JPH11144254A

JPH11144254A - 光記録再生装置

Info

Publication number: JPH11144254A
Application number: JP30847397A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Ishii; 和慶石井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1997-11-11
Filing date: 1997-11-11
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】記録容量の増大に伴ってプリフォーマット領
域が増大するので、記録密度を高度化しても十分に記録
容量を増大することができない。【解決手段】複数の記録層を積層して成り、複数の記
録層のうちいずれか１つの記録層は少なくともプリフォ
ーマット領域から構成され、プリフォーマット領域にア
ドレス信号、同期信号のうち少なくとも１つの信号が形
成された光記録媒体を用いる。また、プリフォーマット
領域に再生用光ビームを照射し、プリフォーマット領域
のアドレス信号、同期信号のうち少なくとも１つの信号
を再生する手段、複数の記録層に記録用光ビームまたは
再生用光ビームを照射し、再生されたアドレス信号、同
期信号の少なくとも１つの信号を参照して情報信号の記
録または情報信号の再生を行う手段とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に情報
信号の追記または書き換えを行う光記録再生装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より情報信号の追記や書き換えが可
能な光記録媒体には光ディスク、光カード等が知られて
いる。図６は代表的な光記録媒体である光ディスクを示
している。図６（ａ）は平面図、図６（ｂ）はその一部
を拡大して示した図、図６（ｃ）は図６（ｂ）のＡ−Ａ
線における断面図である。先ず、光ディスク６１は基板
８２上に記録層８３、保護コート８４を積層した構成か
らなっている。基板８２はポリカーボネート等の透明材
料から成り、中心には孔８８が形成されている。記録層
８３は基板８２の表面に形成され、希土類−鉄族非晶質
合金（例えば、ＴｂＦｅＣｏ）等の磁気光学材料、カル
コゲナイド（例えばＧｅＳｂＴｅ）等の異なる２以上の
相状態（例えば結晶状態と非晶質状態）の間で変化し得
る相変化材料、光の吸収特性が波長に依存する色素材料
（例えばフタロシアニン）などの薄膜から成っている。

【０００３】記録層８３にはスパイラル状の記録トラッ
クが形成された記録領域Ｒが設けられ、記録トラックの
両側にはトラッキング用ガイドである溝８５が形成され
ている。記録領域Ｒはピット８６（凹部）の列から成る
アドレス信号マークや同期信号マークが予め形成された
プリフォーマット領域、及び光記録再生装置を用いて情
報信号の記録が可能な情報信号記録領域とによって構成
されている。通常、このようなプリフォーマット領域と
情報信号記録領域とは記録トラック上に所定の周期で交
互に設けられる。また、後述するように光記録再生装置
を用いて情報信号の記録を行うと、情報信号記録領域に
光学特性の変化した情報信号マーク８７が形成される。
なお、トラッキング用ガイドである溝８５の代わりに、
記録トラックの両側にピットからなるトラッキング用マ
ークを形成したり、あるいはトラッキング用ガイドであ
る溝８５をウォブリング（蛇行）させて形成し、その周
期を変化させてアドレス信号を記録する場合もある。

【０００４】次に、光ディスクの製造方法について説明
する。製造工程は大きくはスタンパー製造工程、ディス
ク複製工程の２工程から成っている。各工程の詳細につ
いて説明する。図７はスタンパー製造工程を詳細に示し
ている。まず、図７（ａ）はフォトレジスト塗布の工程
である。ガラス等から成る原盤９０の表面を研磨し、均
一な厚さでフォトレジスト膜９１を塗布する。次いで、
図９（ｂ）のカッティングの工程を行う。即ち、カッテ
ィング装置９２によって原盤９０を回転駆動しながらレ
ーザ光を収束してフォトレジスト膜９１に照射し、強度
を変調しながら照射位置を半径方向に徐々に移動させて
露光する。

【０００５】カッティング工程を終了すると、図７
（ｃ）の現像の工程を行う。現像工程では、露光された
原盤９０を現像処理し、フォトレジスト膜９１の露光部
分のみを除去する。これにより、原盤９０にスパイラル
状にトラッキング用ガイドである溝（またはトラッキン
グ用マークであるピット）、アドレス信号マークである
ピット、同期信号マークであるピットが形成される。次
いで、図７（ｄ）の電鋳の工程を行う。即ち、現像され
た原盤９０の表面にニッケル等の金属からなる厚い電鋳
膜９３を析出形成する。電鋳膜９３を剥離すると、図７
（ｅ）に示すように表面に溝やピットが転写形成された
スタンパー９４が完成する。

【０００６】図８はディスク複製工程を詳細に示してい
る。まず、図８（ａ）は基板成形の工程である。スタン
パー工程によって得られたスタンパー９４を射出成形機
の金型９５に取り付け、金型９５内に高温で溶融した透
明な樹脂材料（例えばポリカーボネート）を注入し基板
８２を成形する。冷却した後に基板８２を射出成形機か
ら取り出し、中心に孔８８を打ち抜いて形成する。これ
により、基板８２の表面に図８（ｂ）に示すようにスタ
ンパー９４に形成されている溝やピットが転写形成され
る。スタンパー９４からは多数の基板８２を成形するこ
とができる。次は、図８（ｃ）の記録層形成の工程であ
る。即ち、得られた基板８２の表面にスパッタ成膜等の
真空成膜法を用いて磁気光学材料や相変化材料から成る
薄膜である記録層８３を形成する。または、スピンコー
ト等の塗布成膜法を用いて色素材料から成る薄膜である
記録層８３を形成する。次いで、図８（ｄ）の保護コー
トの形成の工程を行う。記録層８３の上に樹脂材料から
成る保護コート８４を塗布形成し、光記録媒体６１であ
る光ディスクが完成する。

【０００７】図９はこのような光記録媒体に情報信号の
記録、再生を行う光記録再生装置の概略構成を示してい
る。図９では光記録媒体６１は記録層８３が磁気光学材
料から成る光磁気ディスクとし、保護コート８４が形成
された面を上面とする。図９において、光記録媒体６１
はスピンドルモータ６２により所定の回転数で回転駆動
される。光記録媒体６１の上面側には、光記録媒体６１
の記録層８３に磁界を印加する磁気ヘッド６３が配置さ
れ、下面側には磁気ヘッド６３と相対向して光記録媒体
６１の基板８２を通して記録層８３に記録用光ビームま
たは再生用光ビームを収束して照射する光ヘッド６４が
配置されている。

【０００８】情報信号の記録時及び再生時には、スピン
ドルモータ６２によって光記録媒体６１を回転駆動し、
磁気ヘッド６３及び光ヘッド６４は回転している光記録
媒体６１の記録トラック上を走査する。また、磁気ヘッ
ド６３と光ヘッド６４は移送手段（例えば、リニアモー
タ）６５に搭載され、移送手段６５の移送によって光記
録媒体６１の径方向の任意の位置にアクセスが可能であ
る。磁気ヘッド６３はコア８０とこれに巻き付けられた
コイル８１から構成され、コイル８１には磁気ヘッド駆
動回路６６が接続されている。

【０００９】また、光ヘッド６４は図示しないレーザ光
源、対物レンズなどで構成された光学系、光記録媒体６
１からの反射光を検出する複数の素子からなる光セン
サ、対物レンズを駆動するアクチュエータ等より構成さ
れている。光ヘッド６４にはレーザ駆動回路６７、増幅
回路６８、アクチュエータ制御回路６９が接続されてい
る。光記録再生装置は、それ以外にモータ制御回路７
０、移送手段制御回路７１などの制御回路、情報信号再
生回路７２、記録信号生成回路７３、フォーカスエラー
検出回路７４、トラッキングエラー検出回路７５、アド
レス信号検出回路７６、同期信号検出回路７７などの信
号処理回路から構成されている。

【００１０】次に、情報信号の記録動作を詳細に説明す
る。まず、情報信号の記録に先だってスピンドルモータ
６２によって光記録媒体６１を回転駆動し、レーザ駆動
回路６７から光ヘッド６４のレーザ光源に再生用の直流
電流を供給する。これにより光記録媒体６１の記録層８
３に一定強度の低パワーの再生用光ビームが微小な光ス
ポットに収束されて照射され、記録層８３からの再生用
光スポットの反射光が光ヘッド６４の光センサで検出さ
れる。この検出信号は光ヘッド６４に接続された増幅回
路６８によって増幅される。

【００１１】ここで、検出信号には光記録媒体６１の記
録層８３に形成されたアドレス信号マークから得られる
アドレス信号、同期信号マークから得られる同期信号が
含まれている。これらの信号はそれぞれ増幅回路６８に
接続されたアドレス信号検出回路７６、同期信号検出回
路７７によって分離検出される。また、フォーカスエラ
ー検出回路７４とトラッキングエラー検出回路７５で
は、各々光センサを構成する複数の素子からの検出信号
を用いて所定の演算処理を行うことにより、フォーカス
エラー信号とトラッキングエラー信号がそれぞれ検出さ
れる。

【００１２】検出された同期信号はモータ制御回路７０
に供給され、モータ制御回路７０は同期信号を参照して
光記録媒体６１を所定の速度で回転するようにモータの
回転の制御を行う。また、検出されたフォーカスエラー
信号及びトラッキングエラー信号は、アクチュエータ制
御回路６９に供給される。アクチュエータ制御回路６９
はこれらの信号に基づいてアクチュエータに駆動電流を
供給して光ヘッド６４内の対物レンズを駆動しその位置
を制御することにより、再生用光ビームが記録トラック
上に正確に収束し、走査するようにフォーカシング制御
トラッキング制御を行う。

【００１３】一方、検出されたアドレス信号は移送手段
制御回路７１に供給され、移送手段制御回路７１ではこ
のアドレス信号と情報信号を記録すべき位置のアドレス
を比較し、その結果に基づいて移送手段６５を制御して
光ヘッド６４及び磁気ヘッド６３を記録すべき所定の位
置まで移送する。このようにして光ヘッド６４及び磁気
ヘッド６３は光記録媒体６１の目的の記録位置に到達
し、記録動作を開始することができる。

【００１４】情報信号を記録する場合は、入力端子Ｔ４
から記録信号生成回路７３に記録すべき情報信号が入力
される。記録信号生成回路７３では情報信号にエラー訂
正用の信号を付加し、符号化等の変調を加えて記録信号
を生成する。また、同期信号検出回路７７によって検出
された同期信号（クロック信号）を参照してタイミング
制御を行いながら、記録信号を磁気ヘッド駆動回路６６
に供給する。磁気ヘッド駆動回路６６はコイル８１にこ
の記録信号で変調された電流を供給し、磁気ヘッド６３
は記録信号に応じて上向きまたは下向きに変化された磁
界を発生し、光記録媒体６１の記録層８３に垂直に印加
する。

【００１５】一方、レーザ駆動回路６７は光ヘッド６４
のレーザ光源に記録用の直流、または記録信号に同期し
たパルス電流を供給する。これにより、記録層８３の情
報信号記録領域に一定強度またはパルス状に点灯する高
パワーの記録用光ビームが微小な光スポットに収束して
照射される。このようにして記録用光ビームを照射する
ことにより、記録層８３の温度はそのキュリー温度以上
に上昇し、冷却する過程で磁化の方向は磁気ヘッド６３
による印加磁界の方向に配向され、固定されることによ
り磁化領域が形成される。これにより、図６で説明した
ように光記録媒体６１の回転につれて記録トラック上に
情報信号に応じた上向きまたは下向きの磁化領域である
情報信号マーク８７が次々と形成される。

【００１６】次に、記録された情報信号の再生動作につ
いて説明する。まず、再生の場合も情報信号の再生に先
だってスピンドルモータ６２によって光記録媒体６１を
回転駆動し、レーザ駆動回路６７から光ヘッド６４のレ
ーザ光源に再生用の直流電流を供給する。これにより、
光ヘッド６４から光記録媒体６１の記録層８３に再生用
光ビームが照射され、記録層８３からの反射光は光ヘッ
ド６４の光センサで検出される。また、光ヘッド６４の
検出信号によってフォーカスエラー検出回路７４ではフ
ォーカスエラー信号が、トラッキングエラー検出回路７
５ではトラッキングエラー信号がそれぞれ検出される。
アクチュエータ制御回路６９ではこれらのエラー信号に
基づいて再生用光ビームのフォーカシング制御及びトラ
ッキング制御を記録時と同様に行う。

【００１７】また、光ヘッド６４の検出信号によってア
ドレス信号検出回路７６ではアドレス信号が、同期信号
検出回路７７では同期信号がそれぞれ検出される。検出
されたアドレス信号は移送手段制御回路７１に供給さ
れ、移送手段制御回路７１は同様にこのアドレス信号と
情報信号の再生すべき位置のアドレスとを比較し、その
結果に基づいて移送手段６５を制御して磁気ヘッド６３
及び光ヘッド６４を再生すべき目的の位置まで移送す
る。磁気ヘッド６３と光ヘッド６４が光記録媒体６１の
再生すべき位置に到達した後、再生動作を開始する。

【００１８】情報信号を再生する場合は、情報信号記録
領域の記録トラックを再生用光ビームによって走査す
る。ここで、情報信号記録領域に形成された情報信号マ
ーク８７である磁化領域からの再生用光ビームの反射光
の偏光面は、磁気光学効果（カー効果）のため、磁化領
域の磁化の方向に応じて回転する。このような偏光面の
回転は光ヘッド６４の光学系及び光センサによって検出
される。この検出信号は増幅回路６８によって増幅さ
れ、同期信号検出回路７７で検出される同期信号（クロ
ック信号）とともに情報信号再生回路７２に供給され
る。情報信号再生回路７２では同期信号を参照して２値
化、復調、エラー訂正等の信号処理を行うことにより情
報信号が再生され、端子Ｔ３から出力される。なお、以
上の説明では光記録媒体６１を光磁気ディスクとしてい
るが、その他の光記録媒体であっても記録、再生動作は
ほぼ同様である。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の光記
録再生装置に使用される光記録媒体においては、プリフ
ォーマット領域に形成するアドレス信号マークや同期信
号マークであるピットの長さは、光ヘッドの検出分解能
を考慮して定められている。通常、光ヘッドの検出限界
は再生用光ビームの光スポットの直径の０．４倍程度で
ある。例えば、レーザ光源の波長を６８０ｎｍ、対物レ
ンズのＮＡを０．６とすると、光スポットの直径は約１
μｍであるので、検出限界は０．４μｍとなる。従っ
て、このような光記録装置に使用される光記録媒体のピ
ットの長さは０．４μｍ以上としなければならない。但
し、光スポットの直径とは、光強度分布においてピーク
強度の１／ｅ²（０．１３５３倍）となる位置で光ビー
ムの走査方向について測定した長さである。

【００２０】一方、情報信号記録領域に記録された情報
信号マークを再生する方法としては以上のような検出限
界を越えて更に微小な情報信号マークを検出可能とする
新規な方法が提案されている。例えば、本願出願人は、
特開平６−２９０４９６号公報で光記録媒体である光磁
気ディスクにおいて記録層の再生用光ビームの照射位置
で情報信号マークである磁化領域の間の境界に形成され
た磁壁を高速で移動させて検出する再生方式（磁壁移動
再生方式）を提案している。この方式を用いることによ
り、検出限界は再生用光ビームの大きさには制限され
ず、０．１μｍ以下の極めて高い分解能で情報信号マー
クの検出が可能となる。

【００２１】しかしながら、このような検出方法は、情
報信号記録領域に磁化領域によって形成された情報信号
マークの検出において適用しうるもので、情報信号の記
録密度を増大することができるのであるが、プリフォー
マット領域にピットによって形成されたアドレス信号マ
ークや同期信号マークの検出には適用できず、記録密度
を増大することはできなかった。

【００２２】通常、情報信号の記録容量を増大しようと
すると、それに伴ってアドレス信号や同期信号の量も増
大する。ところが、以上のような事情のためにアドレス
信号や同期信号の記録密度を増大することができないの
で、アドレス信号や同期信号の量の増大に伴ってプリフ
ォーマット領域の面積を拡大しなければならない。この
ため、逆に情報信号記録領域の面積を縮小せざるを得な
くなり、結果として、情報信号の記録密度を高度化した
にも拘わらず、情報信号の記録容量を増大させるという
目的を十分に達成することができなかった。

【００２３】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、プリ
フォーマット領域のアドレス信号や同期信号の量に関係
なく、情報信号の記録容量を十分に増大することが可能
な光記録再生装置を提供することを目的とする。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、複数の
記録層を積層して成り、前記複数の記録層のうちいずれ
か１つの記録層は少なくともプリフォーマット領域から
構成され、前記プリフォーマット領域にアドレス信号、
同期信号のうち少なくとも１つの信号が形成された光記
録媒体に情報信号を記録し、あるいは記録された情報信
号を再生する光記録再生装置であって、前記プリフォー
マット領域に再生用光ビームを照射し、前記プリフォー
マット領域のアドレス信号、同期信号のうち少なくとも
１つの信号を再生する手段と、前記複数の記録層に記録
用光ビームまたは再生用光ビームを照射し、前記再生手
段によって再生されたアドレス信号、同期信号の少なく
とも１つの信号を参照して情報信号の記録または情報信
号の再生を行う手段とを有することを特徴とする光記録
再生装置によって達成される。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の光記
録再生装置の一実施形態の構成を示した図である。図１
において、１は情報を記録するディスク状の光記録媒体
である。光記録媒体１は基板４０上に第１の記録層４
１、第２の記録層４２、保護コート４４が順次形成され
た構造から成っている。本実施形態では、光記録媒体１
は第２の記録層４２が磁気光学材料から成る光磁気ディ
スクとし、保護コート４４が形成された面を上面とす
る。光記録媒体１の構成については詳しく後述する。

【００２６】光記録媒体１はスピンドルモータ２により
所定の回転数で回転駆動される。光記録媒体１の上面側
には、光記録媒体１の第２の記録層４２に磁界を印加す
る磁気ヘッド３が配置され、下面側には磁気ヘッド３と
相対向して光ヘッド４が配置されている。光ヘッド４は
光記録媒体１の基板４０を通して第１の記録層４１に第
１の再生用光ビームを照射し、第２の記録層４２に記録
用光ビーム及び第２の再生用光ビームを収束して照射す
る。情報信号の記録時及び再生時には、スピンドルモー
タ２によって光記録媒体１を回転駆動し、磁気ヘッド３
及び光ヘッド４は回転している光記録媒体１のトラック
上を走査する。磁気ヘッド３と光ヘッド４はリニアモー
タなどの移送手段５に搭載され、移送手段５の移送によ
って光記録媒体１の径方向の任意の位置にアクセスする
ことができる。

【００２７】磁気ヘッド３はコア２０とこれに巻き付け
られたコイル２１から構成され、コイル２１には磁気ヘ
ッド駆動回路６が接続されている。なお、磁気ヘッド３
は光記録媒体１が光磁気ディスクである場合（第２の記
録層４２が磁気光学材料からなる場合）は必要である
が、それ以外の光記録媒体を使用する場合は必要としな
い。記録信号生成回路１５は、外部から供給された情報
信号にエラー訂正符号を付加し、符号化などの変調を行
うことによって記録信号を生成する。磁気ヘッド駆動回
路６はこの記録信号に応じて磁気ヘッド３を駆動し、磁
気ヘッド３は記録信号に応じて変調された磁界を発生
し、光記録媒体１に印加する。また、光ヘッド４内に
は、２つのレーザ光源が設けられ、各々のレーザ光源に
対応してレーザ光を光記録媒体１に照射する光学系と光
記録媒体１からの反射光を検出するセンサが設けられて
いる。

【００２８】一方の第１のレーザ光源は光記録媒体１の
第１の記録層４１に再生用ビームを照射するのに用いら
れ、もう一方の第２のレーザ光源は第２の記録層に記録
用ビームまたは再生用ビームを照射するのに用いられ
る。光ヘッド４の詳細な構成については詳しく後述す
る。第１のレーザ駆動回路７は光ヘッド４内の第１のレ
ーザ光源に再生用の駆動電流を供給する回路、第１の増
幅回路９は第１のレーザ光源による再生用ビームの媒体
からの反射光を検出するセンサの出力信号を増幅する回
路である。

【００２９】フォーカスエラー検出回路１６、トラッキ
ングエラー検出回路１７、アドレス信号検出回路１８、
同期信号検出回路１９は、それぞれ第１の増幅回路９の
出力信号からフォーカスエラー信号、トラッキングエラ
ー信号、アドレス信号、同期信号を検出する。アクチュ
エータ制御回路１１はフォーカスエラー信号、トラッキ
ングエラー信号に基づいて光ヘッド４内のアクチュエー
タを駆動し、対物レンズをフォーカス方向とトラッキン
グ方向に変位させてフォーカス制御とトラッキング制御
を行う。但し、本実施形態では、一方の第１の記録層４
１に光ビームを照射する第１のレーザ光源の光ビームに
フォーカスサーボとトラッキングサーボをかけて、もう
一方の第２のレーザ光源の光ビームはそれに連動するよ
うにしている。

【００３０】移送制御手段１３は移送手段５を制御する
回路で、アドレス信号検出回路１８で検出されたアドレ
ス信号と目的位置のアドレス情報に基づいて移送手段５
を制御する。モータ制御回路１２は同期信号検出回路１
９で検出された同期信号を参照し、光記録媒体１が所定
の回転速度で回転するようにスピンドルモータ２を制御
する。また、記録信号生成回路１５は同期信号を参照し
てタイミング制御を行いながら記録信号を磁気ヘッド駆
動回路６に供給する。第２のレーザ駆動回路８はもう一
方の第２のレーザ光源に駆動電流を供給する回路、第２
の増幅回路１０は第２のレーザ光源による光ビームの媒
体からの反射光を検出するセンサの出力信号を増幅す
る。情報信号再生回路１４は第２の増幅回路の出力信号
に２値化、復調、エラー訂正などの処理を行い、記録信
号を再生する回路である。同期信号はこの信号処理の際
に用いられる。

【００３１】次に、図１の光記録媒体１について詳細に
説明する。図２（ａ）は光記録媒体の平面図、図２
（ｂ）はその一部を拡大して示した図、図２（ｃ）は図
２（ｂ）のＡ−Ａ線における断面図である。図２におい
て、４０は基板、４１は第１の記録層、４２は第２の記
録層、４３はスペーシング層、４４は保護コートであ
る。基板４０はポリカーボネート等の透明な材料から成
っていて、中心には孔４９が形成されている。第１の記
録層４１としては金属材料（例えば金）や色素材料（例
えばフタロシアニン）などが用いられ、光が透過する薄
膜から成っている。光の透過率は６０％〜９０％とす
る。

【００３２】第２の記録層４２は希土類−鉄族非晶質合
金（例えばＴｂＦｅＣｏ）等の磁気光学材料、カルコゲ
ナイド（例えばＧｅＳｂＴｅ）等の異なる２以上の相状
態（例えば結晶状態と非晶質状態）の間で変化し得る相
変化材料、光の吸収特性が波長に依存する色素材料（例
えばフタロシアニン）などの薄膜から成っている。スペ
ーシング層４３は薄く透明な樹脂材料のシートから成
り、第１の記録層４１と第２の記録層４２の間に所定の
間隔をもたせるために設けられている。第１の記録層４
１及び第２の記録層４２には、それぞれスパイラル状に
記録トラックが形成された記録領域Ｒが設けられてい
る。

【００３３】第１の記録層４１の記録領域Ｒは少なくと
もプリフォーマット領域を含んで構成されている。第１
の記録層４１の記録トラックの両側には、トラッキング
用ガイドである溝４５が形成されている。この溝４５は
第１の記録層４１に収束して照射される第１の再生用光
ビームを記録トラックに追従して走査させるトラッキン
グ制御に用いられる。また、プリフォーマット領域にお
いてはピット４６（凹部）の列から成るアドレス信号マ
ークや同期信号マークが予め形成されている。なお、ト
ラッキング用ガイドである溝４５の代わりにピットから
なるトラッキング用マークを形成してもよいし、あるい
はトラッキング用ガイドである溝４５をウォブリング
（蛇行）させて形成し、その周期を変化させてアドレス
信号を記録してもよい。

【００３４】ここで、アドレス信号マークとは記録領域
がセクタを単位として構成される場合、セクタの位置情
報を表す信号マーク（ＩＤマーク）の他に、それに付随
して形成された位置情報の先頭を識別する信号マーク
（アドレスマークやＳＹＮＣマーク）やセクタの先頭を
識別する信号マーク（セクタマーク）等を含むものとす
る。また、同期信号マークとは情報信号検出におけるビ
ット同期を得るための信号マーク（クロックマーク）の
他に、上記アドレス信号マークの検出タイミングを得る
ための信号マーク（ＶＦＯマーク）等を含むものとす
る。

【００３５】一方、第２の記録層４２の記録領域Ｒは、
略全面が光記録再生装置を用いて情報信号の記録を行う
ことが可能な情報信号記録領域で構成されている。情報
信号を記録すると、第２の記録層４２に光学特性の変化
した情報信号マーク４７が形成される。また、第２の記
録層４２の記録領域Ｒにはプリフォーマット領域は設け
られておらず、予めピット等の表面形状の変化、または
光学特性の変化による信号マークは形成されていない。
従って、その分、情報信号記録領域の面積は大きく、情
報信号の記録密度が従来の光記録媒体と同等であったと
しても、情報信号の記録容量を増大することができる。
また、本願出願人による磁壁移動再生方式（特開平６−
２９０４９６号）等を使用すれば、情報信号マーク４７
の長さをより短くした場合であっても、情報信号マーク
の検出が可能となり、情報信号の記録密度を高めること
ができ、その結果、より一層情報信号の記録容量を増大
することができる。

【００３６】なお、図２の光記録媒体１の例のように第
２の記録層４２には溝やピット等の表面形状の変化、ま
たは光学特性の変化による構造は一切形成しないのが記
録容量を増大させる点、及び後述する製造方法のように
第２の記録層４２の形成を容易に行うためには最も望ま
しい。但し、第２の記録層４２への情報信号の記録また
は第２の記録層４２からの情報信号の再生において参照
されるアドレス信号マーク、同期信号マーク、または第
２の記録層に照射される記録用光ビームまたは第２の再
生用光ビームの照射位置の制御に利用されるトラッキン
グ用ガイドまたはトラッキング用マークのいずれかを、
第２の記録層４２ではなく第１の記録層４１に、その表
面形状または光学特性の部分的な変化によって予め形成
すれば、第２の記録層４２における情報信号の記録容量
を増大させることができる。特に、アドレス信号及び同
期信号の量は比較的大きいので、少なくともアドレス信
号マーク及び同期信号マークは第２の記録層４２には設
けずに、第１の記録層４１に設けるのが望ましい。

【００３７】ここで、図１の光記録再生装置において
は、第１の記録層４１に第１のレーザ光源による第１の
再生用光ビームを収束して照射すると同時に、第２の記
録層４２に第２のレーザ光源による記録用光ビームまた
は第２の再生用光ビームを収束して照射する。各々の光
ビームはアクチュエータ制御回路１１によって各記録層
上に収束させるフォーカシング制御及び各光ビームを記
録トラックに追従して走査させるトラッキング制御を行
う。この場合、前述のように記録用光ビームまたは第２
の再生用光ビームに対するフォーカシング制御とトラッ
キング制御は、第１の再生用光ビームの制御動作に連動
している。

【００３８】また、第１の再生用光ビームによって第１
の記録層４１よりアドレス信号マーク及び同期信号マー
クの検出を行うと同時に、第２の記録層４２に情報信号
の記録や再生を行うことが可能である。従って、図示の
ように第１の記録層４１に形成されたアドレス信号マー
クや同期信号マークであるピット４６に重なる第２の記
録層４２の位置に情報信号マーク４７が形成されていて
も、記録動作及び再生動作には全く支障はない。

【００３９】次に、このような光記録媒体１の製造方法
について説明する。製造工程は大きくはスタンパー製造
の工程とディスク複製の工程の２工程から成っている。
各工程の詳細について説明する。図３はスタンパー製造
の工程の詳細を示している。まず、図３（ａ）はフォト
レジスト塗布の工程である。この工程では、ガラス等か
ら成る原盤５０の表面を研磨し、均一な厚さでフォトレ
ジスト膜５１を塗布する。次いで、図３（ｂ）のカッテ
ィング工程を行う。即ち、カッティング装置５２によっ
て原盤５０を回転駆動しながら、レーザ光を収束してフ
ォトレジスト膜５１に照射し、強度を変調しながら照射
位置を半径方向に徐々に移動させて露光する。

【００４０】次に、図３（ｃ）の現像の工程を行い、露
光された原盤５０を現像処理し、フォトレジスト膜５１
の露光部分のみを除去する。これにより、原盤５０には
スパイラル状にトラッキング用ガイドである溝（または
トラッキング用マークであるピット）、アドレス信号マ
ークであるピット、同期信号マークであるピットが形成
される。続いて、図３（ｄ）の電鋳の工程を行い、現像
された原盤５０の表面にニッケル等の金属からなる厚い
電鋳膜５３を析出形成する。電鋳膜５３を剥離すると、
図３（ｅ）に示すように表面に溝やピットが転写形成さ
れたスタンパー５４が完成する。

【００４１】図４はディスク複製の工程を詳細に示して
いる。まず、図４（ａ）は基板成形の工程である。スタ
ンパー工程によって得られたスタンパー５４を射出成形
機の金型５５に取り付け、金型５５内に高温で溶融した
透明な樹脂材料（例えばポリカーボネート）を注入し基
板４０を成形する。冷却した後に基板４０を射出成形機
から取り出すと、図４（ｂ）に示すようにその表面にス
タンパー５４に形成されていた溝やピットを転写形成す
ることができる。スタンパー５４からは多数の基板４０
を成形することができる。基板４０の直径は５０ｍｍ〜
１３０ｍｍ程度、厚さは０．３ｍｍ〜１．２ｍｍ程度と
している。

【００４２】次いで、図４（ｃ）の第１の記録層形成の
工程を行う。即ち、得られた基板４０の表面に蒸着等の
真空成膜法を用いて金属材料から成る薄膜である第１の
記録層４１を形成する。または、スピンコート等の塗布
成膜法を用いて色素材料から成る薄膜である第１の記録
層４１を形成する。第１の記録層を形成すると、図４
（ｄ）の第２の記録層形成の工程を行う。第２の記録層
４２は、透明な樹脂材料（例えば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリイミド、ポリエステル等）から成る薄い
長尺のシート４８の表面に形成される。シート４８の厚
さは０．０１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度である。シート４８
の搬送を行いながらその表面に薄膜形成装置５５を用い
て連続的に第２の記録層４２である薄膜を形成する。磁
気光学材料や相変化材料から成る第２の記録層４２を形
成する場合は、スパッタ成膜等の真空成膜法を用いるこ
とができる。また、色素材料から成る第２の記録層４２
を形成する場合は、ロールコート、ブレードコート等の
塗布成膜法を用いることができる。

【００４３】次に、図４（ｅ）の貼り合わせの工程を行
う。第１の記録層４１が形成された基板４０と、第２の
記録層４２が形成されたシート４８とを接着剤等を使用
して貼り合わせる。即ち、基板４０の表面（第１の記録
層４１を形成した面）とシート４８の裏面（第２の記録
層４２が形成されていない面）とを貼り合わせ、シート
４８によってスペーシング層４３を形成する。なお、貼
り合わせの後、または前にシート４８は基板４０に合わ
せて所定の形状、大きさに切断し、中心に孔４９を打ち
抜いて形成する。最後に、図４（ｆ）の保護コートの形
成工程を行う。第２の記録層４２の上に樹脂材料から成
る保護コート４４を塗布形成し、光記録媒体１である光
ディスクが完成する。なお、保護コート４４の形成は図
４（ｅ）の貼り合わせの工程の前であってもよい。

【００４４】また、第２の記録層４２に表面形状の変
化、または光学特性の変化による溝やマーク等を形成し
なければ、シート４８の表面への第２の記録層４２であ
る薄膜の形成は比較的容易となり、歩留まりや生産性を
向上することができる。特に、この工程をRoll to Roll
工程（ロール状態にしたシートの送出から巻き取りの間
に処理を行う方式）とし、第２の記録層の形成を連続的
に行うようにすれば、従来の光記録媒体の記録層の形成
工程のように少数の基板毎に処理を行うバッチ処理に比
較して処理速度を向上することができ、低コストで大量
に光記録媒体を製造することが可能となる。

【００４５】次に、図５を参照して光ヘッド４の詳細な
構成について説明する。図５において、２２は光記録媒
体１の第１の記録層４１に第１の再生用光ビームを照射
する第１のレーザ光源である。波長は７８０ｎｍであ
る。第１のレーザ光源２２は第１のレーザ駆動回路７に
よって駆動される。第１のレーザ光源２２から出射した
レーザ光は第１のビームスプリッタ２４を透過し、第１
のコリメータレンズ２５で平行化される。平行化された
レーザ光は第１の波長選択フィルター２６、第２のビー
ムスプリッタ２７を透過し、対物レンズ２８によって光
記録媒体１の第１の記録層４１に微小光スポットとして
収束される。第１の波長選択フィルター２６は第１のレ
ーザ光源２２の波長を選択的に透過する特性を持ってい
る。

【００４６】また、３０は第２の記録層４２に記録用光
ビームまたは第２の再生用光ビームを照射する第２のレ
ーザ光源である。波長は６８０ｎｍである。第２のレー
ザ光源３０は第２のレーザ駆動回路８によって駆動され
る。第２のレーザ光源３０から出射したレーザ光は第３
のビームスプリッタ３１を透過した後、第２のコリメー
タレンズ３２で平行化される。平行化されたレーザ光は
第２の波長選択フィルター３３を透過し、第２のビーム
スプリッタ２７で反射され、第１のレーザ光源２２のレ
ーザ光と略同一光路で対物レンズ２８に入射する。そし
て、対物レンズ２８によって光記録媒体１の第２の記録
層４２上に微小光スポットとして収束される。第２の波
長選択フィルター３３は第２のレーザ光源３０の波長を
選択的に透過する特性を持っている。

【００４７】ここで、第１のレーザ光源２２による第１
の再生用光ビームと、第２のレーザ光源３０による記録
用光ビームまたは第２の再生用光ビームの対物レンズ２
８への入射角度を異ならせることによって、第１の再生
用光ビームと記録用光ビームまたは第２の再生用光ビー
ムの収束位置（焦点距離）を異ならせている。この２つ
の光ビームの収束位置間における光記録媒体１の垂直方
向の距離は、光記録媒体１の第１，第２の記録層間の距
離、即ち、スペーシング層４３の厚さに一致している。

【００４８】また、対物レンズ２８のＮＡは０．６、第
１の記録層４１に収束される第１の再生用光ビームの光
スポットの直径は１．１５μｍ、第２の記録層４２に収
束される第２の再生用光ビームの光スポットの直径は
１．００μｍである。但し、光スポットの直径とは、光
強度分布においてピーク強度の１／ｅ²（０．１３５３
倍）となる位置で光ビームの走査方向について測定した
長さである。また、先にも述べたが、第１の再生用光ビ
ームと記録用光ビームまたは第２の再生用光ビームとは
同一の対物レンズ２８によって収束されるので、アクチ
ュエータ（フォーカスアクチュエータとトラッキングア
クチュエータを含む）３４によって対物レンズ２８を駆
動する場合、第１の再生用光ビームの収束位置と記録用
光ビームまたは第２の再生用光ビームの収束位置との位
置関係は常に一定に保たれる。よって、第１の再生用光
ビームにフォーカスサーボとトラッキングサーボをかけ
ると、第１の再生用ビームに他の記録用光ビームまたは
第２の再生用光ビームが連動するので、同様にこれらの
光ビームにもフォーカシングサーボとトラッキングサー
ボをかけることができる。

【００４９】第１のレーザ光源２２による第１の再生用
光ビームの第１の記録層４１からの反射光は、対物レン
ズ２８、第２のビームスプリッタ２７、第１の波長選択
フィルター２６、第１のコリメータレンズ２５、第１の
ビームスプリッタ２４を経由して第１の光センサ２９で
検出される。第１の光センサ２９は複数の受光素子から
なっている。第１の光センサ２９の出力信号は第１の増
幅回路９で増幅され、この増幅された信号からフォーカ
スエラー信号、トラッキングエラー信号、アドレス信
号、同期信号が検出される。

【００５０】また、第２のレーザ光源３０による第２の
再生用光ビームの第２の記録層からの反射光は対物レン
ズ２８、第２のビームスプリッタ２７、第２の波長選択
フィルター３３、第２のコリメータレンズ３２、第３の
ビームスプリッタ３１を経由して第２の光センサ３５で
検出される。第２の光センサ３５の出力信号は第２の増
幅回路１０で増幅され、増幅された信号に所定の信号処
理を施すことで情報信号が再生される。また、第１，第
２のレーザ光源２２，３０の光路に各々第１，第２の波
長選択フィルタ２６，３３を配置しているので、第１の
再生用光ビームと第２の再生用光ビームが混合し合うこ
とはなく、第１の記録層４１からの反射光は第１の光セ
ンサ２９で、第２の記録層４２からの反射光は第２の光
センサ３５でそれぞれ検出することができる。なお、光
記録媒体１が光磁気ディスクである場合（第２の記録層
４２が磁気光学材料から成る場合）、光ヘッド４はこの
他に偏光検出のための素子を備える必要があるが、図５
においてはこれを省略している。また、それ以外の光記
録媒体を使用する場合は、そのような素子は必要としな
い。

【００５１】次に、本実施形態の具体的な動作について
説明する。まず、情報信号の記録動作について説明す
る。情報信号の記録に先だってスピンドルモータ２によ
って光記録媒体１を回転させる。また、第１のレーザ駆
動回路７から光ヘッド４の第１のレーザ光源２２に再生
用の直流電流を供給し、光記録媒体１の第１の記録層４
１に一定強度の低パワーの第１の再生用光ビームを微小
な光スポットに収束して照射する。第１の記録層４１か
らの第１の再生用光ビームの反射光は、前述のように対
物レンズ２８、第１のビームスプリッタ２６などを経由
して第１の光センサ２９で検出される。第１の光センサ
２９の検出信号は第１の増幅回路９によって増幅され、
この増幅信号は各々フォーカスエラー検出回路１６、ト
ラッキングエラー検出回路１７、アドレス信号検出回路
１８、同期信号検出回路１９に供給される。

【００５２】ここで、第１の光センサ２９の検出信号に
は光記録媒体１の第１の記録層４１に形成されたアドレ
ス信号マークから得られるアドレス信号、同期信号マー
クから得られる同期信号が含まれている。これらのアド
レス信号、同期信号はそれぞれアドレス信号検出回路１
８、同期信号検出回路１９によって分離検出される。ま
た、フォーカスエラー検出回路１６では第１の光センサ
２９を構成する複数の受光素子からの検出信号を用いて
所定の演算処理を行うことによりフォーカスエラー信号
を検出し、トラッキングエラー検出回路１７では同様に
第１の光センサ２９の各素子の信号を用いて所定の演算
処理を行うことによりトラッキングエラー信号を検出す
る。

【００５３】同期信号検出回路１９で検出された同期信
号はモータ制御回路１２に供給され、モータ制御回路１
２は同期信号を参照し、光記録媒体１を所定の速度で回
転させるようにスピンドルモータ２の回転速度を制御す
る。また、検出されたフォーカスエラー信号及びトラッ
キングエラー信号は、アクチュエータ制御回路１１に供
給される。アクチュエータ制御回路１１はこれらの信号
に基づいて光ヘッド４内のアクチュエータ３４を駆動
し、対物レンズ２８をフォーカス方向及びトラッキング
方向に変位させることで第１の再生用光ビームの収束位
置を制御する。これによって、第１のレーザ光源２２に
よる第１の再生用光ビームが第１の記録層４１の記録ト
ラック上に正確に収束するように、また、記録トラック
に追従して走査するようにフォーカシング制御とトラッ
キング制御を行う。

【００５４】一方、移送手段制御回路１３では、アドレ
ス信号検出回路１８で検出されたアドレス信号と情報信
号を記録すべき位置のアドレスとを比較し、その結果に
基づいて移送手段５を制御する。これによって、磁気ヘ
ッド３及び光ヘッド４は光記録媒体１の記録すべき目的
位置まで移送される。磁気ヘッド３及び光ヘッド４が記
録すべき位置に到達すると、記録動作を開始する。

【００５５】情報信号を記録する場合、入力端子Ｔ２か
ら記録信号生成回路１５に記録すべき情報信号が供給さ
れる。記録信号生成回路１５は情報信号にエラー訂正用
の信号を付加し、符号化等の変調を加えて記録信号を生
成する。この際、同期信号検出回路１９によって検出さ
れた同期信号（クロック信号）を参照してタイミング制
御を行いながら、磁気ヘッド駆動回路６に記録信号を出
力する。磁気ヘッド駆動回路６はコイル２１にこの記録
信号で変調された電流を供給し、磁気ヘッド３は記録信
号に応じて上向きまたは下向きに変化する磁界を発生し
て光記録媒体１の第２の記録層４２に垂直に印加する。

【００５６】一方、第２のレーザ駆動回路８は光ヘッド
４の第２のレーザ光源３０に記録用の直流、または記録
信号に同期したパルス電流を供給する。これにより、第
２の記録層４２の情報信号記録領域に第２のレーザ光源
３０による一定強度、またはパルス状に点灯する高パワ
ーの記録用光ビームが微小な光スポットに収束して照射
される。記録用光ビームのフォーカシング制御とトラッ
キング制御は、前述のように第１の再生用光ビームのフ
ォーカシング制御動作とトラッキング制御動作に連動し
ている。

【００５７】このようにして記録用光ビームを照射し、
記録信号に応じて変調された磁界を印加すると、第２の
記録層４２の温度はそのキュリー温度以上に上昇し、磁
化の方向は磁気ヘッド３による印加磁界の方向に配向す
る。そして、光記録媒体１の回転に伴い、冷却する過程
で磁化の方向が固定されて磁化領域が形成される。この
結果、図２（ｃ）に示すように光記録媒体１の回転につ
れて記録トラック上に情報信号に応じて上向きまたは下
向きの磁化領域である情報信号マーク４７が次々と形成
されていく。

【００５８】次に、情報信号の再生動作について説明す
る。情報信号を再生する場合も記録時と同様に情報信号
の再生に先だってスピンドルモータ２によって光記録媒
体１を回転駆動し、第１のレーザ駆動回路７から光ヘッ
ド４の第１のレーザ光源２２に再生用の直流電流を供給
する。これによって、光記録媒体１の第１の記録層４１
に第１のレーザ光源２２による一定強度の低パワーの第
１の再生用光ビームが微小な光スポットに収束して照射
される。第１の記録層４１からの第１の再生用光ビーム
の反射光は、第１の光センサ２９で検出され、この検出
信号をもとに、フォーカスエラー検出回路１６、トラッ
キングエラー検出回路１７、アドレス信号検出回路１
８、同期信号検出回路１９でフォーカスエラー信号、ト
ラッキングエラー信号、アドレス信号、同期信号がそれ
ぞれ検出される。アクチュエータ制御回路１１では検出
されたフォーカスエラー信号とトラッキングエラー信号
をもとにフォーカス制御とトラッキング制御を行う。

【００５９】また、移送手段制御回路１３は検出された
アドレス信号と再生すべき目的位置のアドレスに基づい
て移送手段５を制御し、光ヘッド４を光記録媒体１の目
的の位置まで移送する。更に、モータ制御回路１２は検
出された同期信号を参照し、光記録媒体１を所定の速度
で回転させるようにスピンドルモータ２の回転を制御す
る。このようにして光ヘッド４は再生すべき位置に到達
し、再生動作を開始する。情報信号を再生する場合、第
２のレーザ駆動回路８から光ヘッド４の第２のレーザ光
源３０に再生用の直流電流を供給し、第２の記録層４２
に第２のレーザ光源３０による一定強度の低パワーの第
２の再生用光ビームを微小な光スポットに収束して照射
する。第２の再生用光ビームのフォーカシング制御とト
ラッキング制御は、記録時と同様に第１のレーザ光源２
２の第１の再生用光ビームのフォーカシング制御動作と
トラッキング制御動作に連動して行う。

【００６０】ここで、第２の記録層４２の情報信号記録
領域に形成された情報信号マークである磁化領域からの
第２の再生用光ビームの反射光の偏光面は、磁化光学効
果（カー効果）のため、磁化領域の磁化の方向に応じて
回転する。この偏光面の回転を第２の光センサ３５によ
って検出する。第２の光センサ３５の検出信号は第２の
増幅回路１０によって増幅され、同期信号検出回路１９
で検出された同期信号（クロック信号）とともに情報信
号再生回路１４に供給される。情報信号再生回路１４で
は同期信号を参照し、第２の増幅回路１０の出力信号を
２値化、復調、エラー訂正等の信号処理を行い、情報信
号を再生する。このようにして情報信号再生回路１４は
光記録媒体１の回転につれて第２の記録層４２上に記録
されている情報信号を順次再生し、端子Ｔ１から出力し
ていく。

【００６１】なお、第２の記録層４２への情報信号の記
録または再生と、そのために参照するアドレス信号や同
期信号の第１の記録層４１からの検出とは時間的に分離
する必要はなく、第１の記録層４１への第１の再生用光
ビームの照射と、第２の記録層４２への記録用光ビーム
または第２の再生用光ビームの照射とを同時に行うこと
により、情報信号の記録または再生と、そのために参照
するアドレス信号や同期信号検出とを同時に行うことが
できる。こうすることにより、情報信号の記録や再生の
速度を向上することができる。

【００６２】また、第１の記録層４１のプリフォーマッ
ト領域に形成しておくアドレス信号マーク、同期信号マ
ーク、トラッキング用マークのうちの最短のものの長さ
を、第１の再生用光ビームの光スポット直径（ここでは
１．１５μｍ）の０．４倍（０．４６μｍ）以上として
おけば、検出が可能である。更に、第２の記録層４２の
情報信号記録領域に形成する情報信号マーク４７の最短
のものの長さは、第２の再生用光ビームの光スポット直
径（ここでは１．００μｍ）の０．４倍（０．４０μ
ｍ）よりも小さくする方が情報信号の記録容量を増大す
る上で望ましい。磁壁移動再生方式を使用する場合は、
情報信号マーク４７の最短のものの長さが０．１μｍ以
下であっても検出が可能であり、例えばトラックピッチ
を０．６μｍとすると、直径が１２０ｍｍの光記録媒体
で情報信号の記録容量は２５ＧＢ以上になる。

【００６３】更に、第１の再生用光ビームと、記録用光
ビームまたは第２の再生用光ビームの波長を異ならせる
ことは、それぞれを波長分離手段（例えば波長選択フィ
ルター）を用いて分離して検出するのに有効である。特
に、第１の再生用光ビームの波長よりも記録用光ビーム
または第２の再生用光ビームの波長を短くするのが望ま
しい。なぜならば、記録用光ビームまたは第２の再生用
光ビームの波長を短くするほど光スポットが小さくなる
ので、高密度で情報信号を記録し、高分解能で再生する
ことが可能となり、結果として情報信号の記録容量をよ
り一層増大させることができる。

【００６４】一方、第１の記録層４１に記録するアドレ
ス信号、同期信号の量は情報信号よりも少なくて済むた
め、必ずしも第２の記録層４２と同等に記録密度を高め
る必要はなく、第１の再生用光ビームの波長は第２の再
生用光ビームの波長よりも長く、光スポットが大きくて
もさしつかえはないからである。むしろ、アドレス信号
や同期信号をより確実に検出するためには、第１の記録
層４１のプリフォーマット領域に形成しておくアドレス
信号マーク、同期信号マーク、トラッキング用マークの
うち最短のものを、第２の記録層４２の情報信号記録領
域に形成する情報信号マークの最短のものよりも長くし
たほうが望ましい。

【００６５】なお、図１の光記録再生装置においては、
第１の再生用光ビームの第１の記録層４１からの反射光
からフォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号
の検出を行い、記録用光ビームまたは第２の再生用光ビ
ームのフォーカシング制御及びトラッキング制御は、第
１の再生用光ビームのフォーカシング制御動作とトラッ
キング制御動作に連動させている。但し、本発明はこれ
に限るものではなく、フォーカスエラー信号の検出のた
めには、記録層には特別なマーク等を形成しておく必要
はないので、記録用光ビームまたは第２の再生用光ビー
ムの第２の記録層４２からの反射光からフォーカスエラ
ー信号を検出して記録用光ビームまたは第２の再生用光
ビームのフォーカシング制御を行い、第１の再生用光ビ
ームのフォーカシング制御は記録用光ビームまたは第２
の再生用光ビームのフォーカシング制御動作に連動させ
てもよい。この場合、たとえ第１の記録層４１と第２の
記録層４２との間隔が所定値と多少異なっていても、記
録用光ビームまたは第２の再生用光ビームを正確に第２
の記録層上に収束させることができる。

【００６６】また、トラッキング用ガイドまたはトラッ
キング用マークを第２の記録層４２に設けておくことに
より、記録用光ビームまたは第２の再生用光ビームによ
って検出したトラッキングエラー信号に基づいて記録用
光ビームまたは第２の再生用光ビームに対してトラッキ
ング制御を行うことができる。この場合は、第１の再生
用光ビームのトラッキング制御は、記録用光ビームまた
は第２の再生用光ビームのトラッキング制御に連動させ
ればよい。

【００６７】更に、以上の実施形態においては、第１の
再生用光ビームの第１の記録層４１からの反射光からフ
ォーカスエラー信号、トラッキングエラー信号、アドレ
ス信号、同期信号を検出しているが、第１の記録層４１
上に収束し、第１の記録層４１を透過した第１の再生用
光ビームの第２の記録層４２からの反射光よりフォーカ
スエラー信号、トラッキングエラー信号、アドレス信
号、同期信号を検出してもよい。この場合は、第１の記
録層４１の反射率は十分に低くし、トラッキング用ガイ
ド、（またはトラッキング用マーク）、アドレス信号マ
ーク、同期信号マークは、部分的な光の透過率の変化、
または屈折率の変化によって形成するとよい。

【００６８】また、以上の実施形態では、第１の記録層
４１を第２の記録層４２よりも光ヘッド４に近い側に設
け、第１の記録層４１を透過させて記録用光ビームまた
は第２の再生用光ビームを第２の記録層４２に照射して
いるが、逆に第２の記録層４２を第１の記録層４１より
も光ヘッド４に近い側に設け、第２の記録層４２を透過
させて第１の再生用光ビームを第１の記録層４１に照射
してもよい。この場合は、第２の記録層４２を光が透過
する薄膜とする必要がある。また、第１の記録層４１を
磁気光学材料、相変化材料、または色素材料で構成し、
記録領域にプリフォーマット領域とともに情報信号記録
領域も設ければ、第１の記録層４１にも情報信号の追記
または書き換えを行うことができ、記録容量を一層向上
することが可能である。もちろん、この場合は、第１の
レーザ光源２２のレーザ光を用いて記録や再生を行う。

【００６９】更に、第１の記録層４１を色素材料で構成
し、また第１の再生用光ビームの波長と、記録用光ビー
ムまたは第２の再生用光ビームの波長とを異ならせる場
合は、第１の記録層４１は第１の再生用光ビームの波長
よりも記録用光ビームまたは第２の再生用光ビームの波
長において透過率が高く、反射率は低い色素材料によっ
て構成するのが望ましい。これにより、記録用光ビーム
または第２の再生用光ビームを第１の記録層４１を透過
させ、より効率的に第２の記録層４２に照射することが
できる。

【００７０】また、以上の実施形態では、第１の記録層
４１にその表面形状の部分的な変化によって少なくとも
トラッキング用ガイド、（またはトラッキング用マー
ク）、アドレス信号マーク、同期信号マークのいずれか
を予め形成しているが、光記録媒体としては第１の記録
層４１に光学特性の部分的な変化によって少なくともト
ラッキング用ガイド、（またはトラッキング用マー
ク）、アドレス信号マーク、同期信号マークのいずれか
を予め形成してもよい。このような光記録媒体１は、例
えば、第１の記録層４１を光の照射によって光の反射
率、透過率、屈折率、偏光特性等の光学特性が変化する
磁気光学材料、相変化材料、フォトリフラクティブ材
料、フォトクロミック色素材料等で構成することができ
る。トラッキング用ガイド、（またはトラッキング用マ
ーク）、アドレス信号マーク、同期信号マークは、光の
照射によって部分的に光学特性を変化させることにより
形成することができる。

【００７１】例えば、第１の記録層４１をフォトクロミ
ック色素材料（例えば、ジアリールエテン）で構成する
場合、次のような方法でトラッキング用マーク、トラッ
キング用ガイド、アドレス信号マーク、同期信号マーク
を形成することができる。まず、基板４０上にフォトク
ロミック色素材料を塗布形成し、第１の記録層４１を形
成する。次いで、トラッキング用マーク、トラッキング
用ガイド、アドレス信号マーク、同期信号マークのパタ
ーンが光の透過率の変化によって形成されたマスクを通
して第１の記録層４１に紫外線を照射し、第１の記録層
４１上に上記パターンを投影する。その結果、紫外線の
照射量に応じてフォトクロミック材料の第１の再生用光
ビームの波長における透過率が変化するので、トラッキ
ング用マーク、トラッキング用ガイド、アドレス信号マ
ーク、同期信号マークを光の透過率の部分的な変化によ
って第１の記録層４１上に形成することができる。

【００７２】また、以上の実施形態では、光記録媒体１
を第１，第２の記録層で構成しているが、本発明は、こ
れに限ることなく、それ以上の記録層を積層してもよ
い。即ち、第２の記録層と同様に記録、再生が可能な記
録層を更に積層してもよい。なお、この場合は、少なく
とも最終段に位置する記録層（光照射側からみて最後に
位置する記録層）以外は第１の記録層と同様の光透過性
の薄膜を用いるものとする。また、各々の記録層の間に
はスペーシング層を設けてもよいし、設けなくてもよ
い。スペーシング層を設けずに各記録層を密着させる場
合は、各記録層ごとに再生用ビームの波長を異ならせる
などによって各層間のクロストークを低減するのが望ま
しい。

【００７３】更に、複数の記録層のうち１つ以上の記録
層に対して同時に情報信号を記録または再生することも
可能であるし、各記録層に個別に記録、再生してもよ
い。１つ以上の記録層に同時に記録、再生する場合は、
同時に記録、再生する記録層の数に対応してレーザ光源
を含む光学系が必要である。トラッキング制御とフォー
カス制御は先の説明のようにいずれか１つの記録層に照
射する光ビームにトラッキングサーボ、フォーカスサー
ボをかけて他の記録層の光ビームはそれに連動させれば
よい。

【００７４】一方、個別に記録または再生する場合は、
記録、再生用の光ビームの焦点位置を記録層ごとに切り
換えるための焦点切換手段を設け、記録または再生する
記録層ごとに光ビームの焦点位置を切り換えることによ
って、各々の記録層に記録や再生を行うことが可能とな
る。また、以上の実施形態では、光記録媒体１を光磁気
ディスクとしているが、本発明は、これに限ることな
く、その他の情報信号の記録が可能な光ディスクや光カ
ードにも使用できることは言うまでもない。

【００７５】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、少
なくともプリフォーマット領域からなる記録層からアド
レス信号や同期信号を再生し、再生されたアドレス信号
や同期信号を参照して記録層に記録や再生を行うことに
より、アドレス信号や同期信号の量が増大しても情報信
号記録領域の面積を縮小する必要がなく、情報信号の記
録密度を増大してもそれに応じて情報信号の記録容量を
増大することができる。また、プリフォーマット領域の
アドレス信号や同期信号の再生と他の記録層への記録、
再生を同時に行うことにより、情報信号の記録や再生速
度を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録再生装置の一実施形態の構成を
示した図である。

【図２】図１の実施形態に用いられる光磁気媒体の構成
を示した図である。

【図３】図２の光記録媒体の製造方法におけるスタンパ
ー製造工程を説明するための図である。

【図４】図２の光記録媒体の製造方法におけるディスク
複製工程を説明するための図である。

【図５】図１の実施形態の光ヘッドの構成を示した図で
ある。

【図６】従来例の光記録媒体を示した図である。

【図７】図６の光記録媒体の製造方法におけるスタンパ
ー製造工程を説明するための図である。

【図８】図６の光記録媒体の製造方法におけるディスク
複製の工程を説明するための図である。

【図９】従来例の光記録再生装置を示した図である。

【符号の説明】

１光記録媒体３磁気ヘッド４光ヘッド６磁気ヘッド駆動回路１４情報信号再生回路１５記録信号生成回路１６フォーカスエラー検出回路１７トラッキングエラー検出回路１８アドレス信号検出回路１９同期信号検出回路２２第１のレーザ光源２３第２のレーザ光源４０基板４１第１の記録層４２第２の記録層４３スペーシング層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の記録層を積層して成り、前記複数
の記録層のうちいずれか１つの記録層は少なくともプリ
フォーマット領域から構成され、前記プリフォーマット
領域にアドレス信号、同期信号のうち少なくとも１つの
信号が形成された光記録媒体に情報信号を記録し、ある
いは記録された情報信号を再生する光記録再生装置であ
って、前記プリフォーマット領域に再生用光ビームを照
射し、前記プリフォーマット領域のアドレス信号、同期
信号のうち少なくとも１つの信号を再生する手段と、前
記複数の記録層に記録用光ビームまたは再生用光ビーム
を照射し、前記再生手段によって再生されたアドレス信
号、同期信号の少なくとも１つの信号を参照して情報信
号の記録または情報信号の再生を行う手段とを有するこ
とを特徴とする光記録再生装置。
【請求項２】前記複数の記録層のうちいずれか１つの
記録層にトラッキング用のガイドまたはマークが形成さ
れ、前記トラッキング用のガイドまたはマークが形成さ
れた記録層に照射する光ビームに前記ガイドまたはマー
クによってトラッキング制御を行う手段を有し、他の記
録層に照射する光ビームは、前記トラッキング制御手段
の制御動作に連動させることを特徴とする請求項１に記
載の光記録再生装置。
【請求項３】前記複数の記録層のうちいずれか１つの
記録層に照射する光ビームにフォーカス制御を行う手段
を有し、他の記録層に照射する光ビームのフォーカス制
御は、前記フォーカス制御手段の制御動作に連動させる
ことを特徴とする請求項１に記載の光記録再生装置。
【請求項４】前記プリフォーマット領域を再生する光
ビームの波長と、他の記録層に記録または再生する光ビ
ームの波長とは、互いに異なることを特徴とする請求項
１に記載の光記録再生装置。
【請求項５】前記プリフォーマット領域を再生する光
ビームの波長は、他の記録層に照射する光ビームの波長
よりも長いことを特徴とする請求項１に記載の光記録再
生装置。
【請求項６】前記プリフォーマット領域に形成された
アドレス信号または同期信号マークの最短の長さは、前
記複数の記録層に記録される情報信号マークの最短の長
さよりも長いことを特徴とする請求項１に記載の光記録
再生装置。
【請求項７】前記プリフォーマット領域に形成された
アドレス信号または同期信号マークの最短の長さは、前
記プリフォーマット領域を再生する再生用光ビームのス
ポット径の０．４倍以上であることを特徴とする請求項
１に記載の光記録再生装置。
【請求項８】前記複数の記録層に記録する情報信号マ
ークの最短の長さは、前記複数の記録層を再生する再生
用光ビームのスポット径の０．４倍以下であることを特
徴とする請求項１に記載の光記録再生装置。
【請求項９】前記プリフォーマット領域への再生用光
ビームの照射と、前記複数の記録層のうち１つ以上の記
録層への記録または再生用ビームの照射を同時に行い、
前記プリフォーマット領域からのアドレス信号または同
期信号の検出と記録層への情報信号の記録または再生を
同時に行うことを特徴とする請求項１に記載の光記録再
生装置。
【請求項１０】前記トラッキング用のガイドまたはマ
ークは、少なくともプリフォーマット領域から成る記録
層に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の
光記録再生装置。