JP2002251786A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

光記録媒体及びその製造方法

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JP2002251786A
JP2002251786A JP2001047302A JP2001047302A JP2002251786A JP 2002251786 A JP2002251786 A JP 2002251786A JP 2001047302 A JP2001047302 A JP 2001047302A JP 2001047302 A JP2001047302 A JP 2001047302A JP 2002251786 A JP2002251786 A JP 2002251786A
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optical recording
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Shinichiro Iimura
紳一郎 飯村
Hiroshi Ogawa
博司 小川
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高記録密度化に対応するために、保護膜側か
ら光が照射される場合であっても、情報信号の適切な記
録及び／又は再生を可能とする。 【解決手段】 基板２上に、少なくとも反射膜３と、保
護膜４とが順次積層されてなり、保護膜４側から光が照
射されることにより、情報信号の再生がなされる光記録
媒体１であって、反射膜３には、情報信号に応じたグル
ーブ５やエンボスピット６がトラックに沿って形成され
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に積層され
た積層膜のうち、最上層に形成された保護膜側から光が
照射されることにより、情報信号の記録及び／又は再生
がなされる光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体としては、情報信号に応じた
エンボスピットがディスク基板に予め形成されてなる再
生専用のＲＯＭ（Read Only Memory）型の光ディスク
（以下、ＲＯＭ型ディスクという。）や、ディスク基板
上に形成された記録膜に信号を記録し、必要に応じて信
号の再生や追記、書き換え等が可能なＲＡＭ（Random A
ccess Memory）型の光ディスク（以下、ＲＡＭ型ディス
クという。）がある。
【０００３】ところで、これら光ディスクでは、記録再
生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能を向上
させることにより、高記録密度化を達成している。具体
的には、光ディスクに照射されるレーザービームの波長
λを短くしたり、対物レンズの開口数ＮＡを大きくして
光ディスクに照射されるレーザービームのスポット径を
小さくすること等が行われている。
【０００４】しかしながら、対物レンズのＮＡを大きく
した場合には、ディスク基板の厚みをさらに薄くする必
要がある。これは、光学ピックアップの光軸に対してデ
ィスク面が垂直からずれる角度（チルト角）の許容量が
小さくなるためであり、このチルト角がディスク基板の
厚みによる収差や複屈折の影響を受けやすいためであ
る。すなわち、光ディスクでは、対物レンズの高ＮＡ化
に対応するために、ディスク基板の厚みを薄くしてチル
ト角をなるべく小さくする必要がある。
【０００５】例えばデジタルオーディオディスクでは、
ディスク基板の厚みが１．２ｍｍ程度とされるのに対
し、デジタルオーディオディスクの６〜８倍の記録容量
を有するデジタルバーサタイルディスク(DVD:Digital V
ersatile Disk)においては、ディスク基板の厚みが０．
６ｍｍ程度とされる。
【０００６】しかしながら、このような光ディスクで
は、今後さらなる高記録密度化が要求されるものと思わ
れ、ディスク基板のさらなる薄型化が必要となってくる
ものと思われる。
【０００７】そこで、高記録密度化に対応した光記録媒
体として、ディスク基板上に積層された積層膜のうち、
最上層に形成された保護膜側から光が照射されることに
より、情報信号の記録及び／又は再生がなされる光ディ
スクが提案されている。この光ディスクでは、保護膜を
薄膜化することによって、対物レンズのさらなる高ＮＡ
化に対応することが可能となっている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した光
ディスクのうち、ＲＯＭ型ディスクは、図１２に示すよ
うに、情報信号に応じたエンボスピットが予め形成され
てなるディスク基板１００上に、反射膜１０１と、保護
膜１０２とが順次積層された構造を有している。
【０００９】このＲＯＭ型ディスクでは、対物レンズに
より集光されたレーザービームＬがディスク基板１００
側から照射されると、エンボスピットで生じる光の干渉
により、反射膜１０１にて反射されるレーザービームＬ
の反射率が変化する。そして、このレーザービームＬの
反射率変化を検出することで、情報信号の再生が行われ
る。
【００１０】しかしながら、ＲＯＭ型ディスクでは、図
１３に示すように、対物レンズにより集光されたレーザ
ービームＬが保護膜１０２側から照射されると、反射膜
１０１にエンボスピットに対応した反射面が形成される
ものの、この反射面がディスク基板１００に形成された
エンボスピットとは異なった形状となることから、レー
ザービームＬの反射率変化が低下することとなる。すな
わち、この反射膜１０１には、エンボスピットに対応し
た反射面が緩やかに形成されるために、そのエッジ部分
を明確にすることができず、レーザービームＬが保護膜
１０２側から照射された際に、レーザービームＬの反射
率変化の低下を招いてしまう。
【００１１】特に、反射膜１０１の膜厚がディスク基板
１００に形成されたエンボスピットよりも十分厚くなる
場合には、この反射膜１０１のエンボスピットに対応し
た形状をディスク基板１００に形成されたエンボスピッ
トに対応した形状に制御することは非常に困難である。
【００１２】このため、従来のＲＯＭ型ディスクでは、
対物レンズにより集光されたレーザービームＬが保護膜
１０２側から照射された際に、良好な光学特性、すなわ
ち良好な再生出力が得られないといった問題があった。
【００１３】一方、書き込み可能なＲＡＭ型ディスク
は、図１４に示すように、トラックに沿ってグルーブ２
００ａが形成されたディスク基板２００上に、記録膜２
０１と、反射膜２０２と、保護膜２０３とが順次積層さ
れた構造を有している。そして、このＲＡＭ型ディスク
では、対物レンズにより集光されたレーザービームＬ
が、ディスク基板２００側からグルーブ２００ａ上に形
成された記録膜２０１に照射されることにより、情報信
号の記録再生が行われる。
【００１４】ところで、対物レンズにより集光されたレ
ーザービームＬが保護膜２０３側から照射される場合に
は、ＲＡＭ型ディスクは、図１５に示すように、トラッ
クに沿ってグルーブ２００ａが形成されたディスク基板
２００上に、反射膜２０２と、記録膜２０１と、保護膜
２０３とが順次積層された構造を有することとなる。
【００１５】この場合、反射膜２０２には、上述したＲ
ＯＭ型ディスクと同様に、グルーブ２００ａに対応した
反射面が形成されるものの、この反射面がディスク基板
１００に形成されたグルーブ２００ａとは異なった形状
となってしまう。すなわち、反射膜２０２には、グルー
ブ２００ａに対応した反射面が緩やかに形成されるため
に、そのエッジ部分を明確にすることが困難となる。し
たがって、この反射膜２０２上に形成された記録膜２０
１のグルーブ２００ａに対応した形状も、ディスク基板
２００に形成されたグルーブ２００ａとは異なった形状
となってしまう。
【００１６】特に、記録膜２０１の膜厚は、数十〜数百
ｎｍ程度となることから、この記録膜２０１のグルーブ
２００ａに対応した形状は、ディスク基板２００に形成
されたグルーブ２００ａとは益々異なった形状となって
しまう。
【００１７】このため、従来のＲＡＭ型ディスクでは、
対物レンズにより集光されたレーザービームＬが保護膜
２０３側から記録膜２０１に照射された際に、良好な記
録特性や、光学特性等が得られないといった問題があっ
た。
【００１８】また、ＲＡＭ型ディスクでは、図１６に示
すように、対物レンズにより集光されたレーザービーム
Ｌがディスク基板２００側から、グルーブ２００ａ上の
記録膜２０１、及び、グルーブ２００ａとグルーブ２０
０ａとの間に形成されたランド２００ｂ上の記録膜２０
１に照射されることにより、情報信号の記録再生が行わ
れる、いわゆるランド・グルーブ記録と呼ばれるものが
ある。
【００１９】しかしながら、この場合も、図１７に示す
ように、対物レンズにより集光されたレーザービームＬ
が保護膜２０３側から照射されると、記録膜２０１に形
成されるランド２００ｂに対応した形状が、ディスク基
板２００に形成されたランド２００ｂとは異なった形状
となることから、良好な記録特性や、光学特性等を得る
ことは非常に困難である。
【００２０】特に、この場合には、グルーブ２００ａと
ランド２００ｂとの比率が１対１となるように、記録膜
２０１のグルーブ２００ａ及びランド２００ｂに対応し
た形状を制御することが重要となる。
【００２１】そこで、本発明はこのような従来の事情に
鑑みて提案されたものであり、高記録密度化に対応する
ために、保護膜側から光が照射される場合であっても、
情報信号の適切な記録及び／又は再生を可能とした高品
質の光記録媒体及びその製造方法を提供することを目的
とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、基板上に、少なくとも反射膜と、保護膜
とが順次積層されてなり、保護膜側から光が照射される
ことにより、情報信号の再生がなされる光記録媒体であ
って、反射膜には、情報信号に応じたエンボスピットが
トラックに沿って形成されていることを特徴としてい
る。
【００２３】以上のように本発明に係る光記録媒体で
は、反射膜に情報信号に応じたエンボスピットがトラッ
クに沿って形成されていることから、保護膜側から光が
照射される場合でも、情報信号の適切な再生を行うこと
ができる。
【００２４】なお、この反射膜には、上記エンボスピッ
トと共に、案内溝であるグルーブをトラックに沿って形
成することも可能である。
【００２５】また、本発明は、基板上に、少なくとも反
射膜と、記録膜と、保護膜とが順次積層されてなり、保
護膜側から光が照射されることにより、情報信号の記録
及び／又は再生がなされる光記録媒体であって、反射膜
には、案内溝であるグルーブがトラックに沿って形成さ
れていることを特徴としている。
【００２６】以上のように本発明に係る光記録媒体で
は、反射膜に案内溝であるグルーブがトラックに沿って
形成されており、この反射膜上に記録膜が形成されてい
ることから、当該記録膜に保護膜側から光が照射される
場合でも、情報信号の適切な記録及び／又は再生を行う
ことができる。
【００２７】また、本発明は、基板上に、少なくとも反
射膜と、保護膜とが順次積層されてなり、保護膜側から
光が照射されることにより、情報信号の再生がなされる
光記録媒体の製造方法であって、反射膜を形成する際
に、プレス成形により情報信号に応じたエンボスピット
を形成することを特徴としている。
【００２８】以上のように本発明に係る光記録媒体の製
造方法では、反射膜に情報信号に応じたエンボスピット
を精度良く、しかも容易に形成することができる。これ
により、保護膜側から光が照射される場合でも、情報信
号の適切な再生が可能な光記録媒体を容易に製造するこ
とができる。
【００２９】なお、この反射膜を形成する際には、エン
ボスピットと共に、プレス成形により案内溝であるグル
ーブをトラックに沿って形成することも可能である。
【００３０】また、本発明は、基板上に、少なくとも反
射膜と、記録膜と、保護膜とが順次積層されてなり、保
護膜側から光が照射されることにより、情報信号の記録
及び／又は再生がなされる光記録媒体の製造方法であっ
て、反射膜を形成する際に、プレス成形により案内溝で
あるグルーブをトラックに沿って形成することを特徴と
するものである。
【００３１】以上のように本発明に係る光記録媒体の製
造方法では、反射膜に案内溝であるグルーブをトラック
に沿って精度良く、しかも容易に形成することができ、
この上に記録膜が形成される。これにより、当該記録膜
に保護膜側から光が照射される場合でも、情報信号の適
切な記録及び／又は再生が可能な光記録媒体を容易に製
造することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【００３３】先ず、本発明の第１の実施の形態として図
１に示す再生専用のＲＯＭ（Read Only Memory）型の光
ディスク（以下、ＲＯＭ型ディスクという。）１につい
て説明する。なお、図１は、このＲＯＭ型ディスク１の
構造を示す要部断面図である。
【００３４】このＲＯＭ型ディスク１は、略円盤状を呈
しており、中心部に中心孔が穿設されたディスク基板２
の主面上に、反射膜３と、保護膜４とが順次積層された
構造を有している。
【００３５】このＲＯＭ型ディスク１では、光ディスク
装置により情報信号の再生が行われる際に、光ディスク
装置に搭載された光学ピックアップの対物レンズにより
レーザービームＬが集光され、この集光されたレーザー
ビームＬが保護膜４側から照射される。これにより、対
物レンズのさらなる高ＮＡ化に対応することが可能とな
っている。
【００３６】このＲＯＭ型ディスク１において、ディス
ク基板２は、例えば射出成形されたポリカーボネート
（ＰＣ）や、ポリメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料からなる。
また、ディスク基板２の材料としては、強度と機械寸法
を満足する材料であれば何れの材料を用いてもよく、例
えばガラスや金属、圧縮成形された紙等を用いることが
できる。
【００３７】また、このディスク基板２は、支持体とし
て十分な強度を有し、且つ、経済的に有利となる、例え
ば０．１〜１．１ｍｍ程度の厚みとする。
【００３８】反射膜３は、例えばＡｌ，Ａｇ，Ａｕ，Ｃ
ｕ，Ｐｔ等の金属材料や誘電材料等からなり、蒸着法や
スパッタリング法等の薄膜形成技術によりディスク基板
２上に成膜されている。また、この反射膜３は、上述し
た材料を予めシート状に成形しておき、接着剤等により
ディスク基板２上に貼り付けたものであってもよい。ま
た、この反射膜３は、経済的に有利となり、且つ、反射
膜としての機能を十分満足する、例えば０．０５〜１０
μｍ程度の厚みとする。
【００３９】そして、この反射膜３には、図１及び図２
に示すように、案内溝であるグルーブ５と、このグルー
ブ５上に多数のエンボスピット６からなるピット列（図
１において図示せず。）とが、トラック毎に所定のトラ
ックピッチにてスパイラル状又は同心円状に形成されて
いる。なお、図２は、ディスク基板２上に反射膜３が形
成された状態を示す断面斜視図である。
【００４０】なお、グルーブ５としては、ストレートグ
ルーブの他に、所定の周期で蛇行（ウォブリング）する
ように形成したウォブリンググルーブを挙げることがで
きる。
【００４１】ここで、本手法では、図３に示すようなプ
レス機１０を用いて、反射膜３が成膜されたディスク基
板２に対してプレス成形を行うことにより、反射膜３に
上記グルーブ５及びエンボスピット６を形成する。な
お、以下の説明では、必要に応じて反射膜３が成膜され
たディスク基板２のことを、まとめてディスク基板２０
として扱うものとする。
【００４２】このプレス機１０は、ディスク基板２０が
載置される台座１１と、この台座１１の上方に位置する
金型１２とを備えている。
【００４３】台座１１は、金型１２と対向配置されてお
り、その金型１２と対向する面には、ディスク基板２０
の外形形状に対応した凹部１３が形成されている。そし
て、ディスク基板２０は、この凹部１３に嵌合されるこ
とで、金型１２に対する位置決めがなされている。
【００４４】一方、金型１２の台座１１と対向する面に
は、上記反射膜３のグルーブ５及びエンボスピット６に
対応した凹凸パターン（図示せず。）が形成されてい
る。また、金型１２は、支軸１４を介して図示を省略す
る油圧機構と連結されており、この油圧機構により台座
１１に対して図中矢印Ａ方向に接離自在とされている。
【００４５】以上のように構成されるプレス機１０で
は、反射膜３が金型１２と対向するようにディスク基板
２０が台座１１上に載置されると、金型１２が上方から
下降し、この台座１１上に位置決めされたディスク基板
２０に対して、所定の圧力にてプレス成形を行う。
【００４６】これにより、ディスク基板２上に成膜され
た反射膜３に対して、上記グルーブ５及びエンボスピッ
ト６を精度良く、しかも容易に形成することができる。
【００４７】また、ディスク基板２０に対しては、図４
に示すようなプレス機３０を用いて、連続的にプレス成
形を行うことにより、反射膜３に上記グルーブ５及びエ
ンボスピット６を形成することも可能である。
【００４８】このプレス機３０は、台座３１と、この台
座３１と共にディスク基板２０を挟み込む転圧ローラ３
２と、これら台座３１と転圧ローラ３２との間にてディ
スク基板２０を搬送させる搬送機構３３とを備えてい
る。
【００４９】台座３１は、転圧ローラ３２と対向配置さ
れており、その転圧ローラ３２と対向する面上を後述す
る搬送機構３３の搬送ベルト３６が走行するようになさ
れている。
【００５０】転圧ローラ３２は、略円筒状を呈し、その
周面には上記反射膜３のグルーブ５及びエンボスピット
６に対応した凹凸パターン３４が形成されている。ま
た、転圧ローラ３２は、その支軸３５に連結された駆動
モータ（図示せず。）により図中矢印Ｂ方向に回転自在
とされている。また、転圧ローラ３２は、その支軸３５
を支持する支持機構（図示せず。）により、台座３１に
対して図中矢印Ｃ方向に移動自在とされている。これに
より、ディスク基板２０に対する押圧を調節することが
可能となっている。
【００５１】搬送機構３３は、台座３１と転圧ローラ３
２との間に挟み込まれた長尺状の搬送ベルト３６を図中
矢印Ｄ方向に走行させるものであり、この搬送ベルト３
６上には、ディスク基板２０が所定の間隔にて載置され
ている。
【００５２】以上のように構成されるプレス機３０で
は、台座３１と転圧ローラ３２とが搬送ベルト３６を挟
み込みながら、搬送機構３３により搬送ベルト３６上に
載置されたディスク基板２０が転圧ローラ３２側へと搬
送される。このとき、転圧ローラ３２は、台座３１との
当接位置にて、その周面に設けられた凹凸パターン３４
と、搬送ベルト３６上に所定の間隔にて載置されたディ
スク基板２０とがそれぞれ一致するように、搬送ベルト
３６の走行方向と同一方向に同期しながら回転駆動され
る。そして、この転圧ローラ３２が台座３１と共にディ
スク基板２０を順次挟み込みながら、これらディスク基
板２０に対して、所定の圧力にて連続的にプレス成形を
行う。
【００５３】これにより、各ディスク基板２上に成膜さ
れた反射膜３に対して、上記グルーブ５及びエンボスピ
ット６を精度良く、しかも容易に形成することができ
る。また、ディスク基板２０に対して連続的にプレス成
形を行うことから、生産性を大幅に向上させることがで
きる。
【００５４】また、本手法では、図５に示すようなプレ
ス機４０を用いて、シート状の反射膜３に対して連続的
にプレス成形を行うことにより、当該シート状の反射膜
３に上記グルーブ５及びエンボスピット６を形成し、こ
のグルーブ５及びエンボスピット６が形成されたシート
状の反射膜３をディスク基板２上に接着剤等により貼り
付けてもよい。
【００５５】このプレス機４０は、シート状の反射膜３
となる長尺状の反射膜シート５０を供給する供給ロール
４１と、プレス成形後の反射膜シート５０を巻き取る巻
取ロール４２とにより、図中矢印Ｅ方向に走行される当
該反射膜シート５０の走行経路の中途部に、台座４３
と、この台座４３の上方に位置する金型４４とを備えて
いる。
【００５６】台座４３は、金型４４と対向配置されてお
り、その金型４４と対向する面上を反射膜シート５０が
走行するようになされている。
【００５７】一方、金型４４の台座４３と対向する面に
は、上記反射膜３のグルーブ５及びエンボスピット６に
対応した凹凸パターン４５が形成されている。また、金
型４４は、支軸４６を介して図示を省略する油圧機構と
連結されており、この油圧機構により台座４３に対して
図中矢印Ｆ方向に接離自在とされている。
【００５８】以上のように構成されるプレス機４０で
は、台座４３と金型４４との間にて反射膜シート５０が
走行されると共に、金型４４が上方から下降し、この金
型４４が台座４３と共に反射膜シート５０を挟み込む。
このとき、反射膜シート５０の走行動作が一旦停止する
と同時に、反射膜シート５０に対して、所定の圧力にて
プレス成形を行う。そして、金型４４が台座４３から離
間すると、反射膜シート５０が再び走行し始め、金型４
４がこの昇降動作を順次繰り返すことにより、反射膜シ
ート５０に対して所定の間隔にて連続的にプレス成形を
行う。
【００５９】これにより、シート状の反射膜３に対し
て、上記グルーブ５及びエンボスピット６を精度良く、
しかも容易に形成することができる。また、シート状の
反射膜３に対して連続的にプレス成形を行うことから、
生産性を大幅に向上させることができる。
【００６０】また、反射膜シート５０に対しては、図６
に示すようなプレス機６０を用いて、連続的にプレス成
形を行うことにより、当該シート状の反射膜３に上記グ
ルーブ５及びエンボスピット６を形成することも可能で
ある。
【００６１】このプレス機６０は、反射膜シート５０を
供給する供給ロール６１と、プレス成形後の反射膜シー
ト５０を巻き取る巻取ロール６２とにより、図中矢印Ｇ
方向に走行される当該反射膜シート５０の走行経路の中
途部に、台座６３と、この台座６３と共に反射膜シート
５０を挟み込む転圧ローラ６４とを備えている。
【００６２】台座６３は、転圧ローラ６４と対向配置さ
れており、その転圧ロール６４と対向する面を反射膜シ
ート５０が走行するようになされている。
【００６３】転圧ローラ６４は、略円筒状を呈し、その
周面には上記反射膜３のグルーブ５及びエンボスピット
６に対応した凹凸パターン６５が形成されている。ま
た、転圧ローラ６４は、その支軸６６に連結された駆動
モータ（図示せず。）により図中矢印Ｈ方向に回転自在
とされている。また、転圧ローラ６４は、その支軸６６
を支持する支持機構（図示せず。）により、台座６３に
対して図中矢印Ｊ方向に移動自在とされている。これに
より、反射膜シート５０に対する押圧を調節することが
可能となっている。
【００６４】以上のように構成されるプレス機６０で
は、台座６３と転圧ローラ６４との間にて反射膜シート
５０が走行されると共に、転圧ローラ６４が反射膜シー
ト５０の走行方向と同一方向に所定の回転数にて回転駆
動される。これにより、この反射膜シート５０に対し
て、所定の間隔にて連続的にプレス成形を行う。
【００６５】これにより、シート状の反射膜３に対し
て、上記グルーブ５及びエンボスピット６を精度良く、
しかも容易に形成することができる。また、シート状の
反射膜３に対して連続的にプレス成形を行うことから、
生産性を大幅に向上させることができる。
【００６６】そして、本手法では、上記グルーブ５及び
エンボスピット６が所定の間隔にて形成された反射膜シ
ート５０からディスク基板２の外形形状に沿ってシート
状の反射膜３を切り出し、この切り出されたシート状の
反射膜３をディスク基板２上に接着剤等により貼り付け
る。
【００６７】これにより、ディスク基板２上に貼り付け
られたシート状の反射膜３に、上記グルーブ５とエンボ
スピット６を精度良く、しかも容易に形成することがで
きる。
【００６８】ＲＯＭ型ディスク１において、保護膜４
は、光透過性を有する樹脂材料等からなる。具体的に、
この保護膜４は、反射膜３上に、例えば紫外線硬化樹脂
をスピンコート法により塗布し、この紫外線硬化樹脂に
対して紫外線を照射し硬化させることで成膜される。ま
た、この保護膜４は、予めシート状に成形しておき、反
射膜３上に接着剤等により貼り付けてもよい。
【００６９】また、この保護膜４は、光学的に良好な特
性を得ることができ、且つ、機械的に記録部分を保護す
るために必要となる、例えば１０〜３００μｍ程度の厚
みとする。
【００７０】以上のように構成されるＲＯＭ型ディスク
１では、対物レンズにより集光されたレーザービームＬ
が保護膜４側から照射されると、反射膜３に形成された
エンボスピット６で生じる光の干渉により、この反射膜
３にて反射されるレーザービームＬの反射率が変化す
る。そして、このレーザービームＬの反射率変化を検出
することで情報信号の再生が行われる。
【００７１】また、このＲＯＭ型ディスク１では、反射
膜３に形成されたグルーブ５で反射回折されたレーザー
ビームＬから得られるプッシュプル信号に基づいて、ト
ラッキングサーボがなされる。ここで、プッシュプル信
号は、グルーブ５で反射回折されたレーザービームＬ
を、トラック中心に対して対象に配置された２つの光検
出器により検出し、それら２つの光検出器からの出力の
差をとることにより得られる。
【００７２】ところで、このＲＯＭ型ディスク１では、
反射膜３に上述したグルーブ５やエンボスピット６が形
成されていることから、従来のようなグルーブやエンボ
スピットが形成されたディスク基板上に反射膜を形成し
た場合に比べて、その反射膜３に形成されたグルーブ５
やエンボスピット６のエッジ部分を明確にすることがで
き、レーザービームＬが保護膜４側から照射される場合
でも、このレーザービームＬの反射率変化が低下するの
を防ぐことができる。
【００７３】したがって、このＲＯＭ型ディスク１で
は、高記録密度化に対応することができ、レーザービー
ムＬが保護膜４側から照射される場合でも、良好な光学
特性を得ることができ、再生信号及びトラッキングサー
ボ信号等の品質を大幅に向上させることができる。
【００７４】また、このＲＯＭ型ディスク１では、反射
膜３に上記グルーブ５やエンボスピット６が形成されて
おり、レーザービームＬが保護膜４側から照射されるこ
とから、ディスク基板２は、光透過性を有する必要がな
く、またグルーブやエンボスピットのない平坦化された
略円盤形状を有している。したがって、このＲＯＭ型デ
ィスク１では、ディスク基板２の材料として、金属や圧
縮成形された紙等を使用することができ、使用後の処理
やリサイクル等が容易なものとなっている。
【００７５】また、本手法では、反射膜３に上述したグ
ルーブ５やエンボスピット６をプレス成形により形成す
ることから、この反射膜３にグルーブ５やエンボスピッ
ト６を容易に形成することができ、且つ、これらグルー
ブ５やエンボスピット６の形状を高精度に制御すること
ができる。
【００７６】したがって、本手法によれば、保護膜４側
からレーザービームＬが照射される場合でも、情報信号
の適切な再生が可能な高品質のＲＯＭ型ディスク１を容
易且つ大量に製造することが可能である。
【００７７】また、このＲＯＭ型ディスク１は、図７及
び図８に示すように、反射膜３に形成されたグルーブ５
とグルーブ５との間のランド７上に、上述した多数のエ
ンボスピット６からなるピット列（図７において図示せ
ず。）を形成し、このランド７上に形成されたエンボス
ピット６に対して、保護膜４側からレーザービームＬが
照射されることにより、情報信号の再生が行われる、い
わゆるランド・グルーブ記録に対応することも可能であ
る。そして、この場合も、反射膜３に形成されたエンボ
スピット６や、グルーブ５及びランド７の形状を高精度
に制御することが可能である。
【００７８】なお、ＲＯＭ型ディスク１は、反射膜３に
上述したエンボスピット６からなるピット列のみがトラ
ック毎に所定のトラックピッチにてスパイラル状又は同
心円状に形成された構造であってもよい。
【００７９】次に、本発明の第２の実施の形態として図
に示す書き込み可能なＲＡＭ（Random Access Memory）
型の光ディスク（以下、ＲＡＭ型ディスクという。）８
０について説明する。なお、図９は、このＲＡＭ型ディ
スク８０の構造を示す要部断面図である。
【００８０】このＲＡＭ型ディスク８０は、略円盤状を
呈しており、中心部に中心孔が穿設されたディスク基板
８１の主面上に、反射膜８２と、記録膜８３と、保護膜
８４とが順次積層された構造を有している。
【００８１】そして、このＲＡＭ型ディスク８０では、
光ディスク装置により情報信号の記録再生が行われる際
に、光ディスク装置に搭載された光学ピックアップの対
物レンズによりレーザービームＬが集光され、この集光
されたレーザービームＬが保護膜８４側から照射され
る。これにより、対物レンズの高ＮＡ化に対応すること
が可能となっている。
【００８２】このＲＡＭ型ディスク８０において、ディ
スク基板８１は、例えば射出成形されたポリカーボネー
ト（ＰＣ）や、ポリメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料からな
る。また、ディスク基板８１の材料としては、ガラスや
金属、圧縮成形された紙等を用いることができる。
【００８３】また、このディスク基板３０は、支持体と
して十分な強度を有し、且つ、経済的に有利となる、例
えば０．１〜１．１ｍｍ程度の厚みとする。
【００８４】反射膜８２は、例えばＡｌ，Ａｇ，Ａｕ，
Ｃｕ，Ｐｔ等の金属材料や誘電材料等からなり、蒸着法
やスパッタリング法等の薄膜形成技術によりディスク基
板８１上に成膜されている。また、この反射膜８２は、
予めシート状に成形しておき、ディスク基板８１上に接
着剤等により貼り付けたものであってもよい。
【００８５】また、この反射膜８２は、経済的に有利と
なり、且つ、反射膜としての機能を十分満足する、例え
ば０．０５〜１０μｍ程度の厚みとする。
【００８６】そして、この反射膜８２には、図９及び図
１０に示すように、案内溝であるグルーブ８５がトラッ
ク毎に所定のトラックピッチにてスパイラル状又は同心
円状に形成されている。なお、図１０は、ディスク基板
８１上に反射膜８３が形成された状態を示す断面斜視図
である。
【００８７】なお、グルーブ８５としては、ストレート
グルーブの他に、所定の周期で蛇行（ウォブリング）す
るように形成したウォブリンググルーブを挙げることが
できる。
【００８８】ここで、本手法では、上述した図３に示す
プレス機１０及び図４に示すプレス機３０を用いて、反
射膜８２が成膜されたディスク基板８１に対してプレス
成形を行うことにより、当該反射膜８２に上記グルーブ
８５を形成する。
【００８９】これにより、ディスク基板８１上に成膜さ
れた反射膜８２に対して、上記グルーブ８５を精度良
く、しかも容易に形成することができる。また、プレス
機３０を用いて、ディスク基板８１上に成膜された反射
膜８２に対して連続的にプレス成形を行えば、生産性を
大幅に向上させることができる。
【００９０】また、本手法では、上述した図５に示すプ
レス機４０及び図６に示すプレス機６０を用いて、シー
ト状の反射膜８２に対してプレス成形を行うことによ
り、当該シート状の反射膜８２に上記グルーブ８５を形
成し、このグルーブ８５が形成されたシート状の反射膜
８２をディスク基板８１上に接着剤等により貼り付けて
もよい。
【００９１】これにより、ディスク基板８１上に貼り付
けられたシート状の反射膜８２に、上記グルーブ５を精
度良く、しかも容易に形成することができる。また、こ
れらプレス機４０，６０を用いて、シート状の反射膜８
２に対して連続的にプレス成形を行えば、生産性を大幅
に向上させることができる。
【００９２】ＲＡＭ型ディスク８０において、記録膜８
３は、例えば光磁気ディスクの場合、ＳｉＮ等からなる
透明な誘電体膜と、ＴｂＦｅＣｏ等の磁性材料からなる
磁性記録膜と、ＳｉＮ等からなる透明な誘電体膜とが、
スパッタリング等により順次積層された構造を有してい
る。この場合、対物レンズにより集光されたレーザービ
ームＬが保護膜８４側から記録膜８３に照射されると、
この記録膜８３の局所的にキュリー温度以上に加熱され
た部分に、磁気ヘッドを用いて記録情報に応じて変調さ
れた外部磁界を印加する。これにより、情報信号の記録
又は消去が行われ、カー（Ｋｅｒｒ）効果による磁化方
向に応じた光の反射率変化を検出することにより情報信
号の再生が行われる。
【００９３】一方、記録膜８３は、例えば相変化型ディ
スクの場合、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等からなる透明な誘電体
膜と、ＧｅＳｂＴｅ等の相変化材料からなる相変化記録
膜と、ＺｎＳ−ＳｉＯ２等からなる透明な誘電体膜と
が、スパッタリング等により順次積層された構造を有し
ている。この場合、対物レンズにより集光されたレーザ
ービームＬを保護膜８４側から記録膜８３に照射しなが
ら、結晶状態からアモルファス状態といった相変化を生
じさせることにより情報の記録又は消去が行われ、それ
に伴う光の反射率変化を検出することにより情報の再生
が行われる。
【００９４】なお、誘電体膜は、磁性記録膜或いは相変
化記録膜の酸化防止と、多重干渉による光磁気信号のエ
ンハンス効果を図るためのものである。
【００９５】一方、記録膜８３は、例えば追記型ディス
クの場合、シアニン系又はフタロシアニン系等の有機色
素膜が、スパッタリングやスピンコート等により成膜さ
れてなる。この場合、対物レンズにより集光されたレー
ザービームＬを保護膜８４側から記録膜８３に照射しな
がら、この記録膜８３に対して記録パワーにてレーザー
ビームＬが照射された位置に記録マークが形成されるこ
とにより、情報信号の記録が行われ、この記録マークが
形成された記録膜８３に対して再生パワーにてレーザー
ビームＬを照射しながら、記録マークの有無に応じた戻
り光の反射率変化を検出することにより、情報信号の再
生が行われる。
【００９６】保護膜８４は、光透過性を有する樹脂材料
等からなる。具体的に、この保護膜８４は、反射膜８２
上に、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗
布し、この紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化
させることで成膜される。また、この保護膜８４は、予
めシート状に成形しておき、記録膜８３上に接着剤等に
より貼り付けてもよい。
【００９７】また、この保護膜８４は、光学的に良好な
特性を得ることができ、且つ、機械的に記録部分を保護
するために必要となる、例えば１０〜３００μｍ程度の
厚みとする。
【００９８】以上のように構成されるＲＡＭ型ディスク
８０では、対物レンズにより集光されたレーザービーム
Ｌが、ディスク基板８１側からグルーブ５上に形成され
た記録膜８３に照射されることにより、上述した記録膜
８３に応じた情報信号の記録再生が行われる。
【００９９】また、ＲＡＭ型ディスク８０では、反射膜
８２に形成されたグルーブ８５で反射回折されたレーザ
ービームＬから得られるプッシュプル信号に基づいて、
トラッキングサーボがなされる。
【０１００】ところで、このＲＡＭ型ディスク８０で
は、反射膜８３に上述したグルーブ８５が形成されてい
ることから、従来のようなグルーブが形成されたディス
ク基板上に反射膜や記録膜を積層した場合に比べて、そ
の反射膜８３に形成されたグルーブ８５のエッジ部分を
明確にすることができる。そして、この反射膜８３上に
形成された記録膜８４の上記グルーブ８５に対応した形
状も、そのエッジ部分が明確なものとなっている。これ
により、レーザービームＬが保護膜８４側から記録膜８
３に照射される場合でも、このレーザービームＬの反射
率変化が低下するのを防ぐことができる。
【０１０１】したがって、このＲＡＭ型ディスク８０で
は、高記録密度化に対応することができ、レーザービー
ムＬが保護膜４側から照射される場合でも、良好な記録
特性や光学特性等を得ることができ、再生信号及びトラ
ッキングサーボ信号等の品質を大幅に向上させることが
できる。
【０１０２】また、このＲＡＭ型ディスク８０では、反
射膜８３に上記グルーブ８５が形成されており、レーザ
ービームＬが保護膜８４側から照射されることから、デ
ィスク基板８１は、光透過性を有する必要がなく、また
グルーブのない平坦化された略円盤形状を有している。
したがって、このＲＡＭ型ディスク８０では、ディスク
基板８１の材料として、金属や圧縮成形された紙等を使
用することができ、使用後の処理やリサイクル等が容易
なものとなっている。
【０１０３】また、本手法では、反射膜８２に上述した
グルーブ８５をプレス成形により形成することから、こ
の反射膜３にグルーブ８５を容易に形成することがで
き、且つ、このグルーブ８５の形状を高精度に制御する
ことができる。
【０１０４】したがって、本手法によれば、保護膜８４
側からレーザービームＬが照射される場合でも、情報信
号の適切な記録再生が可能な高品質のＲＡＭ型ディスク
８０を容易且つ大量に製造することが可能である。
【０１０５】また、このＲＡＭ型ディスク８０は、図１
１に示すように、反射膜８２に形成されたグルーブ８５
とグルーブ８５との間に形成されたランド８６上の記録
膜８３に対して、保護膜８４側からレーザービームＬが
照射されることにより、情報信号の記録再生が行われ
る、いわゆるランド・グルーブ記録に対応することも可
能である。そして、この場合も、反射膜８２に形成され
たグルーブ８５及びランド８６の形状を高精度に制御す
ることが可能である。
【０１０６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る光記録媒体によれば、保護膜側から光が照射される場
合でも、情報信号の適切な記録及び／又は再生を行うこ
とが可能であり、高記録密度化に対応することが可能で
ある。
【０１０７】また、本発明に係る光記録媒体の製造方法
によれば、保護膜側から光が照射される場合でも、情報
信号の適切な再生が可能な高品質の光記録媒体を容易且
つ大量に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態として示すＲＯＭ型
ディスクの要部断面図である。
【図２】上記ＲＯＭ型ディスクにおいて、ディスク基板
上に反射膜が形成された状態を示す断面斜視図である。
【図３】プレス機の一構成例を示す概略斜視図である。
【図４】プレス機の他の構成例を示す概略斜視図であ
る。
【図５】プレス機の他の構成例を示す概略斜視図であ
る。
【図６】プレス機の他の構成例を示す概略斜視図であ
る。
【図７】上記ＲＯＭ型ディスクにおいて、反射膜のラン
ド上に形成されたエンボスピットに対して、保護膜側か
らレーザービームＬが照射された状態を示す要部断面図
である。
【図８】上記ＲＯＭ型ディスクにおいて、反射膜のラン
ド上にエンボスピットが形成された状態を示す断面斜視
図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態として示すＲＡＭ型
ディスクの要部断面図である。
【図１０】上記ＲＡＭ型ディスクにおいて、ディスク基
板上に反射膜が形成された状態を示す断面斜視図であ
る。
【図１１】上記ＲＡＭ型ディスクにおいて、反射膜のラ
ンド上に形成された記録膜に対して、保護膜側からレー
ザービームＬが照射された状態を示す要部断面図であ
る。
【図１２】従来のＲＯＭ型ディスクにおいて、ディスク
基板側からレーザービームが照射された状態を示す要部
断面図である。
【図１３】上記従来のＲＯＭ型ディスクにおいて、保護
膜側からレーザービームが照射された状態を示す要部断
面図である。
【図１４】従来のＲＡＭ型ディスクにおいて、ディスク
基板側から記録膜にレーザービームが照射された状態を
示す要部断面図である。
【図１５】上記従来のＲＡＭ型ディスクにおいて、保護
膜側から記録膜にレーザービームが照射された状態を示
す要部断面図である。
【図１６】上記従来のＲＡＭ型ディスクにおいて、ディ
スク基板のランド上に形成された記録膜に対して、ディ
スク基板側からレーザービームが照射されたを示す要部
断面図である。
【図１７】上記従来のＲＡＭ型ディスクにおいて、ディ
スク基板のランド上に形成された記録膜に対して、保護
膜側からレーザービームが照射された状態を示す要部断
面図である。
【符号の説明】
１ ＲＯＭ型ディスク、２ ディスク基板、３ 反射
膜、４ 保護膜、５ グルーブ、６ エンボスピット、
７ ランド、１０，３０，４０，６０ プレス機、８０
ＲＡＭ型ディスク、８１ ディスク基板、８２ 反射
膜、８３ 記録膜、８４ 保護膜

Claims (31)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に、少なくとも反射膜と、保護膜
    とが順次積層されてなり、上記保護膜側から光が照射さ
    れることにより、情報信号の再生がなされる光記録媒体
    であって、 上記反射膜には、上記情報信号に応じたエンボスピット
    がトラックに沿って形成されていることを特徴とする光
    記録媒体。
  2. 【請求項２】 上記エンボスピットは、上記反射膜がプ
    レス成形されることにより形成されていることを特徴と
    する請求項１記載の光記録媒体。
  3. 【請求項３】 上記反射膜には、案内溝であるグルーブ
    がトラックに沿って形成されていることを特徴とする請
    求項１記載の光記録媒体。
  4. 【請求項４】 上記グルーブは、上記反射膜がプレス成
    形されることにより形成されていることを特徴とする請
    求項３記載の光記録媒体。
  5. 【請求項５】 上記基板は、プラスチック材料、金属又
    は紙からなることを特徴とする請求項１記載の光記録媒
    体。
  6. 【請求項６】 上記基板の厚みが、０．１〜１．１ｍｍ
    であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
  7. 【請求項７】 上記反射膜の厚みが、０．０５〜１０μ
    ｍであることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
  8. 【請求項８】 上記保護膜の厚みが、１０〜３００μｍ
    であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
  9. 【請求項９】 基板上に、少なくとも反射膜と、記録膜
    と、保護膜とが順次積層されてなり、上記保護膜側から
    光が照射されることにより、情報信号の記録及び／又は
    再生がなされる光記録媒体であって、 上記反射膜には、案内溝であるグルーブがトラックに沿
    って形成されていることを特徴とする光記録媒体。
  10. 【請求項１０】 上記グルーブは、上記反射膜がプレス
    成形されることにより形成されていることを特徴とする
    請求項９記載の光記録媒体。
  11. 【請求項１１】 上記基板は、プラスチック材料、金属
    又は紙からなることを特徴とする請求項９記載の光記録
    媒体。
  12. 【請求項１２】 上記基板の厚みが、０．１〜１．１ｍ
    ｍであることを特徴とする請求項９記載の光記録媒体。
  13. 【請求項１３】 上記反射膜の厚みが、０．０５〜１０
    μｍであることを特徴とする請求項９記載の光記録媒
    体。
  14. 【請求項１４】 上記保護膜の厚みが、１０〜３００μ
    ｍであることを特徴とする請求項９記載の光記録媒体。
  15. 【請求項１５】 基板上に、少なくとも反射膜と、保護
    膜とが順次積層されてなり、上記保護膜側から光が照射
    されることにより、情報信号の再生がなされる光記録媒
    体の製造方法であって、 上記反射膜を形成する際に、プレス成形により上記情報
    信号に応じたエンボスピットを形成することを特徴とす
    る光記録媒体の製造方法。
  16. 【請求項１６】 上記基板上に反射膜を成膜し、この反
    射膜が成膜された基板に対してプレス成形を行うことに
    より、当該反射膜に上記エンボスピットを形成すること
    を特徴とする請求項１５記載の光記録媒体の製造方法。
  17. 【請求項１７】 シート状の反射膜に対してプレス成形
    を行うことにより、当該シート状の反射膜に上記エンボ
    スピットを形成し、このエンボスピットが形成されたシ
    ート状の反射膜を上記基板上に貼り付けることを特徴と
    する請求項１５記載の光記録媒体の製造方法。
  18. 【請求項１８】 上記反射膜を形成する際に、プレス成
    形により案内溝であるグルーブをトラックに沿って形成
    することを特徴とする請求項１５記載の光記録媒体の製
    造方法。
  19. 【請求項１９】 上記基板上に反射膜を成膜し、この反
    射膜が成膜された基板に対してプレス成形を行うことに
    より、当該反射膜に上記グルーブを形成することを特徴
    とする請求項１８記載の光記録媒体の製造方法。
  20. 【請求項２０】 シート状の反射膜に対してプレス成形
    を行うことにより、当該シート状の反射膜に上記グルー
    ブを形成し、このグルーブが形成されたシート状の反射
    膜を上記基板上に貼り付けることを特徴とする請求項１
    ８記載の光記録媒体の製造方法。
  21. 【請求項２１】 上記基板の材料として、プラスチック
    材料、金属又は紙を用いることを特徴とする請求項１５
    記載の光記録媒体の製造方法。
  22. 【請求項２２】 上記基板の厚みを、０．１〜１．１ｍ
    ｍとすることを特徴とする請求項１５記載の光記録媒体
    の製造方法。
  23. 【請求項２３】 上記反射膜の厚みを、０．０５〜１０
    μｍとすることを特徴とする請求項１５記載の光記録媒
    体の製造方法。
  24. 【請求項２４】 上記保護膜の厚みを、１０〜３００μ
    ｍとすることを特徴とする請求項１５記載の光記録媒体
    の製造方法。
  25. 【請求項２５】 基板上に、少なくとも反射膜と、記録
    膜と、保護膜とが順次積層されてなり、上記保護膜側か
    ら光が照射されることにより、情報信号の記録及び／又
    は再生がなされる光記録媒体の製造方法であって、 上記反射膜を形成する際に、プレス成形により案内溝で
    あるグルーブをトラックに沿って形成することを特徴と
    する光記録媒体の製造方法。
  26. 【請求項２６】 上記基板上に反射膜を成膜し、この反
    射膜が成膜された基板に対してプレス成形を行うことに
    より、当該反射膜に上記グルーブを形成することを特徴
    とする請求項２５記載の光記録媒体の製造方法。
  27. 【請求項２７】 シート状の反射膜に対してプレス成形
    を行うことにより、当該シート状の反射膜に上記グルー
    ブを形成し、このグルーブが形成されたシート状の反射
    膜を上記基板上に貼り付けることを特徴とする請求項２
    ５記載の光記録媒体の製造方法。
  28. 【請求項２８】 上記基板の材料として、プラスチック
    材料、金属又は紙を用いることを特徴とする請求項２５
    記載の光記録媒体の製造方法。
  29. 【請求項２９】 上記基板の厚みを、０．１〜１．１ｍ
    ｍとすることを特徴とする請求項２５記載の光記録媒体
    の製造方法。
  30. 【請求項３０】 上記反射膜の厚みを、０．０５〜１０
    μｍとすることを特徴とする請求項２５記載の光記録媒
    体の製造方法。
  31. 【請求項３１】 上記保護膜の厚みを、１０〜３００μ
    ｍとすることを特徴とする請求項２５記載の光記録媒体
    の製造方法。
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