JPH11149642A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

光記録媒体およびその製造方法

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JPH11149642A
JPH11149642A JP9313852A JP31385297A JPH11149642A JP H11149642 A JPH11149642 A JP H11149642A JP 9313852 A JP9313852 A JP 9313852A JP 31385297 A JP31385297 A JP 31385297A JP H11149642 A JPH11149642 A JP H11149642A
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recording
recording layer
light beam
mark
optical
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JP9313852A
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Kazunori Ishii
和慶 石井
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Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、情報信号の記録密度を増大させる
場合であってもプリフォーマット領域の占める媒体上の
面積を増大させることなく、情報の記録容量を効果的に
増大させることが可能な光記録媒体を提供することを目
的とする。 【解決手段】 本発明の光記録媒体1は、透明基板40
上に、第1の再生用光ビームによって検出が可能なアド
レス信号マーク46、同期信号マーク46、およびトラ
ッキング用ガイド45またはトラッキング用マークの少
なくとも1つが形成された第1の記録層41と、前記基
板の厚さ方向に第1の記録層41と所定の間隔を設けて
形成され、前記アドレス信号マーク、同期信号マークま
たはトラッキング用ガイドもしくはトラッキング用マー
クを参照しながら記録用光ビームの照射により情報信号
の記録が可能で、第2の再生用光ビームの照射により情
報信号の再生が可能な第2の記録層42とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は情報信号の追記また
は書き換えが可能な光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より情報信号の追記や書き換えが可
能な光記録媒体として光ディスク、光カード等が知られ
ている。図6(a)に代表的な光記録媒体61である光
ディスクの外観を、(b)にその一部を拡大した断面図
を、(c)に拡大し下面方向から見た図を示す。ここで
82は基板、83は記録層、84は保護コートである。
基板82はポリカーボネート等の透明な材料から成り、
中心には孔88が形成されている。また記録層83は基
板82の表面に形成され、希土類−鉄族非晶質合金(例
えばTbFeCo)等の磁気光学材料、またはカルコゲ
ナイド(例えばGeSbTe)等の異なる2以上の相状
態(例えば結晶状態と非晶質状態)の間で変化し得る相
変化材料、または光の吸収特性が波長に依存する色素材
料(例えばフタロシアニン)から成る薄膜である。
【0003】記録層83にはスパイラル状に記録トラッ
クを形成した記録領域Rが設けられ、また記録トラック
の両側にはトラッキング用ガイドである溝85が形成さ
れている。また記録領域Rはピット86(凹部)の列か
ら成るアドレス信号マークや同期信号マークが予め形成
されたプリフォーマット領域、および光記録再生装置を
用いて情報信号の記録が可能な情報信号記録領域とによ
って構成される。通常このようなプリフォーマット領域
と情報信号記録領域とは記録トラック上に所定の周期で
交互に設けられる。また後述するように光記録再生装置
を用いて情報信号の記録を行うと、情報信号記録領域に
は光学特性の変化した情報信号マーク87が形成され
る。
【0004】なおトラッキング用ガイドである溝85の
代わりに、記録トラックの両側にピット状のトラッキン
グ用マークを形成する場合もある。またトラッキング用
ガイドである溝85をウォブリング(蛇行)させて形成
し、その周期を変化させてアドレス信号を記録する場合
もある。
【0005】次に上記の光ディスクの製造方法について
説明する。製造工程は大きくはスタンパー製造の工程、
およびディスク複製の工程の2工程から成る。各工程の
詳細について以下に説明する。
【0006】図7にはスタンパー製造の工程の詳細を示
す。
【0007】(a)はフォトレジスト塗布の工程であ
る。ガラス等の原盤90の表面を研磨し、均一な厚さで
フォトレジスト膜91を塗布する。
【0008】(b)はカッティングの工程である。カッ
ティング装置92によって原盤90を回転駆動しなが
ら、レーザー光を収束してフォトレジスト膜91に照射
し、強度を変調しながら照射位置を半径方向に徐々に移
動させて露光する。
【0009】(c)は現像の工程である。露光された原
盤90を現像処理し、フォトレジスト膜91の露光部分
のみを除去する。これにより原盤90にはスパイラル状
にトラッキング用ガイドである溝(またはトラッキング
用マークであるピット)、アドレス信号マークであるピ
ット、同期信号マークであるピットが形成される。
【0010】(d)は電鋳の工程である。現像された原
盤90の表面にニッケル等の金属からなる厚い電鋳膜9
3を析出形成する。電鋳膜93を剥離すると、(e)に
示すように表面に溝やピットが転写形成されたスタンパ
ー94が完成する。
【0011】図8にはディスク複製の工程の詳細を示
す。
【0012】(a)は基板成形の工程である。上記の工
程によって得られたスタンパー94を射出成形機の金型
95に取り付け、金型95内に高温で溶融した透明な樹
脂材料(例えばポリカーボネート)を注入し基板82を
成形する。冷却した後に基板82を射出成形機から取り
出し、中心に孔88を打ち抜いて形成する。基板82の
表面には(b)に示すようにスタンパー94に形成され
ている溝やピットが転写形成されている。スタンパー9
4からは多数の基板82を成形することができる。
【0013】(c)は記録層形成の工程である。得られ
た基板82の表面に、スパッタ成膜等の真空成膜法を用
いて磁気光学材料や相変化材料から成る薄膜である記録
層83を形成する。またはスピンコート等の塗布成膜法
を用いて色素材料から成る薄膜である記録層83を形成
する。
【0014】(d)は保護コートの形成の工程である。
記録層83の上に樹脂材料から成る保護コート84が塗
布形成され、光記録媒体61である光ディスクが完成す
る。次に上記の光記録媒体に情報信号の記録および再生
を行う光記録再生装置の概略構成を図9に示す。ここで
は光記録媒体61が記録層83が磁気光学材料から成る
光磁気ディスクであって、保護コート84が形成された
面を上面とした場合を説明する。光記録媒体61はスピ
ンドルモータ62により所定の回転数で回転駆動され
る。光記録媒体61の上面側には、光記録媒体61の記
録層83に磁界を印加する磁気ヘッド63が配置され、
また光記録媒体61の下面側には磁気ヘッド63と相対
向して、光記録媒体61の基板82を通して記録層83
に記録用光ビーム、および再生用光ビームを収束して照
射する光ヘッド64が配置される。
【0015】情報信号の記録時および再生時には、スピ
ンドルモータ62によって光記録媒体61を回転駆動
し、これにより磁気ヘッド63および光ヘッド64は光
記録媒体61を走査する。また磁気ヘッド63と光ヘッ
ド64は移送手段65に搭載され、光記録媒体61の径
方向の任意の位置にアクセスが可能である。
【0016】磁気ヘッド63はコア80とこれに巻き付
けられたコイル81から構成され、コイル81には磁気
ヘッド駆動回路66が接続される。また光ヘッド64は
図示しないレーザ光源、対物レンズ等で構成された光学
系、反射光を検出する複数の素子からなる光センサ、対
物レンズを駆動するアクチュエータ等より構成されてい
る。光ヘッド64にはレーザ駆動回路67、増幅回路6
8、アクチュエータ制御回路69が接続される。
【0017】光記録再生装置はそれ以外にモータ制御回
路70、移送手段制御回路71、等の制御回路、および
情報信号再生回路72、記録信号生成回路73、フォー
カスエラー検出回路74、トラッキングエラー検出回路
75、アドレス信号検出回路76、および同期信号検出
回路77、等の信号処理回路から構成される。
【0018】次に情報信号の記録動作の詳細について説
明する。情報信号の記録に先だってまずスピンドルモー
タ62によって光記録媒体61を回転駆動し、レーザ駆
動回路67から光ヘッド64のレーザ光源に再生用の直
流電流を供給する。光記録媒体61の記録層83には一
定強度の低パワーの再生用光ビームが微小な光スポット
に収束されて照射される。記録層83からの再生用光ビ
ームの反射光は光ヘッド64の光センサで検出される。
さらにこの検出信号は光ヘッド64に接続された増幅回
路68によって増幅される。検出信号には光記録媒体6
1の記録層83に形成されたアドレス信号マークから得
られるアドレス信号、同期信号マークから得られる同期
信号が含まれている。これらはそれぞれ増幅回路68に
接続されたアドレス信号検出回路76、同期信号検出回
路77によって分離検出される。また光センサを構成す
る複数の素子からの検出信号の演算処理により、フォー
カスエラー検出回路74ではフォーカスエラー信号が、
またトラッキングエラー検出回路75ではトラッキング
エラー信号がそれぞれ検出される。
【0019】検出された同期信号はモータ制御回路70
に供給される。モータ制御回路70は同期信号を参照し
て、光記録媒体61が所定の速度で回転するようにスピ
ンドルモータ62の回転の制御を行う。
【0020】検出されたフォーカスエラー信号およびト
ラッキングエラー信号は、アクチュエータ制御回路69
に供給される。アクチュエータ制御回路69はこれらの
信号に基づいてアクチュエータに駆動電流を供給して光
ヘッド64の対物レンズを駆動し、その位置を制御す
る。この結果記録層83に照射される再生用光ビームが
記録トラック上に正確に収束し、走査するようにフォー
カシング制御およびトラッキング制御が行われる。
【0021】また検出されたアドレス信号は移送手段制
御回路71に供給される。移送手段制御回路71はこの
アドレス信号と情報信号の記録を行うべき位置のアドレ
スとの比較を行い、その結果に基づき移送手段65を制
御して光ヘッド64および磁気ヘッド63を記録を行う
べき位置まで移送する。光ヘッド64および磁気ヘッド
63が光記録媒体61の記録を行うべき位置に到達した
後、記録動作が開始される。
【0022】情報信号の記録を行う場合には、入力端子
T4より記録信号生成回路73に記録されるべき情報信
号が入力される。記録信号生成回路73は情報信号にエ
ラー訂正用の信号を付加し、符号化等の変調を加えた記
録信号を生成し、同期信号検出回路77によって検出さ
れた同期信号(クロック信号)を参照してタイミング制
御を行いながら、磁気ヘッド駆動回路66に出力する。
【0023】磁気ヘッド駆動回路66はコイル81にこ
の記録信号で変調された電流を供給し、これにより磁気
ヘッド63は記録信号に応じて上向きまたは下向きに変
化する磁界を発生し、光記録媒体61の記録層83に垂
直に印加する。
【0024】一方レーザ駆動回路67は光ヘッド64の
レーザ光源に記録用の直流、または記録信号に同期した
パルス電流を供給する。これにより記録層83の情報信
号記録領域には一定強度、またはパルス状に点灯する高
パワーの記録用光ビームが微小な光スポットに収束して
照射される。
【0025】記録用光ビームの照射により記録層83の
温度はそのキュリー温度以上に上昇し、冷却する過程で
磁化の方向は磁気ヘッド63による印加磁界の方向に配
向され、固定されることにより磁化領域が形成される。
これにより図6に示したように、光記録媒体61の回転
につれて記録トラック上には情報信号に応じた上向きま
たは下向きの磁化領域である情報信号マーク87が次々
と形成される。
【0026】次に記録された情報信号の再生動作の詳細
について説明する。情報信号の再生に先だってまずスピ
ンドルモータ62によって光記録媒体61を回転駆動
し、レーザ駆動回路67から光ヘッド64のレーザ光源
に再生用の直流電流を供給する。光記録媒体61の記録
層83には一定強度の低パワーの再生用光ビームが微小
な光スポットに収束されて照射される。記録層83から
の再生用光ビームの反射光は光ヘッド64の光センサで
検出される。さらにこの検出信号は光ヘッド64に接続
された増幅回路68によって増幅される。
【0027】光ヘッド64の検出信号より、フォーカス
エラー検出回路74ではフォーカスエラー信号が、また
トラッキングエラー検出回路75ではトラッキングエラ
ー信号がそれぞれ検出される。これにより再生用光ビー
ムのフォーカシング制御およびトラッキング制御が上記
情報信号の記録時と同様に行われる。
【0028】また光ヘッド64の検出信号により、アド
レス信号検出回路76ではアドレス信号が、また同期信
号検出回路77では同期信号がそれぞれ検出される。検
出されたアドレス信号は移送手段制御回路71に供給さ
れる。移送手段制御回路71はこのアドレス信号と情報
信号の再生を行うべき位置のアドレスとの比較を行い、
その結果に基づき移送手段65を制御して磁気ヘッド6
3および光ヘッド64を再生行うべき位置まで移送す
る。磁気ヘッド63および光ヘッド64が光記録媒体6
1の再生を行うべき位置に到達した後、再生動作が開始
される。
【0029】情報信号の再生を行う場合には、情報信号
記録領域の記録トラックを再生用光ビームによって走査
する。情報信号記録領域に形成された情報信号マーク8
7である磁化領域からの再生用光ビームの反射光の偏光
面は、磁気光学効果(カー効果)のため、磁化領域の磁
化の方向に応じて回転する。このような偏光面の回転は
光ヘッド64の光学系および光センサによって検出され
る。この検出信号は増幅回路68によって増幅され、同
期信号検出回路77により検出される同期信号(クロッ
ク信号)とともに情報信号再生回路72に供給される。
情報信号再生回路72では同期信号を参照して2値化、
復調、エラー訂正等の信号処理を行い、その結果情報信
号が再生され端子T3より出力される。
【0030】なお上記の例においては光記録媒体61は
光磁気ディスクであるとしたが、その他の光記録媒体で
あっても光記録再生装置の記録、再生動作はほぼ同様で
ある。
【0031】
【発明が解決しようとする課題】従来の光記録媒体にお
いては、プリフォーマット領域に形成するアドレス信号
マークや同期信号マークであるピットの長さは、光記録
再生装置の光ヘッドの検出分解能を考慮して定められて
いる。通常光ヘッドの検出限界は再生用光ビームの光ス
ポットの直径の0.4倍程度であり、例えばレーザ光源
の波長を680nm、対物レンズのNAを0.6とする
と光スポットの直径は約1μmであり、検出限界は0.
4μmとなる。従ってこのような光記録装置に使用され
る光記録媒体のピットの長さは0.4μm以上としなけ
ればならない。
【0032】一方情報信号記録領域に記録される情報信
号マークについては、上記の検出限界を越えてさらに微
小な情報信号マークの検出を可能とする新規な方法が提
案されている。例えば本願出願人が特開平6−2904
96号公報に提案する方法は、光記録媒体である光磁気
ディスクにおいて、記録層の再生用光ビームの照射位置
において、情報信号マークである磁化領域の間の境界に
形成された磁壁を高速で移動させて検出する再生方式
(磁壁移動再生方式)であり、この方式を用いれば、検
出限界は再生用光ビームの大きさには制限されず、0.
1μm以下の極めて高い分解能で情報信号マークの検出
が可能となるのである。
【0033】しかしながらこのような検出分解能向上の
方法は、情報信号記録領域に磁化領域によって形成した
情報信号マークの検出において適用し、情報信号の記録
密度を増大することができるのであるが、プリフォーマ
ット領域にピットによって形成したアドレス信号マーク
や同期信号マークの検出に適用し、記録密度を増大する
ことはできない。
【0034】通常情報信号の記録容量を増大させようと
した場合には、それにともなって記録されるべきアドレ
ス信号や同期信号の量も増大する。ところが上記のよう
な事情のためにアドレス信号や同期信号の記録密度を増
大することができないので、アドレス信号や同期信号の
量の増大に伴って、プリフォーマット領域の面積を拡大
しなければならないことになる。このため逆に情報信号
記録領域の面積を縮小せざるを得なくなり、結果として
情報信号の記録密度を増大したにもかかわらず、情報信
号の記録容量を増大させるという目的は十分には達成す
ることができないという問題があった。
【0035】即ち、本発明はこれらの問題点に鑑みてな
されたものであり、情報信号の記録密度を増大させる場
合であってもプリフォーマット領域の占める媒体上の面
積を増大させることなく、情報の記録容量を効果的に増
大させることが可能な光記録媒体を提供することを目的
とする。
【0036】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板上
に、第1の再生用光ビームによって検出が可能なアドレ
ス信号マーク、同期信号マーク、およびトラッキング用
ガイドまたはトラッキング用マークの少なくとも1つが
形成された第1の記録層と、前記基板の厚さ方向に第1
の記録層と所定の間隔を設けて形成され、前記アドレス
信号マーク、同期信号マーク、またはトラッキング用ガ
イドもしくはトラッキング用マークを参照しながら記録
用光ビームの照射により情報信号の記録が可能で、第2
の再生用光ビームの照射により情報信号の再生が可能な
第2の記録層とを有する光記録媒体に関する。
【0037】このような光記録媒体は、透明材料を成形
して透明基板を形成する工程と、この基板上に前記第1
の記録層を形成する工程と、前記透明基板とは異なる第
2の透明基材上に前記第2の記録層を形成する工程と、
前記透明基板と前記第2の透明基材とを貼り合わせる工
程とを有する製造方法によって製造することができる。
【0038】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態を示し
ながら本発明を詳細に説明する。図1(a)に本発明の
1例として、光記録媒体1である光ディスクの外観を、
(b)にその一部を拡大した断面図を、(c)に拡大し
下面方向から見た図を示す。ここで40は基板、41は
第1の記録層、42は第2の記録層、43はスペーシン
グ層、44は保護コートである。基板40はポリカーボ
ネート等の透明な材料から成り、中心には孔49が形成
される。
【0039】第1の記録層41は金属材料(例えば金)
や色素材料(例えばフタロシアニン)からなり、第1の
再生用光ビームをマーク読み出し可能な程度反射し、第
2の記録層の記録・再生に用いられる記録用光ビームお
よび第2の再生ビームを記録・再生に必要な程度透過す
る性質を有する。第1の再生用光ビーム波長と、記録用
光ビームおよび第2の再生ビームの波長が近く、反射・
透過の割合がほとんど変わらない場合には、第1の記録
層の光の透過率を60%〜90%とすることが好まし
い。
【0040】また第2の記録層42は希土類−鉄族非晶
質合金(例えばTbFeCo)等の磁気光学材料、また
はカルコゲナイド(例えばGeSbTe)等の異なる2
以上の相状態(例えば結晶状態と非晶質状態)の間で変
化し得る相変化材料、または光の吸収特性が波長に依存
する色素材料(例えばフタロシアニン)から成る薄膜で
ある。
【0041】スペーシング層43は薄く透明な樹脂材料
のシートから成り、第1の記録層41と第2の記録層4
2の間に所定の間隔をもたせるために設けられる。
【0042】第1の記録層41および第2の記録層42
には、それぞれスパイラル状に記録トラックを形成した
記録領域Rが設けられる。
【0043】第1の記録層41の記録領域Rは少なくと
もプリフォーマット領域を含んで構成される。第1の記
録層41の記録トラックの両側に形成された溝45は、
トラッキング用ガイドであり、第1の記録層41に収束
して照射される第1の再生用光ビームを、記録トラック
に追従して走査させるトラッキング制御に用いられる。
またプリフォーマット領域においてはピット46(凹
部)の列から成るアドレス信号マークや同期信号マーク
が予め形成される。なお、トラッキング用ガイドである
溝45の代わりにピット状のトラッキング用マークを形
成する場合もある。またトラッキング用ガイドである溝
45をウォブリング(蛇行)させて形成し、その周期を
変化させてアドレス信号を記録する場合もある。
【0044】なおアドレス信号マークとは、記録領域が
セクタを単位として構成される場合には、セクタの位置
情報を表す信号マーク(IDマーク)の他、それに追随
して形成され、位置情報の先頭を識別する信号マーク
(アドレスマークやSYNCマーク)やセクタの先頭を
識別する信号マーク(セクタマーク)等を含むものとす
る。また同期信号マークとは情報信号検出におけるピッ
ト同期を得るための信号マーク(クロックマーク)の
他、上記アドレス信号マークの検出タイミングを得るた
めの信号マーク(VFOマーク)等を含むものとする。
【0045】第2の記録層42の記録領域Rは略全面が
光記録再生装置を用いて情報信号の記録を行うことが可
能な情報信号記録領域で構成される。情報信号の記録が
行われると、第2の記録層42には光学特性の変化した
情報信号マーク47が形成される。また、この例では第
2の記録層42の記録領域Rにはプリフォーマット領域
が設けらていないので、予めピット等の表面形状の変
化、または光学特性の変化による信号マークは形成され
ていない。従って、プリフォーマット領域に相当する面
積を情報信号記録領域に当てることができるために、情
報信号の記録密度が従来の光記録媒体と同等であったと
しても、情報信号の記録容量を増大することができる。
【0046】また本出願人が特開平6−290496号
公報で提案している磁壁移動再生方式等を使用すれば、
情報信号マーク47の長さをより短くした場合であって
も検出が可能となり、情報信号の記録密度を高めること
ができるので、その結果より一層情報信号の記録容量を
増大することができる。
【0047】この例では、アドレス信号マーク、同期信
号マーク、およびトラッキング用ガイドまたはトラッキ
ング用マークのすべてを第1の記録層に形成し、第2の
記録層42には溝やピット等の表面形状の変化、または
光学特性の変化による構造は一切形成しないので、記録
容量を増大させることができると同時に、後述するよう
に、第2の記録層42の形成を極めて容易に行うことが
できるので最も好ましい。
【0048】ただし、アドレス信号マーク、同期信号マ
ーク、およびトラッキング用ガイドまたはトラッキング
用マークのすべてではなくとも、少なくとも1つを第1
の記録層に形成するようにすれば、この例には及ばない
が、その分だけ第2の記録層の情報記録領域が増える。
特に、アドレス信号および同期信号の量は比較的大きい
ので、少なくともアドレス信号マークおよび同期信号マ
ークは第2の記録層42には設けずに、第1の記録層4
1に設けるようにすることが好ましい。
【0049】本発明の光記録媒体を用いて記録・再生す
る際には、後述するように第1の記録層41からの信号
読み出しには第1の再生用光ビームを用い、第2の記録
層42の記録または再生には記録用光ビームまたは第2
の再生用光ビームを用いるため、第1の記録層41に記
録されたアドレス信号マークおよび同期信号マークの検
出を行うのと同時に、第2の記録層42に情報信号の記
録や再生を行うことが可能であると共に、図1に示すよ
うに第1の記録層41に形成されたアドレス信号マーク
や同期信号マークであるピット46に重なる第2の記録
層42の位置に情報信号マーク47が形成されていて
も、記録動作および再生動作には全く支障がない。即
ち、第1の記録層に形成されたアドレス信号マークや同
期信号マークと重なる位置と重ならない位置の両方の第
2の記録層に情報信号の記録が可能である。
【0050】次に上記の光記録媒体1である光ディスク
の製造方法について説明する。製造工程は大きくはスタ
ンパー製造の工程、およびディスク複製の工程の2工程
から成る。各工程の詳細について以下に説明する。
【0051】図2にはスタンパー製造の工程の詳細を示
す。
【0052】(a)はフォトレジスト塗布の工程であ
る。ガラス等の原盤50の表面を研磨し、均一な厚さで
フォトレジスト膜51を塗布する。
【0053】(b)はカッティングの工程である。カッ
ティング装置52によって原盤50を回転駆動しなが
ら、レーザー光を収束してフォトレジスト膜51に照射
し、強度を変調しながら照射位置を半径方向に徐々に移
動させて露光する。
【0054】(c)は現像の工程である。露光された原
盤50を現像処理し、フォトレジスト膜51の露光部分
のみを除去する。これにより原盤50にはスパイラル状
にトラッキング用ガイドである溝(またはトラッキング
用マークであるピット)、アドレス信号マークであるピ
ット、同期信号マークであるピットが形成される。
【0055】(d)は電鋳の工程である。現像された原
盤50の表面にニッケル等の金属からなる厚い電鋳膜5
3を析出形成する。電鋳膜53を剥離すると、(e)に
示すように表面に溝やピットが転写形成されたスタンパ
ー54が完成する。
【0056】図3にはディスク複製の工程の詳細を示
す。
【0057】(a)は基板成形の工程である。上記の工
程によって得られたスタンパー54を射出成形機の金型
55に取り付け、金型55内に高温で溶融した透明な樹
脂材料(例えばポリカーボネート)を注入し基板40を
成形する。冷却した後に基板40を射出成形機から取り
出すと、(b)に示すようにその表面には、スタンパー
54に形成されていた溝やピットが転写形成されてい
る。スタンパー54からは多数の基板40を成形するこ
とができる。基板40の寸法は、目的に合わせて変更す
ることができるが、例えば直径は50mm〜130mm
程度、厚さは0.3mm〜1.2mm程度である。
【0058】(c)は第1の記録層形成の工程である。
得られた基板40の表面に蒸着等の真空成膜法を用いて
金属材料から成る薄膜を成膜し第1の記録層41を形成
する。またはスピンコート等の塗布成膜法を用いて色素
材料から成る薄膜を成膜して第1の記録層41を形成す
る。
【0059】(d)は第2の記録層形成の工程である。
第2の記録層42は、透明な樹脂材料(例えばポリエチ
レンテレフタレート、ポリイミド、ポリエステル等)か
らなる薄い長尺のシート(第2の透明基材)48の表面
に形成される。シート48の厚さは0.01mm〜0.
6mm程度である。シート48の搬送を行いながらその
表面に薄膜形成装置55を用いて連続的に第2の記録層
42である薄膜を形成する。磁気光学材料や相変化材料
から成る第2の記録層42の形成には、スパッタ成膜等
の真空成膜法を用いることができる。また色素材料から
成る第2の記録層42の形成にはロールコート、ブレー
ドコート等の塗布成膜法を用いることができる。
【0060】(e)は貼り合わせ工程である。第1の記
録層41が形成された基板40と、第2の記録層42が
形成されたシート48とを接着剤等を使用して貼り合わ
せる。基板40の表面(第1の記録層41を形成した
面)と、シート48の裏面(第2の記録層42が形成さ
れていない面)とが貼り合わせられる。これによりシー
ト48はスペーシング層43を構成する。貼り合わせの
後、または前にシート48は基板40にあわせて所定の
形状、大きさに切断され、また中心には孔49が打ち抜
いて形成される。
【0061】(f)は保護コートの形成の工程である。
第2の記録層42の上に樹脂材料から成る保護コート4
4が塗布形成され、光記録媒体1である光ディスクが完
成する。なお保護コート44の形成は(e)の貼り合わ
せの工程の前であってもよい。
【0062】本発明では、この例のように第2の記録層
42に表面形状の変化、または光学特性の変化による溝
やマーク等の構造を形成しなくてもよいので、シート4
8の表面への第2の記録膜42である薄膜の形成は比較
的容易であり歩留まりや生産性が向上する。
【0063】また特にこの工程をRoll to Ro
ll工程(ロール状態にしたシートの送出から巻き取り
の間に処理を行う方式)とし、第2の記録層の形成を連
続的に行うようにすれば、従来の光記録媒体の記録層の
形成工程のように少数の基板毎に処理を行うバッチ処理
に比較して処理速度が向上する。これにより低コストで
大量に光記録媒体を製造することができる。
【0064】次に本発明による光記録媒体の情報信号の
記録および再生方法について説明する。図4は、使用す
る光記録再生装置の1例の概略構成図である。ここでは
光記録媒体1は第2の記録層42が磁気光学材料から成
る光磁気ディスクであって、保護コート44が形成され
た面を上面とする場合を説明する。光記録媒体1はスピ
ンドルモータ2により所定の回転数で回転駆動される。
光記録媒体1の上面側には、光記録媒体1の第2の記録
層42に磁界を印加する磁気ヘッド3が配置され、また
光記録媒体1の下面側には磁気ヘッド3と相対向して、
光記録媒体1の基板40を通して第1の記録層41に第
1の再生用光ビームを、第2の記録層42に記録用光ビ
ームおよび第2の再生用光ビームを収束して照射する光
ヘッド4が配置される。
【0065】情報信号の記録時および再生時には、スピ
ンドルモータ2によって光記録媒体1を回転駆動し、こ
れにより磁気ヘッド3および光ヘッド4は光記録媒体1
を走査する。また磁気ヘッド3と光ヘッド4は移送手段
5に搭載され、光記録媒体1の径方向の任意の位置にア
クセスが可能である。
【0066】磁気ヘッド3はコア20とこれに巻き付け
られたコイル21から構成され、コイル21には磁気ヘ
ッド駆動回路6が接続される。なお磁気ヘッド3は光記
録媒体1が光磁気ディスクである場合(第2の記録層4
2が磁気光学材料からなる場合)には必要であるが、そ
れ以外の光記録媒体を使用する場合には必要としない。
【0067】また光ヘッド4の詳細な構成と光記録媒体
1への光ビームの照射状態を図5に示す。図中22は第
1のレーザ光源、24は第1の光センサ、26は第1の
ビームスプリッタ、29は第1のコリメータレンズ、3
1は第1の波長選択フィルター、23は第2のレーザ光
源、25は第2の光センサ、27は第2のビームスプリ
ッタ、30は第2のコリメータレンズ、32は第2の波
長選択フィルター、28は第3のビームスプリッタ、3
3は対物レンズ、34はアクチュエータである。
【0068】ここで第1のレーザ光源22の波長を78
0nm、第2のレーザ光源23の波長を680nmとす
る。また第1の波長選択フィルター31は第1のレーザ
光源22の波長を選択的に透過させ、第2の波長選択フ
ィルター32は第2のレーザ光源23の波長を選択的に
透過させる特性を備えているものとする。また第1の光
センサ24は反射光を検出する複数の素子からなるもの
とする。
【0069】第1のレーザ光源22より出射され第1の
ビームスプリッタ26、第1のコリメータレンズ29、
第1の波長選択フィルター31を透過した第1の再生用
光ビームと、第2のレーザ光源23より出射され第2の
ビームスプリッタ27、第2のコリメータレンズ30、
第2の波長選択フィルター32を透過した記録用光ビー
ムまたは第2の再生用光ビームは第3のビームスプリッ
タ28によって光路が合成された後、対物レンズ33に
よって光記録媒体1の記録層に照射される。この時第1
の再生用光ビームと記録用光ビームまたは第2の再生用
光ビームの対物レンズ33への入射角度を異ならせるこ
とによって第1の再生用光ビームと記録用光ビームまた
は第2の再生用光ビームの収束位置(焦点距離)が異な
るように構成されている。さらにこの両収束位置の間の
光記録媒体1に垂直な方向の距離は、光記録媒体1の第
1の記録層41と第2の記録層42の間の距離、即ちス
ペーシング層43の厚さに一致するように構成されてい
る。対物レンズ33のNAは0.6であり、第1の記録
層41に収束される第1の再生用光ビームの光スポット
の直径は1.15μm、第2の記録層42に収束される
第2の再生用光ビームの光スポットの直径は1.00μ
mである。ただし、ここで光スポットの直径とは、光の
強度分布においてピーク強度の1/e2 (0.1353
倍)となる位置で光ビームの走査方向について測定した
長さである。
【0070】また第1の再生用光ビームと記録用光ビー
ムまたは第2の再生用光ビームとは同一の対物レンズ3
3によって収束されるので、アクチュエータ34によっ
て対物レンズ33を駆動した場合にも、第1の再生用光
ビームの収束位置と記録用光ビームまたは第2の再生用
光ビームの収束位置との位置関係は常に一定に保たれ、
第1の再生用光ビームに連動して記録用光ビームまたは
第2の再生用光ビームが駆動される。
【0071】第1の再生用光ビームの第1の記録層41
からの反射光は、第1の波長選択フィルター31を透過
し、第1のビームスプリッタ26で反射され、第1の光
センサ24により受光される。記録用光ビームまたは第
2の再生用光ビームの第2の記録層42からの反射光は
第3のビームスプリッタ28で反射され、第2の波長選
択フィルター32を透過し、第2のビームスプリッタ2
7で反射され、第2の光センサ25により受光される。
この時各光路に設けた波長選択フィルターによって第1
の再生用光ビームおよび記録用光ビームまたは第2の再
生用光ビームは混合し合うことなく、それぞれ第1の光
センサ24および第2の光センサ25によって受光され
る。
【0072】第1のレーザ光源22には第1のレーザ駆
動回路7が、第1の光センサ24には第1の増幅回路9
が、第2のレーザ光源には第2のレーザ駆動回路8が、
第2の光センサ25には第2の増幅回路10が、アクチ
ュエータ34にはアクチュエータ制御回路11がそれぞ
れ接続される。
【0073】なお光記録媒体1が光磁気ディスクである
場合(第2の記録層が磁気光学材料からなる場合)に
は、光ヘッド4はこのほかに偏光検出のための素子を備
える必要があるが、図5においてはこれを省略した。ま
たそれ以外の光記録媒体を使用する場合には、そのよう
な素子は必要としない。
【0074】光記録再生装置はそれ以外にモータ制御回
路12、移送手段制御回路13、等の制御回路、情報信
号再生回路14、記録信号生成回路15、フォーカスエ
ラー検出回路16、トラッキングエラー検出回路17、
アドレス信号検出回路18、および同期信号検出回路1
9、等の信号処理回路から構成される。
【0075】次に情報信号の記録動作の詳細について説
明する。情報信号の記録に先だってまずスピンドルモー
タ2によって光記録媒体1を回転駆動し、第1のレーザ
駆動回路7から光ヘッド4の第1のレーザ光源22に再
生用の直流電流を供給する。これにより光記録媒体1の
第1の記録層41には一定強度の低パワーの第1の再生
用光ビームが微小な光スポットに収束して照射される。
第1の記録層41からの第1の再生用光ビームの反射光
は、第1のビームスプリッタ26で反射された後、第1
の光センサ24で受光される。第1の光センサ24の検
出信号は第1の増幅回路9によって増幅される。
【0076】この検出信号には光記録媒体1の第1の記
録層41に形成されたアドレス信号マークから得られる
アドレス信号、同期信号マークから得られる同期信号が
含まれる。これらはそれぞれ第1の増幅回路9に接続さ
れたアドレス信号検出回路18、同期信号検出回路19
によって分離検出される。また第1の光センサ24を構
成する複数の素子からの検出信号の演算処理により、フ
ォーカスエラー検出回路16ではフォーカスエラー信号
が、またトラッキングエラー検出回路17ではトラッキ
ングエラー信号がそれぞれ検出される。
【0077】検出された同期信号はモータ制御回路12
に供給される。モータ制御回路12は同期信号を参照し
て光記録媒体1が所定の速度で回転するようにスピンド
ルモータ2の回転の制御を行う。
【0078】検出されたフォーカスエラー信号およびト
ラッキングエラー信号は、アクチュエータ制御回路11
に供給される。アクチュエータ制御回路11はこれらの
信号に基づいて光ヘッド4のアクチュエータ34に駆動
電流を供給して対物レンズ33を駆動し、第1の再生用
光ビームの収束位置を制御する。この結果第1の記録層
41に照射される第1の再生用光ビームが記録トラック
上に正確に収束し、走査するようにフォーカシング制御
およびトラッキング制御が行われる。
【0079】また検出されたアドレス信号は移送手段制
御回路13に供給される。移送手段制御回路13はこの
アドレス信号と情報信号の記録を行うべき位置のアドレ
スとの比較を行い、その結果に基づき移送手段5を制御
して磁気ヘッド3および光ヘッド4を光記録媒体1の記
録を行うべき位置まで移送する。磁気ヘッド3および光
ヘッド4が行うべき位置に到達した後、記録動作が開始
される。
【0080】情報信号の記録を行う場合には、入力端子
T2より記録信号生成回路15に記録されるべき情報信
号が入力される。記録信号生成回路15は情報信号にエ
ラー訂正用の信号を付加し、符号化等の変調を加えた記
録信号を生成し、同期信号検出回路19によって検出さ
れた同期信号(クロック信号)を参照してタイミング制
御を行いながら、磁気ヘッド駆動回路6に出力する。
【0081】磁気ヘッド駆動回路6はコイル21にこの
記録信号で変調された電流を供給し、これにより磁気ヘ
ッド3は記録信号に応じて上向きまたは下向きに変化す
る磁界を発生し、光記録媒体1の第2の記録層42に垂
直に印加する。
【0082】一方第2のレーザ駆動回路8は光ヘッド4
の第2のレーザ光源23に記録用の直流、または記録信
号に同期したパルス電流を供給する。これにより第2の
記録層42の情報信号記録領域には一定強度、またはパ
ルス状に点灯する高パワーの記録用光ビームが微小な光
スポットに収束して照射される。記録用光ビームのフォ
ーカシング制御およびトラッキング制御は、記録用光ビ
ームが第1の再生用光ビームのフォーカシング制御動作
およびトラッキング制御動作に連動して駆動されること
によって行われる。
【0083】記録用光ビームの照射により第2の記録層
42の温度はそのキュリー温度以上に上昇し、冷却する
過程で磁化の方向は磁気ヘッド3による印加磁界の方向
に配向され、固定されることにより磁化領域が形成され
る。これにより図1に示したように、光記録媒体1の回
転につれて記録トラック上には情報信号に応じた上向き
または下向きの磁化領域である情報信号マーク47が次
々と形成される。
【0084】次に、記録された情報信号の再生動作の詳
細について説明する。情報信号の再生に先だってまずス
ピンドルモータ2によって光記録媒体1を回転駆動し、
第1のレーザ駆動回路7から光ヘッド4の第1のレーザ
光源22に再生用の直流電流を供給する。光記録媒体1
の第1の記録層41には一定強度の低パワーの第1の再
生用光ビームが微小な光スポットに収束して照射され
る。第1の記録層41からの第1の再生用光ビームの反
射光は、第1のビームスプリッタ26で反射された後、
第1の光センサ24で受光される。第1の光センサ24
の検出信号は第1の増幅回路9によって増幅される。
【0085】この検出信号より、フォーカスエラー検出
回路16ではフォーカスエラー信号が、またトラッキン
グエラー検出回路17ではトラッキングエラー信号がそ
れぞれ検出される。これにより第1の再生用光ビームの
フォーカシング制御およびトラッキング制御が、上記情
報信号の記録時と同様に行われる。
【0086】また第1の光センサ24の検出信号より、
アドレス信号検出回路18ではアドレス信号が、また同
期信号検出回路19では同期信号がそれぞれ検出され
る。検出されたアドレス信号は移送手段制御回路13に
供給される。移送手段制御回路13はこのアドレス信号
と情報信号の再生を行うべき位置のアドレスとの位置を
行い、その結果に基づき移送手段5を制御して光ヘッド
4を光記録媒体1の再生を行うべき位置まで移送する。
光ヘッド4が再生を行うべき位置に到達した後、再生動
作が開始される。
【0087】情報信号の再生を行う場合には、第2のレ
ーザ駆動回路8から光ヘッド4の第2のレーザ光源23
に再生用の直流電流を供給する。第2の記録層42には
一定強度の低パワーの第2の再生用光ビームが微小な光
スポットに収束されて照射される。第2の再生用光ビー
ムのフォーカシング制御およびトラッキング制御は、第
2の再生用光ビームが第1の再生用光ビームのフォーカ
シング制御動作およびトラッキング制御動作に連動して
駆動されることによって行われる。
【0088】情報信号記録領域に形成された情報信号マ
ークである磁化領域からの第2の再生用光ビームの反射
光の偏光面は、磁気光学効果(カー効果)のため、磁化
領域の磁化の方向に応じて回転する。このような偏光面
の回転は第2の光センサ25によって検出される。この
検出信号は第2の増幅回路10によって増幅され、同期
信号検出回路19により検出される同期信号(クロック
信号)とともに情報信号再生回路14に供給される。情
報信号再生回路14では同期信号を参照して2値化、復
調、エラー訂正等の信号処理が施され、その結果情報信
号が再生され端子T1より出力される。
【0089】第2の記録層42への情報信号の記録およ
び再生と、そのために参照するアドレス信号や同期信号
の第1の記録層41からの検出とは時間的に分離させる
必要はなく、これらの動作を同時に行うことができる。
この場合には情報信号の記録や再生の速度を向上するこ
とができる。
【0090】また第1の記録層41のプリフォーマット
領域に形成しておくアドレス信号マーク、同期信号マー
ク、トラッキング用マークのうちの最短のものの長さ
を、第1の再生用光ビームの光スポット直径(ここでは
1.15μm)の0.4倍(0.46μm)よりも大き
くしておけば、すべてのマークの検出が可能である。ま
た第2の記録層42の情報信号記録領域に形成する情報
信号マーク47の最短のものの長さは、第2の再生用光
ビームの光スポット直径(ここでは1.00μm)の
0.4倍(0.40μm)よりも小さくすることが、情
報信号の記録容量を増大する上で望ましい。磁壁移動再
生方式を使用すれば情報信号マーク47の最短のものの
長さが0.1μm以下でも検出が可能であり、この場合
トラックピッチを0.6μmとすれば直径が120mm
の光記録媒体の情報信号の記録容量は25GB以上にな
る。
【0091】また第1の再生用光ビームと、記録用光ビ
ームまたは第2の再生用光ビームの波長を異ならせるこ
とは、それぞれを波長分離手段(例えば波長選択フィル
ター)を用いて分離して検出するのには有効な手段であ
る。この場合特に第1の再生用光ビームの波長よりも、
記録用光ビームまたは第2の再生用光ビームの波長を短
くすることが望ましい。記録用光ビームまたは第2の再
生用光ビームの波長を短くするほど光スポットが小さく
なるので、高密度で情報信号を記録し、高分解能で再生
することが可能となり、結果として情報信号の記録容量
をより一層増大させることができる。一方、第1の記録
層に記録されるアドレス信号、同期信号の量は情報信号
よりも少なくてすむため、必ずしも第2の記録層と同時
に記録密度を高める必要はない。従って、第1の再生用
光ビームの波長は第2の再生用光ビームの波長よりも長
く、光スポットが大きくてもさしつかえはないからであ
る。むしろアドレス信号や同期信号をより確実に検出す
るためには、第1の記録層のプリフォーマット領域に形
成しておくアドレス信号マーク、同期信号マーク、トラ
ッキング用マークのうち最短のものを、第2の記録層の
情報信号記録領域に形成する情報信号マークの最短のも
のよりも長くする方が好ましい。
【0092】以上の説明において、光記録再生装置にお
いては、第1の再生用光ビームの第1の記録層41から
の反射光よりフォーカスエラー信号およびトラッキング
エラー信号の検出を行い、記録用光ビームまたは第2の
再生用光ビームのフォーカシング制御およびトラッキン
グ制御は、第1の再生用光ビームのフォーカシング制御
動作およびトラッキング制御動作に連動させることによ
り行うものとした。しかしながらフォーカスエラー信号
の検出のためには、記録層には特別なマーク等の構造を
形成しておく必要はない。従って、記録用光ビームまた
は第2の再生用光ビームの第2の記録層42からの反射
光よりフォーカスエラー信号を検出して記録用光ビーム
または第2の再生用光ビームのフォーカシング制御を行
い、第1の再生用光ビームのフォーカシング制御は、記
録用光ビームまたは第2の再生用光ビームのフォーカシ
ング制御動作に連動させることにより行うものとしても
よい。この場合には、たとえ第1の記録層41と第2の
記録層42との間隔が所定値と多少異なっていても、記
録用光ビームまたは第2の再生用光ビームを正確に第2
の記録層上に収束させることができる。
【0093】またトラッキング用ガイドまたはトラッキ
ング用マークを第2の記録層42に設けておけば、大容
量化の程度は多少低下するが、第2の再生用光ビームに
よって検出したトラッキングエラー信号に基づいて第2
の再生用光ビームのトラッキング制御を行うこともでき
る。ただし、このように第2の再生用光ビームによって
フォーカスエラー信号またはトラッキングエラー信号を
検出するためには、第2の光センサ25を反射光を検出
する複数の素子で構成するか、または第2の光センサと
は別に反射光を検出する複数の素子からなる光センサを
備える必要がある。
【0094】また上記の例は第1の再生用光ビームの第
1の記録層41からの反射光より、フォーカスエラー信
号、トラッキングエラー信号、アドレス信号、同期信号
を検出するものとしたが、第1の記録層41上に収束
し、第1の記録層41を透過した第1の再生用光ビーム
の第2の記録層42からの反射光より、フォーカスエラ
ー信号、トラッキングエラー信号、アドレス信号、同期
信号を検出してもよい。この場合には第1の記録層41
の反射率を十分に低くし、トラッキング用ガイド、(ま
たはトラッキング用マーク)、アドレス信号マーク、同
期信号マークは、部分的な光の透過率の変化、または屈
折率の変化によって形成するとよい。
【0095】また上記の例においては、第1の記録層4
1を第2の記録層42よりも光ヘッド4に近い側に設
け、第1の記録層41を透過させて記録用光ビームまた
は第2の再生用光ビームを第2の記録層42に照射する
ものとしたが、逆に第2の記録層42を第1の記録層4
1よりも光ヘッド4に近い側に設け、第2の記録層42
を透過させて第1の再生用光ビームを第1の記録層41
に照射するものとしてもよい。この場合には第2の記録
層42を、第1の再生用光ビームが透過する薄膜とする
必要がある。
【0096】また第1の記録層41を磁気光学材料、相
変化材料、または色素材料で構成し、記録領域にプリフ
ォーマット領域とともに情報信号記録領域も設ければ、
第1の記録層41にも情報信号の追記または書き換えを
行うことができ、記録容量が一層向上する。
【0097】また第1の記録層41を色素材料で構成
し、さらに第1の再生用光ビームの波長と、記録用光ビ
ームまたは第2の再生用光ビームの波長とを異ならせる
場合には、第1の記録層41として、第1の再生用光ビ
ームの波長よりも、記録用光ビームまたは第2の再生用
光ビームの波長において透過率が高く、反射率は低い色
素材料によって構成するのが望ましい。このようにする
と記録用光ビームまたは第2の再生用光ビームが第1の
記録層41を透過し、より効率的に第2の記録層42に
照射することができる。
【0098】また上記の例において、第1の記録層41
上のアドレス信号マーク、同期信号マーク、またはトラ
ッキング用ガイドもしくはトラッキング用マークを表面
形状の部分的な変化によって形成したが、第1の記録層
41に光学特性の部分的な変化によって少なくともトラ
ッキング用ガイド、(またはトラッキング用マーク)、
アドレス信号マーク、同期信号マークのいずれかが予め
形成されるものとしてもよい。
【0099】この場合、第1の記録層41を例えば光の
照射によって、光の反射率、透過率、屈折率、偏光特性
等の光学特性が変化する磁気光学材料、相変化材料、フ
ォトリフラクティブ材料、フォトクロミック色素材料等
で構成することができる。そして、トラッキング用ガイ
ド(またはトラッキング用マーク)、アドレス信号マー
ク、同期信号マークは光の照射によって部分的に光学特
性を変化させることにより形成する。
【0100】例えば第1の記録層41をフォトクロミッ
ク色素材料(例えばジアリールエテン)で構成する場
合、まず基板40上にフォトクロミック色素材料を塗布
形成し、第1の記録層41を形成し、次にトラッキング
用マーク、トラッキング用ガイド、アドレス信号マー
ク、同期信号マークに対応するパターン状のマスクを通
して、第1の記録層41に紫外線を照射する。その結果
紫外線の照射量に応じてフォトクロミック材料の第1の
再生用光ビームの波長における透過率が変化するので、
トラッキング用マーク、トラッキング用ガイド、アドレ
ス信号マーク、同期信号マークを光の透過率の部分的な
変化によって形成することができる。
【0101】また本発明による光記録媒体は第2の記録
層と同様な材料、方法により形成され情報信号の記録ま
たは再生が可能な記録層を、第1の記録層と所定の間隔
を設けて複数層備えることができる。この場合複数の記
録層への情報信号の記録、または情報信号の再生におい
て参照されるアドレス信号マーク、同期信号マークまた
は複数の記録層に照射される記録用または再生用光ビー
ムの位置の制御に利用されるトラッキング用ガイドまた
はトラッキング用マークのいずれかを第1の記録層に形
成することができる。
【0102】
【発明の効果】本発明によれば、アドレス信号マーク、
同期信号マーク、およびトラッキング用ガイドまたはト
ラッキング用マークを第1の記録層に形成することによ
り、第2の記録層の記録容量を増大させることが可能と
なる。特に、第2の記録層の記録密度を増大させた場合
であっても、第2の記録層上にプリフォーマット領域を
形成しなくてもよいので、情報記録容量を効果的に増大
させることができる。
【0103】また第2の記録層には、アドレス信号マー
ク、同期信号マーク、およびトラッキング用ガイドまた
はトラッキング用マークとなるピット等の表面形状の変
化、または光学特性の変化による構造を形成しなくても
よいので、この場合光記録媒体の製造工程において第2
の記録層の形成工程が容易で、処理時間が短くてすむの
で低コストで大量生産が可能になる。
【0104】また本発明による光記録媒体を使用すれ
ば、第2の記録層への情報信号の記録および再生と、そ
のために参照するアドレス信号や同期信号の第1の記録
層からの検出とは時間的に分離させる必要はなく、これ
らの動作を同時に行うことができるので、この場合には
情報信号の記録や再生の速度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光記録媒体の1例の構成を示す図であ
る。
【図2】本発明の光記録媒体の製造方法の1例を示す図
である。
【図3】図2に引き続き、本発明の光記録媒体の製造方
法の1例を示す図である。
【図4】本発明による光記録媒体を用いて記録・再生使
用する際に使用する光記録再生装置の概略構成を示す図
である。
【図5】記録・再生に使用する光記録再生装置の光ヘッ
ドの構成を示す図である。
【図6】従来の光記録媒体の構成を示す図である。
【図7】従来の光記録媒体の製造方法を示す図である。
【図8】図7に引き続き、従来の光記録媒体の製造方法
を示す図である。
【図9】従来の光記録媒体の記録再生に使用する光記録
再生装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
1 光記録媒体 2 スピンドルモータ 3 磁気ヘッド 4 光ヘッド 5 移送手段 6 磁気ヘッド駆動回路 7 第1のレーザ駆動回路 8 第2のレーザ駆動回路 9 第1の増幅回路 10 第2の増幅回路 11 アクチュエータ制御回路 12 モータ制御回路 13 移送手段制御回路 14 情報信号再生回路 15 記録信号生成回路 16 フォーカスエラー検出回路 17 トラッキングエラー検出回路 18 アドレス信号検出回路 19 同期信号検出回路 20 コア 21 コイル 40 基板 41 第1の記録層 42 第2の記録層 43 スペーシング層 44 保護コート 45 溝 46 ピット 47 情報信号マーク 48 シート 49 孔 50 原盤 51 フォトレジスト膜 52 カッティング装置 53 電鋳膜 54 スタンパー 55 金型 56 薄膜形成装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11B 11/10 506 G11B 11/10 506C 541 541A 13/00 13/00

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に、 第1の再生用光ビームによって検出が可能なアドレス信
    号マーク、同期信号マーク、およびトラッキング用ガイ
    ドまたはトラッキング用マークの少なくとも1つが形成
    された第1の記録層と、 前記基板の厚さ方向に第1の記録層と所定の間隔を設け
    て形成され、前記アドレス信号マーク、同期信号マー
    ク、またはトラッキング用ガイドもしくはトラッキング
    用マークを参照しながら記録用光ビームの照射により情
    報信号の記録が可能で、第2の再生用光ビームの照射に
    より情報信号の再生が可能な第2の記録層とを有する光
    記録媒体。
  2. 【請求項2】 前記第1の再生用光ビームによって第1
    の記録層に設けたアドレス信号マーク、同期信号マー
    ク、またはトラッキング用ガイドもしくはトラッキング
    用マークを参照しながら、前記第1の記録層を透過した
    記録用光ビームまたは第2の再生用光ビームによって、
    前記基板の厚さ方向にこれらのマークと重なる位置およ
    び/または重ならない位置の第2の記録層に記録または
    再生が可能な請求項1記載の光記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記第2の記録層を透過した第1の再生
    用光ビームによって第1の記録層に設けたアドレス信号
    マーク、同期信号マーク、またはトラッキング用ガイド
    もしくはトラッキング用マークを参照しながら、記録用
    光ビームまたは第2の再生用光ビームによって前記基板
    の厚さ方向にこれらのマークと重なる位置または重なら
    ない位置の第2の記録層に記録または再生が可能な請求
    項1記載の光記録媒体。
  4. 【請求項4】 アドレス信号マークと同期信号マーク
    が、前記第1の記録層に記録され、第2の記録層には記
    録されていないことを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    かに記載の光記録媒体。
  5. 【請求項5】 アドレス信号マーク、同期信号マーク、
    およびトラッキング用ガイドまたはトラッキング用マー
    クのすべてが、前記第1の記録層に記録され、第2の記
    録層には記録されていないことを特徴とする請求項1〜
    3のいずれかに記載の光記録媒体。
  6. 【請求項6】 前記第2の記録層には、その表面形状の
    変化、または光学特性の変化による構造が形成されてい
    ないことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
    光記録媒体。
  7. 【請求項7】 透明材料を成形して透明基板を形成する
    工程と、 この基板上に前記第1の記録層を形成する工程と、 前記透明基板とは異なる第2の透明基材上に前記第2の
    記録層を形成する工程と、 前記透明基板と前記第2の透明基材とを貼り合わせる工
    程とを有する請求項1記載の光記録媒体の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記透明基板の形成工程において、前記
    透明基板の表面形状が変化するように透明材料を成形し
    て、アドレス信号マーク、同期信号マーク、およびトラ
    ッキング用ガイドまたはトラッキング用マークの少なく
    とも1つを形成することを特徴とする請求項7記載の光
    記録媒体の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記の第2の透明基材上に前記第2の
    記録層を形成する工程が、樹脂材料から成る長尺で薄い
    第2の透明基材の表面に、連続的に第2の記録層を形成
    し、その後にこの第2の透明基材を所定の形状に切断す
    る工程である請求項7記載の光記録媒体の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記基板の厚さ方向に第1の記録層と
    所定の間隔を設けて形成され、前記アドレス信号マー
    ク、同期信号マーク、またはトラッキング用ガイドもし
    くはトラッキング用マークを参照しながら記録用光ビー
    ムの照射により情報信号の記録が可能で、第2の再生用
    光ビームの照射により情報信号の再生が可能な記録層を
    複数有する請求項1記載の光記録媒体。
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