CN1460256A - 光学记录介质及其生产方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种光学记录介质(1)，该光学记录介质被配置成在一基片(2)上连续地层叠至少一反射膜(3)和一保护膜(4)，并且光从保护膜(4)一侧进行照射，从而实现信息信号的再现，其中在反射膜(3)处沿轨迹形成凹槽(5)或相应于信息信号的压印凹痕(6)。

Description

光学记录介质及其生产方法
技术领域
本发明涉及一种光学记录介质，其中光从层压在一基片上的叠层薄膜的最上层上形成的保护膜一侧照射，以便实现信息信号的记录和/或再现。
背景技术
作为光学记录介质，有专用于再现的ROM(只读存储器)型光盘，其中预先在光盘基片上形成相应于信息信号的压印凹痕(下面称之为ROM型光盘)；和RAM(随机存取存储器)型光盘，其中在形成于光盘基片上的记录薄膜处记录信号，并且可以在需要时进行信号的再现、附加写入或重新写入操作(下面称之为RAM型光盘)。
同时，在这些光盘中，改进了安装于记录/再现装置上的光拾取装置的再现分辨率，从而获得高记录密度。在更实际的意义上，实现了缩短照射在光盘上的激光束的波长λ，或者增大物镜的数值孔径NA，以便减小照射在光盘上的激光束的光斑直径的方法。
不过，在增大物镜NA的情况下，必须使光盘基片的厚度进一步变薄。这是因为光盘表面相对于光拾取装置光轴的垂直偏移的角度(倾斜角)的容限变小，并且该倾斜角易于受到基于光盘基片厚度的象差或双折射的影响。即，在该光盘中，为了适应实现物镜的高NA，必须使光盘基片的厚度变薄，以便使倾斜角尽可能小。
例如，在数字声盘中，要使光盘基片的厚度为大约1.2mm。相反，在记录容量比数字声盘大6至8倍的DVD(数字通用盘)中，要使该光盘基片的厚度为大约0.6mm。
不过在这种光盘中，相信未来要求实现更高的记录密度，并且相信需要实现更薄的光盘基片。
鉴于上面所述，作为适应实现高记录密度的光学记录介质，提出了一种光盘，其中光从层压在光盘基片上的叠层的最上层上形成的保护膜一侧照射，以便实现信息信号的记录和/或再现。在这种光盘中，要使保护膜为薄膜结构，使其可能适应实现物镜的更高NA。
同时，上述光盘中的ROM型光盘，具有如图1所示的结构，其中在光盘基片100上顺序层叠反射膜101和保护膜102，预先形成相应于信息信号的压印凹痕。
在这种ROM型光盘中，当由物镜会聚的激光束L从光盘基片100一侧进行照射时，在压印凹痕处发生的光的干涉，改变了反射膜101处反射的激光束L的反射系数。另外，探测激光束L的该反射系数的改变，结果，实现了信息信号的再现。
不过，在ROM型光盘中，如图2所示，当由物镜会聚的激光束L从保护层102一侧照射时，在反射膜101处形成相应于压印凹痕的反射表面，而该反射表面的形状不同于在光盘基片100上形成的压印凹痕。由此，可降低激光束L的反射系数的改变。即，由于在该反射膜101处更加平缓地形成了相应于压印凹痕的反射表面，不可能使其边缘部分清晰，其导致当激光束L从保护膜102一侧照射时其反射系数改变的降低。
具体说来，在与光盘基片100上形成的压印凹痕相比，反射膜101的膜层厚度足够厚的情况下，很难进行控制，来使相应于该反射膜101的压印凹痕的形状产生相应于光盘基片100上所形成的压印凹痕的形状。
由于这个原因，在传统的ROM型光盘中，存在当由物镜会聚的激光束L从保护膜102一侧照射时，不能获得令人满意的光学特性，即令人满意的再现输出的问题。
另一方面，可写入RAM型光盘具有如图3所示的结构，其中在光盘基片200上顺序层叠一记录膜201，一反射膜202和一保护膜203，其中沿轨迹方向形成凹槽200a。另外，在这种RAM型光盘中，由物镜会聚的激光束L从光盘基片200一侧照射到形成在凹槽200a上的记录膜201上，结果，实现信息信号的记录/再现。
同时，在由物镜会聚的激光束L从保护膜203一侧照射的情况下，RAM型光盘具有如图4所示的结构，依次在沿轨迹方向形成有凹槽200a的光盘基片200上层叠有反射膜202，记录膜201和保护膜203。
在这种情形中，与上述ROM型光盘相似，在反射膜202处形成相应于凹槽200a的反射表面，而该反射表面的形状与光盘基片200上形成的凹槽200a不同。即，由于在反射膜202处平缓地形成相应于凹槽200a的反射表面，故难以使其边缘部分清晰。因此，相应于该反射膜202上所形成的记录膜201的凹槽200a的形状，也将产生不同于光盘基片200上所形成的凹槽200a的形状。
实际上，由于记录膜201的膜层厚度等于大约几十到几百nm，故相应于该记录膜201的凹槽200a的形状将产生愈加不同于光盘基片200上所形成的凹槽200a的形状。
由于这个原因，在传统的RAM型光盘中，存在着当由物镜会聚的激光束L从保护膜203一侧照射到记录膜201上时，不能获得令人满意的记录特性和/或光学特性等的问题。
而且，在RAM型光盘中，如图5所示，有一种所谓的平台凹槽的记录系统，使得由物镜会聚的激光束L从光盘基片200一侧照射在凹槽200a上的记录膜201上，以及相邻凹槽200a之间形成的平台200b上的记录膜201上，从而实现信息信号的记录/再现。
不过，还是在这种情形中，如图6所示，当由物镜会聚的激光束L从保护膜203一侧进行照射时，相应于记录膜201处所形成的平台200b的形状，产生了不同于光盘基片200上所形成的平台200b的形状。由此，很难获得令人满意的记录特性和/或光学特性等。
实际上，在这种情形中，重要的是控制相应于记录膜201的凹槽200a和平台200b的形状，使凹槽200a与平台200b之比具有一一对应的关系。
发明内容
鉴于这种传统情形提出了本发明，且其目的在于提供一种高质量的光学记录介质和一种再现它的方法，以便适应实现高记录密度，即使是在光从保护膜一侧进行照射的情形中，可以实现信息信号的适当记录和/或再现。
为了达到这个目的，本发明涉及一种光学记录介质，其中在一基片上顺序层叠至少一反射膜和一保护膜，从而光从保护膜一侧照射，以便实现信息信号的再现，其中在反射膜处沿轨迹方向形成一些相应于信息信号的压印凹痕。
如上所述，在根据本发明的光学记录介质中，由于在反射膜处沿轨迹方向形成一些相应于信息信号的压印凹痕，故即使是在光从保护膜一侧进行照射的情形中，也可能实现信息信号的适当再现。
注意在该反射膜处，可以与压印凹痕一起，沿轨迹方向形成一些起导向槽(a guide groove)作用的凹槽。
此外，本发明涉及一种光学记录介质，其中在一基片上顺序层叠至少一反射膜、一记录膜和一保护膜，从而光从保护膜一侧照射，以及实现信息信号的记录和/或再现，其中在反射膜处沿轨迹形成一些用作导向槽的凹槽。
如上所述，在根据本发明的光学记录介质中，由于在反射膜处沿轨迹方向形成了用作导向槽的凹槽，并在该反射膜上形成该记录膜，故即使是在光从保护膜一侧照射在记录膜上的情形中，也可能实现信息信号的适当记录和/或再现。
另外，本发明涉及一种生产光学记录介质的方法，其中顺序层叠至少一反射膜和一保护膜，从而光从保护膜一侧照射，以便实现信息信号的再现，其中在形成反射膜时，通过模压形成相应于信息信号的压印凹痕。
如上所述，在根据本发明生产光学记录介质的方法中，有可能相当精确并且很容易地在反射膜处形成相应于信息信号的压印凹痕。从而，即使是在光从保护膜一侧进行照射的情形中，也可能很容易地制造出一种能实现信息信号适当再现的光学记录介质。
注意在形成该反射膜时，可以与压印凹痕一起，通过模压沿轨迹方向形成一些用作导向槽的凹槽。
另外，本发明涉及一种生产光学记录介质的方法，其中在一基片上顺序层叠至少一反射膜，一记录膜和一保护膜，从而光从保护膜一侧照射，以便实现信息信号的记录和/或再现，其中在形成该反射膜时，通过模压沿轨迹方向形成一些用作导向槽的凹槽。
如上所述，在根据本发明的生产光学记录介质的方法中，可能相当精确并且很容易地在反射膜处沿轨迹形成一些用作导向槽的凹槽，并且在其上形成记录膜。因而，即使是在光从保护膜一侧照射在记录膜上的情形中，也可能很容易地制造出可以实现信息信号适当的记录和/或再现的光学记录介质。
从下面将要给出的实施例的描述中，本发明的其它目的和所获得的更加实际的优点将更加明显。
附图的简要说明
图1为基本部分横截面图，表示在传统的ROM型光盘中，激光束从光盘基片一侧进行照射的状态。
图2为基本部分横截面图，表示在传统的ROM型光盘中，激光束从保护膜一侧进行照射的状态。
图3为基本部分横截面图，表示在传统的RAM型光盘中，激光束从光盘基片一侧进行照射的状态。
图4为基本部分横截面图，表示在传统的RAM型光盘中，激光束从保护膜一侧进行照射的状态。
图5为基本部分横截面图，表示在传统的RAM型光盘中，激光束从光盘基片一侧相对光盘基片的平台上所形成的记录膜进行照射的状态。
图6为基本部分横截面图，表示在传统的RAM型光盘中，激光束从保护膜一侧相对光盘基片的平台上所形成的记录膜进行照射的状态。
图7为应用本发明的ROM型光盘的基本部分横截面图。
图8为横截面透视图，表示ROM型光盘中在光盘基片上形成反射膜的状态。
图9为示意性透视图，表示压力机的结构的一个例子。
图10为示意性透视图，表示压力机的结构的另一个例子。
图11为示意性透视图，表示压力机的结构的又一个例子。
图12为示意性透视图，表示压力机的结构的再一个例子。
图13为基本部分横截面图，表示激光束L从保护膜一侧相对ROM型光盘中反射膜的平台上所形成的压印凹痕进行照射的状态。
图14为横截面透视图，表示在ROM型光盘中，在反射膜的平台上形成压印凹痕的状态。
图15为应用本发明的RAM型光盘的基本部分横截面图。
图16为横截面透视图，表示RAM型光盘中在光盘基片上形成反射膜的状态。
图17为基本部分横截面图，表示激光束L从保护膜一侧相对RAM型光盘中反射膜的平台上所形成的记录膜进行照射的状态。
实施本发明的最佳方式
现在将参照附图，在更加实际的意义上描述应用本发明的光学记录介质和其生产方法。
首先，将描述图7中所示应用本发明的专用于再现的ROM(只读存储器)型光盘(下面称之为ROM型光盘)。在这种情形中，图7为表示这种ROM型光盘1结构的基本部分横截面图。
这种ROM型光盘1大体上为圆盘形，具有这样一种结构，其中在中心部分处钻有一中心孔的光盘基片2的主表面上顺序层叠一反射膜3和一保护膜4。
在这种ROM型光盘1中，当由光盘装置进行信息信号的再现时，由安装在该光盘装置上的光拾取装置的物镜对激光束L进行会聚，所会聚的激光束L从保护膜一侧照射。因而，有可能适应实现更高NA的物镜。
在这种ROM型光盘1中，光盘基片2由，例如注塑塑料材料组成，如聚碳酸酯(PC)，聚甲基丙烯酸酯(PMMA)，丙烯酸树脂或环氧树脂等。而且，可以使用满足强度和机械尺度要求的任何材料作为光盘基片2的材料。例如，可以使用玻璃，金属或整体模压的纸等。
另外，使该光盘基片2的厚度为例如大约0.1至1.1mm，具有作为支撑体的足够强度，并且经济有利。
反射膜3由例如金属材料如Al、Ag、Au、Cu、Pt等，或者介电材料等组成，并通过薄膜形成技术如沉积方法或溅射方法等，形成在光盘基片2上。另外，该反射膜3可以是预先将上述材料形成或模压成片形，并通过粘合剂等粘附在光盘基片2上的薄膜。
另外，使该反射膜3的厚度为例如大约0.05至10μm，这是经济有利的，并且足以满足作为反射膜的功能。
此外，在该反射膜3处，如图7和8所示，用作导向槽的凹槽5和由凹槽5上大量压印凹痕6组成的凹痕串(图7中未示出)，被螺旋或同心地形成在预定轨迹间距的每个轨迹上。在这种情形中，图8为横截面透视图，表示在光盘基片2上形成反射膜3的状态。
注意，作为凹槽5，除了直线凹槽以外，还可指出形成摆动的凹槽，以便预定周期摆动。
此外，在这种技术中，使用图9中所示的压力机10相对其上形成有反射膜3的光盘基片2进行模压，从而在反射膜3处形成凹槽5和压印凹痕6。注意，在下面的描述中，在需要时，假定将形成有反射膜3的光盘基片2作为光盘基片20共同进行处理。
该压力机10包括一基座11，其上固定有光盘基片20；以及一设置在该基座11上面的金属模具12。
以与金属模具12相对的方式设置基座11，并且在与该金属模具12相对的表面处形成相当于光盘基片20外形的凹进部分13。另外，使该光盘基片20装配到该凹进部分13中，以便实现相对金属模具12的定位。
另一方面，在金属模具12的与基座11相对的表面处，形成相应于反射膜3的凹槽5和压印凹痕6的不均匀图案(未示出)。而且，金属模具12通过主轴14与液压机械(未示出)相连，且通过该液压机械能够沿图9中箭头A所示方向与基座11相接触，或者远离基座。
在如上所述构成的压力机10中，当光盘基片20以反射膜3与金属模具12相对的方式固定在基座11上时，从上方降下金属模具12，以对于已经定位在该基座11上的光盘基片20，以预定的压力进行模压。
因而，有可能相当精确并且很容易地相对于光盘基片2上形成的反射膜3，形成凹槽5和压印凹痕6。
另外，使用图10中所示的压力机30相对光盘基片20连续地进行模压，从而使之有可能在反射膜3处形成凹槽5和压印凹痕6。
该压力机30包括一基座31；一压力施加辊32，用于移动或支撑压力施加辊32与该基座31之间的光盘基片20；和一传送机构33，用于传送基座31与压力施加辊32之间的光盘基片20。
以与压力施加辊32相对的方式设置基座31，并且在与压力施加辊32相对的平面上移动下面将要描述的传送机构33的传送带36。
压力施加辊32基本上为圆柱形，其中在其外围表面上形成有相应于凹槽5和压印凹痕6的不均匀图案34。而且，装配压力施加辊32，使其通过与其主轴35相连的驱动马达(未示出)，可沿图10中箭头B所示的方向旋转。另外，配置压力施加辊32，使得它通过对其主轴35进行支撑的支撑机构(未示出)，可以相对基座31沿图10中箭头C所示的方向运动。从而，有可能调节对光盘基片20施加的压力。
传送机构33用于沿图10中箭头D所示的方向移动被保持或放置在基座31与压力施加辊32之间细长的传送带36，且光盘基片20以预定的间隔装在该传送带36上。
在如上所述构成的压力机30中，在基座31和压力施加辊32将传送带36放置或保持在其间的同时，通过传送机构33，使装在传送带36上的光盘基片20朝向压力施加辊32传送或移动。这时，在与基座31相接触的位置，沿与传送带36的运动方向相同的方向，同步旋转驱动压力施加辊32，使得在其外围表面上提供的不均匀图案34与以预定间隔装在传送带36上的光盘基片20彼此相对应。另外，该压力施加辊32连续地以预定的压力相对这些光盘基片20进行模压，同时该压力施加辊32依次将光盘基片20放置或保持在压力施加辊32与基座31之间。
从而，有可能相当精确并且很容易地相对形成在光盘基片2上的反射膜3形成凹槽5和压印凹痕6。而且，由于连续地相对光盘基片20进行模压，故可以极大地提高生产率。
另外，在这种技术中，可以使用图11中所示的压力机40连续地相对片形反射膜3进行模压，从而在通过粘合剂等粘附在光盘基片2上的片形反射膜3处形成凹槽5和压印凹痕6，由此形成具有凹槽5和压印凹痕6的片形反射膜3。
该压力机40包括一基座43和一位于该基座43上方的金属模具44，处于通过用于传送用作片形反射膜3的细长反射膜片50的进料辊41，以及一用于缠绕经过模压的反射膜片50的缠绕辊42，沿图11中箭头E所示的方向移动反射膜片50的移动路径中心位置处。
以与金属模具44相对的方式设置基座43，并且反射膜片50在与该金属模具44相对的平面上移动。
另一方面，在金属模具44的与基座43相对的表面上，形成相应于反射膜3的凹槽5和压印凹痕6的不均匀图案45。另外，金属模具44通过主轴46与液压机构(未示出)相连，且被设置成通过该液压机构，可沿图11中箭头F所示的方向与基座43相接触或远离基座43。
在如上所述构成的压力机40中，反射膜片50在基座43与金属模具44之间移动，并从上面的方向降下金属模具44，使得该金属模具44将反射膜片50推动或保持在其与基座43之间。此时，一旦停止反射膜片50的传送操作，同时以预定的压力相对反射膜片50进行模压。另外，当金属模具44离开基座43时，反射膜片50开始第二次移动。金属模具44连续地重复这种升起和下降操作，结果，便以预定的间隔连续地相对反射膜片50进行模压。
因而，有可能相当精确并且很容易地相对片形反射膜3形成凹槽5和压印凹痕6。而且，由于连续地相对片形反射膜3进行模压，故能极大地提高生产率。
另外，使用图12中所示的压力机60连续地相对反射片50进行模压，从而也可能在片形反射膜3处形成凹槽5和压印凹痕6。
这种压力机60包括一基座63和一压力施加辊64，用于将反射膜片50放置或保持在压力施加辊64和该基座63之间，处于通过用于输送反射膜片50的进料辊61和用于缠绕模压过的反射膜片50的缠绕辊62沿图12中箭头G所示的方向移动的反射膜片50传送路径的中间位置。
以与压力施加辊64相对的方式设置基座63，并且在与压力施加辊64相对的平面上移动反射膜片50。
压力施加辊64基本为圆柱形，其中在其外围表面上形成有相当于反射膜3的凹槽5和压印凹痕6的不均匀图案65。而且，配置压力施加辊64，使其通过与其主轴66相连的驱动马达(未示出)可沿图12中箭头H所示的方向旋转。另外，配置压力施加辊64，使其通过对其主轴66进行支撑的支撑机构(未示出)，可相对基座63沿图12中箭头J所示的方向移动。从而，有可能调节施加给反射膜片50的压力。
在如上所述构成的压力机60中，反射膜片50在基座63与压力施加辊64之间移动，且沿与反射膜片50的移动方向相同的方向，以预定的旋转频率旋转驱动压力施加辊64。从而，以预定的间隔连续地相对该反射膜片50进行模压。
因而，有可能相当精确地并且很容易地相对片形反射膜3形成凹槽5和压印凹痕6。而且，由于相对片形反射膜3连续地进行模压，故能极大地提高生产率。
另外，在这种技术中，从以预定间隔形成有凹槽5和压印凹痕6的反射膜片50沿光盘基片2的外形切下片形反射膜3，到通过粘合剂等将所切下的该片形反射膜3粘附在光盘基片2上。
因而，有可能相当精确并且很容易地在粘附在光盘基片2上的片形反射膜3处形成凹槽5和压印凹痕6。
在ROM型光盘1中，保护膜4由具有透光性等的树脂材料等组成。实际上，用旋转涂覆方法通过在反射膜3上涂覆例如紫外固化树脂，用紫外线照射该紫外固化树脂使之固化，而形成该保护膜4。而且，可以预先形成或模制该保护层4，使之成为片形，并且可通过粘合剂等粘附在反射膜3上。
另外，使该保护膜4的厚度为大约10至300μm，能获得令人满意的光学性质，是对记录部分进行机械保护所要求的。
在如上所述构成的ROM型光盘1中，当由物镜会聚的激光束L从保护膜4一侧进行照射时，在反射膜3处所形成的压印凹痕6处发生的光的干涉，改变了该反射膜3处所反射的激光束的反射系数。另外，通过探测激光束L的反射系数改变，可实现信息信号的再现。
另外，在这种ROM型光盘1中，在从反射膜3处所形成的凹槽5处反射和衍射的激光束L获得的推挽信号的基础上执行跟踪伺服。此处，通过由相对轨迹中心对称设置的两个光探测器探测凹槽5处反射和衍射的激光束L，以得到这两个光探测器输出之间的差别，而获得推挽信号。
同时，在这种ROM型光盘1中，由于上述的凹槽5或压印凹痕6是形成在反射膜3处的，故与现有技术中在形成有凹槽或压印凹痕的光盘基片上形成反射膜的情形相比，有可能使反射膜3处形成的凹槽5或压印凹痕6的边缘部分清晰。结果，即使是在从保护膜4一侧照射激光束L的情形中，也可能防止激光束L的反射系数改变的减小。
因此，在这种ROM型光盘1中，有可能适应实现高记录密度。即使是在激光束L从保护膜4一侧照射的情况下，也可能获得令人满意的光学特性。从而，能极大地提高再现信号和跟踪伺服信号等的质量。
另外，在这种ROM型光盘1中，在反射膜3处形成凹槽5或压印凹痕6，并且从保护膜4一侧照射激光束L。由此，不需要光盘基片2具有透光性，并且具有不存在凹槽或压印凹痕的平坦的大体上圆盘形状。因而，在这种ROM型光盘1中，可以使用金属或者整体模压的纸等作为光盘基片2的材料。因此，便于使用和/或回收之后的处理。
另外，在该技术中，由于上述凹槽5或压印凹痕6是通过模压形成在反射膜3处，可以很容易地在该反射膜3处形成凹槽5或压印凹痕6，故有可能高度精确地控制这些凹槽5或压印凹痕6的形状。
因此，根据这种技术，即使是在激光束L从保护膜4一侧进行照射的情形中，也可能很容易并且大量地制造高质量ROM型光盘1，其中可以进行信息信号的适当再现。
此外，如图13和14所示，这种ROM型光盘1也可以适应所谓的平台凹槽记录，其中包含上述大量压印凹痕6的凹痕串(图13中未示出)形成在反射膜3处所形成的相邻凹槽5之间的平台7上，从而激光束L从保护膜4一侧相对于平台7上所形成的压印凹痕6进行照射，以实现信息信号的再现。另外，也是在这种情形中，有可能高度精确地控制反射膜3处形成的压印凹痕6、凹槽5和平台7的形成。
注意，也可以使ROM型光盘1具有这样一种结构，其中在反射膜3处预定轨迹间距的每个轨迹处，仅螺旋地或同心地形成包含上述压印凹痕6的凹痕串。
然后，将描述图15中所示应用本发明的可写入RAM(随机存取存储器)型光盘(下面称之为RAM型光盘)80。在这种情形中，图15是基本部分横截面图，表示这种RAM型光盘80的结构。
该RAM型光盘80大体为圆盘形，且具有这样一种结构，其中在中心部分钻有一个中心孔的光盘基片81的主表面上顺序层叠一反射膜82、一记录膜83和一保护膜84。
另外，在这种RAM型光盘80中，当由光盘装置进行信息信号的记录/再现时，由安装在光盘装置上的光拾取装置的物镜对激光束L进行会聚，且所会聚的激光束L从保护膜84一侧照射。从而，有可能适应实现高NA的物镜。
在这种RAM型光盘80中，光盘基片81由例如注模的塑料材料组成，如聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸酯(PMMA)、丙烯酸树脂或环氧树脂等。而且，可以使用玻璃、金属或整体模压纸等作为光盘基片81的材料。
另外，使该光盘基片30的厚度为例如大约0.1至1.1mm，其作为支撑体具有足够的强度，并且是经济有利的。
反射膜82由例如金属材料，如Al、Ag、Au、Cu、Pt等，或介电材料等组成，并且通过诸如沉积方法或溅射方法等薄膜形成工艺形成在光盘基片81上。另外，可以预先将该反射膜82成膜或模压成片形，并用粘合剂等将其粘附在光盘基片81上。
另外，使该反射膜82的厚度为例如大约0.05至10μm，是经济有利的，并足以满足作为反射膜的功能。
另外，在该反射膜82处，如图15和16所示，在预定轨迹间隔的每个轨迹处旋转或同心地形成用作导向槽的凹槽85。在这种情形中，图16为横截面透视图，表示在光盘基片81上形成有反射膜83的状态。
应该注意，作为凹槽85可以提及的是，除了直线凹槽以外，形成波动凹槽，使其以预定的周期波动。
此处，在该技术中，使用上面描述的图9中所示的压力机10和图10中所示的压力机30，相对其上形成有反射膜82的光盘基片81进行模压，从而在反射膜82处形成凹槽85。
从而，有可能相当精确并且很容易地相对光盘基片81上形成的反射膜82形成凹槽85。另外，当使用压力机30连续地对光盘基片81上所形成的反射膜82进行模压时，可以极大地提高生产率。
另外，在该技术中，可以使用前面描述的图11中所示的压力机40和图12中所示的压力机60对片形反射膜82进行模压，从而在片形反射膜82处形成凹槽85，通过粘合剂等，将形成有凹槽85的片形反射膜82粘附在光盘基片81上。
因此，有可能相当精确并且很容易地在粘附在光盘基片81上的片形反射膜82处形成凹槽5。另外，当使用这些压力机40、60连续地对片形反射膜82进行模压时，能极大地提高生产率。
在RAM型光盘80中，在例如磁光盘的情形中，记录膜83具有这样一种结构，其中通过溅射等，连续地层叠一由SiN等组成的透明介质膜，一由诸如TbFeCo等磁性材料组成的磁记录膜和一由SiN等组成的透明介质膜。在这种情形中，当由物镜会聚的激光束L从保护膜84一侧照射在记录膜83上时，通过使用磁头，将根据记录信息调制的外磁场施加到被局部加热到高于该记录膜83的居里温度的部分。从而实现信息信号的记录或擦除，并探测由克耳效应导致的相应于磁化方向的光的反射系数改变，从而实现信息信号的再现。
另一方面，在例如相变型光盘的情形中，记录膜83具有这样一种结构，其中通过溅射等连续地层叠一由ZnS-SiO2等组成的透明介质膜，一由诸如GeSbTe等相变材料组成的相变记录膜，和一由ZnS-SiO2等组成的透明介电膜。在这种情形中，通过产生从晶态到非晶态的相变，同时由物镜会聚的激光束L从保护膜84一侧照射记录膜83，实现信息的记录或擦除。通过随后探测光反射系数的改变，实现信息的再现。
注意，介质膜的目的在于防止磁记录膜或相变记录膜的氧化，并通过多重干涉实现磁光信号的增强效果。
另一方面，在例如一次写入型光盘的情形中，采用记录膜83，使得通过溅射或旋转涂覆等，形成诸如菁蓝系或酞菁系的有机染料物质膜。在这种情形中，由记录能量在激光束L照射该记录膜83的位置形成记录标记，同时由物镜会聚的激光束L从保护膜84一侧照射在记录膜83上，从而实现信息信号的记录。由再现能量用激光束L照射形成有该记录标记的记录膜83，通过探测相应于存在或不存在记录标记的返回光的反射系数改变，实现信息信号的再现。
保护膜84由具有透光性等的树脂材料组成。实际上，通过旋转涂覆方法在反射膜82上涂覆例如紫外固化树脂，并将紫外线照射在该紫外固化树脂上使之固化，从而形成该保护膜84。另外，可以采用该保护膜84，使之预先形成或模压成片形，并通过粘合剂等将其粘附在记录膜83上。
另外，使该保护膜84的厚度为例如大约10至300μm，可以获得令人满意的光学性质，是对记录部分进行机械保护所要求的。
在如上所述构成的RAM型光盘80中，由物镜会聚的激光束L从光盘基片81一侧照射在形成于凹槽5上的记录膜83上，从而相应于上述记录膜83实现信息信号的记录/再现。
另外，在RAM型光盘80中，在从反射膜82处所形成的凹槽85处反射和衍射的激光束L所获得的推挽信号的基础上，执行跟踪伺服。
同时，在这种RAM型光盘80中，由于在反射膜82处形成有凹槽85，故与现有技术中在形成有凹槽的光盘基片上层叠反射膜或记录膜的情形相比，有可能使反射膜82处形成的凹槽85的边缘部分清晰。另外，相对于与该反射膜82上形成的记录膜83的凹槽85相应的形状，其边缘部分也是清晰的。从而，即使是在激光束L从保护膜84一侧照射在记录膜83上的情形中，也可能防止激光束L的反射系数改变的降低。
因此，在这种RAM型光盘80中，有可能适应实现高记录密度。即使是在激光束L从保护膜84一侧进行照射的情形中，可也能获得令人满意的记录特性或光学性质等。从而，能极大地提高再现信号和跟踪伺服信号等的质量。
此外，在这种RAM型光盘80中，由于凹槽85形成在反射膜82处，并从保护膜84一侧照射激光束L，故不需要光盘基片81具有透光性，且光盘基片具有不存在凹槽的平坦的大体上圆盘形状。因此，在这种RAM型光盘80中，可以使用金属或整体模压纸等作为光盘基片81的材料，便于使用和/或回收之后的处理。
另外，在该技术中，由于通过模压在反射膜82处形成上述凹槽85，故有可能很容易地在反射膜82处形成凹槽85，并且可能高度精确地控制凹槽85的形状。
因此，根据该技术，即使是在激光束L从保护膜84一侧进行照射的情形中，也可能很容易并且大量地制造高质量RAM型光盘80，其可实现信息信号的适当记录/再现。
另外，如图17所示，这种RAM型光盘80也能适用于所谓的平台凹槽记录，其中激光束L从保护膜84一侧照射反射膜82处形成的相邻凹槽85之间所形成的平台86上的记录膜83，从而实现信息信号的记录/再现。另外，也是在这种情形中，有可能高度精确地控制反射膜82处所形成的凹槽85和平台86的形状。
工业适用性
如上所述，根据本发明的光学记录介质，即使是在光从保护膜一侧进行照射的情形中，也可能实现信息信号的适当记录和/或再现。从而，有可能适应实现高记录密度。
另外，根据对本发明光学记录介质进行再现的方法，即使是在光从保护膜一侧进行照射的情形中，也可能很容易并且大量地制造可实现信息信号适当再现的高质量光学记录介质。

Claims (31)

1.一种光学记录介质，其中在一基片上连续地层叠至少一反射膜和一保护膜，并且光从保护膜一侧进行照射，以便实现信息信号的再现，其中在反射膜处沿轨迹方向形成与信息信号相应的压印凹痕。
2.如权利要求1所述的光学记录介质，其中作为对反射膜进行模压的结果，形成该压印凹痕。
3.如权利要求1所述的光学记录介质，其中在反射膜处沿轨迹形成用作导向槽的凹槽。
4.如权利要求3所述的光学记录介质，其中作为对反射膜进行模压的结果，形成凹槽。
5.如权利要求1所述的光学记录介质，其中该基片包括塑料材料，金属或纸。
6.如权利要求1所述的光学记录介质，其中该基片的厚度为0.1至1.1mm。
7.如权利要求1所述的光学记录介质，其中该反射膜的厚度为0.05至10μm。
8.如权利要求1所述的光学记录介质，其中该保护膜的厚度为10至300μm。
9.一种光学记录介质，被配置为使得在一基片上连续地层叠至少一反射膜，一记录膜和一保护膜，并且光从保护膜一侧进行照射，以便实现信息信号的记录和/或再现，其中在反射膜处沿轨迹形成用作导向槽的凹槽。
10.如权利要求9所述的光学记录介质，其中作为对反射膜进行模压的结果，形成凹槽。
11.如权利要求9所述的光学记录介质，其中该基片包括塑料材料，金属或纸。
12.如权利要求9所述的光学记录介质，其中该基片的厚度为0.1至1.1mm。
13.如权利要求9所述的光学记录介质，其中该反射膜的厚度为0.05至10μm。
14.如权利要求9所述的光学记录介质，其中该保护膜的厚度为10至300μm。
15.一种生产光学记录介质的方法，该光学记录介质被配置成在一基片上连续地层叠至少一反射膜和一保护膜，并且光从保护膜一侧进行照射，以便实现信息信号的再现，
其中在形成反射膜时，通过模压形成相应于信息信号的压印凹痕。
16.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中将一反射膜形成在该基片上，以对其上形成有反射膜的该基片进行模压，以便在该反射膜处形成该压印凹痕。
17.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中相对一片形反射膜进行模压，从而在该片形反射膜处形成该压印凹痕，将形成有压印凹痕的该片形反射膜粘附到基片上。
18.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中在形成该反射膜时，通过模压沿轨迹形成用作导向槽的凹槽。
19.如权利要求18所述的生产光学记录介质的方法，其中将一反射膜形成在该基片上，以对其上形成有反射膜的该基片进行模压，从而在该反射膜处形成该凹槽。
20.如权利要求18所述的生产光学记录介质的方法，其中相对一片形反射膜进行模压，从而在该片形反射膜处形成该凹槽，将形成有凹槽的该片形反射膜粘附到基片上。
21.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中将塑料材料、金属或纸用作基片的材料。
22.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中使该基片的厚度为0.1至1.1mm。
23.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中使该反射膜的厚度为0.05至10μm。
24.如权利要求15所述的生产光学记录介质的方法，其中使该保护膜的厚度为10至300μm。
25.一种生产光学记录介质的方法，该光学记录介质被配置成在一基片上连续地层叠至少一反射膜、一记录膜和一保护膜，并且光从保护膜一侧进行照射，从而实现信息信号的记录和/或再现，
其中在形成该反射膜时，通过模压沿轨迹形成用作导向槽的凹槽。
26.如权利要求25所述的生产光学记录介质的方法，其中将一反射膜形成在该基片上，以对其上形成有反射膜的该基片进行模压，从而在该反射膜处形成该凹槽。
27.如权利要求25所述的生产光学记录介质的方法，其中相对一片形反射膜进行模压，从而在该片形反射膜处形成该凹槽，将形成有凹槽的该片形反射膜粘附到基片上。
28.如权利要求25所述的生产光学记录介质的方法，其中将塑料材料、金属或纸用作基片的材料。
29.如权利要求25所述的生产光学记录介质的方法，其中使该基片的厚度为0.1至1.1mm。
30.如权利要求25所述的生产光学记录介质的方法，其中使该反射膜的厚度为0.05至10μm。
31.如权利要求25所述的生产光学记录介质的方法，其中使该保护膜的厚度为10至300μm。
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