JPH1083567A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 信号マーク転写の工程の所要時間が大幅に短
縮され、小規模な生産設備で大量生産が可能な、生産効
率が高く、低コストで製造できる光記録媒体および該光
記録媒体の製造方法の提供。 【解決手段】 光の照射により光学特性が変化する材料
からなり、光学特性を部分的に変化させることにより、
情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング
用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等の信
号マークが、予め形状変化をともなわずに形成された複
数の記録層と、各記録層の間に設けられた透明材料から
なるスペーサ層とを積層して備え、複数の記録層に形成
された信号マークを、同一の方向から光を照射すること
により再生可能とした光記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報信号が記録さ
れた複数の記録層を備え、前記複数の記録層に同一の方
向から光を照射することによって情報信号の再生が可能
な光記録媒体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、同一の方向から再生用の光を
照射することによって信号の再生が可能な２つの記録層
を備えたことにより記録容量を増大させた光記録媒体と
して、たとえばＤＶＤ（ディジタルビデオディスク）等
の再生専用の光ディスクが知られている。このような従
来の光ディスクの製造方法について説明する。光ディス
クの製造工程は大きく２つの工程に分けられる。１つは
図９に示すスタンパー製造の工程、もう１つは図１０に
示すディスク複製の工程である。

【０００３】図９に示すスタンパー製造の工程において
はまず（ａ）に示すように原盤４０が作成される。原盤
４０には通常ガラスの円盤が使用され、その表面が研磨
加工、洗浄される。次に（ｂ）に示すように原盤４０の
表面に均一な厚さでフォトレジスト膜４１が塗布され
る。

【０００４】フォトレジスト膜４１が塗布された原盤４
０は（ｃ）に示すようにカッティング装置によって情報
信号の記録が行われる。情報信号の記録は原盤４０を回
転駆動しながら、記録されるべき情報信号で変調された
レーザ光４４を収束してフォトレジスト膜４１に照射し
露光することによって行われる。レーザ光４４の照射位
置を半径方向に徐々に移動させることによって、原盤４
０にはらせん状に情報信号、アドレス信号、同期用信号
の記録トラックが形成される。また必要に応じてトラッ
キング用の溝、またはトラッキング用の信号も同様にし
て記録される。

【０００５】露光された原盤４０は（ｄ）に示す現像処
理が行われる。これによりフォトレジスト膜４１の露光
部分のみが除去される。現像された原盤４０は表面を導
体化処理した後、（ｅ）に示すようにニッケル等の金属
からなる厚い電鋳膜４２が析出形成される。

【０００６】形成された電鋳膜４２を剥離すると、
（ｆ）に示すようにその表面に情報信号等に対応したら
せん状の凹凸の列やトラッキング用の溝が形成されたス
タンパー４３が完成する。

【０００７】以上説明した方法によって第１の記録層に
対応した第１のスタンパー４３ａ、および第２の記録層
に対応した第２のスタンパー４３ｂが作成される。

【０００８】次に上記の工程によって得られた第１のス
タンパー４３ａ、および第２のスタンパー４３ｂを用い
て情報信号が記録された光ディスクの大量複製が行われ
る。次にこの工程について図１０を用いて説明する。

【０００９】まず第１のスタンパー４３ａが（ａ）に示
すように射出成形機の金型４５に取り付けられる。金型
４５内に高温で溶融した透明樹脂材料たとえばＰＣ（ポ
リカーボネート）やＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレー
ト）が注入され基板４６が成形される。基板４６は冷却
された後に中心孔を打ち抜いて形成され、射出成形機か
ら取り出される。基板４６の表面には、（ｂ）に示すよ
うに第１のスタンパー４３ａの表面に形成された凹凸が
反転したピット４７やトラッキング用の溝が転写形成さ
れている。

【００１０】取り出された基板４６の表面には（ｃ）に
示すように真空蒸着、スパッタ成膜等の方法で金属材料
からなる半透明反射膜を形成し、第１の記録層４８とす
る。

【００１１】次に（ｄ）に示すように第１の記録層４８
の上に未硬化状態の紫外線硬化樹脂材料からなるＵＶ硬
化層４９を塗布によって形成する。このＵＶ硬化層４９
の厚さは通常１０〜１００μｍ程度である。さらに
（ｅ）に示すようにその上から第２のスタンパー４３ｂ
を押しつけた状態で基板４６側より紫外線を照射し、紫
外線硬化樹脂材料を硬化させる。その後、第２のスタン
パー４３ｂを剥離すると、ＵＶ硬化層４９の表面には、
（ｆ）に示すように第２のスタンパー４３ｂの表面に形
成された凹凸が反転したピット５０やトラッキング用の
溝が転写形成されている（通常このような転写方法を２
Ｐ法と称する）。

【００１２】次に（ｇ）に示すように、ＵＶ硬化層４９
の表面に真空蒸着、スパッタ成膜等の方法で金属材料か
らなる反射膜を形成し、第２の記録層５１とする。

【００１３】さらに（ｈ）に示すように、第２の記録層
５１の上に樹脂材料からなる保護膜５２が塗布形成さ
れ、光ディスク５３が完成する。

【００１４】ここで第１の記録層４８、および第２の記
録層５１に形成されるピット４７，５０の長さは通常
０．４〜２μｍ程度であり、またトラッキング用の溝の
幅は通常０．４〜１μｍ程度である。

【００１５】このようにして製造された光ディスク５３
は図１１に示す再生装置によって、情報信号の再生が行
われる。ここで６０は光ディスク５３を回転駆動するス
ピンドルモーター、６１は光ヘッド、６２は情報信号の
再生回路、６３はサーボ回路である。光ヘッド６１はレ
ーザ光源６４、ビームスプリッタ６５、対物レンズ６
６、ディテクタ６７、および対物レンズを駆動するアク
チュエータ６８より構成される。光ディスク５３に記録
された情報信号を再生する場合には、光ディスク５３を
スピンドルモーター６０によって回転駆動した状態でレ
ーザ光源６４を点灯させ、レーザ光をビームスプリッタ
６５、対物レンズ６６を通して光ディスク５３の基板４
６側から第１の記録層４８、または第２の記録層５１に
微小な光スポットに収束して照射する。レーザ光を第２
の記録層５１に照射する場合には、第１の記録層４８は
透過させる。光ディスク５３の記録層で反射された光は
ビームスプリッタ６５で反射し、ディテクタ６７に入射
する。ティテクタ６７は入射光量を電気信号に変換し、
情報信号の再生回路６２およびサーボ回路６３に出力す
る。光ディスク５３からの反射光量は光ディスク５３に
形成されたピットによって変化する。これにより再生回
路６２は情報信号を再生し出力するのである。またピッ
トとして記録されている光ディスク上の位置を示すアド
レス信号や情報信号記録再生の際に用いる同期用の信号
も同様にして再生される。

【００１６】同時にサーボ回路６３はディテクタ６７の
出力信号から光スポット位置のトラック（ピット列）の
中心から半径方向への変位、および光ディスク５３の表
面に垂直な方向への焦点の変位を検出し、この検出信号
に基づいてアクチュエータ６８に駆動信号を出力し、こ
れにより対物レンズ６６を駆動して常に光スポットがト
ラックを正確に追従するように制御するのである。光デ
ィスク５３には情報信号に対応したピットとともにこの
ようなトラッキング制御に用いるための溝やピットを形
成しておく場合もある。

【００１７】上記の従来技術は再生専用の光ディスクを
例にとって説明したがこれ以外に、情報信号の追記が可
能な光ディスクや情報信号の書き換えが可能な光ディス
クについても、トラッキング用の溝、トラッキング用ピ
ット、あるいはアドレス信号や信号記録再生の際に用い
る同期用の信号等を予めピットとして記録するために上
記のような製造方法が用いられている。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術には、
以下に列記するような種々の問題があった。

【００１９】［１］上記したように同一の方向から再生
用の光を照射することによって信号の再生が可能な２つ
の記録層を備えた従来の光ディスクは、射出成形法、お
よび２Ｐ法によってトラッキング用の溝や情報信号のピ
ット等を形成していた。したがってそれぞれの工程のみ
でも所要時間は１枚の基板につき１０〜２０秒と長いた
め生産能力が低く、大量生産には不向きであり、もし大
量生産を必要とする場合には、多数の成形装置を備える
必要があることから多額の設備投資が生じ、製造コスト
が低くできないという問題があった。特に基板を３つ以
上とすると、このような問題はより重大であった。

【００２０】［２］また記録層の形成には、真空蒸着や
スパッタ成膜等の真空成膜法を用いるため、１つの記録
層当たり数秒以上の時間が必要となるばかりか、成膜の
工程は少数づつのバッチ処理となり、一層生産効率が悪
化するという問題があった。 ［３］また射出成形法および２Ｐ法では、樹脂材料の流
動性等による転写能力の限界からトラッキング用の溝を
さらに狭く、また情報信号のピットをさらに小さく形成
することは困難であり、情報信号の記録密度（トラック
密度および線記録密度）を増大させることができないと
いう問題があった。

【００２１】［４］また２Ｐ法によって形成されるＵＶ
硬化層の厚みを一定かつ均一にするには、第２のスタン
パーと基板の間隔を一定かつ均一に保持しなければなら
ない。しかし射出成形によって製造される基板のそり、
うねり等の変形や、厚さのばらつき、むらはある限度以
下にすることはできず、このため一定かつ均一な厚さの
ＵＶ硬化層を形成するのは困難で、厚さのばらつき、む
らが発生しやすい。ところがＵＶ硬化層の厚さのばらつ
き、むらが発生した場合、光学的な収差によって再生用
の光スポットの品位（大きさ、形状）が低下するので、
情報信号の記録密度を増大させることができないという
問題がある。特に３つ以上の記録層を２Ｐ法によって積
層して形成する場合、ＵＶ硬化層の厚さのばらつき、む
らが累積してますます増大するためこのような問題はよ
り重大である。

【００２２】［５］また射出成形法および２Ｐ法で使用
するスタンパーは、繰り返し使用することによって劣化
するため、定期的に交換を必要とし、光ディスクを大量
生産する場合にはスタンパーを多数作成しなければなら
ないという問題があった。

【００２３】したがって、本発明の目的は、上記のよう
な諸問題を解決し、信号マーク転写の工程の所要時間が
大幅に短縮され、小規模な生産設備で大量生産が可能
な、生産効率が高く、低コストで製造できる光記録媒体
および該光記録媒体の製造方法を提供することにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明による光記録媒体
は、光の照射により光学特性が変化する材料からなり、
前記光学特性を部分的に変化させることによって、情報
信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マ
ーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マ
ークが、予め形状変化をともなわずに形成された複数の
記録層と、前記各記録層の間に設けられた透明材料から
なるスペーサ層とを積層して備え、前記複数の記録層に
形成された前記信号マークを、同一の方向から光を照射
することによって再生可能としたことを特徴とする。

【００２５】また本発明による光記録媒体は、光の照射
により光学特性が変化する材料から、なり前記光学特性
を部分的に変化させることによって、情報信号マーク、
トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレ
ス信号マーク、同期信号マーク等の信号マークが、予め
形状変化をともなわずに形成された記録層を表面に設け
た複数の透明な基板が貼り合わされ、前記複数の基板の
表面に設けられた各記録層に形成された前記信号マーク
を、同一の方向から光を照射することによって再生可能
としたことを特徴とする。

【００２６】また本発明による光記録媒体の製造方法
は、透明な基板上に光の照射により光学特性が変化する
材料からなる記録層を設ける第１の工程、および前記記
録層に光を照射し、部分的に前記光学特性を変化させる
ことによって、情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マーク等の信号マークを形状変化をともなわずに形
成する第２の工程からなり、前記第１の工程および前記
第２の工程を交互に繰り返すことにより複数の記録層を
積層形成することを特徴とする。

【００２７】また本発明による光記録媒体の製造方法
は、複数の透明な基板上に光の照射により光学特性が変
化する材料からなる記録層を設ける工程、前記複数の基
板の各記録層に光を照射し、部分的に前記光学特性を変
化させることによって、情報信号マーク、トラッキング
用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マー
ク、同期信号マーク等の信号マークを形状変化をともな
わずに形成する工程、および前記複数の基板を貼り合わ
せる工程からなることを特徴とする。

【００２８】また本発明は上記の光記録媒体の製造方法
において、前記信号マークのパターンが光学特性の変化
によって形成されたマスクに光を照射し、前記パターン
の像を前記記録層上に投影し、前記信号マークを前記記
録層に転写形成することを特徴とする。

【００２９】また本発明は上記の光記録媒体の製造方法
において、前記基板は長尺であって、前記基板を搬送す
る過程で前記基板上に前記記録層が形成され、その後に
前記基板を所定の形状に切断することを特徴とする。

【００３０】これにより本発明は、従来の光記録媒体お
よびその製造方法における種々の問題点を解消すること
ができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて実施例によ
り本発明の詳細を説明するが、本発明がこれらのみに限
定されるものではない。

【００３２】

【実施例】

［実施例１］以下図面とともに本発明による光記録媒体
およびその製造方法の第１の実施例について説明する。

【００３３】図１（ａ）には本発明による光記録媒体の
製造工程の概略を、（ｂ）、および（ｃ）には各工程に
おける光記録媒体の上面図、および側断面図を示す。こ
こで１は光記録媒体の基板であり透明な樹脂、たとえば
ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリスルフ
ォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネー
ト、ポリエステル等の長尺のシートからなる。シートの
幅はたとえば８０〜１４０ｍｍ、厚さは０．０１〜０．
８ｍｍとする。基板１は送出シリンダー１０に巻き付け
られており、送出シリンダー１０の回転にともなって順
次送出され、以下搬送の過程で、第１工程（第１の記録
層形成）、第２工程（信号マーク転写）、第３工程（ス
ペーサ層形成）、第４工程（第２の記録層形成）、第５
工程（信号マーク転写）、第６工程（保護膜形成）、第
７工程（切断）を経て連続的に光記録媒体である光ディ
スク８が製造される。切断後の基板１の余剰部分は巻き
取りシリンダー１１に巻き取られる。以下各工程につい
て説明する。

【００３４】（第１工程：第１の記録層形成）送出シリ
ンダー１０から送出される基板１の表面には、まずフォ
トクロミック色素材料からなる第１の記録層２が塗布形
成される。ここで用いるフォトクロミック色素材料は第
１の波長の光の照射によって前記第１の波長とは異なる
第２の波長の光における光学特性（たとえば透過率、反
射率、吸収率等）が変化する性質を持っており、このよ
うな材料の一例としてはジアリールエテン系、スピロピ
ラン系、フルギド系等の有機色素材料が知られている。
ここで使用されるフォトクロミック色素材料は、波長が
５００ｎｍよりも短い光を照射すると、光のエネルギー
によって色素の分子が異性化反応を起こし、波長５００
〜８００ｎｍの範囲内の特定の波長、たとえば６８０ｎ
ｍ付近における吸収率が増大する。また反応後の状態が
安定であり、波長５００〜８００ｎｍの光を照射しても
光学的な変化は生じない材料を使用する。

【００３５】フォトクロミック色素材料は溶剤に溶解さ
せてロールコート、ブレードコート、グラビアコート等
の既知の方法を用いて塗布された後に、溶剤を揮発させ
ることによって厚さ１μｍ以下の皮膜として形成され
る。塗布の速度はたとえば１ｍ／ｓ程度である。必要に
応じて樹脂材料からなるバインダー中にフォトクロミッ
ク色素材料を含有させて塗布形成してもよい。

【００３６】（第２工程：信号マーク転写）次の工程で
は、５００ｎｍ以下の特定の波長の光を、情報信号マー
ク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、ア
ドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マークが光
の透過率の変化によって形成されたパターンを有するマ
スクに照射し、パターンの像を第１の記録層上に投影す
ることによって第１の記録層が露光され、その結果第１
の記録層には信号マークのパターン６が転写形成され
る。

【００３７】この転写の工程について図２により詳しく
説明する。ここで１２は光源である高圧水銀ランプ、１
３はコンデンサレンズ、１４はマスク、１８は縮小投影
レンズ、１９はステージである。

【００３８】さらにマスク１４の構造の一例を図３に示
す。（ａ）、（ｂ）は全体図、（ｃ）、（ｄ）は拡大図
である。マスク１３はガラス基板１５、および信号マー
クのパターン１７が形成されたＣｒ等の金属膜１６から
なる。拡大図（ｃ）、（ｄ）に示されるように、金属膜
１６を既知のパターンニング技術を用いて部分的に除去
することによって情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マーク等の信号マーク１７ａ、１７ｂ、１７ｃ等
が、らせん状に多数配列して形成されており、これらは
信号マークのパターン１７を構成している。

【００３９】転写の工程においてはまず基板１が第１の
記録層２を上にしてステージ１９の上面に密着させて固
定される。ここでステージ１９の上面は高い平面度で加
工されている。基板１を真空吸着等の方法を用いてステ
ージ１９に密着するように固定してもよい。

【００４０】次に高圧水銀ランプ１２が発生する特定の
波長の光、たとえばｇ線（波長４３６ｎｍ）またはｈ線
（波長４０５ｎｍ）またはｉ線（波長３６５ｎｍ）がコ
ンデンサレンズ１３を通してマスク１４上の信号マーク
のパターン１７の全面に均一に照射される。ここで、パ
ターン１７の金属膜の除去部分、すなわち情報信号マー
ク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、ア
ドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マーク１７
ａ、１７ｂ、１７ｃ等の部分は光が透過し、その他の部
分は光が遮断される。したがって透過光によりパターン
１７の像は縮小投影レンズ１８を通して第１の記録層２
上に縮小して投影されるのである。ここでマスク１４上
の信号マークのパターン１７と第１の記録層２に投影さ
れたパターン１７の像の大きさの比は、５：１から２：
１程度とされる。第１の記録層２に投影されたパターン
１７の像の中で光の照射部分すなわち信号マークの部分
は、第１の記録層２を構成するフォトクロミック色素材
料が反応し、その結果波長６８０ｎｍ付近における吸収
率が増大する。一方光が照射されない部分の吸収率は変
化しない。その結果第１の記録層には部分的な吸収率の
変化によって信号マークのパターン６が転写形成され
る。転写が完了すると基板１は図中矢印Ａで示す方向に
所定量移送され、固定された後、再び同様にして信号マ
ークのパターン６が転写形成される。このように基板の
移送と信号マークの転写を繰り返すことによって、第１
の記録層２には所定間隔で信号マークのパターン６が次
々と形成される。

【００４１】図４には信号マーク転写後の光記録媒体の
状態を拡大して示す。（ａ）は上面図、（ｂ）は側断面
図である。第１の記録層２には信号マーク６ａ、６ｂ、
６ｃ等が一括して転写形成され、これらは信号マークの
パターン６を構成している。このような信号マーク６
ａ、６ｂ、６ｃ等は、光が照射された結果、第１の記録
層２を構成するフォトクロミック色素材料が反応し波長
６８０ｎｍ付近における吸収率が増大して形成されたも
のであって、第１の記録層２の形状変化は伴わない。

【００４２】（第３工程：スペーサ層形成）次に第１の
記録層２上にスペーサ層３を形成する。スペーサ層３は
たとえばポリカーボネート等の透明な樹脂材料からな
り、その厚さは１０〜１００μｍである。このようなス
ペーサ層３は、樹脂材料を溶剤に溶解させて塗布した後
に溶剤を揮発させて一定かつ均一の厚さで形成するか、
または押し出し成形により製造された樹脂材料からなる
一定かつ均一な厚さのシートを、接着剤等を使用して貼
り合わせても良い。

【００４３】（第４工程：第２の記録層形成）さらにス
ペーサ層３の上にはフォトクロミック色素材料からなる
第２の記録層４が塗布形成される。ここで用いるフォト
クロミック色素材料は前記第１の記録層２に使用される
材料と同一であってもよいが、波長５００ｎｍ以下の光
の照射により吸収率の変化が生じる波長が第１の記録層
とは異なり、たとえば、波長６３０ｎｍ付近における吸
収率が増大するような材料を用いることもできる。

【００４４】（第５工程：信号マーク転写）次の工程で
は前記第２工程と同様にして、第２の記録層４に信号マ
ークを転写形成する。５００ｎｍ以下の特定の波長の光
を、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキ
ング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等
の信号マークが光の透過率の変化によって形成されたパ
ターンを有するマスクに照射し、パターンの像を第２の
記録層４上に投影することによって第２の記録層４が露
光され、その結果第２の記録層４には信号マークのパタ
ーン７が転写形成される。基板１の移送と信号マークの
転写を繰り返すことによって、第２の記録層４には所定
間隔で信号マークのパターン７が次々と形成される。

【００４５】ここで第１の記録層２に形成された信号マ
ークのパターン６と、第２の記録層４に形成される信号
マークのパターン７とは高精度で重ね合わされる必要が
ある。このために第１の記録層２、または第１の基板１
等に信号マークのパターンと共に、位置決め用のマーク
を形成しておき、これらのマークを検出して信号マーク
のパターン７の転写位置の調整を行ってから信号マーク
の転写を行うようにしてもよい。

【００４６】（第６工程：保護膜形成）次の工程では第
２の記録層４上に樹脂材料等からなる保護膜５が塗布形
成される。保護膜は樹脂材料を溶剤に溶解させて塗布し
た後に溶剤を揮発させて形成することができる。記録層
の耐食性が十分に高い場合には、特に保護膜５を形成す
る必要はない。

【００４７】図５には保護膜形成後の光記録媒体の状態
を拡大して示す。（ａ）は上面図、（ｂ）は側断面図で
ある。第２の記録層４には信号マーク７ａ、７ｂ、７ｃ
等が一括して転写形成され、これらは信号マークのパタ
ーン７を構成している。このような信号マーク７ａ、７
ｂ、７ｃ等は、光が照射された結果、第２の記録層４を
構成するフォトクロミック色素材料が反応し波長６８０
ｎｍ付近における吸収率が増大して形成されたものであ
って、第２の記録層４の形状変化は伴わない。

【００４８】（第７工程：切断）次の工程では基板が所
定の形状に切断され光記録媒体である光ディスク８が完
成する。ここで光ディスク８の直径はたとえば５０〜１
２０ｍｍであり、同時に光ディスク８の中心には、再生
装置に位置決めして装着するための装着部９が形成され
る。装着部は図示のような中心孔の切断形成による以外
に、ハブ等の装着部材の取り付けによって形成してもよ
い。光ディスク８における中心孔等の装着部９は、転写
形成された信号マークのパターン６、および７との間の
相対的な位置精度が要求される。そのために前記第２工
程または第４工程で、信号マークとともに切断のための
位置決め用マークを転写形成しておき、切断の工程では
この位置決め用マークを光学的に検出することによって
基板１が切断装置に位置決めされ、高い位置精度で中心
孔等の切断形成が行われるようにすればよい。

【００４９】または前記第２工程、または第５工程で、
信号マークの転写が行われる位置に固定された状態にお
いて、装着部９の形成を先に行うようにしてもよい。

【００５０】以上が本発明による光記録媒体の製造方法
の第１の実施例の概略である。なお上記の例では、同一
の方向から再生用の光を照射することによって信号の再
生が可能な２つの記録層を備えた光記録媒体を例にとっ
て説明したが、３つ以上の記録層を備えた光記録媒体の
場合であっても、記録層形成の工程と信号マーク転写の
工程を交互に繰り返すことによって、上記の実施例と同
様にして製造することができる。

【００５１】また後述するように、光記録媒体に光を照
射し、その反射光によって信号の再生を行う場合には必
要に応じて各記録層上には半透明反射膜を形成してもよ
い。半透明反射膜は、たとえば比較的反射率が高い色素
材料等を塗布形成すればよい。なお各記録層自体の反射
率が十分に高い場合や、透過光によって信号の再生を行
う場合には、特に半透明反射膜を形成する必要はない。

【００５２】ここで本実施例による光記録媒体の製造方
法の第２工程および第５工程（信号マーク転写）におい
て、高圧水銀ランプが発生する特定の波長の光の強度
が、光記録媒体の記録層上で５００ｍＷ／ｃｍ² 、記録
層を構成するフォトクロミック色素材料の異性化反応に
必要なエネルギーを２００ｍＪ／ｃｍ² とすると、光の
照射時間は１回の転写工程につき０．４秒となる。また
光源としてパルス点灯するエキシマレーザを使用する場
合には、１パルス当たりの光エネルギー密度が５ｍＪ／
ｃｍ² 、パルス周波数が５００Ｈｚとすると１回の転写
工程は０．０８秒となる。さらに複数のパターンが形成
されたマスクを用いて同時に複数の光記録媒体への転写
を行うことにより、さらに生産能力を増すことも可能で
ある。

【００５３】また本実施例においては、光をマスク上の
パターンの全面に均一に照射し、パターンを一括して記
録層に転写形成するものとしたが、光をマスク上のパタ
ーンに部分的に照射しながら、パターンの全面にわたっ
てスキャンすることによってパターン全体を記録層に転
写してもよい。しかしながら所要時間を短縮するために
は、パターン全体を一括して転写するのが望ましい。

【００５４】また、本実施例の第２工程および第５工程
（信号マーク転写）において、マスクは基板との間に十
分な間隔を置いて保持され、マスクに形成されたパター
ンの像を記録層上に縮小して投影し、記録層にマスクに
形成された情報信号マーク、トラッキング用ガイド、ト
ラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マ
ーク等の信号マークを縮小して転写するものとしたが、
縮小せずにパターンの等倍の像を記録層上に投影し、パ
ターンと同じ大きさで転写するようにしてもよい。

【００５５】さらにはマスクと基板とを密着させ、マス
クに形成されたパターンの等倍の像を記録層上に投影
し、マスクに形成されたパターンと同一の大きさの信号
マークを転写するようにしてもよい。

【００５６】さらにはマスクを微小な間隔を置いて基板
に近接させ、マスクに形成されたパターンの略等倍の像
を記録層上に投影し、マスクに形成されたパターンと略
同一の大きさの信号マークを転写するようにしてもよ
い。

【００５７】ただし、マスクのパターンを縮小して投影
する場合には大面積を一度に露光することは困難である
が、高い解像度が得られるために、小型で大容量の光記
録媒体を製造するのに適しているのに対して、マスクの
パターンを等倍で転写する場合には大面積を一度に露光
することが可能であり、比較的大型の光記録媒体を製造
したり、またマスクに複数のパターンを形成しておき、
これらのパターンを同時に記録層に投影し、露光するこ
とによって一度に複数の光記録媒体への転写を行う場合
などに適している。

【００５８】またマスクと基板とを密着させず、間隔を
置いて保持するようにした場合には、繰り返し使用によ
ってもマスクが劣化することがなく、半永久的に使用可
能であるという点で望ましい。

【００５９】また本実施例においては高圧水銀ランプを
光源として使用したが、これ以外にもＫｒＦエキシマレ
ーザ（波長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ（波長
１９３ｎｍ）を光源として使用してもよい。一般には光
源の波長が短いほど転写の解像度は向上し、波長が３６
５ｎｍの光を使用すれば長さおよび幅が０．３μｍの信
号マークが、波長が２４８ｎｍの光を使用すれば長さお
よび幅が０．２μｍの信号マークが転写により形成可能
である。

【００６０】なお本発明において第１〜第７の各工程の
順序は上記の実施例に限られるものではない。たとえば
第７工程（切断）は第６工程（保護膜形成）よりも前に
行うようにしてもよい。しかしながら、長尺の基板を搬
送する過程で各工程における処理を連続的に行うことに
よって生産効率を高めるためには、切断の工程は後段で
ある方が望ましい。特に連続的に記録層を塗布形成し、
製造効率を高めるためには、切断の工程は第１工程（第
１の記録層形成）、および第４工程（第２の記録層形
成）よりも後とすることが望ましい。

【００６１】このようにして製造された光ディスクは、
従来装置と同様に基板側より光を照射し、記録層からの
反射光を検出することによって再生される。ここで光デ
ィスクの第１の記録層に形成されたフォトクロミック色
素材料の反応部分、すなわち情報信号マーク、トラッキ
ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
ーク、同期信号マーク等の信号マークの部分は特定の波
長、たとえば６８０ｎｍ付近における吸収率が増大して
いる。したがって第１の記録層に波長６８０ｎｍの光を
光スポットに収束して照射すれば、第１の記録層からの
反射光量は、形成された信号マークによって変化する。
これによって第１の記録層に記録された情報信号が再生
され、またトラッキング制御が行われる。

【００６２】同様にして第２の記録層に形成された信号
マークも、光を基板側より第２の記録層に光スポットに
収束して照射することによって再生される。ここで第２
の記録層が、第１の記録層と同じく、信号マークの部分
で波長６８０ｎｍ付近における吸収率が増大する材料を
用いて構成されている場合には、波長６８０ｎｍの光を
照射すれば、第２の記録層からの反射光量は、形成され
た信号マークによって変化するので、これによって第２
の記録層に記録された情報信号が再生される。

【００６３】また第２の記録層が、第１の記録層とは異
なり、信号マークの部分で波長６３０ｎｍ付近における
吸収率が増大するような材料を用いて構成されている場
合には、波長６３０ｎｍの光を照射して情報信号を再生
すればよい。このように各記録層の信号マークを、異な
る波長における光学特性の変化によって形成し、各記録
層に対応した波長の光を使用して再生するようにした場
合には、ある記録層から再生される信号に、他の記録層
からの信号が混入するクロストーク現象を防止する効果
が高い。

【００６４】また第１の記録層と第２の記録層の間隔が
大きい方が、記録層間のクロストークは小さくなるが、
また逆に間隔が大きすぎると、光学的な収差により両記
録層において高品位（大きさ、形状）の再生用の光スポ
ットを得るのが困難となる。したがって第１の記録層と
第２の記録層の間に設けられるスペーシング層の厚さは
１０〜１００μｍとするのが望ましい。

【００６５】またここで各記録層を構成するフォトクロ
ミック材料は波長５００〜８００ｎｍの光を照射しても
光学的な変化は生じないから、再生動作によって信号マ
ークが消去されることはない。

【００６６】また本実施例では記録層からの反射光によ
って信号再生を行うものとしたが、記録層を透過する光
によって信号再生を行うようにすることも可能である。

【００６７】また本実施例は再生専用の光記録媒体およ
びその製造方法を例にとって説明したが、本発明はこれ
に限られるものではなく、情報信号の追記や書き換えが
可能であり、同一の方向から光を照射することによって
信号の記録および再生が可能な２つ以上の記録層を備え
た光記録媒体についても適用できる。再生専用の光記録
媒体においては、情報信号マークを含む信号マークが上
記の製造方法によって予め形成されるが、情報信号の追
記や書き換えが可能な光記録媒体においては、トラッキ
ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
ーク、同期信号マーク等の信号マークのうち必要なもの
のみが上記の製造方法によって予め形成されていればよ
く、情報信号は他の記録装置によって記録が可能であ
る。

【００６８】［実施例２］以下図面とともに本発明によ
る光記録媒体およびその製造方法の第２の実施例につい
て説明する。

【００６９】図６（ａ）には本発明による光記録媒体の
製造工程の概略を、（ｂ）、および（ｃ）には各工程に
おける光記録媒体の上面図、および側断面図を示す。こ
こで２１は第１の基板、２３は第２の基板であり各々透
明な樹脂、たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリ
イミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリカーボネート、ポリエステル等の長尺のシート
からなる。シートは押し出し成形によって製造され、幅
はたとえば８０〜１４０ｍｍ、厚さは０．０１〜０．８
ｍｍで一定かつ均一である。第１の基板２１は第１の送
出シリンダー３０に巻き付けられており、第１の送出シ
リンダー３０の回転にともなって順次送出され、以下搬
送の過程で、第１工程（第１の記録層形成）、第２工程
（信号マーク転写）を経る。また第２の基板２３は第２
の送出シリンダー３１に巻き付けられており、第２の送
出シリンダー３１の回転にともなって順次送出され、以
下搬送の過程で、第３工程（第２の記録層形成）、第４
工程（信号マーク転写）を経る。その後、第５工程（貼
合わせ）によって第１の基板２１と第２の基板２３とが
貼合わされ、第６工程（保護膜形成）、第７工程（切
断）を経て連続的に光記録媒体である光ディスク２８が
製造される。切断後の第１の基板２１および第２の基板
２３の余剰部分は巻き取りシリンダー３２に巻き取られ
る。以下各工程について説明する。

【００７０】（第１工程：第１の記録層形成）第１の送
出シリンダー３０から送出される第１の基板２１の表面
には、まずフォトクロミック色素材料からなる第１の記
録層２２が塗布形成される。ここで用いるフォトクロミ
ック色素材料は第１の波長の光の照射によって前記第１
の波長とは異なる第２の波長の光における光学特性（た
とえば透過率、反射率、吸収率等）が変化する性質を持
っており、このような材料の一例としてはジアリールエ
テン系、スピロピラン系、フルギド系等の有機色素材料
が知られている。ここで使用されるフォトクロミック色
素材料は、波長が５００ｎｍよりも短い光を照射する
と、光のエネルギーによって色素の分子が異性化反応を
起こし、波長５００〜８００ｎｍの範囲内の特定の波
長、たとえば６８０ｎｍ付近における吸収率が増大す
る。また反応後の状態が安定であり、波長５００〜８０
０ｎｍの光を照射しても光学的な変化は生じない材料を
使用する。

【００７１】フォトクロミック色素材料は溶剤に溶解さ
せてロールコート、ブレードコート、グラビアコート等
の既知の方法を用いて塗布された後に、溶剤を揮発させ
ることによって厚さ１μｍ以下の皮膜として形成され
る。塗布の速度はたとえば１ｍ／ｓ程度である。必要に
応じて樹脂材料からなるバインダー中にフォトクロミッ
ク色素材料を含有させて塗布形成してもよい。

【００７２】（第２工程：信号マーク転写）次の工程で
は５００ｎｍ以下の特定の波長の光を、情報信号マー
ク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、ア
ドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マークが光
の透過率の変化によって形成されたパターンを有するマ
スクに照射し、パターンの像を第１の記録層２２上に投
影することによって第１の記録層２２が露光され、その
結果第１の記録層２２には信号マークのパターン２６が
転写形成される。

【００７３】この転写の工程は、図２を用いて説明した
前記第１の実施例と同様である。またここで使用される
マスクの構造も前記第１の実施例と同様であり、図３に
示した通りである。

【００７４】転写の工程においてはまず第１の基板２１
が第１の記録層２２を上にしてステージ１９の上面に密
着させて固定される。ここでステージ１９の上面は高い
平面度で加工されている。第１の基板２１を真空吸着等
の方法を用いてステージ１９に密着するように固定して
もよい。

【００７５】次に高圧水銀ランプ１２が発生する特定の
波長の光、たとえばｇ線（波長４３６ｎｍ）またはｈ線
（波長４０５ｎｍ）またはｉ線（波長３６５ｎｍ）がコ
ンデンサレンズ１３を通してマスク１４上の信号マーク
のパターン１７の全面に均一に照射される。ここで、パ
ターン１７の金属膜の除去部分、すなわち情報信号マー
ク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、ア
ドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マーク１７
ａ、１７ｂ、１７ｃ等の部分は光が透過し、その他の部
分は光が遮断される。したがって透過光によりパターン
１７の像は縮小投影レンズ１８を通して第１の記録層２
２上に縮小して投影されるのである。ここでマスク１４
上の信号マークのパターン１７と第１の記録層２２に投
影されたパターン１７の像の大きさの比は、５：１から
２：１程度とされる。第１の記録層２２に投影されたパ
ターン１７の像の中で光の照射部分すなわち信号マーク
の部分は、第１の記録層２２を構成するフォトクロミッ
ク色素材料が反応し、その結果波長６８０ｎｍ付近にお
ける吸収率が増大する。一方光が照射されない部分の吸
収率は変化しない。その結果第１の記録層２２には部分
的な吸収率の変化によって信号マークのパターン２６が
転写形成される。転写が完了すると第１の基板２１は図
中矢印Ａで示す方向に所定量移送され、固定された後、
再び同様にして信号マークのパターン２６が転写形成さ
れる。このように基板の移送と信号マークの転写を繰り
返すことによって、記録層２２には所定間隔で信号マー
クのパターン２６が次々と形成される。

【００７６】図７には転写後の光記録媒体の状態を拡大
して示す。（ａ）は上面図、（ｂ）は側断面図である。
第１の記録層２２には信号マーク２６ａ、２６ｂ、２６
ｃ等が一括して転写形成され、これらは信号マークのパ
ターン２６を構成している。このような信号マーク２６
ａ、２６ｂ、２６ｃ等は、光が照射された結果、第１の
記録層２２を構成するフォトクロミック色素材料が反応
し波長６８０ｎｍ付近における吸収率が増大して形成さ
れたものであって、第１の記録層２２の形状変化は伴わ
ない。

【００７７】（第３工程：第２の記録層形成）次に第２
の送出シリンダー３１から送出される第２の基板２３の
表面には、前記第１工程と同様にしてフォトクロミック
色素材料からなる第２の記録層２４が塗布形成される。
ここで用いるフォトクロミック色素材料は前記第１の記
録層２２に使用される材料と同一であってもよいが、波
長５００ｎｍ以下の光の照射により吸収率の変化が生じ
る波長が第１の記録層２２とは異なり、たとえば波長６
３０ｎｍ付近における吸収率が増大するような材料を用
いることもできる。

【００７８】（第４工程：信号マーク転写）次の工程で
は前記第２工程と同様にして、第２の記録層２４に信号
マークを転写形成する。５００ｎｍ以下の特定の波長の
光を、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッ
キング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク
等の信号マークが光の透過率の変化によって形成された
パターンを有するマスクに照射し、パターンの像を第２
の記録層２４上に投影することによって第２の記録層２
４が露光され、その結果第２の記録層２４には信号マー
クのパターン２７が転写形成される。第２の基板２３の
移送と信号マークの転写を繰り返すことによって、第２
の記録層２４には所定間隔で信号マークのパターン２７
が次々と形成される。

【００７９】（第５工程：貼合わせ）次に、前記第２工
程、および第４工程で信号マークの転写が行われた第１
の基板２１、および第２の基板２３を貼り合わせる。こ
の場合一方の基板、たとえば第１の基板２１の表面（記
録層が形成された面）と、他方の基板、たとえば第２の
基板２３の裏面（記録層が形成されない面）とが接着剤
等を用いて貼り合わされる。

【００８０】また貼合わせの際には第１の記録層２２に
形成された信号マークのパターン２６と、第２の記録層
２４に形成された信号マークのパターン２７とが高精度
で重ね合わされる必要がある。このために第１の記録層
２２と第２の記録層２４（または第１の基板２１と第２
の基板２３）に信号マークのパターンと共に、位置決め
用のマークを形成しておき、これらのマークを検出し、
第１の基板２１と第２の基板２３の位置の調整を行って
から貼合わせを行うようにしてもよい。

【００８１】（第６工程：保護膜形成）次の工程では第
２の記録層２４上に樹脂材料等からなる保護膜２５が塗
布形成される。保護膜２５は樹脂材料を溶剤に溶解させ
て塗布した後に溶剤を揮発させて形成することができ
る。記録層の耐食性が十分に高い場合には、特に保護膜
２５を形成する必要はない。

【００８２】図８には保護膜形成後の光記録媒体の状態
を拡大して示す。（ａ）は上面図、（ｂ）は側断面図で
ある。第２の記録層２４には信号マーク２７ａ、２７
ｂ、２７ｃ等が一括して転写形成され、これらは信号マ
ークのパターン２７を構成している。このような信号マ
ーク２７ａ、２７ｂ、２７ｃ等は、光が照射された結
果、第２の記録層２４を構成するフォトクロミック色素
材料が反応し波長６８０ｎｍ付近における吸収率が増大
して形成されたものであって、第２の記録層２４の形状
変化は伴わない。

【００８３】（第７工程：切断）次の工程では貼り合わ
された基板が所定の形状に切断され、光記録媒体である
光ディスク２８が完成する。ここで光ディスク２８の直
径はたとえば５０〜１２０ｍｍであり、同時に光ディス
ク２８の中心には、再生装置に位置決めして装着するた
めの装着部２９が形成される。装着部２９は図示のよう
な中心孔の切断形成による以外に、ハブ等の装着部材の
取り付けによって形成してもよい。光ディスク２８にお
ける中心孔等の装着部２９は、転写形成された信号マー
クのパターン２６、および２７との間の相対的な位置精
度が要求される。そのために前記第２工程または第４工
程で、信号マークとともに切断のための位置決め用マー
クを転写形成しておき、切断の工程ではこの位置決め用
マークを光学的に検出することによって基板が切断装置
に位置決めされ、高い位置精度で中心孔等の切断形成が
行われるようにすればよい。

【００８４】または前記第２工程、または第４工程で、
信号マークの転写が行われる位置に固定された状態にお
いて、装着部２９の形成を先に行うようにしてもよい。

【００８５】また第５工程において、貼合わせのために
第１の基板と第２の基板の位置調整を行った状態におい
て装着部２９の形成を先に行うようにしてもよい。

【００８６】以上が本発明による光記録媒体の製造方法
の第２の実施例の概略である。なお上記の例では、同一
の方向から再生用の光を照射することによって、信号の
再生が可能な２つの記録層を備えた光記録媒体を例にと
って説明したが、３つ以上の記録層を備えた光記録媒体
の場合であっても、記録層が形成された３つ以上の基板
を貼り合わせることによって、上記の実施例と同様にし
て製造することができる。

【００８７】また後述するように、光記録媒体に光を照
射し、その反射光によって信号の再生を行う場合には必
要に応じて各記録層上には半透明反射膜を形成してもよ
い。半透明反射膜は、たとえば比較的反射率が高い色素
材料等を塗布形成すればよい。なお各記録層自体の反射
率が十分に高い場合や、透過光によって信号の再生を行
う場合には、特に半透明反射膜を形成する必要はない。

【００８８】ここで本実施例による光記録媒体の製造方
法の第２工程および第４工程（信号マーク転写）におい
て、高圧水銀ランプが発生する特定の波長の光の強度
が、光記録媒体の記録層上で５００ｍＷ／ｃｍ² 、記録
層を構成するフォトクロミック色素材料の異性化反応に
必要なエネルギーを２００ｍＪ／ｃｍ² とすると、光の
照射時間は１回の転写工程につき０．４秒となる。また
光源としてパルス点灯するエキシマレーザを使用する場
合には、１パルス当たりの光エネルギー密度が５ｍＪ／
ｃｍ² 、パルス周波数が５００Ｈｚとすると１回の転写
工程は０．０８秒となる。さらに複数のパターンが形成
されたマスクを用いて同時に複数の光記録媒体への転写
を行うことにより、さらに生産能力を増すことも可能で
ある。

【００８９】また本実施例においては、光をマスク上の
パターンの全面に均一に照射し、パターンを一括して記
録層に転写形成するものとしたが、光をマスク上のパタ
ーンに部分的に照射しながら、パターンの全面にわたっ
てスキャンすることによってパターン全体を記録層に転
写してもよい。しかしながら所要時間を短縮するために
は、パターン全体を一括して転写するのが望ましい。

【００９０】また、本実施例の第２工程および第４工程
（信号マーク転写）において、マスクは基板との間に十
分な間隔を置いて保持され、マスクに形成されたパター
ンの像を記録層上に縮小して投影し、記録層にマスクに
形成された情報信号マーク、トラッキング用ガイド、ト
ラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マ
ーク等の信号マークを縮小して転写するものとしたが、
縮小せずにパターンの等倍の像を記録層上に投影し、パ
ターンと同じ大きさで転写するようにしてもよい。

【００９１】さらにはマスクと基板とを密着させ、マス
クに形成されたパターンの等倍の像を記録層上に投影
し、マスクに形成されたパターンと同一の大きさの信号
マークを転写するようにしてもよい。

【００９２】さらにはマスクを微小な間隔を置いて基板
に近接させ、マスクに形成されたパターンの略等倍の像
を記録層上に投影し、マスクに形成されたパターンと略
同一の大きさの信号マークを転写するようにしてもよ
い。

【００９３】ただし、マスクのパターンを縮小して投影
する場合には大面積を一度に露光することは困難である
が、高い解像度が得られるために、小型で大容量の光記
録媒体を製造するのに適しているのに対して、マスクの
パターンを等倍で転写する場合には大面積を一度に露光
することが可能であり、比較的大型の光記録媒体を製造
したり、またマスクに複数のパターンを形成しておき、
これらのパターンを同時に記録層に投影し、露光するこ
とによって一度に複数の光記録媒体への転写を行う場合
などに適している。

【００９４】またマスクと基板とを密着させず、間隔を
置いて保持するようにした場合には、繰り返し使用によ
ってもマスクが劣化することがなく、半永久的に使用可
能であるという点で望ましい。

【００９５】また本実施例においては高圧水銀ランプを
光源として使用したが、これ以外にもＫｒＦエキシマレ
ーザ（波長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ（波長
１９３ｎｍ）を光源として使用してもよい。一般には光
源の波長が短いほど転写の解像度は向上し、波長が３６
５ｎｍの光を使用すれば長さおよび幅が０．３μｍの信
号マークが、波長が２４８ｎｍの光を使用すれば長さお
よび幅が０．２μｍの信号マークが転写により形成可能
である。

【００９６】なお本発明において第１〜第７の各工程の
順序は上記の実施例に限られるものではない。たとえば
第７工程（切断）は第６工程（保護膜形成）の前、また
は第５工程（貼合わせ）の前に行うようにしてもよい。
しかしながら、長尺の基板を搬送する過程で各工程にお
ける処理を連続的に行うことによって生産効率を高める
ためには、切断の工程は後段である方が望ましい。特に
連続的に記録層を塗布形成し、製造効率を高めるために
は、切断の工程は第１工程（第１の記録層形成）、およ
び第３工程（第２の記録層形成）よりも後とすることが
望ましい。

【００９７】このようにして製造された光ディスクは、
従来と同様の再生装置を使用して基板側より光を照射
し、記録層からの反射光を検出することによって再生さ
れる。ここで光ディスクの第１の記録層に形成されたフ
ォトクロミック色素材料の反応部分、すなわち情報信号
マーク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マー
ク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マー
クの部分は特定の波長、たとえば６８０ｎｍ付近におけ
る吸収率が増大している。したがって第１の記録層に波
長６８０ｎｍの光を光スポットに収束して照射すれば、
第１の記録層からの反射光量は、形成された信号マーク
によって変化する。これによって第１の記録層に記録さ
れた情報信号が再生され、またトラッキング制御が行わ
れる。

【００９８】同様にして、第２の記録層に形成された信
号マークも、光を基板側より第２の記録層に光スポット
に収束して照射することによって再生される。ここで、
第２の記録層が、第１の記録層と同じく、信号マークの
部分で波長６８０ｎｍ付近における吸収率が増大する材
料を用いて構成されている場合には、波長６８０ｎｍの
光を照射すれば、第２の記録層からの反射光量は、形成
された信号マークによって変化するので、これによって
第２の記録層に記録された情報信号が再生される。

【００９９】また第２の記録層が、第１の記録層とは異
なり、信号マークの部分で波長６３０ｎｍ付近における
吸収率が増大するような材料を用いて構成されている場
合には、波長６３０ｎｍの光を照射して情報信号を再生
すればよい。このように各記録層の信号マークを、異な
る波長における光学特性の変化によって形成し、各記録
層に対応した波長の光を使用して再生するようにした場
合には、ある記録層から再生される信号に、他の記録層
からの信号が混入するクロストーク現象を防止する効果
が高い。

【０１００】また第１の記録層と第２の記録層の間隔が
大きい方が、記録層間のクロストークは小さくなるが、
また逆に間隔が大きすぎると、光学的な収差により両記
録層において高品位（大きさ、形状）の再生用の光スポ
ットを得るのが困難となる。したがって第１の基板の上
に貼り合わされ、第２の記録層が形成された第２の基板
の厚さは１０〜１００μｍとするのが望ましい。

【０１０１】またここで各記録層を構成するフォトクロ
ミック材料は波長５００〜８００ｎｍの光を照射しても
光学的な変化は生じないから、再生動作によって信号マ
ークが消去されることはない。

【０１０２】また本実施例では記録層からの反射光によ
って信号再生を行うものとしたが、記録層を透過する光
によって信号再生を行うようにすることも可能である。

【０１０３】また本実施例は再生専用の光記録媒体およ
びその製造方法を例にとって説明したが、本発明はこれ
に限られるものではなく、情報信号の追記や書き換えが
可能であり、同一の方向から光を照射することによって
信号の記録および再生が可能な２つ以上の記録層を備え
た光記録媒体についても適用できる。再生専用の光記録
媒体においては、情報信号マークを含む信号マークが上
記の製造方法によって予め形成されるが、情報信号の追
記や書き換えが可能な光記録媒体においては、トラッキ
ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
ーク、同期信号マーク等の信号マークのうち必要なもの
のみが上記の製造方法によって予め形成されていればよ
く、情報信号は他の記録装置によって記録が可能であ
る。

【０１０４】

【発明の効果】上記のように本発明によって、以下に列
挙する顕著な効果が奏される。

【０１０５】［１］本発明による光記録媒体は、光の照
射により光学特性が変化する材料からなり、前記光学特
性を部分的に変化させることによって、情報信号マー
ク、トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、ア
ドレス信号マーク、同期信号マーク等の信号マークが、
予め形状変化をともなわずに形成された複数の記録層
と、前記各記録層の間に設けられた透明材料からなるス
ペーサ層とを積層して備え、前記複数の記録層に形成さ
れた前記信号マークを、同一の方向から光を照射するこ
とによって再生可能としたことを特徴とする。

【０１０６】また本発明による光記録媒体は、光の照射
により光学特性が変化する材料から、なり前記光学特性
を部分的に変化させることによって、情報信号マーク、
トラッキング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレ
ス信号マーク、同期信号マーク等の信号マークが、予め
形状変化をともなわずに形成された記録層を表面に設け
た複数の透明な基板が貼り合わされ、前記複数の基板の
表面に設けられた各記録層に形成された前記信号マーク
を、同一の方向から光を照射することによって再生可能
としたことを特徴とする。

【０１０７】また本発明による光記録媒体の製造方法
は、透明な基板上に光の照射により光学特性が変化する
材料からなる記録層を設ける第１の工程、および前記記
録層に光を照射し、部分的に前記光学特性を変化させる
ことによって、情報信号マーク、トラッキング用ガイ
ド、トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期
信号マーク等の信号マークを形状変化をともなわずに形
成する第２の工程からなり、前記第１の工程および前記
第２の工程を交互に繰り返すことにより複数の記録層を
積層形成することを特徴とする。

【０１０８】また本発明による光記録媒体の製造方法
は、複数の透明な基板上に光の照射により光学特性が変
化する材料からなる記録層を設ける工程、前記複数の基
板の各記録層に光を照射し、部分的に前記光学特性を変
化させることによって、情報信号マーク、トラッキング
用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マー
ク、同期信号マーク等の信号マークを形状変化をともな
わずに形成する工程、および前記複数の基板を貼り合わ
せる工程からなることを特徴とする。

【０１０９】また本発明は上記の光記録媒体の製造方法
において、前記信号マークのパターンが光学特性の変化
によって形成されたマスクに光を照射し、前記パターン
の像を前記記録層上に投影し、前記信号マークを前記記
録層に転写形成することを特徴とする。

【０１１０】これにより本発明によれば、従来の光記録
媒体の製造方法である射出成形法、および２Ｐ法に比較
して、信号マーク転写の工程の所要時間が大幅に短縮さ
れる。したがって小規模な生産設備で大量生産が可能で
あり、製造コストを低減することができる。特に記録層
を３つ以上とする場合であっても生産効率が高く、低コ
ストで製造できる。

【０１１１】［２］また本発明は上記の光記録媒体の製
造方法において、前記基板は長尺であって、前記基板を
搬送する過程で前記基板上に前記記録層が塗布形成さ
れ、その後に前記基板を所定の形状に切断することを特
徴とする。したがって真空成膜に比較して記録層形成が
高速で可能であり、また少なくとも記録層の形成の工程
を含む各工程において、連続的な処理を行うことがで
き、従来の光記録媒体の製造方法に比較して生産効率が
高く、製造コストの低減が可能である。

【０１１２】［３］また本発明による光記録媒体は、光
の照射により光学特性が変化する材料からなる記録層に
光を照射し、部分的に前記光学特性を変化させることに
よって、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラ
ッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マー
ク等の信号マークを形状変化をともなわずに形成するこ
とによって製造されるから、従来の光記録媒体の製造方
法である射出成形法や２Ｐ法のような樹脂材料の流動性
による転写能力の限界がなく、より小さい信号マークが
形成可能であり、情報信号の記録密度を増大させること
ができる。特に信号マークの転写に、ＫｒＦエキシマレ
ーザ（波長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザ（波長
１９３ｎｍ）等の波長の短い光源を使用すれば、転写の
解像度がより向上するので、情報信号の記録密度をさら
に増大させることができる。

【０１１３】［４］また本発明による光記録媒体は、複
数の記録層の間にはスペーシング層、または透明な基板
が設けられる。ここで塗布形成によれば、スペーシング
層は厚さを精密に制御し、一定かつ均一とすることが可
能で、また押し出し成形によれば透明な基板の厚さも一
定かつ均一とすることが容易である。

【０１１４】したがって、従来の光記録媒体におけるＵ
Ｖ硬化層の厚さのばらつき、むらの発生のような問題点
の発生はなく、再生用の光スポットの品位（大きさ、形
状）が低下することもないから、記録密度を増大させる
ことができる。また特に記録層を３つ以上形成すること
も容易であるから記録容量を増大することが可能であ
る。

【０１１５】［５］また本発明による光記録媒体の製造
方法において、またマスクと基板とを密着させず、間隔
を置いて保持し信号マークの転写を行うようにした場合
には、繰り返し使用によってもマスクが劣化することが
なく、半永久的に使用可能である。

【０１１６】［６］また本発明による光記録媒体の各記
録層の信号マークを、異なる波長における光学特性の変
化によって形成し、各記録層に対応した波長の光を使用
して再生するようにした場合には、ある記録層から再生
される信号に、他の記録層からの信号が混入するクロス
トーク現象を防止する効果が高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１における光記録媒体の製造工
程の説明図。

【図２】本発明の実施例１、および実施例２における信
号マーク転写工程の説明図。

【図３】本発明による光記録媒体の製造に使用されるマ
スクの構造を示す図。

【図４】本発明の実施例１における光記録媒体の第１の
記録層への信号マーク転写後の状態を示す図。

【図５】本発明の実施例１における保護膜形成後の光記
録媒体の状態を示す図。

【図６】本発明の実施例２における光記録媒体の製造工
程の説明図。

【図７】本発明の実施例２における光記録媒体の第１の
記録層への信号マーク転写後の状態を示す図。

【図８】本発明の実施例２における保護膜形成後の光記
録媒体の状態を示す図。

【図９】従来の光記録媒体の製造におけるスタンパー製
造工程の説明図。

【図１０】従来の光記録媒体の製造における光記録媒体
の複製工程の説明図。

【図１１】光記録媒体の再生装置の概略構成の説明図。

【符号の説明】

１ 基板 ２，２２ 第１の記録層 ３ スペーシング層 ４，２４ 第２の記録層 ５，２５ 保護膜 ６，７，２６，２７ 信号マークのパターン ８，２８ 光ディスク ９，２９ 装着部 １０ 送出シリンダー １２ 高圧水銀ランプ １３ コンデンサレンズ １４ マスク １５ ガラス基板 １６ 金属膜 １７ 信号マークのパターン １８ 縮小投影レンズ １９ ステージ ２１ 第１の基板 ２３ 第２の基板

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光記録媒体において、光の照射により光
   学特性が変化する材料からなり、前記光学特性を部分的
   に変化させることによって、情報信号マーク、トラッキ
   ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
   ーク、同期信号マーク等の信号マークが、予め形状変化
   をともなわずに形成された複数の記録層と、該記録層の
   間に設けられた透明材料からなるスペーサ層とを積層し
   て備え、前記複数の記録層に形成された前記信号マーク
   を、同一の方向から光を照射することによって再生可能
   としたことを特徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】 光記録媒体において、光の照射により光
   学特性が変化する材料からなり、前記光学特性を部分的
   に変化させることによって、情報信号マーク、トラッキ
   ング用ガイド、トラッキング用マーク、アドレス信号マ
   ーク、同期信号マーク等の信号マークが、予め形状変化
   をともなわずに形成された記録層を表面に設けた複数の
   透明な基板が貼り合わされ、前記複数の基板の表面に設
   けられた各記録層に形成された前記信号マークを、同一
   の方向から光を照射することによって再生可能としたこ
   とを特徴とする光記録媒体。
3. 【請求項３】 光記録媒体の製造方法において、透明な
   基板上に光の照射により光学特性が変化する材料からな
   る記録層を設ける第１の工程、および前記記録層に光を
   照射し、部分的に前記光学特性を変化させることによっ
   て、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、トラッキ
   ング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号マーク等
   の信号マークを形状変化をともなわずに形成する第２の
   工程からなり、前記第１の工程および前記第２の工程を
   交互に繰り返すことにより複数の記録層を積層形成する
   ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 光記録媒体の製造方法において、複数の
   透明な基板上に光の照射により光学特性が変化する材料
   からなる記録層を設ける工程、前記複数の基板の各記録
   層に光を照射し、部分的に前記光学特性を変化させるこ
   とによって、情報信号マーク、トラッキング用ガイド、
   トラッキング用マーク、アドレス信号マーク、同期信号
   マーク等の信号マークを形状変化をともなわずに形成す
   る工程、および前記複数の基板を貼り合わせる工程から
   なることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記信号マークのパターンが光学特性の
   変化によって形成されたマスクに光を照射し、前記信号
   マークのパターンの像を記録層上に投影し、前記信号マ
   ークを前記記録層に転写形成することを特徴とする請求
   項３または４記載の光記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記基板が長尺であって、該基板を搬送
   する過程で該基板上に記録層が形成され、その後に前記
   基板を所定の形状に切断することを特徴とする請求項３
   ないし５のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法。