JP2005196967A - 情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第1の保護膜とを具備する情報記録媒体である。前記第1の保護膜の最表面を構成する第1の表面と、この第1の表面に対向する第2の表面との2つの面により前記情報記録媒体の表面が構成され、前記第1の表面を光照射面として、この光照射面に光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生し、前記基板の記録面と前記光照射面との間の距離は、前記基板の厚さより小さく、前記光照射面の表面の粗さは、λ/(8n)以下(λは前記光ビームの波長であり、nは前記波長λの光の前記第1の保護膜の光屈折率である)であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
また、基板を貼り合わせる際には接着剤等が必要となるのみならず、製造プロセスも煩雑となってしまう。
そこで本発明は、さらに記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情報記録媒体を提供することを目的とする。また本発明は、こうした情報記録媒体に用いられる樹脂基板の製造方法を提供することを目的とする。
図1に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
こうした反射膜3の上に配置される保護膜4は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成することができる。この保護層4は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により反射膜3の表面に塗布して樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成される。このオーバーコート保護膜4の膜厚としては、実用上、数μm〜数mmの範囲で、0.6mm以下であることが好ましく、0.0001〜0.1mmの範囲であることがより好ましい。また、反射膜3との光干渉を生じない膜厚であることが望まれる。
本実施例の光ディスクに用いられる1.2mm厚ディスク基板1は、従来のCD、DVDの製造で採用されている射出成形法により作製することができる。例えば、予め情報が記録されたマスター盤を射出成形機の一方の金型側にセットし、完成後の基板厚さが1.2mmとなるように2つの金型の空間を設定することによって、1.2mm厚ディスク基板1が作製される。
まず、ディスクの記録面をA面とすると、従来のマスタリングでA面用のスタンパーを作製し、このA面用のスタンパー7の中央に精度よく中心穴8を形成する。金型9の一方の面の中央部には、A面用スタンパー7の中心穴8に対応した穴径精度の突起10を設けておく。
従来の光ディスクでは、基板側から光ビームを入射して記録情報を再生していたため、基板は、再生に使用される光ビームの波長を透過する必要があったが、本発明では保護膜側から再生するため、基板は必ずしも透明でなくともよい。このように保護膜側から光ビームが照射されるので、基板の複屈折も問題とならない。そのため、基板材料としては、耐環境性、耐熱性、および加工性に優れた材料であれば特に限定されず、例えば、ABS樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂等、より安価な材料を使用することが可能である。
図5に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
こうして形成された記録面上に反射膜3を形成するに当たっては、例えば、反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法で成膜する方法が用いられる。ディスクの両側に蒸着源またはスパッタターゲット材を対向して配置し、対向蒸着または対向スパッタすることによって、2つの記録面上に同時に反射膜を成膜することができる。あるいは、一方の記録面をマスク材でマスクして、片面ずつ順次反射膜を成膜することもできる。
図7に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
図8に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
また、両面の保護膜4,24の両面上にさらに保護膜18,19をそれぞれ配設しているのでディスク両面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り扱い上の傷等を防止することが可能となった。
前述の実施例4では、ディスクの両面の第2の保護膜18と19との膜厚を同じとしたが、ディスクの上下面に設けられる保護膜18と19との膜厚を異なる厚さとすることも可能である。
前述の実施例5では、ディスクの両面の第2の保護膜18と19との膜厚を異なる厚さとしたが、この場合さらに、基板12の厚さを調整することで、ディスク全体の厚さを1.2mmとすることができる。
図9には、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
図10に、本実施例の光ディスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。
前述の実施例7で説明したような図9に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜4の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例3で説明したような図7に示されるものと同様の構成とすることもできる。
前述の実施例8で説明したような図10に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜4,39の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例4で説明したような図8に示されるものと同様の構成とすることもできる。
前述の実施例1〜10で説明した光ディスクにおいて、ディスクの表面のうち、光ビームが照射されて情報の記録再生に使用される側の面は、いずれも平滑な面とする。ディスクの表面が平滑であればゴミがあっても付着しにくく、ゴミの付着防止の効果を得ることができる。またディスクの表面が平滑であれば、対物レンズのディスクへの接触を防止するという効果も得られる。
4,24…保護膜; 5,20…光ビーム; 6,21…対物レンズ
7…スタンパー; 7a…A面用スタンパー; 7b…B面用スタンパー
8,14…中心穴; 9,11,15…金型; 10,16,17…突起
12…樹脂導入口; 13…両面光ディスク基板; 18,19…第2の保護膜
25…片面光ディスク基板; 26,34…トラッキング用案内溝
27,35…反射膜; 28,36…下保護膜; 29,37…記録膜
30,38…上保護膜; 31…両面光ディスク基板; 32…光ビーム
33…対物レンズ; 39…オーバーコート保護膜。
Claims (3)
- エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第1の保護膜とを具備する情報記録媒体であって、
前記第1の保護膜の最表面を構成する第1の表面と、この第1の表面に対向する第2の表面との2つの面により前記情報記録媒体の表面が構成され、前記第1の表面を光照射面として、この光照射面に光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生し、前記基板の記録面と前記光照射面との間の距離は、前記基板の厚さより小さく、前記光照射面の表面の粗さは、λ/(8n)以下(λは前記光ビームの波長であり、nは前記波長λの光の前記第1の保護膜の光屈折率である)であることを特徴とする情報記録媒体。 - エンボスピットまたは案内溝が設けられ、対向する記録面を有する基板と、
この基板の前記記録面にそれぞれ形成された一対の反射膜と、
この反射膜の上にそれぞれ形成された一対の第1の保護膜と、
最表面をそれぞれ構成する一対の光照射面とを具備する情報記録媒体であって、
前記一対の光照射面に光ビームを照射して、その反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生し、前記情報記録媒体の前記光照射面の一方と他方との間の距離は1.2mm以下であり、前記基板の記録面と前記光照射面との間の距離は、前記基板の厚さより小さく、前記一対の光照射面の表面の粗さは、λ/(8n)以下(λは前記光ビームの波長であり、nは前記波長λの光の前記第1の保護膜の光屈折率である)であることを特徴とする情報記録媒体。 - エンボスピットまたは案内溝が設けられた第1の記録面と、前記第1の記録面に対向し、エンボスピットまたは案内溝が設けられた第2の記録面とを有する樹脂基板の製造方法であって、
第1の金型に、第1の記録面を形成するための第1のスタンパー盤を装着する工程、
第2の金型に、第2の記録面を形成するための第2のスタンパー盤を装着する工程、
前記第1金型と前記第2の金型との間に間隙を維持して配置し、前記第1のスタンパー盤と前記第2のスタンパー盤とを対向させる工程、
前記第1の金型と前記第2の金型との間に形成された間隙に、加熱流動した樹脂材料を充填する工程、
前記第1の金型と第2の金型とを近接させて、これらの間の間隔を所定の距離にする工程、および
前記第1の金型と第2の金型との間に充填された樹脂材料を冷却固化させることにより、厚さ1.2mm以下の両面基板を射出成形する工程を具備する樹脂基板の製造方法。
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JP2012208987A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Tdk Corp | 光記録媒体、光記録媒体の製造方法、光記録方法 |
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2005
- 2005-03-29 JP JP2005096382A patent/JP2005196967A/ja active Pending
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