CN1224025C - 光盘及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明是提供一种无需深的沟槽或凹坑就可以获得良好的推挽跟踪目标信号的光盘和这种光盘的制作方法。在形成了沟槽的基材。101上形成反射层102以后，用旋转涂敷法涂敷记录层103，将沟槽内部填埋，并且，在基材1记录/再生光入射一侧贴合薄透明基材104。

Description

光盘及其制作方法
技术领域
本发明涉及光盘等光记录媒体及其制作方法，特别是涉及采用有机色素等的可记录的追记型光盘。
背景技术
袖珍激光唱盘(CD)已经普及，光盘作为重要的记录媒介已经占据重要地位，再则，不仅是再生专用，而是可以记录情报的追记型光盘CD-R的普及也日益明显。近年来，更高密度光盘的研究开发十分盛行，比CD密度更高的DVD方案也已提出并正在实用化。在DVD规格中，作为比较便宜的可记录媒体追记型光盘DVD-R倍受青睐。更高密度光盘的研究开发也正在进行中，这种高密度光盘可以高密度记录大量的信号，以满足高性能电视对大容量的需求。
过去，以CD-R为代表的追记型光盘一直采用有机色素为主要成分的记录材料，DVD-R的情况下也大体相同。
下面，以DVD-R为例说明一下现有的追记型光盘的构造。
图2示出现有的追记型光盘的断面构造，我们参照图2予以说明。
图2所示DVD-R盘由第1基材201和第2基材204经粘接层205贴
合而构成。在第1基材201的第1面201C上形成沟槽(groove)201a，第2面201d呈镜面。图2示出沟槽201a的横断面。第1基材201由注射模塑成型形成，第1面201c的形状由冲模(stamper)复印而成。
在第1基材201的第1面201c上叠层形成含有有机色素的记录层202和反射层203，记录层202用旋转涂敷法制成，反射层203用溅射等方法堆积在记录层202上，第1基材201沟槽的内部由涂敷的记录层202填埋，尽管记录层202的衬底(第1面201c)凹凸不平，但是记录层202表面较平坦，因此，在记录层202上堆积形成的反射层203的表面也较平坦。
第2基材204与第1基材201一样也采用注射模塑成型法形成，第2基材204通过粘接层205贴合在叠层形成了记录层202和反射层203的第1基材201上。
用光头上的物镜206将记录再生光聚焦，并从第1基材201的第2面一侧照射到光盘上。更具体的说，记录再生光透过第1基材201照射到沟槽上。
其次，参照图3，说明其他形式的现有例光盘。
图3的光盘用蒸发法代替了旋转涂敷法形成有机色素记录层302。这种光盘中，由于用蒸发法形成记录层302，记录层302表面的形状反映了在第1基材301的第1面301c上形成的沟槽或凹坑等形状，这些形状也反映在反射层303的表面上。在这种光盘中，记录再生光也是从第1基材301的第2面301d一侧照射的。
在上述任何一种光盘情况下，都是记录再生光追随着沟槽进行跟踪目标控制，通常，采用推挽法检测跟踪目标的偏离。推挽法是将从光盘反射出来的光聚集在被与沟槽方向平行的线一分为二的探测器上，把左右探测器检测出的光的强度差作为信号(跟综目标信号)进行检测的方法。这个信号由沟槽里的反射光与沟槽与沟槽间(槽间表面)反射光的位相差产生，当记录再生光的聚焦光点位于沟槽或槽间表面的中心时，信号为0，处于两者之间的情况时，信号为正或负值。设记录再生光的波长为λ，k为0或自然数、当从沟槽与槽间表面来的反射光的位相差绝对值(单位：孤度)为(2k+1)/2时跟踪目标信号的振幅最大。
发明内容
图2所示的现有的光盘由于采用旋转涂敷法形成记录层202，其优点是形成记录层202工序的时间短，但是，由于反射层203的表面大体平坦因而又产生下述不利的情况，如设定基材201的折射率为n1，记录层202的折射率为n2，沟槽深度为d1，沟槽部与非沟槽部间记录层202的表面高差为d2，则通过沟槽部与槽间表面部的反射光的位相差δ为：δ＝4π×((n1-n2)×d1×n2×d2)/λ。
在d2较小，基材201的折射率n1与记录层202的折射率n2之间的差较小时，为得到足够的跟踪目标信号的振幅、必须加深沟槽深度d1，以产生较大位相差。其结果，为了复印深的沟槽或凹坑，在将基材注射模塑成型时，需要将树脂的温度和金属铸膜的温度设高，这样就发生工序时间延长，将已经成形的基材从冲膜里剥离时发生离型困难、很容易产生离型的斑点及云块状缺陷，生产率难于提高。
图3所示光盘情况下，由于用蒸发法形成记录层302，反射层303与基材301的沟槽形状相合形成。结果，位相差δ＝4π×n1×d1/λ、不用加深沟槽深度d1，就可以得到足够的位相差，得到良好的跟踪目标信号振幅，这是它的优点。
然而，由于用蒸发法制备含有有机色素的记录材料膜，速度慢、生产率难于提高。
进一步，无论是那种光盘情况，因为记录再生光是通过形成了沟槽或凹坑的基材入射的，高精度、高再现性制作用来形成沟槽与凹坑的基材201、301就变得十分重要。基材201、301的厚度影响记录密度。一般说，为了提高光盘的记录密度，用于记录/再生的激光的束斑必须减少，为此，必须减短激光的波长，采用具有高NA(Numerical Aperture)值的光学系统。但是NA值一高，因光盘倾斜产生的象差就加大，再生信号就变差。这样为了减少象差，最好使基材201、301的厚度减小。但是，用注射模塑成形法制作基材201、301时，一面要求减薄基材的厚度，一面又要正确的形成沟槽与凹坑的形状是困难的。因此，图2及图3的光盘很难进一步提高记录密度。
充分考虑了上述情况，本发明的目的是提供一种光盘及其制作方法，这种光盘用于跟踪目标时，即使沟槽很浅也可得到良好的信号，同时，它又适合于提高记录密度。
本发明的光盘具有第1基材、在第1基材一个面上形成凹坑，在第1基材形成了凹坑的面上形成叠层结构，上述叠层结构由反射层、记录层和透明材料层组成，反射层设置在第1基材形成了凹坑的面上，记录层形成在反射层上并实质上填埋了上述凹坑，透明材料层覆盖在上述记录层上，并允许记录/再生光透过。
理想的实施方式中，位在第1基材的所述凹坑部底部的记录层的厚度是所述第1基材平坦部分记录层厚度的1.5倍以上。
理想的实施方式中，在所述记录层表面的台阶高差小于所述反射层表面的台阶高差，所述记录层的表面稍许平坦化。
理想的实施方式中，所述记录层用涂敷法形成。
理想的实施方式中，所述记录层由含有色素的记录材料形成。
理想的实施方式中，通过存在于所述反射层上由原子凝聚而成的金属原子聚合体形成的小孔部分，所述记录层与所述第1基材的表面接触。
理想的实施方式中，所述第1基材由能与被记录光照射的记录层发生反应的材料形成。
理想的实施方式中，所述反射层由具有岛状结构的材料形成。
理想的实施方式中，所述透明材料层由放射性硬化树脂形成。
理想的实施方式中，所述透明材料层由热硬化树脂形成。
理想的实施方式中，所述透明材料层包含能使所述记录/再生光透过的第2基材和能使所述第2基材与所述第1基材相对并固定的粘接层、所述第1基材和所述第2基材通过粘接层粘合一起。
理解的实施方式中，所述粘接层由放射性硬化树脂形成。
理想的实施方式中，所述透明材料层包含半透明反射层及另一记录层。
理想的实施方式中，在所述第2记录层上，由沟槽和/或凹坑记录下再生专用信息。
理想的实施方式中，在所述第1衬底与所述粘接层之间形成可使记录/再生光透过的保护膜。
理想的实施方式中，所述透明材料层的厚度小于0.3mm。
理想的实施方式中，所述第1基材的厚度是1.0～1.2mm。
当再生光的波长为λ，所述记录层的折射率为n时，所述凹坑部的深度小于λ/(4×n)。
本发明的光盘制作工序包含如下工序：第1衬底制作工序、第2衬底制作工序、用略透明的粘接剂将所述第1衬底及第2衬底贴合的工序。第1衬底制作工序中又包含：(a)准备具有凹坑部面基材的基材准备工序，(b)在所述基材的所述面上形成反射层的工序，(c)用记录层将所述凹坑部的内部实质上填埋的工序。
理想的实施方式中，位于所述基材凹坑部底部的所述记录层厚度是位于所述基材的平坦部分的所述记录层厚度的1.5倍以上。
理想的实施方式中，上述工序(c)包含用旋转涂敷法在所述反射层上涂敷所述记录层的工序。
理想的实施方式中，上述第2衬底制作工序中包含有在略透明基材的一个面上形成凹坑和/或沟槽的工序以及形成半透明膜的工序。
理想的实施方式中，所述略透明的粘接剂采用放射性硬化树脂。
理想的实施方式中，在所述涂敷工序后，进行在记录层上形成保护膜、并进行贴合的工序。
本发明的其他的光盘制作方法包含以下工序：(a)准备具有凹坑部面的基材的基材准备工序；(b)在基材具有凹坑部的面上形成反射层的工序；(c)用记录层将上述凹坑部内部实质上填埋的工序；(d)大略透明材料涂敷工序；(e)使上述大略透明材料硬化的工序。
理想的实施方式中，在所述反射层表面形成的凹坑部底部的记录层厚度为在所述反射层表面平坦部份记录层厚度的1.5倍以上。
理想的实施方式中，所述工序(c)包含用旋转涂敷法将记录层涂敷在前述反射层上的工序。
理想的实施方式中，在所述工序(c)的记录层涂敷工序后、所述工序(d)的略透明材料涂敷工序前，还包含有形成信息层的工序和形成半透明反射层的工序，信息层是由凹坑或沟槽记录信息的。
理想的实施方式中，所述略透明材料由旋转涂敷法涂敷。
所述大略透明材料由放射性硬化树脂形成，在所述大略透明材料硬化工序中，用放射线照射所述略透明材料。
附图说明
图1A是显示本发明光盘制作实施方式的剖面图。
图1B是显示本发明实施方式1的光盘沟槽部的放大图。
图2是显示现有光盘结构的剖面图。
图3是显示其他现有光盘结构的剖面图。
图4(a)～(i)是表示实施方式1光盘制作过程的剖面图。
图5是显示本发明光盘第2实施方式的剖面图。
图6(a)～(j)是显示第2实施方式光盘制作过程的剖面图。
图7(a)～(c)是显示本发明光盘反射层具有的岛状结构图。
符号说明：
101-基材；102-反射层；103-记录层；104-透明基材；105-透明粘接层；106-物镜；201-基材；202-记录层；203-反射层；204-基材；205-粘接层；206-物镜；301-基材；302-记录层；303-反射层；304-基材；305-粘接层；306-物镜；401-基材；402-反射层；403-记录材料；404-记录层；405-基材；406-放射线硬化型树脂；407-透明粘接层；501-基材；502-反射层；503-记录层；504-透明树脂层；505-半透明反射层；506-透明涂敷层；507-物镜；601-基材；602-反射层；603-记录材料；604-记录层；605-基材；606-放射线硬化型树脂；607-半透明反射层；608-透明涂敷层。
具体实施方式
以下参照附图，说明本发明的实施方式。
实施方式1
图1A是显示本发明光盘的实施方式1的剖面图，图1A中仅仅显示出光盘旋转中心轴(1点划线)右侧的部分。
本实施方式的光盘，具备有第1基材101和在第1基材101第1面101c上设置的叠层结构，为了跟踪目标，在第1基材101的101C面(第1面)上形成螺旋状或者同心圆状的沟槽(凹槽，recess)101a。在图示的例中，第1基材101的第1面101c上形成了沟槽，而第二面(与第1面相反的一侧)101d是平坦的，在第1面101c上，在沟槽以外的地方也可以形成凹坑。
第1基材101是由聚碳酸脂材料用注射模塑成形法形成的圆盘状衬底，第1基材101的沟槽101a是在注射模塑成形时由模具复印而成的。
由于第1基材101不需要透过记录再生光，所以第1基材101没必要是透明的。此外，既使在光盘装置采用高NA值(例如0.8以上)光学系统的情况下，第1基材101的厚度也无须减薄。在本实施方式中第1基材101的厚度是任意的，例如是0.6～1.2mm。
上述叠层结构具有反射层102、在反射层102上形成的记录层103和覆盖在记录层103上的透明部材料110。
反射层102由金属形成，反射层102的厚度是5～60nm，沟槽101a的内外大体一样。光盘断面上反射层102具有的形状反映出第1基材101第1面101c的凹凸形状。如后面详述的那样，反射层102没有必要形成完全连续的一样的模，理想的实施方式中，由原子凝聚而成的金属粒子聚合体形成，是多孔的。
记录层103由具有有机色素的记录材料膜构成，实质上填埋基材101的沟槽101a的内部。记录材料是含有花青(Cyanine)、酞花菁(Phthalocyanine)系色素的材料，用旋转涂敷法等将记录层103涂敷到第1基材101的第1面101c上，形成记录层103时就实质上填埋了沟槽101a的内部，与此同时，在沟槽与沟槽之间的部分(平坦部)101b上也形成较薄的一层，在平坦部101b处记录层103的厚度要尽量的薄。
图1B是将记录层103的剖面更详细显示出来的放大图。图1B中，以t1表示在沟槽101a处记录层103的厚度，t2表示在平坦部101b处的厚度。在本实施方式中，为使沟槽101a的内部实质上被记录层103填埋，t1是t2的1.5倍以上。例如，沟槽的深度d1是32nm左右时，t1就是40nm左右，t2是10nm左右。此外，由于实际的沟槽宽度为0.1～0.3μm左右，所以本说明书各图面表示的沟槽深度与沟槽宽度的关系并不是现实关系的正确表达。
再一次参照图1A。
透明部材料110由可透过记录/再生光的透明材料形成，在图1A的例子中由透明基材104和透明粘接层105构成，透明粘接层105将透明基材104粘接在第1基材101上，使两基材紧密粘合。透明粘接层105也可以不只是一层，只要是透明媒质也可采用多层结构。此外，代替用注射模塑成型法另外制作透明基材104并将其粘合的方法，也可以在基材101上形成厚的放射性硬化树脂层，由它形成透明部材料110。
透明粘接层105的厚度是5～50μm左右，透明基材104的厚度是0.1～0.3mm左右。考虑到这些数值，就可以明白图1A中所示的沟槽101a的深度、宽度与其他构成要素的尺寸相比大大的夸张了。
用户对本实施方式的光盘记录信息时，记录光通过光盘装置的物镜106照射到记录层103上。记录光给记录层103以热能，改变记录层103的光学特性(例如，因有机色素引起光吸收率变化)。另一方面，当记录在光盘中的信息再生时，再生光通过光盘装置的物镜106照射到记录层103上，再生光用来检测记录层103不同地方不同光学特性的差异，再生光的光输出比记录光要小，由检测再生光的反射率能够使信息再生。
本实施方式的光盘中，记录再生光照射到记录层103上时，记录再生光并不是通过表面上形成了沟槽、凹坑的第1基材101，而是通过粘合在第1基材101上的透明基材104照射到记录层103上。
此外，光盘的沟槽和沟槽间表面通常由其对记录再生时光头(物镜)相对配置关系决定。图1A的光盘中，与物镜106相对近的部分称为沟槽，相对远的地方称为槽间表面。就是说，与图2、图3的光盘相比，在图1A的光盘中，沟槽与槽间表面反转了。按照这样的定义，本实施方式的光盘称为“槽间表面记录型光盘”。而且，在本说明书中，为了简化，对严格讲应称为槽间表面的凹坑部也称为沟槽。但是，为避免混乱，有时也将被记录层103填埋的沟槽101a称作凹坑部(recess)。
当记录再生光波长为λ，记录层103的折射率为n2时，第1基材101沟槽101a的深度d1＝λ(8×n2)时最好。具体的说，如果波长是650nm的红色激光，约d1＝50nm时就可以得到足够的推挽跟踪目标信号，如果是波长405nm的兰色激光，约d1＝35nm时就可以得到足够的推挽跟踪目标信号。
此外，对沟槽深度d1，并不仅仅是从跟踪目标信号特性的观点考虑，也要考虑记录信号再生时能得到良好的品质，为此，希望设定值比上述值要深。但是，由于在d1＝λ(4×n2)时，推挽跟踪目标信号最小，因此也希望d1的设定值比λ/(4×n2)小。
在本实施方式中，对记录层103记录信息时，接受光能的记录层103与基材101的材料发生化学反应引起性质变化。为引起这样的化学反应，与其让反射层102作为均一膜存在，倒不如在反射层102上部分地方形成小孔，通过小孔使基材101与记录层103连接。在本实施方式中，形成有岛状结构的反射层102。具有这种岛状结构的反射层102可以用蒸发等薄膜淀积技术使金属膜长的很薄时获得。但是，当金属膜太薄时，记录再生光的反射率会降到希望水平以下，再生光的强度就会下降，这是我们不愿看到的。反射层102理想的平均厚度是5～40nm。
图7(a)～(c)示出由真空蒸发形成的Au层在生长过程中各个阶段的形态，它是由透射电子显微镜照片观察制作的俯视图。如图7(a)～(c)所示，金属层薄的时候(例如25nm以下时)，金属层并不是均匀的，而且具有金属粒子凝聚而成的岛状结构，随着金属层厚度增加，金属粒子的尺寸变大，邻接的金属粒子之间相互连接起来，终于形成连续的均匀膜(图7(c))。
即使在由具有上述岛状结构的金属层形成反射层102的情况下，如果将反射层102的平均厚度控制在适当的范围内，就可以得到期望的反射率，在本实施方式中，即使是这种岛状结构的金属也称为金属层或反射层。
在本实施方式中，由于采取了岛状结构反射层，在基材101和记录层103之间实现了部分接触。由于有了这种部份的接触，记录光照射时的发热就能促进基材101的材料与记录层103的化学反应。由于这种化学反应、沟槽的宽度和深度发生变化(沟槽的形状变化)，使再生信号的品质得到改善。
此外，反射层102具有岛状结构时，由于记录光照射时的发热，反射层102的结构也发生变化，光照射部的反射率发生变化，其结果，在记录光照射部，不仅在记录层103上形成标记，反射层102的反射率也发生变化。这样，有利于提高记录标记的检测灵敏度。
在本实施方式中，反射层102的材料用的是金，也可以采用其他金属或合金，例如，AgPdCu等的银合金、Al、Ti、Cr等金属或者合金也可以用作反射层的材料。
在本实施方式中，基材101材料采用了透明的聚碳酸脂，由于基材101没有必要透射再生光，所以，只要是容易形成希望的沟槽或凹坑的材料，即使用不透明部材料制作基材101也可以。另一方面，位于记录再生光入射一侧的透明基材104，只要是可以透过记录再生光的材料，即使是用聚碳酸脂以外的材料制作也可以。
此外，在本实施方式中，透明粘接层105用的是放射线硬化树脂，只要不伤害记录层103的特性，也可以采用热硬化树脂或其他树脂。
其次，参照图4说明一下本实施方式光盘的制作方法。
首先，使用有沟槽、凹坑形状的模子，用注射模塑成形法制作园盘状的基材401(图4(a))。然后在基材401复印了沟槽或凹坑的面上由溅射法堆积金薄膜，形成反射层402(图4(b))。如图4(c)所示，在基材401的内周部分滴下记录材料403后，将基材401高速旋转(例如300～2000rpm)，形成记录层404(图4(d))。涂敷的记录层404填埋了在基材401表面形成的沟槽内部，记录层404的表面大体平坦。
由上述工序，制作出第1衬底。
另一方面，如图4(e)所示，用注射模塑成形法制作出至少有一面呈镜面的第2衬底405(第2基材)，为了减少再生光的象差，第2基材405的厚度要尽量的薄，在本实施方式中第2基材405的厚度最好设定在0.3mm以下(例如：0.1mm)。0.3mm以下薄的第2基材405用注射模塑成型法以外的方法也很容易制作，例如，用厚度小于0.3mm的透明薄片就可以形成第2基材405。
第2基材405的理想厚度因光盘装置用光学系统的NA值而不同。如果，记录再生光的波长为405nm左右、光学系统的NA值在0.85左右时，从减小因光盘倾斜产生的象差的观点考虑第2基材405的厚度最好小于0.2mm，0.1mm左右更好。在本实施方式中，因为不需要形成沟槽、凹坑，第2基材405可以用注射模塑成形法或其它方法高精度制作。
如图4(f)所示，用丙烯系列放射线硬化树脂作为放射性硬化型树脂406滴在第1衬底形成了记录层404面的内周部分上，然后，将第2衬底405叠合在放射线硬化型树脂406上，这时，如果第2衬底405有一面不是镜面时，需要将非镜面那一面对着第一衬底将二者叠合起来。
然后，如图4(g)所示，高速旋转第1基材401形成均匀的放射线硬化树脂层406。其次，如图4(h)所示，用紫外线灯照射放射线硬化型树脂406使它硬化，形成透明粘接层407，这样，如图4(i)所示，在第2基材405一侧就作成了可记录再生的光盘。
在制作第2基材405时，在第2基材405的单面上也可以形成复印了凹坑等的信息记录层(再生专用层)，这种情况下，如果设置用AgPdCu合金等制作的半透明反射层，就可以得到具有追记型信息记录层和再生专用层两种记录层的双层型光盘。
此外，也可以在形成了记录层404的第1衬底上，用旋转涂敷法均匀涂敷放射线硬化树脂，用紫外线照这些树脂使之硬化，由此形成保护层，然后与第2基材405粘合。如果这样的保护层形成的很厚，就无需与第2基材405粘合也可以得到希望的光盘。
实施方式2
参照图5，说明本发明光盘的实施方式2。
本实施方式中的光盘具有形成了沟槽面(第1面)的第1基材501以及在第1基材501第1面上设置的叠层结构。如图所示的例子中，在第1基材501的第2面上(与第1面相反的一侧)没有形成沟槽、凹坑。
第1基材501是由聚碳酸脂材料用注射模塑成形技术形成的园盘衬底，第1基材501没必要一定透明。
上述叠层结构具有反射层502、在反射层502上形成的记录层503、覆盖记录层503的透明部材料。基材501、反射层502及记录层503都具有与所述实施方式1的基材101、反射层102及记录层103相同的结构。
本实施方式中的透明部材料由可以透过记录/再生光的透明材料形成，在图5的例子中，它具有由放射线硬化树脂层504、用凹坑记录信息的半透明反射层505、记录再生光入射的透明涂敷层506组成的叠层结构。放射线硬化树脂层504的厚度10～30μm，半透明反射层505的厚度是5～20μm，透明涂覆层506的厚度是0.1～0.2mm，为提高再生时读出的精度透明涂覆层506最好薄一些。
采用上述结构，通过物镜507不仅可以在记录层503上追记信息，而且可以再生记录在半透明反射层505上的再生专用信息以及在记录层503上记录的信息。
此外，只要是对记录再生光透明的材料，放射线硬化树脂504以及透明涂履层506也可以由放射线硬化树脂以外的树脂构成，采用多层膜结构也可以。
下面参照图6说明本实施方式光盘的制作方法。
首先，用具有沟槽凹凸形状的模具、采用注射模塑成形技术制作园盘状的第1基材601(图6(a))。然后，在第1基材601复印有沟槽或凹坑的面上，用溅射法堆积金薄膜形成反射层602(图6(b))，如图(6(c))所示在第1基材601的内周部分滴下记录材料603后，高速旋转第1基材601形成记录层604(图6(d))。
由以上工序制作第1衬底。
另一方面，如图6(e)所示，用注射模塑成形法制作出在单面上用凹坑记录下信息的第2衬底(第2基材)605。凹坑的配置反映再生专用的记录信息。
其次，如图6(f)所示，在第1基材形成记录层604那一面的内周里滴下作为放射线硬化树脂606的丙烯系紫外线硬化树脂后，将它与第2基材605叠合，叠合时第2基材605复印有凹坑的面与记录层604相对。而且，在高速旋转第1基材601形成均匀的放射线硬化树脂层后，用紫外线灯照射使之硬化，形成透明粘接层(图6(g))。
再次，如图6(h)所示，剥离第2基材605，在透明粘接层的表面上形成第2基材605的凹坑复印，为使第2基材605容易剥离，需要予先在第2基材605的表面上涂敷易于剥离的材料。
在上述透明粘接层上用溅射法形成金属(例如：AgPdCu合金)半透明反射层607(图6(i))。更进一步，旋转涂敷放射线硬化树脂后，使这些树脂硬化形成厚度为0.05～0.2μm的透明涂敷层608(图6(j))。透明涂敷层608也可以由聚碳酸酯类略透明材料基材形成，略透明材料基材由放射线硬化树脂粘接在第1衬底上。
代替上述方法，也可以在形成了记录层604的第1衬底601上，用旋转涂敷法均匀涂敷放射线硬化树脂、由紫外线照射使它硬化形成保护层后使它与第2基材605贴合。
在上述各实施方式中，都没有谈到在第1基材上形成的沟槽的形状，在光盘上沟槽也可以蛇行(Wobble)那样形成，这时，基于沟槽的蛇行(Wobbling)可以再生时钟信号和地址信息。
采用本发明的光盘，既使在用于目标跟踪的基材的沟槽很浅的情况下，也可以得到良好的推挽目标跟踪信号。再则，沟槽可以浅、而且有沟槽的基材即使很厚也可以提高记录密度，很容易制作适于高记录密度的光盘。

Claims (30)

1.一种光盘，其特征在于：
光盘有第1基材，在第1基材的一个面上形成凹坑部，在所述面上设置有叠层结构；
所述叠层结构具有反射层、记录层和透明材料层；
反射层设置在所述第1基材的所述面上；
记录层形成在所述反射层上并且填埋了所述凹坑部的内部；
透明部材料覆盖在所述记录层上并能使记录/再生光透过。
2.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述第1基材的所述凹坑部底部上所述记录层的厚度是所述第1基材平坦部分所述记录层厚度的1.5倍以上。
3.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述记录层表面的台阶高差小于所述反射层表面的台阶高差，记录层表面被大体平坦化。
4.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述记录层由涂敷法形成。
5.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述记录层由含有色素的记录材料形成。
6.根据权利要求5所述的光盘，其特征在于：
所述记录层通过存在于所述反射层上由原子凝聚而成的金属原子聚合体形成的小孔部分与所述第1基材的表面接触。
7.根据权利要求6所述的光盘，其特征在于：
所述第1基材由与记录光照射的记录层发生反应的材料构成。
8.根据权利要求6所述的光盘，其特征在于：
所述反射层由具有岛状结构的材料形成。
9.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述透明材料层由放射线硬化树脂形成。
10.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述透明材料层由热硬化树脂形成。
11.根据权利要求1～8中任何一项所述的光盘，其特征在于：
所述透明材料层包含能透过所述记录/再生光的第2基材和使所述第2基材与所述第1基材相对并固定的粘接层；
所述第1基材和所述第2基材通过所述粘接层粘合一起。
12.根据权利要求11所述的光盘，其特征在于：
所述粘接层由放射线硬化树脂形成。
13.根据权利要求11所述的光盘，其特征在于：
所述透明材料层包含半透明反射层及另一记录层。
14.根据权利要求13所述的光盘，其特征在于：
所述光盘中，在所述第2记录层上记录着由沟槽和/或凹坑产生的再生专用信息。
15.根据权利要求11所述的光盘，其特征在于：
所述的光盘中，可以透过所述记录/再生光的保护膜形成在所述第1衬底与所述粘接层之间。
16.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述的光盘中，透明材料层的厚度小于0.3mm。
17.根据权利要求16所述的光盘，其特征在于：
所述的光盘中，所述第1基材的厚度是1.0～1.2mm。
18.根据权利要求1所述的光盘，其特征在于：
所述的光盘中，当再生光波长为λ，记录层的折射率为n时，凹坑部的深度小于λ/(4×n)。
19.一种光盘制作方法，其特征在于：
该光盘制作方法中包含以下工序：第1衬底制作工序、第2衬底制作工序、用透明粘接剂将所述第1及第2衬底贴合的工序；
所述第1衬底制作工序又包含下述工序：
(a)准备具有凹坑部面的基材的基材准备工序；
(b)在所述基材具有凹坑部的面上形成反射层的工序；
(c)用记录层填埋所述凹坑部内部的工序。
20.根据权利要求19所述的光盘制作方法，其特征在于：
在所述基材的所述凹坑部底部的所述记录层厚度是所述基材的平坦部分所述记录层厚度的1.5倍以上。
21.根据权利要求19所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述工序(c)包含用旋转涂敷法在所述反射层上涂敷所述记录层的工序。
22.根据权利要求19所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述第2衬底的制作工序包含下述工序：
在透明基材的单面上形成凹坑和/或沟槽的工序和形成半透明膜的工序。
23.根据权利要求19所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述透明粘接剂采用的是放射线硬化树脂。
24.根据权利要求21所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述制作方法，在涂敷工序后，在记录层上形成保护膜，进行贴合工序。
25.一种光盘制作方法，其特征在于：
该光盘制作方法包含以下工序：
(a)准备具备凹坑部面的基材的基材准备工序；
(b)在所述基材的所述面上形成反射层的工序；
(c)用记录层填埋所述凹坑部内部的工序；
(d)涂敷略透明部材料的工序；
(e)将所述略透明部材料硬化的工序。
26.根据权利要求25所述的光盘制作方法，其特征在于：
在所述反射层表面形成的所述凹坑部底部处的所述记录层的厚度是所述反射层表面平坦部分记录层厚度的1.5倍以上。
27.根据权利要求25或26所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述工序(c)包含用旋转涂敷法将所述记录层涂敷在所述反射层上的工序。
28.根据权利要求27所述的光盘制作方法，其特征在于：
在所述工序(c)的记录层涂敷工序后，工序(d)的透明部材料涂敷的工序前还包含以下工序：
形成由凹坑或沟槽记录信息的信息层形成工序和形成半透明反射层的工序。
29.根据权利要求25所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述透明部材料的涂敷采用旋转涂敷法进行。
30.根据权利要求25所述的光盘制作方法，其特征在于：
所述透明部材料由放射线硬化树脂构成，在透明部材料硬化工序中采用放射线照射透明部材料的方法进行。
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