいずれかが変化する材料からなる記録層を備
え、前記トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうち少なく
とも１つは、前記記録層を部分的に前記第２の波長の光
に対する透過率、反射率、吸収率のいずれかを変化させ
ることによって、少なくとも前記第２の波長の光の照射
によっては消去されず、また前記記録層の表面の形状の
変化を伴わずに形成されたことを特徴とする。尚、前記
記録媒体には、さらに情報信号マークが予め形成されて
いてもよい。

【００２３】この記録媒体は、前記記録層は透明な基板
上に設けられ、前記記録層上に反射膜が設けられている
ものも含む。

【００２４】また、本発明による記録媒体の製造方法
は、透過率を変化させることにより形成された情報信号
マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少な
くとも１つからなるパターンを有するマスクに第１の波
長の光を照射し、該第１の波長の光の透過光による前記
パターンの像を、前記第１の波長とは異なる第２の波長
の光の透過率、反射率、吸収率のいずれかが変化する材
料からなる記録層上に投影し、前記記録層において前記
第２の波長の光の透過率、反射率、吸収率のいずれかを
部分的に変化させることによって、少なくとも前記第２
の波長の光の照射によっては消去されない、前記情報信
号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少な
くとも１つを、前記記録層の表面の形状の変化を伴わず
に前記記録層に転写することを特徴とし、さらには長尺
の透明な基板を搬送する過程で、前記基板上に、第１の
波長の光の照射によって前記第１の波長とは異なる第２
の波長の光の透過率、反射率、吸収率のいずれかが変化
する材料からなる記録層を形成する記録層形成工程、透
過率を変化させることにより形成された情報信号マー
ク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、ア
ドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少なくとも
１つからなるパターンを有するマスクに第１の波長の光
を照射し、該第１の波長の光の透過光による前記パター
ンの像を、前記第１の波長とは異なる第２の波長の光の
透過率、反射率、吸収率のいずれかが変化する材料から
なる記録層上に投影し、前記記録層において前記第２の
波長の光の透過率、反射率、吸収率のいずれかを部分的
に変化させることによって、前記情報信号マーク、トラ
ッキング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信
号マーク、同期信号マークのうちの少なくとも１つを、
前記記録層の表面の形状の変化を伴わずに前記記録層に
転写する露光工程および、前記記録層が形成された前記
基板を所定の形状に切断する切断工程を少なくとも経て
製造することを特徴とする。これによれば、転写工程の
所要時間は、スタンパーを用いた従来技術に比較して大
幅に短くでき、それによって大量生産が可能になるとと
もに、製造コストの低減に効果がある。また、記録層の
表面の形状変化を生じさせずに、記録層において特定の
波長の透過率、反射率、吸収率のいずれかを部分的に変
化させることによって、トラッキング用ガイド、トラッ
キング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク
等を転写形成するため、転写の解像度を高めることがで
き、より高い記録密度（トラック密度および線記録密
度）で信号を記録することが可能となる。

【００２５】上記の製造方法では、前記マスクと前記記
録媒体とを密着させて、前記第１の波長の光の透過光に
よる前記パターンの像を前記パターンと同一の大きさで
前記記録層上に投影し、前記パターンを形成する情報信
号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少な
くとも１つを前記記録層に転写することや、前記マスク
を微小な間隔を置いて前記記録媒体に近接させて、前記
第１の波長の光の透過光による前記パターンの像を前記
パターンと略同一の大きさで前記記録層上に投影し、前
記パターンを形成する情報信号マーク、トラッキング用
ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、
同期信号マークのうちの少なくとも１つを前記記録層に
転写することや、前記マスクを前記記録媒体との間に十
分な間隔を置いて保持しておき、前記第１の波長の光の
透過光による前記パターンの像を前記記録層上に等倍
で、または縮小して投影し、前記パターンを形成する情
報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用
マーク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの
少なくとも１つを等倍で、または縮小して前記記録層に
転写することも考えられる。

【００２６】そして前記第１の波長の光の照射は高圧水
銀ランプを光源として行なわれ、前記第１の波長の光は
前記高圧水銀ランプのｇ線、ｉ線またはｈ線であった
り、また前記第１の波長の光の照射はＫｒＦエキシマレ
ーザまたはＡｒＦエキシマレーザを光源として行なわれ
てもよい。

【００２７】さらに、記録層が形成された基板を固定保
持した状態で、トラッキング用ガイド、トラッキング用
マーク、アドレス信号マーク、情報信号マークのいずれ
かが光の透過率の変化によって形成されたパターンを有
するマスクに光を照射し、前記パターンの透過光による
像を記録層上に投影し、前記パターンを前記記録層に転
写する記録媒体の製造方法において、前記基板を前記パ
ターンの転写時における同一の一に固定保持した状態に
おいて、前記基板の切断加工を行うことを特徴とする。

【００２８】この製造方法にて、前記切断加工は前記記
録媒体の中心孔の切断加工であり、前記切断加工をレー
ザ加工によって行うことを特徴とする。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。特にここでは再生専用の光
記録媒体を例に採って説明するが、これに限られるもの
ではない。

【００３０】図１は本発明の記録媒体の製造方法の一実
施形態を説明するための図で、（ａ）は製造工程の概略
を、（ｂ）は各工程における光記録媒体の外観を示した
ものである。

【００３１】本形態の光記録媒体は、従来技術のように
スタンパーを用いて記録層表面に、記録のために凹凸等
の形状変化を起こしたものではなく、記録層表面におい
て光の透過率、反射率、吸収率のいずれかを部分的に変
化させて、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、ト
ラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号用
マーク等を形成したものである。このような光記録媒体
を製造するためには図１に示すように、透明な樹脂、例
えばポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリス
ルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネ
ート、ポリエステル等からなる長尺のシートからなる基
板１０を用いる。シートの幅は例えば８０〜１４０ｍ
ｍ、厚さは０．０５〜０．８ｍｍとする。基板１０は送
出シリンダー２０に巻き付けられており、送出シリンダ
ー２０の回転に伴って順次送り出され、以下搬送の過程
で、第１工程（記録層形成）、第２工程（転写）、第３
工程（反射膜形成）、第４工程（保護膜形成）、第５工
程（切断）を経て連続的に光記録媒体が製造される。切
断後の基板１０の余剰部分は巻き取りシリンダー２１に
巻き取られる。以下、各工程について詳述する。

【００３２】［第１工程（記録層形成）］この工程で
は、送出シリンダー２０から送出される基板１０の表面
には、まずフォトクロミック色素材料からなる記録層１
０が塗布形成される。ここで用いるフォトクロミック色
素材料は第１の波長の光の照射によって前記第１の波長
とは異なる第２の波長の光の透過率、反射率、吸収率の
いずれかが変化する性質を持っている。このような材料
の一例としてはジアリールエテン系、スピロピラン系、
フルギド系等の有機色素材料が知られており、これらの
材料に波長が５００ｎｍよりも短い光を照射すると光の
エネルギーによって色素の分子が異性化反応を起こし、
波長５００〜８００ｎｍの光における吸収率が増大す
る。また反応後の材料は安定しており、波長５００〜８
００ｎｍの光を照射しても光学的な変化は生じない。

【００３３】フォトクロミック色素材料は溶剤に溶解さ
せてロールコート、ブレードコート、グラビアコート等
の既知の方法を用いて塗布された後に、溶剤を揮発させ
ることによって厚さ１μｍ以下の皮膜として形成され
る。必要に応じて樹脂材料からなるバインダー中にフォ
トクロミック色素材料を含有させて塗布形成してもよ
い。

【００３４】［第２工程（転写）］この工程では、情報
信号マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク、ま
た必要に応じてトラッキング用ガイドまたはトラッキン
グ用マークのパターンを光の透過率を変化させることで
形成したマスクに、５００ｎｍ以下の特定の波長の光を
照射し、パターンの像を記録層上に投影させて記録層を
露光する。その結果、記録層にはその表面形状を変化さ
せないで、情報信号マーク、アドレス信号マーク、トラ
ッキング用ガイド、トラッキング用マーク等が転写され
る。

【００３５】図２は転写工程に使用する露光装置の一構
成例を表す模式図である。図２において符号３０は露光
光源である高圧水銀ランプ、符号３１はコンデンサレン
ズ、符号３２はマスク、符号３４はマスク上のパター
ン、符号３６縮小投影レンズ、符号３７は記録層１１を
持つ基板１０を搭載するステージを指し示している。ま
た図３はマスク３２の構造の一例を示し、（ａ）はマス
ク全体の上面図、（ｂ）はマスク全体の側面図、（ｃ）
はマスク表面の平面拡大図、（ｄ）はマスク表面の側断
面の拡大図である。図３においてマスク３２はガラス基
板３３及びその表面に形成されたＣｒ等の金属膜からな
るパターン３４によって構成される。パターン３４には
図３の（ｃ）及び（ｄ）に示すように、既知のパターニ
ング技術を用い、金属膜の除去部分３５によって情報信
号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等が形成され
ている。以下、図２及び図３により転写工程について詳
しく説明する。

【００３６】転写の工程においてはまず基板１０が、図
２に示したように記録層１１を上にしてステージ３７の
上面に密着させて固定される。ここでステージ３７の上
面は高い平面度で加工されている。基板１０をステージ
３７上に密着させて固定するには真空吸着等の方法を用
いることができる。

【００３７】次に、高圧水銀ランプ３０が発生する特定
の波長の光、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）またはｈ線
（波長４０５ｎｍ）またはｉ線（波長３６５ｎｍ）がコ
ンデンサレンズ３１を通してマスク３２上のパターン３
４の全面に均一に照射される。ここで、パターン３４の
金属膜の除去部分３５、即ち情報信号マーク、トラッキ
ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
ーク、同期信号マーク等の部分は光が透過し、その他の
部分は光が遮断される。したがって照射光によるパター
ン３４の像は縮小投影レンズ３６を通して記録層１１上
に投影されるのである。ここでパターン３４と、記録層
１１に投影されたパターン３４の像の大きさの比は、
５：１から２：１程度とされる。記録層１１に投影され
たパターン３４の像の中で光の照射部分、即ち情報信号
マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等の部分につ
いては、記録層１１を構成するフォトクロミック色素材
料が反応し、その結果波長５００〜８００ｎｍにおける
吸収率が増大する。一方、光が照射されない部分の吸収
率は変化しない。

【００３８】図４は転写後の光記録媒体の状態を拡大し
たものを示し、（ａ）は平面拡大図、（ｂ）は側断面の
拡大図である。

【００３９】記録層１１の光の照射部分は波長５００〜
８００ｎｍにおける吸収率が増大した反応部分１５とな
って、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッ
キング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク
等が一括して転写形成されている。このような反応部分
１５は、フォトクロミック色素材料の反応によって形成
されたものであって、記録層１１の形状変化は伴わな
い。

【００４０】［第３工程（反射膜形成）］この工程で
は、記録層１１上全体に反射膜１２が形成される。反射
膜１２は高反射率の物質、例えばアルミニウム等の金属
を真空蒸着することによって薄膜形成するか、または比
較的反射率の高い色素材料等の物質を塗布形成してもよ
い。尚、記録層１１自体の反射率が十分に高い場合には
特に反射膜１２を形成する必要はない。

【００４１】［第４工程（保護膜形成）］この工程では
反射膜１２上全体に樹脂材料等からなる保護膜１３が塗
布形成される。記録層１１および反射膜１２の耐食性が
十分に高い場合には、特に保護膜１３を形成する必要は
ない。

【００４２】［第５工程（切断）］この工程では基板１
０が所定の形状に切断されて光記録媒体が完成する。こ
こで光記録媒体が光ディスクである場合には例えばその
直径は５０〜１２０ｍｍであり、同時に光ディスクの中
心には再生装置に装着するための中心孔１４が設けられ
ている。光記録媒体と再生装置との位置決めに用いられ
る切断部分、例えば光ディスクにおいてはその中心孔１
４等は、トラッキング用ガイドまたは情報信号マーク等
との間の相対的な位置精度が要求される。そのために前
記第２工程でトラッキング用ガイドまたは情報信号マー
ク等と共に、切断のための位置決め用マークを転写形成
しておき、切断の工程でこの位置決め用マークを光学的
に検出することによって基板１０を切断加工装置に位置
決めし、高い位置精度で切断を行なうようにすればよ
い。

【００４３】または前記第２工程で、トラッキング用ガ
イドまたは情報信号マーク等の転写が行なわれると同一
の位置に基板が固定された状態において、切断加工装置
を用い、中心孔１４等の切断を行なうようにしてもよ
い。この場合、中心孔と転写されるトラッキング用ガイ
ドや情報信号マーク等との間の相対的な位置精度は、ほ
とんどマスクと切断加工装置との間の位置精度のみによ
って決定されるので、予めマスクおよび切断加工装置を
高い位置精度で調整しておけば、切断加工の都度、高い
位置精度で基板の切断位置を検出し、位置決めする必要
がなく、トラッキング用ガイドや情報信号マーク等との
間の相対的な位置精度が十分に高い中心孔が形成され得
る。

【００４４】中心孔の切断には機械式のカッターの他、
種々の加工方法を用いることができる。ここではレーザ
加工を用いた中心孔の切断加工の方法について図５によ
り説明する。図５は中心孔の切断加工の方法例を示す図
である。

【００４５】図５において、記録層１１が形成された基
板１０はステージ３７上に固定されている。この状態で
縮小投影レンズ３６を通してマスクに形成されたパター
ンを記録層１１上に投影し、転写するのであるが、基板
１０をこの転写位置と同一位置に固定した状態において
切断加工も行なわれる。ステージ３７には孔３７ａが設
けられており、この孔３７ａを通して高いエネルギーの
レーザ光、例えばエキシマレーザ、ＣＯ₂レーザ、ＹＡ
Ｇレーザ等のビーム３９を基板１０に照射し、中心孔１
４を切断加工する。この切断加工の際に、照射されるレ
ーザ光が散乱されて、記録層１１の、トラッキング用ガ
イドや情報信号マーク等が転写されるべき部分を誤って
露光することがないように、円筒状の遮蔽部材３８が孔
３７ａの上方に設けられている。また切断加工後の切断
片１６は孔３７ａを通して吸引され、孔３７ａの下方よ
り排出される。このように中心孔１４が形成された後の
基板１０の上面図を図６に示した。

【００４６】切断加工を機械式のカッターで行なう場合
には、加工時に発生する基板の構成材料の小片や粉が、
記録層のトラッキング用ガイドや情報信号マーク等が転
写されるべき部分に付着して転写の不良を発生させた
り、カッターが摩耗するといった問題が生じる場合があ
るが、このように切断加工をレーザ加工によって行なう
場合には、そのような問題の発生がない点で優れてい
る。

【００４７】また本形態では中心孔３７ａの切断を行な
う場合についても説明したが、本発明はこれに限られる
ものではなく、例えば外形の切断についても同様に、ト
ラッキング用ガイドまたは情報信号マーク等の転写が行
なわれると同一の位置に基板が固定された状態におい
て、行なうようにしてもよい。

【００４８】以上説明した光記録媒体の製造方法の第２
工程において、露光光源である高圧水銀ランプが発生す
る特定の波長の光の強度が、光記録媒体の記録層上で５
００ｍＷ／ｃｍ²、記録層を構成するフォトクロミック
色素材料の異性化反応に必要なエネルギーを２００ｍＪ
／ｃｍ²とすると、光の照射時間は１回の転写工程につ
き０．４秒となる。また露光光源としてパルス点灯する
エキシマレーザを使用する場合には、１パルス当たりの
光エネルギー密度が５ｍＪ／ｃｍ²、パルス周波数が５
００Ｈｚとすると１回の転写工程は０．０８秒となる。
さらに複数のパターンが形成されたマスクを用いて同時
に複数の光記録媒体への転写を行なうことにより、さら
に生産能力を増すことも可能である。

【００４９】尚、本実施形態においては、光をマスク上
のパターンの全面に均一に照射し、パターンを一括して
記録層に転写形成するものとしたが、光をマスク上のパ
ターンに部分的に照射しながら、パターンの全面にわた
ってスキャンすることによってパターン全体を記録層に
転写してもよい。しかしながら所要時間を短縮するため
には、パターン全体を一括して転写するのが望ましい。

【００５０】また第２工程において、基板との間に十分
な間隔を置いてマスクを保持しておき、マスクに形成さ
れたパターンの像を記録層上に縮小して投影し、マスク
に形成された情報信号マーク、トラッキング用ガイド、
トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号
マーク等からなるパターンを縮小して記録層上に転写す
るものとしたが、縮小せずにパターンの等倍の像を記録
層上に投影し、パターンと同じ大きさで転写するように
してもよい。

【００５１】さらにマスクと記録媒体とを密着させて、
第１の波長の光の透過光によるパターンの像を該パター
ンと同一の大きさで前記記録層上に投影し、前記パター
ンを形成する情報信号マーク、トラッキング用ガイド、
トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号
マークのうちの少なくとも１つを前記記録層に転写する
ようにしてもよい（密着露光方式）。

【００５２】さらにはマスクを微小な間隔を置いて記録
媒体に近接させて、第１の波長の光の透過光によるパタ
ーンの像を該パターンと略同一の大きさで前記記録層上
に投影し、前記パターンを形成する情報信号マーク、ト
ラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス
信号マーク、同期信号マークのうちの少なくとも１つを
前記記録層に転写するようにしてもよい（プロキシミテ
ィー露光方式）。

【００５３】但し、マスクのパターンを縮小して投影す
る場合には大面積を一度に露光することは困難である
が、高い解像度が得られるために、小型で大容量の光記
録媒体を製造するのに適している。これにに対して、マ
スクのパターンを等倍で転写する場合には大面積を一度
に露光することが可能であり、比較的大型の光記録媒体
を製造したり、またマスクに複数のパターンを形成して
おき、同時に露光することによって複数の光記録媒体へ
の転写を行なう場合などに適している。

【００５４】またマスクと基板とを密着させず、微小又
は十分な間隔を置いて保持するようにした場合には、繰
返し使用してもマスクが劣化することがなく、半永久的
に使用可能であるという点で望ましい。

【００５５】また本発明において第１〜第５の各工程の
順序は上述した形態例に限られるものではない。例え
ば、第５工程（切断）を第２工程（転写）よりも前に行
なうようにしてもよい。

【００５６】また上記の実施形態の第２工程（転写）に
おいては高圧水銀ランプを光源として使用したが、これ
以外にもＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）やＡ
ｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）を光源として使
用してもよい。一般には光源の波長が短いほど転写の解
像度は向上し、波長が３６５ｎｍの光を使用すれば長さ
及び幅が０．３μｍのマークが、波長が２４８ｎｍの光
を使用すれば長さ及び幅が０．２μｍのマークが転写に
より形成可能である。

【００５７】このようにして製造された光ディスクは、
従来と同様の再生装置によって再生される。ここで光デ
ィスクの記録層に形成されたフォトクロミック色素材料
の反応部分、即ち情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マーク等は波長５００〜８００ｎｍにおける吸収率
が増大している。したがって波長５００〜８００ｎｍの
レーザ光源を再生に使用すれば、光ディスクからの反射
光量は、記録層に形成された情報信号マーク、トラッキ
ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
ーク、同期信号マーク等によって変化する。これによっ
て情報信号が再生され、またトラッキング制御が行なわ
れる。

【００５８】ここで記録層を構成するフォトクロミック
材料は波長５００〜８００ｎｍの光を照射しても光学的
な変化は生じないから、再生動作によって反応部分、即
ち情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキン
グ用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等が
消去されることは無い。

【００５９】この実施形態は再生専用の光記録媒体およ
びその製造方法を例に採って説明した。再生専用の光記
録媒体においては情報信号マーク、およびトラッキング
用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マー
ク、同期信号マークの少なくとも１つが上記の製造方法
によって形成される。

【００６０】また本発明は再生専用の光記録媒体および
その製造方法に限られるものではなく、情報信号の追記
が可能な光記録媒体や、情報信号の書き換えが可能な光
記録媒体についても、トラッキング用ガイド、トラッキ
ング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マークの
少なくとも１つを上記の製造方法によって形成すること
が可能である。但し、この場合には情報信号は他の記録
装置によって記録が可能であるから、必ずしも上記の方
法によって予め製造時に形成される必要はない。

【００６１】さらには本発明は、記録媒体に光を照射し
てトラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、アド
レス信号マーク、同期信号マーク等を検出し、情報信号
の記録または再生は光以外、例えば磁気を用いる方式の
装置に使用される記録媒体、およびその製造方法にも適
用が可能である。

【００６２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明による記録
媒体およびその製造方法は、透過率を変化させることに
より形成された情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マークのうちの少なくとも１つからなるパターンを
有するマスクに第１の波長の光を照射し、該第１の波長
の光の透過光による前記パターンの像を、前記第１の波
長とは異なる第２の波長の光の透過率、反射率、吸収率
のいずれかが変化する材料からなる記録層上に投影し、
前記記録層において前記第２の波長の光の透過率、反射
率、吸収率のいずれかを部分的に変化させることによっ
て、少なくとも前記第２の波長の光の照射によっては消
去されない、前記情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マークのうちの少なくとも１つを、前記記録層の表
面の形状の変化を伴わずに前記記録層に転写することを
特徴とするものである。

【００６３】したがって転写の工程の所要時間は、スタ
ンパーを用いた従来の製造方法に比較して大幅に短くで
き、それにより大量生産が可能になるとともに、製造コ
ストの低減に効果がある。特に前記第１の波長の光をマ
スクのパターンの全面に均一に照射し、パターンを一括
して記録層に転写形成することによって大きな生産効率
の改善が可能である。さらには複数のパターンが形成さ
れたマスクを用いて同時に複数の光記録媒体への転写を
行なうことにより、さらに生産能力を増すことも可能で
ある。

【００６４】また長尺のシートからなる基板を使用し、
基板を搬送する工程で、記録層形成工程、転写工程、切
断工程を少なくとも経て連続的に記録媒体を製造すれ
ば、従来の製造方法に比較して一層製造効率が改善され
大量生産が可能になるとともに、製造コストの低減に効
果がある。

【００６５】また従来の製造方法とは異なり、記録層の
表面の形状変化を生じさせずに、記録層において特定の
波長の透過率、反射率、吸収率のいずれかを部分的に変
化させることによって、トラッキング用ガイド、トラッ
キング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク
等を転写形成するため、転写の解像度を高めることがで
き、より高い記録密度（トラック密度および線記録密
度）で信号を記録することが可能となる。これによって
大容量の記録媒体が実現できる。

【００６６】さらに転写の工程においてマスクを記録媒
体に密着させない場合には、マスクは半永久的に繰返し
使用が可能であるから、少量のマスクで記録媒体の大量
生産が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の記録媒体の製造方法の一実施形態を説
明するための図で、（ａ）は製造工程の概略を、（ｂ）
は各工程における光記録媒体の外観を示したものであ
る。

【図２】本発明の記録媒体の製造方法の一実施形態にお
ける転写工程に使用する露光装置の一構成例を表す模式
図である。

【図３】本発明の記録媒体の製造方法の一実施形態に使
用するマスクの構造の一例を示し、（ａ）はマスク全体
の上面図、（ｂ）はマスク全体の側面図、（ｃ）はマス
ク表面の平面拡大図、（ｄ）はマスク表面の側面図の拡
大図である。

【図４】本発明の記録媒体の製造方法の一実施形態によ
る転写後の光記録媒体の状態を拡大したものを示し、
（ａ）は平面拡大図、（ｂ）は側断面の拡大図である。

【図５】本発明の記録媒体の製造方法の一実施形態によ
る中心孔の切断加工の方法例を示す図である。

【図６】本発明の記録媒体の製造方法の一実施形態にお
いて、中心孔が形成された後の基板を示す上面図であ
る。

【図７】従来の光ディスクの製造方法の一例を説明する
ための図である。

【図８】従来の光ディスクの製造方法の一例を説明する
ための図である。

【図９】光ディスクの再生装置の一般的な構成例を表し
た模式図である。

【符号の説明】

１０基板１１記録層１２反射膜１３保護膜１４中心孔１５反応部分１６切断片２０送出シリンダー２１巻き取りシリンダー３０高圧水銀ランプ３１コンデンササイズ３２マスク３３ガラス基板３４パターン３５除去部分３６縮小投影レンズ３７ステージ３７ａ孔３８遮蔽部材３９ビーム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラッキング用ガイド、トラッキング用
マーク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうち少
なくとも１つが形成された記録媒体において、該記録媒
体は第１の波長の光の照射によって前記第１の波長とは
異なる第２の波長の光の透過率、反射率、吸収率のいず
れかが変化する材料からなる記録層を備え、前記トラッ
キング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号
マーク、同期信号マークのうち少なくとも１つは、前記
記録層を部分的に前記第２の波長の光に対する透過率、
反射率、吸収率のいずれかを変化させることによって、
少なくとも前記第２の波長の光の照射によっては消去さ
れず、また前記記録層の表面の形状の変化を伴わずに形
成された記録媒体。
【請求項２】前記記録媒体には、さらに情報信号マー
クが予め形成されていることを特徴とする請求項１に記
載の記録媒体。
【請求項３】前記記録層は透明な基板上に設けられて
いることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒
体。
【請求項４】前記記録層上には反射膜が設けられてい
ることを特徴とする請求項３に記載の記録媒体。
【請求項５】透過率を変化させることにより形成され
た情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキン
グ用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マークのう
ちの少なくとも１つからなるパターンを有するマスクに
第１の波長の光を照射し、該第１の波長の光の透過光に
よる前記パターンの像を、前記第１の波長とは異なる第
２の波長の光の透過率、反射率、吸収率のいずれかが変
化する材料からなる記録層上に投影し、前記記録層にお
いて前記第２の波長の光の透過率、反射率、吸収率のい
ずれかを部分的に変化させることによって、少なくとも
前記第２の波長の光の照射によっては消去されない、前
記情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキン
グ用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マークのう
ちの少なくとも１つを、前記記録層の表面の形状の変化
を伴わずに前記記録層に転写する、記録媒体の製造方
法。
【請求項６】長尺の透明な基板を搬送する過程で、前
記基板上に、第１の波長の光の照射によって前記第１の
波長とは異なる第２の波長の光の透過率、反射率、吸収
率のいずれかが変化する材料からなる記録層を形成する
記録層形成工程、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング
用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうち
の少なくとも１つからなるパターンを有するマスクに第
１の波長の光を照射し、該第１の波長の光の透過光によ
る前記パターンの像を、前記第１の波長とは異なる第２
の波長の光の透過率、反射率、吸収率のいずれかが変化
する材料からなる記録層上に投影し、前記記録層におい
て前記第２の波長の光の透過率、反射率、吸収率のいず
れかを部分的に変化させることによって、前記情報信号
マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少な
くとも１つを、前記記録層の表面の形状の変化を伴わず
に前記記録層に転写する露光工程および、前記記録層が形成された前記基板を所定の形状に切断す
る切断工程を少なくとも経て製造する、記録媒体の製造
方法。
【請求項７】前記マスクと前記記録媒体とを密着させ
て、前記第１の波長の光の透過光による前記パターンの
像を前記パターンと同一の大きさで前記記録層上に投影
し、前記パターンを形成する情報信号マーク、トラッキ
ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
ーク、同期信号マークのうちの少なくとも１つを前記記
録層に転写する請求項５又は６に記載の記録媒体の製造
方法。
【請求項８】前記マスクを微小な間隔を置いて前記記
録媒体に近接させて、前記第１の波長の光の透過光によ
る前記パターンの像を前記パターンと略同一の大きさで
前記記録層上に投影し、前記パターンを形成する情報信
号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少な
くとも１つを前記記録層に転写する請求項５又は６に記
載の記録媒体の製造方法。
【請求項９】前記マスクを前記記録媒体との間に十分
な間隔を置いて保持しておき、前記第１の波長の光の透
過光による前記パターンの像を前記記録層上に等倍で、
または縮小して投影し、前記パターンを形成する情報信
号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マークのうちの少な
くとも１つを等倍で、または縮小して前記記録層に転写
する請求項４または請求項５に記載の記録媒体の製造方
法。
【請求項１０】前記第１の波長の光の照射は高圧水銀
ランプを光源として行なわれ、前記第１の波長の光は前
記高圧水銀ランプのｇ線、ｉ線またはｈ線である、請求
項５乃至９のいずれか１項に記載の記録媒体の製造方
法。
【請求項１１】前記第１の波長の光の照射はＫｒＦエ
キシマレーザまたはＡｒＦエキシマレーザを光源として
行なわれる、請求項５乃至９のいずれか１項に記載の記
録媒体の製造方法。
【請求項１２】記録層が形成された基板を固定保持し
た状態で、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、情報信号マークのいずれかが
光の透過率の変化によって形成されたパターンを有する
マスクに光を照射し、前記パターンの透過光による像を
記録層上に投影し、前記パターンを前記記録層に転写す
る記録媒体の製造方法において、前記基板を前記パターンの転写時における同一の一に固
定保持した状態において、前記基板の切断加工を行うこ
とを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項１３】前記切断加工は前記記録媒体の中心孔
の切断加工である請求項１２に記載の記録媒体の製造方
法。
【請求項１４】前記切断加工はレーザ加工によって行
うことを特徴とする請求項１２に記載の記録媒体の製造
方法。