JP2003109246A - 光ディスクとその作製方法 - Google Patents
光ディスクとその作製方法Info
- Publication number
- JP2003109246A JP2003109246A JP2001268445A JP2001268445A JP2003109246A JP 2003109246 A JP2003109246 A JP 2003109246A JP 2001268445 A JP2001268445 A JP 2001268445A JP 2001268445 A JP2001268445 A JP 2001268445A JP 2003109246 A JP2003109246 A JP 2003109246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disc
- base material
- layer
- recording layer
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/24018—Laminated discs
- G11B7/24027—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/007—Arrangement of the information on the record carrier, e.g. form of tracks, actual track shape, e.g. wobbled, or cross-section, e.g. v-shaped; Sequential information structures, e.g. sectoring or header formats within a track
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/21—Circular sheet or circular blank
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 溝またはピットを深くすること無しに良好な
プッシュプルトラッキング信号が得られる光ディスクお
よびその作製方法を提供する。 【解決手段】 溝が形成された基材１０１に反射層１０
２を形成した後、スピンコート法により記録層１０３を
塗布し、溝内部を埋め込むようにする。そして、基材１
の記録／再生光を入射させる側に薄い透明基材１０４を
貼り合わせる。
プッシュプルトラッキング信号が得られる光ディスクお
よびその作製方法を提供する。 【解決手段】 溝が形成された基材１０１に反射層１０
２を形成した後、スピンコート法により記録層１０３を
塗布し、溝内部を埋め込むようにする。そして、基材１
の記録／再生光を入射させる側に薄い透明基材１０４を
貼り合わせる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクなどの光
記録媒体およびその作製方法に関するものであり、特に
有機色素などを用いた記録可能な追記型光ディスクに関
するものである。
記録媒体およびその作製方法に関するものであり、特に
有機色素などを用いた記録可能な追記型光ディスクに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク（ＣＤ）が普及し、
光ディスクは重要な記録媒体としての地位を築いた。ま
た、再生専用だけでなく、情報を記録できる追記型のデ
ィスクとしてＣＤ−Ｒの普及も著しい。近年では、より
高密度な光ディスクの研究開発が盛んに行われ、ＣＤよ
りも更に高密度なＤＶＤが提案され、実用化されてい
る。これらＤＶＤの規格の中でも、比較的安価で記録可
能な媒体として、追記型光ディスクであるＤＶＤ−Ｒが
期待されている。更に、今後の高品位テレビといった大
容量が必要とされる信号を高密度に記録するための更な
る高密度光ディスクの開発が進められている。
光ディスクは重要な記録媒体としての地位を築いた。ま
た、再生専用だけでなく、情報を記録できる追記型のデ
ィスクとしてＣＤ−Ｒの普及も著しい。近年では、より
高密度な光ディスクの研究開発が盛んに行われ、ＣＤよ
りも更に高密度なＤＶＤが提案され、実用化されてい
る。これらＤＶＤの規格の中でも、比較的安価で記録可
能な媒体として、追記型光ディスクであるＤＶＤ−Ｒが
期待されている。更に、今後の高品位テレビといった大
容量が必要とされる信号を高密度に記録するための更な
る高密度光ディスクの開発が進められている。
【０００３】従来、追記型光ディスクは、ＣＤ−Ｒに代
表されるように、主として有機色素を主成分とする記録
材料を用いてきた。ＤＶＤ−Ｒの場合も略同様である。
表されるように、主として有機色素を主成分とする記録
材料を用いてきた。ＤＶＤ−Ｒの場合も略同様である。
【０００４】以下、ＤＶＤ−Ｒを例にとり、従来の追記
型光ディスクの構造を説明する。
型光ディスクの構造を説明する。
【０００５】図２を参照する。図２は従来のＤＶＤ−Ｒ
ディスクの断面構造を示している。
ディスクの断面構造を示している。
【０００６】図示されているＤＶＤ−Ｒディスクは、第
１基材２０１と第２基材２０４とが接着層２０５で貼り
合わされた構造を有している。第１基材２０１は、その
第１面２０１ｃに溝（グルーブ）２０１ａが形成されて
おり、第２面２０１ｄは鏡面である。図２では、溝２０
１ａを横切る断面が示されている。第１基材２０１は射
出成形によって形成されたものであり、第１面２０１ｃ
の形状は型（スタンパ）から転写されている。
１基材２０１と第２基材２０４とが接着層２０５で貼り
合わされた構造を有している。第１基材２０１は、その
第１面２０１ｃに溝（グルーブ）２０１ａが形成されて
おり、第２面２０１ｄは鏡面である。図２では、溝２０
１ａを横切る断面が示されている。第１基材２０１は射
出成形によって形成されたものであり、第１面２０１ｃ
の形状は型（スタンパ）から転写されている。
【０００７】第１基材２０１の第１面２０１ｃ上には、
有機色素を含有する記録層２０２と、反射層２０３とが
積層されている。記録層２０２はスピンコート法によっ
て塗布されたものであり、反射層２０３はスパッタなど
の方法で記録層２０２上に堆積されたものである。第１
基材２０１の溝の内部は、塗布された記録層２０２によ
って埋め込まれているため、記録層２０２の下地（第１
面２０１ｃ）が凹凸を有しているにもかかわらず、記録
層２０２の表面は略平坦である。このため、記録層２０
２上に堆積された反射層２０３の表面も略平坦に形成さ
れている。
有機色素を含有する記録層２０２と、反射層２０３とが
積層されている。記録層２０２はスピンコート法によっ
て塗布されたものであり、反射層２０３はスパッタなど
の方法で記録層２０２上に堆積されたものである。第１
基材２０１の溝の内部は、塗布された記録層２０２によ
って埋め込まれているため、記録層２０２の下地（第１
面２０１ｃ）が凹凸を有しているにもかかわらず、記録
層２０２の表面は略平坦である。このため、記録層２０
２上に堆積された反射層２０３の表面も略平坦に形成さ
れている。
【０００８】第２基材２０４は、第１基材２０１と同様
に射出成形によって形成されたものである。第２基材２
０４は、記録層２０２と反射層２０３が積層された状態
の第１基材１０１に対して接着層２０５を介して貼り付
けられている。
に射出成形によって形成されたものである。第２基材２
０４は、記録層２０２と反射層２０３が積層された状態
の第１基材１０１に対して接着層２０５を介して貼り付
けられている。
【０００９】記録再生光は、光ヘッド上の対物レンズ２
０６で集光され、第１基材２０１の第２面の側から光デ
ィスクに照射される。より具体的には、記録再生光は、
第１基材２０１を透過して溝に照射される。
０６で集光され、第１基材２０１の第２面の側から光デ
ィスクに照射される。より具体的には、記録再生光は、
第１基材２０１を透過して溝に照射される。
【００１０】次に、図３を参照しながら、光ディスクの
他の従来例を説明する。
他の従来例を説明する。
【００１１】図３の光ディスクは、スピンコート法に代
えて蒸着法によって形成された有機色素系記録層３０２
を有している。この光ディスクでは、記録層３０２が蒸
着されたものであるため、記録層３０２の表面は、第１
基材３０１の第１面３０１ｃに形成された溝またはピッ
ト形状を反映した形状を有しており、その形状は反射層
３０３の表面にも反映されている。この光ディスクに対
しても、記録再生光は第１基材３０１の第２面３０１ｄ
の側から照射される。
えて蒸着法によって形成された有機色素系記録層３０２
を有している。この光ディスクでは、記録層３０２が蒸
着されたものであるため、記録層３０２の表面は、第１
基材３０１の第１面３０１ｃに形成された溝またはピッ
ト形状を反映した形状を有しており、その形状は反射層
３０３の表面にも反映されている。この光ディスクに対
しても、記録再生光は第１基材３０１の第２面３０１ｄ
の側から照射される。
【００１２】上記のいずれの光ディスクの場合も、記録
再生光が溝を追従するようにトラッキング制御が行われ
る。通常、そのトラッキングずれの検出は、プッシュプ
ル法が用いて行われる。プッシュプル法は、ディスクか
らの反射光を溝方向に平行なラインで２分割されたディ
テクタに集光し、左右のディテクタで検出された光の強
度差を信号（トラッキング信号）として検出する方法で
ある。この信号は、溝からの反射光と、グルーブとグル
ーブの間（ランド）からの反射光の位相差により、記録
再生光の集光スポットがグルーブあるいはランドの中心
にあるときにゼロとなり、その間にある場合には、正ま
たは負の値となる。記録再生光の波長をλとすると、ｋ
を０または自然数として、グルーブとランドからの反射
光の位相差の絶対値（単位：ラジアン）がπ（２ｋ＋
１）／２となるときにトラッキング信号の振幅は最大と
なる。
再生光が溝を追従するようにトラッキング制御が行われ
る。通常、そのトラッキングずれの検出は、プッシュプ
ル法が用いて行われる。プッシュプル法は、ディスクか
らの反射光を溝方向に平行なラインで２分割されたディ
テクタに集光し、左右のディテクタで検出された光の強
度差を信号（トラッキング信号）として検出する方法で
ある。この信号は、溝からの反射光と、グルーブとグル
ーブの間（ランド）からの反射光の位相差により、記録
再生光の集光スポットがグルーブあるいはランドの中心
にあるときにゼロとなり、その間にある場合には、正ま
たは負の値となる。記録再生光の波長をλとすると、ｋ
を０または自然数として、グルーブとランドからの反射
光の位相差の絶対値（単位：ラジアン）がπ（２ｋ＋
１）／２となるときにトラッキング信号の振幅は最大と
なる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】図２に示した従来の光
ディスクでは、スピンコート法によって記録層２０２が
形成されるため、記録層２０２の形成工程時間を短くで
きるという利点がある。しかしながら、反射層２０３の
表面が略平坦に形成されるため、次のような不都合が生
じる。すなわち、溝部を通る反射光とランド部を通る反
射光の位相差δは、基材２０１の屈折率をｎ１、記録層
２０２の屈折率をｎ２、溝深さをｄ１、溝部と非溝部と
の間における記録層２０２の表面段差をｄ２とすると、
δ＝４π×（（ｎ１−ｎ２）×ｄ１＋ｎ２×ｄ２）／λ
となる。
ディスクでは、スピンコート法によって記録層２０２が
形成されるため、記録層２０２の形成工程時間を短くで
きるという利点がある。しかしながら、反射層２０３の
表面が略平坦に形成されるため、次のような不都合が生
じる。すなわち、溝部を通る反射光とランド部を通る反
射光の位相差δは、基材２０１の屈折率をｎ１、記録層
２０２の屈折率をｎ２、溝深さをｄ１、溝部と非溝部と
の間における記録層２０２の表面段差をｄ２とすると、
δ＝４π×（（ｎ１−ｎ２）×ｄ１＋ｎ２×ｄ２）／λ
となる。
【００１４】ｄ２が小さく、基材２０１の屈折率ｎ１と
記録層２０２の屈折率ｎ２との差が小さい場合、十分な
トラッキング信号の振幅を得るには、溝深さｄ１を深く
して、位相差を生み出す必要がある。その結果、深い溝
あるいはピットを転写させるため、基材を射出成形する
際に樹脂温度や金型温度を高く設定して工程時間が長く
なり、また成形された基材がスタンパから離型しにく
く、離型ムラやクラウドを発生しやすくなって、生産性
が向上しにくい。
記録層２０２の屈折率ｎ２との差が小さい場合、十分な
トラッキング信号の振幅を得るには、溝深さｄ１を深く
して、位相差を生み出す必要がある。その結果、深い溝
あるいはピットを転写させるため、基材を射出成形する
際に樹脂温度や金型温度を高く設定して工程時間が長く
なり、また成形された基材がスタンパから離型しにく
く、離型ムラやクラウドを発生しやすくなって、生産性
が向上しにくい。
【００１５】図３の光ディスクの場合、蒸着によって記
録層３０２が形成されるため、反射層３０３が基材３０
１の溝形状に合せて形成される。その結果、位相差δ
は、δ＝４π×ｎ１×ｄ１／λとなり、溝深さｄ１を深
くすること無く、十分な位相差が得られ、良好なトラッ
キング信号振幅が得られる利点がある。
録層３０２が形成されるため、反射層３０３が基材３０
１の溝形状に合せて形成される。その結果、位相差δ
は、δ＝４π×ｎ１×ｄ１／λとなり、溝深さｄ１を深
くすること無く、十分な位相差が得られ、良好なトラッ
キング信号振幅が得られる利点がある。
【００１６】しかしながら、有機色素を含有する記録材
料の蒸着による成膜は、速度が遅く生産性が向上しにく
い。
料の蒸着による成膜は、速度が遅く生産性が向上しにく
い。
【００１７】更に、どちらの光ディスクの場合であって
も、溝またはピットが形成された基材を通して記録再生
光を入射させるため、溝やピットが形成される基材２０
１、３０１を高い精度で再現性良く作製することが重要
になる。基材２０１、３０１の厚さは、記録密度に影響
する。一般に、光ディスクの記録密度を向上させるに
は、記録／再生に用いるレーザ光のビームスポット径を
小さくする必要があり、そのためには、レーザ光の波長
を短くし、かつ、高いＮＡ（ＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐｅ
ｒｔｕｒｅ）値を持つ光学系を採用する必要がある。し
かし、ＮＡ値が大きいと、ディスクの傾きによる収差が
大きくなり、再生信号が劣化する。このような収差を減
じるには、基材２０１、３０１の厚さを小さくすること
が好ましい。しかしながら、基材２０１、３０１は射出
成形によって作製されるため、その厚さを薄くしなが
ら、溝やピットの形状を正確に形成することは困難であ
る。このため、図２および図３の光ディスクでは、記録
密度の更なる向上が難しい。
も、溝またはピットが形成された基材を通して記録再生
光を入射させるため、溝やピットが形成される基材２０
１、３０１を高い精度で再現性良く作製することが重要
になる。基材２０１、３０１の厚さは、記録密度に影響
する。一般に、光ディスクの記録密度を向上させるに
は、記録／再生に用いるレーザ光のビームスポット径を
小さくする必要があり、そのためには、レーザ光の波長
を短くし、かつ、高いＮＡ（ＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐｅ
ｒｔｕｒｅ）値を持つ光学系を採用する必要がある。し
かし、ＮＡ値が大きいと、ディスクの傾きによる収差が
大きくなり、再生信号が劣化する。このような収差を減
じるには、基材２０１、３０１の厚さを小さくすること
が好ましい。しかしながら、基材２０１、３０１は射出
成形によって作製されるため、その厚さを薄くしなが
ら、溝やピットの形状を正確に形成することは困難であ
る。このため、図２および図３の光ディスクでは、記録
密度の更なる向上が難しい。
【００１８】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、トラッキングに用いられる溝を浅
くしても充分に良好な信号を得ることができ、また記録
密度の向上に適した光ディスクおよびその作製方法を提
供することにある。
であり、その目的は、トラッキングに用いられる溝を浅
くしても充分に良好な信号を得ることができ、また記録
密度の向上に適した光ディスクおよびその作製方法を提
供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明による光ディスク
は、凹部が形成された面を有する第１基材と、前記面上
に設けられた積層構造とを備えた光ディスクであって、
前記積層構造は、前記第１基材の前記面上に設けられた
反射層と、前記反射層上に形成され、前記凹部の内部を
実質的に埋め込む記録層と、前記記録層を覆うように配
置され、記録／再生光を透過し得る透明部材とを有して
いる。
は、凹部が形成された面を有する第１基材と、前記面上
に設けられた積層構造とを備えた光ディスクであって、
前記積層構造は、前記第１基材の前記面上に設けられた
反射層と、前記反射層上に形成され、前記凹部の内部を
実質的に埋め込む記録層と、前記記録層を覆うように配
置され、記録／再生光を透過し得る透明部材とを有して
いる。
【００２０】好ましい実施形態において、前記第１基材
の前記凹部の底部における前記記録層の厚さは、前記第
１基材の平坦部分における前記記録層の厚さの１．５倍
以上である。
の前記凹部の底部における前記記録層の厚さは、前記第
１基材の平坦部分における前記記録層の厚さの１．５倍
以上である。
【００２１】好ましい実施形態において、前記記録層の
表面における段差が前記反射層の表面における段差より
も小さくなるように前記記録層の表面が略平坦化されて
いる。
表面における段差が前記反射層の表面における段差より
も小さくなるように前記記録層の表面が略平坦化されて
いる。
【００２２】好ましい実施形態において、前記記録層は
塗布によって形成されている。
塗布によって形成されている。
【００２３】好ましい実施形態において、前記記録層は
色素を含有する記録材料から形成されている。
色素を含有する記録材料から形成されている。
【００２４】好ましい実施形態において、前記記録層は
前記反射層に存在する開口部分を介して部分的に前記第
１基材の表面と接触している。
前記反射層に存在する開口部分を介して部分的に前記第
１基材の表面と接触している。
【００２５】好ましい実施形態において、前記第１基材
は、記録光が照射された記録層と反応する材料から形成
されている。
は、記録光が照射された記録層と反応する材料から形成
されている。
【００２６】好ましい実施形態において、前記反射層
は、島状構造を有する材料から形成されている。
は、島状構造を有する材料から形成されている。
【００２７】好ましい実施形態において、前記透明部材
は、放射線硬化樹脂から形成されている。
は、放射線硬化樹脂から形成されている。
【００２８】好ましい実施形態において、前記透明部材
は、熱硬化性樹脂から形成されている。
は、熱硬化性樹脂から形成されている。
【００２９】好ましい実施形態において、前記透明部材
は、前記記録／再生光を透過しうる第２基材と、前記第
２基材を前記第１基材と接着させる接着層とを含んでお
り、前記第１基材と前記第２基材とが前記接着層を介し
て貼り合わせられている。
は、前記記録／再生光を透過しうる第２基材と、前記第
２基材を前記第１基材と接着させる接着層とを含んでお
り、前記第１基材と前記第２基材とが前記接着層を介し
て貼り合わせられている。
【００３０】好ましい実施形態において、前記接着層
は、放射線硬化樹脂から形成されている。
は、放射線硬化樹脂から形成されている。
【００３１】好ましい実施形態において、前記透明部材
は、半透明反射層および第２記録層を含んでいる。
は、半透明反射層および第２記録層を含んでいる。
【００３２】好ましい実施形態において、前記第２記録
層には、溝および／またはピットによって再生専用情報
が記録されている。
層には、溝および／またはピットによって再生専用情報
が記録されている。
【００３３】好ましい実施形態において、前記記録／再
生光を透過し得る保護膜が前記第１基板と前記接着層と
の間に形成されている。
生光を透過し得る保護膜が前記第１基板と前記接着層と
の間に形成されている。
【００３４】好ましい実施形態において、前記透明部材
の厚さは０．３ｍｍ以下である。
の厚さは０．３ｍｍ以下である。
【００３５】好ましい実施形態において、前記第１基材
の厚さは１．０〜１．２ｍｍである。
の厚さは１．０〜１．２ｍｍである。
【００３６】再生光の波長をλ、前記記録層の屈折率を
ｎとしたとき、前記凹部の深さが、λ／（４×ｎ）以下
である。
ｎとしたとき、前記凹部の深さが、λ／（４×ｎ）以下
である。
【００３７】本発明による光ディスク作製方法は、第１
の基板を作製する工程と、第２の基板を作製する作工程
と、前記第１および第２の基板を略透明な接着剤によっ
て貼り合わせる工程とを包含する光ディスク作製方法で
あって、前記第１の基板を作製する工程は、（ａ）凹部
を有する面を備えた基材を用意する工程と、（ｂ）前記
基材の前記面上に反射層を形成する工程と、（ｃ）記録
層で前記凹部の内部を実質的に埋め込む工程とを包含す
る。
の基板を作製する工程と、第２の基板を作製する作工程
と、前記第１および第２の基板を略透明な接着剤によっ
て貼り合わせる工程とを包含する光ディスク作製方法で
あって、前記第１の基板を作製する工程は、（ａ）凹部
を有する面を備えた基材を用意する工程と、（ｂ）前記
基材の前記面上に反射層を形成する工程と、（ｃ）記録
層で前記凹部の内部を実質的に埋め込む工程とを包含す
る。
【００３８】好ましい実施形態において、前記基材の前
記凹部の底部における前記記録層の厚さを、前記基材の
平坦部分における前記記録層の厚さの１．５倍以上にす
る。
記凹部の底部における前記記録層の厚さを、前記基材の
平坦部分における前記記録層の厚さの１．５倍以上にす
る。
【００３９】好ましい実施形態において、前記工程
（ｃ）は、前記記録層をスピンコート法で前記反射層上
に塗布する工程を含む。
（ｃ）は、前記記録層をスピンコート法で前記反射層上
に塗布する工程を含む。
【００４０】好ましい実施形態において、前記第２の基
板を作製する工程は、略透明基材の片面にピットおよび
／または溝を形成する工程と、半透明膜を形成する工程
とを包含する。
板を作製する工程は、略透明基材の片面にピットおよび
／または溝を形成する工程と、半透明膜を形成する工程
とを包含する。
【００４１】好ましい実施形態において、前記略透明な
接着剤として放射線硬化樹脂を用いる。
接着剤として放射線硬化樹脂を用いる。
【００４２】好ましい実施形態において、前記塗布工程
の後、記録層上に保護膜を形成し、貼り合わせ工程を行
う。
の後、記録層上に保護膜を形成し、貼り合わせ工程を行
う。
【００４３】本発明による他の光ディスク作製方法は、
（ａ）凹部を有する面を備えた基材を用意する工程と、
（ｂ）前記基材の前記面上に反射層を形成する工程と、
（ｃ）記録層で前記凹部の内部を実質的に埋め込む工程
と、（ｄ）略透明材料を塗布する工程と、（ｅ）前記略
透明材料を硬化させる工程とを包含する。
（ａ）凹部を有する面を備えた基材を用意する工程と、
（ｂ）前記基材の前記面上に反射層を形成する工程と、
（ｃ）記録層で前記凹部の内部を実質的に埋め込む工程
と、（ｄ）略透明材料を塗布する工程と、（ｅ）前記略
透明材料を硬化させる工程とを包含する。
【００４４】好ましい実施形態において、前記反射層の
表面に形成された前記凹部の底部における前記記録層の
厚さを、前記反射層の表面の平坦部分における前記記録
層の厚さの１．５倍以上にする。
表面に形成された前記凹部の底部における前記記録層の
厚さを、前記反射層の表面の平坦部分における前記記録
層の厚さの１．５倍以上にする。
【００４５】好ましい実施形態において、前記工程
（ｃ）は、前記記録層をスピンコート法によって前記反
射層上に塗布する工程を含む。
（ｃ）は、前記記録層をスピンコート法によって前記反
射層上に塗布する工程を含む。
【００４６】好ましい実施形態において、前記塗布工程
の後、前記略透明材料を塗布する工程の前において、ピ
ットまたは溝によって情報が記録されている情報層を形
成する工程と、半透明な反射層を形成する工程とを更に
包含する。
の後、前記略透明材料を塗布する工程の前において、ピ
ットまたは溝によって情報が記録されている情報層を形
成する工程と、半透明な反射層を形成する工程とを更に
包含する。
【００４７】好ましい実施形態において、前記略透明材
料の塗布をスピンコート法により行う。
料の塗布をスピンコート法により行う。
【００４８】前記略透明材料は放射線硬化樹脂から形成
されており、前記略透明材料を硬化させる工程では、前
記略透明材料に放射線を照射する。
されており、前記略透明材料を硬化させる工程では、前
記略透明材料に放射線を照射する。
【００４９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態を説明する。
明の実施の形態を説明する。
【００５０】（実施の形態１）図１Ａは、本発明による
光ディスクの第１の実施形態を示す断面図である。図１
Ａでは、光ディスクの回転中心軸（1点鎖線）から右側
の部分だけが示されている。
光ディスクの第１の実施形態を示す断面図である。図１
Ａでは、光ディスクの回転中心軸（1点鎖線）から右側
の部分だけが示されている。
【００５１】本実施形態における光ディスクは、トラッ
キングのためにスパイラル状または同心円状の溝（凹
部：ｒｅｃｅｓｓ）１０１ａが形成された面（第１面）
１０１ｃを有する第１基材１０１と、第１基材１０１に
おける第１面１０１ｃ上に設けられた積層構造とを備え
ている。図示されている例では、第１基材１０１の第１
面１０１ｃには溝が形成されているが、第２面（第１面
とは反対側の面）１０１ｄには平坦である。第１面１０
１ｃには、溝以外にピットが形成されていもよい。
キングのためにスパイラル状または同心円状の溝（凹
部：ｒｅｃｅｓｓ）１０１ａが形成された面（第１面）
１０１ｃを有する第１基材１０１と、第１基材１０１に
おける第１面１０１ｃ上に設けられた積層構造とを備え
ている。図示されている例では、第１基材１０１の第１
面１０１ｃには溝が形成されているが、第２面（第１面
とは反対側の面）１０１ｄには平坦である。第１面１０
１ｃには、溝以外にピットが形成されていもよい。
【００５２】第１基材１０１は、ポリカーボネイト材料
から射出成形によって形成された円盤状の基板である。
第１基材１０１の溝１０１ａは、この射出成形に際して
型から転写されたものである。
から射出成形によって形成された円盤状の基板である。
第１基材１０１の溝１０１ａは、この射出成形に際して
型から転写されたものである。
【００５３】第１基材１０１は記録再生光を透過する必
要はないので、第１基材１０１は透明である必要はな
い。また、光ディスク装置が高いＮＡ値（例えば０．８
以上）の光学系を採用している場合でも、第１基材１０
１の厚さを薄くする必要はない。本実施形態における第
１基材１０１の厚さは、任意であり、例えば０．６〜
１．２ｍｍである。
要はないので、第１基材１０１は透明である必要はな
い。また、光ディスク装置が高いＮＡ値（例えば０．８
以上）の光学系を採用している場合でも、第１基材１０
１の厚さを薄くする必要はない。本実施形態における第
１基材１０１の厚さは、任意であり、例えば０．６〜
１．２ｍｍである。
【００５４】上記積層構造は、反射層１０２と、反射層
１０２上に形成された記録層１０３と、記録層１０３を
覆うように配置された透明部材１１０とを有している。
１０２上に形成された記録層１０３と、記録層１０３を
覆うように配置された透明部材１１０とを有している。
【００５５】反射層１０２は金属から形成されており、
反射層１０２の厚さは、例えば５〜６０ｎｍであり、溝
１０１ａの内外で略一様である。光ディスクの断面にお
ける反射層１０２は、第１基材１０１の第１面１０１ｃ
の凹凸形状を反映した形状を有している。あとで詳述す
るように、反射層１０２は完全に連続した一様な膜から
形成されている必要は無く、好ましい実施形態では、原
子の凝集した金属粒子の集合体から形成されており、ポ
ーラスである。
反射層１０２の厚さは、例えば５〜６０ｎｍであり、溝
１０１ａの内外で略一様である。光ディスクの断面にお
ける反射層１０２は、第１基材１０１の第１面１０１ｃ
の凹凸形状を反映した形状を有している。あとで詳述す
るように、反射層１０２は完全に連続した一様な膜から
形成されている必要は無く、好ましい実施形態では、原
子の凝集した金属粒子の集合体から形成されており、ポ
ーラスである。
【００５６】記録層１０３は、有機色素を有する記録材
料の膜から構成されており、基材１０１の溝１０１ａの
内部を実質的に埋め込むように形成されている。記録材
料は、例えばシアニンやフタロシアン系色素を有する材
料である。記録層１０３をスピンコート法などの方法に
よって第１基材１０１の第１面１０１ｃ上に塗布する
と、記録層１０３は溝１０１ａの内部を実質的に埋め込
むように形成されるとともに、溝と溝の間の部分（平坦
部）１０１ｂにも薄く形成される。平坦部１０１ｂにお
ける記録層１０３の厚さはできるだけ薄い方が好まし
い。
料の膜から構成されており、基材１０１の溝１０１ａの
内部を実質的に埋め込むように形成されている。記録材
料は、例えばシアニンやフタロシアン系色素を有する材
料である。記録層１０３をスピンコート法などの方法に
よって第１基材１０１の第１面１０１ｃ上に塗布する
と、記録層１０３は溝１０１ａの内部を実質的に埋め込
むように形成されるとともに、溝と溝の間の部分（平坦
部）１０１ｂにも薄く形成される。平坦部１０１ｂにお
ける記録層１０３の厚さはできるだけ薄い方が好まし
い。
【００５７】図１Ｂは、記録層１０３の断面をより詳し
く示した拡大図である。図１Ｂにおいて、溝１０１ａに
おける記録層１０３の厚さは「ｔ１」、平坦部１０１ｂ
における厚さは「ｔ２」で示されている。本実施形態で
は、溝１０１ａの内部は記録層１０３によって実質的に
埋め込まれているため、ｔ１はｔ２の１．５倍以上にな
っている。例えば、溝の深さｄ１が３２ｎｍ程度である
とき、ｔ１は４０ｎｍ程度であり、ｔ２は１０ｎｍ程度
である。なお、実際の溝幅は、０．１〜０．３μｍ程度
あるため、本明細書の各図面に示されている溝深さと溝
幅の関係は、現実の関係を正確には表していない。
く示した拡大図である。図１Ｂにおいて、溝１０１ａに
おける記録層１０３の厚さは「ｔ１」、平坦部１０１ｂ
における厚さは「ｔ２」で示されている。本実施形態で
は、溝１０１ａの内部は記録層１０３によって実質的に
埋め込まれているため、ｔ１はｔ２の１．５倍以上にな
っている。例えば、溝の深さｄ１が３２ｎｍ程度である
とき、ｔ１は４０ｎｍ程度であり、ｔ２は１０ｎｍ程度
である。なお、実際の溝幅は、０．１〜０．３μｍ程度
あるため、本明細書の各図面に示されている溝深さと溝
幅の関係は、現実の関係を正確には表していない。
【００５８】再び図１Ａを参照する。
【００５９】透明部材１１０は、記録／再生光を透過し
得る透明な材料から形成されており、図１Ａの例では、
透明基材１０４と透明接着層１０５とから構成されてい
る。透明接着層１０５は、透明基材１０４を第１基材１
０１に接着し、両基材を固着する。透明接着層１０５は
一層ではなくともよく、透明媒体であれば多層構造を有
していも良い。また、射出成形などによって別途作製し
た透明基材１０４を貼り付ける代わりに、放射線硬化樹
脂層を基材１０１上に厚く形成し、それによって透明部
材１１０を構成してもよい。
得る透明な材料から形成されており、図１Ａの例では、
透明基材１０４と透明接着層１０５とから構成されてい
る。透明接着層１０５は、透明基材１０４を第１基材１
０１に接着し、両基材を固着する。透明接着層１０５は
一層ではなくともよく、透明媒体であれば多層構造を有
していも良い。また、射出成形などによって別途作製し
た透明基材１０４を貼り付ける代わりに、放射線硬化樹
脂層を基材１０１上に厚く形成し、それによって透明部
材１１０を構成してもよい。
【００６０】透明接着層１０５の厚さは、例えば５〜５
０μｍ程度であり、透明基材の１０４の厚さは例えば
０．１〜０．３ｍｍ程度である。これらの数値を考慮す
れば、図１Ａに示されている溝１０１ａの深さや幅は、
他の構成要素のサイズよりも大きく誇張されていること
がわかる。
０μｍ程度であり、透明基材の１０４の厚さは例えば
０．１〜０．３ｍｍ程度である。これらの数値を考慮す
れば、図１Ａに示されている溝１０１ａの深さや幅は、
他の構成要素のサイズよりも大きく誇張されていること
がわかる。
【００６１】ユーザが本実施形態の光ディスクに対して
情報を記録する場合、光ディスク装置の対物レンズ１０
６を介して記録光が記録層１０３に照射される。記録光
は、記録層１０３に熱エネルギーを与え、記録層１０３
の光学的特性（例えば有機色素による光吸収率）を変化
させる。一方、光ディスクに記録されている情報を再生
する場合、光ディスク装置の対物レンズ１０６を介して
再生光が記録層１０３に照射される。記録光よりも光出
力の小さな再生光は、記録層１０３の場所によって異な
る光学的特性の違いを検出するために用いられ、再生光
の反射率を検出することにより情報を再生することがで
きる。
情報を記録する場合、光ディスク装置の対物レンズ１０
６を介して記録光が記録層１０３に照射される。記録光
は、記録層１０３に熱エネルギーを与え、記録層１０３
の光学的特性（例えば有機色素による光吸収率）を変化
させる。一方、光ディスクに記録されている情報を再生
する場合、光ディスク装置の対物レンズ１０６を介して
再生光が記録層１０３に照射される。記録光よりも光出
力の小さな再生光は、記録層１０３の場所によって異な
る光学的特性の違いを検出するために用いられ、再生光
の反射率を検出することにより情報を再生することがで
きる。
【００６２】本実施形態の光ディスクでは、記録再生光
が記録層１０３に照射されるとき、記録再生光は、表面
に溝やピットが形成された第１基材１０１を介してでは
なく、第１基材１０１に貼り付けられた透明基材１０４
を介して記録層１０３に照射される。
が記録層１０３に照射されるとき、記録再生光は、表面
に溝やピットが形成された第１基材１０１を介してでは
なく、第１基材１０１に貼り付けられた透明基材１０４
を介して記録層１０３に照射される。
【００６３】なお、光ディスクの「グルーブ」および
「ランド」は、通常、記録再生時の光ヘッド（対物レン
ズ）に対する相対的な配置関係によって規定される。図
１Ａの光ディスクでは、対物レンズ１０６に対して相対
的に近い部分が「グルーブ」と呼ばれ、相対的に遠い部
分が「ランド」と呼ばれる。すなわち、図１Ａの光ディ
スクでは、図２および図３の光ディスクと比べて、グル
ーブおよびランドが反転している。このような定義によ
れば、本実施形態の光ディスクは、いわゆる「ランド記
録型」の光ディスクである。しかし、本願明細書では、
簡単化のため、厳密には「ランド」と呼ばれるべき凹部
をも溝（グルーブ）と呼ぶことにする。ただし、混乱を
避けるため、記録膜１０３によって埋め込まれる溝１０
１ａを「凹部（ｒｅｃｅｓｓ）」と称する場合がある。
「ランド」は、通常、記録再生時の光ヘッド（対物レン
ズ）に対する相対的な配置関係によって規定される。図
１Ａの光ディスクでは、対物レンズ１０６に対して相対
的に近い部分が「グルーブ」と呼ばれ、相対的に遠い部
分が「ランド」と呼ばれる。すなわち、図１Ａの光ディ
スクでは、図２および図３の光ディスクと比べて、グル
ーブおよびランドが反転している。このような定義によ
れば、本実施形態の光ディスクは、いわゆる「ランド記
録型」の光ディスクである。しかし、本願明細書では、
簡単化のため、厳密には「ランド」と呼ばれるべき凹部
をも溝（グルーブ）と呼ぶことにする。ただし、混乱を
避けるため、記録膜１０３によって埋め込まれる溝１０
１ａを「凹部（ｒｅｃｅｓｓ）」と称する場合がある。
【００６４】第１基材１０１の溝１０１ａの深さｄ１
は、記録再生光の波長をλ、記録層１０３の屈折率をｎ
２とすると、ｄ１＝λ／（８×ｎ２）の時、最良とな
る。具体的には、波長６５０ｎｍの赤色レーザであれ
ば、ｄ１＝略５０ｎｍで十分なプッシュプルトラッキン
グ信号が得られる。また、波長４０５ｎｍの青色レーザ
であれば、ｄ１＝略３５ｎｍで十分なプッシュプルトラ
ッキング信号が得られる。
は、記録再生光の波長をλ、記録層１０３の屈折率をｎ
２とすると、ｄ１＝λ／（８×ｎ２）の時、最良とな
る。具体的には、波長６５０ｎｍの赤色レーザであれ
ば、ｄ１＝略５０ｎｍで十分なプッシュプルトラッキン
グ信号が得られる。また、波長４０５ｎｍの青色レーザ
であれば、ｄ１＝略３５ｎｍで十分なプッシュプルトラ
ッキング信号が得られる。
【００６５】なお、溝の深さｄ１は、トラッキング信号
特性の観点からだけではなく、記録信号を再生したとき
に良好な品質が得られるようにする必要があり、上記の
値よりも深く設定するのが望ましい。ただし、ｄ１＝λ
／（４×ｎ２）において、プッシュプルトラッキング信
号が最小となるため、ｄ１をλ／（４×ｎ２）よりも浅
く設定することが望ましい。
特性の観点からだけではなく、記録信号を再生したとき
に良好な品質が得られるようにする必要があり、上記の
値よりも深く設定するのが望ましい。ただし、ｄ１＝λ
／（４×ｎ２）において、プッシュプルトラッキング信
号が最小となるため、ｄ１をλ／（４×ｎ２）よりも浅
く設定することが望ましい。
【００６６】本実施形態では、記録層１０３に対して情
報を記録するとき、光エネルギを受けた記録層１０３は
基材１０１の材料と化学反応を起こして変質する。この
ような化学反応を引き起こすには、反射層１０２が一様
な膜として存在するよりも、反射層１０２に部分的に開
口部が形成され、その開口部を介して基材１０１と記録
層１０３とが接していることが好ましい。本実施形態で
は、島状構造を有する反射層１０２を形成している。こ
のような島状構造を持った反射層１０２は、蒸着などの
薄膜堆積技術を用いて金属膜を薄く成長させた場合に得
られる。ただし、金属膜が薄すぎると、記録再生光の反
射率が所望のレベルを下回り、再生光の強度が低下する
ため好ましくない。反射層１０２の好ましい平均厚さ
は、５〜４０ｎｍである。
報を記録するとき、光エネルギを受けた記録層１０３は
基材１０１の材料と化学反応を起こして変質する。この
ような化学反応を引き起こすには、反射層１０２が一様
な膜として存在するよりも、反射層１０２に部分的に開
口部が形成され、その開口部を介して基材１０１と記録
層１０３とが接していることが好ましい。本実施形態で
は、島状構造を有する反射層１０２を形成している。こ
のような島状構造を持った反射層１０２は、蒸着などの
薄膜堆積技術を用いて金属膜を薄く成長させた場合に得
られる。ただし、金属膜が薄すぎると、記録再生光の反
射率が所望のレベルを下回り、再生光の強度が低下する
ため好ましくない。反射層１０２の好ましい平均厚さ
は、５〜４０ｎｍである。
【００６７】図７（ａ）〜（ｃ）は、真空蒸着により形
成したＡｕ層の成長途中段階におけるモフォロジーを示
しており、透過型電子顕写真により観察に基づいて作製
した平面図である。図７（ａ）〜（ｃ）に示されるよう
に、金属層が薄いとき（例えば厚さ２５ｎｍ以下のと
き）には、金属層は一様でなく、金属粒子が凝集した島
状構造を有している。金属層の厚さが増加するにつれ
て、金属粒子のサイズが大きくなり、隣接する金属粒子
どうしがが相互に接続され、ついには連続した一様な膜
が形成される（図７（ｃ））。
成したＡｕ層の成長途中段階におけるモフォロジーを示
しており、透過型電子顕写真により観察に基づいて作製
した平面図である。図７（ａ）〜（ｃ）に示されるよう
に、金属層が薄いとき（例えば厚さ２５ｎｍ以下のと
き）には、金属層は一様でなく、金属粒子が凝集した島
状構造を有している。金属層の厚さが増加するにつれ
て、金属粒子のサイズが大きくなり、隣接する金属粒子
どうしがが相互に接続され、ついには連続した一様な膜
が形成される（図７（ｃ））。
【００６８】反射層１０２が上記の島状構造を有する金
属層から形成されている場合でも、反射層１０２の平均
厚さを適切な範囲内に制御すれば、所望の反射率を得る
ことができる。本実施形態では、このような島状構造の
金属であっても、これを「金属層」または「反射層」と
称することにする。
属層から形成されている場合でも、反射層１０２の平均
厚さを適切な範囲内に制御すれば、所望の反射率を得る
ことができる。本実施形態では、このような島状構造の
金属であっても、これを「金属層」または「反射層」と
称することにする。
【００６９】本実施形態では、このような島状構造の反
射層を用いることにより、基材１０１と記録層１０３と
の間で部分的な接触を実現している。このような部分的
接触のため、記録光照射時の発熱が基材１０１の材料と
記録層１０３との化学的反応を促進することが可能にな
る。この化学的反応により、溝幅や深さの変化（溝の形
状変化）が生じるため、再生信号の品質が向上するとい
う利点がある。
射層を用いることにより、基材１０１と記録層１０３と
の間で部分的な接触を実現している。このような部分的
接触のため、記録光照射時の発熱が基材１０１の材料と
記録層１０３との化学的反応を促進することが可能にな
る。この化学的反応により、溝幅や深さの変化（溝の形
状変化）が生じるため、再生信号の品質が向上するとい
う利点がある。
【００７０】また、反射層１０２が島状構造を持つ場
合、記録光照射時の発熱によって反射層１０２の構造も
変化し、光照射部における反射率が変化する。その結
果、記録光の照射部においては、記録層１０３にマーク
が形成されるだけでなく、反射層１０２による反射率の
変化も期待できる。このことは、記録マークの検出感度
を高めるのに寄与する。
合、記録光照射時の発熱によって反射層１０２の構造も
変化し、光照射部における反射率が変化する。その結
果、記録光の照射部においては、記録層１０３にマーク
が形成されるだけでなく、反射層１０２による反射率の
変化も期待できる。このことは、記録マークの検出感度
を高めるのに寄与する。
【００７１】本実施形態では、反射層１０２の材料とし
てＡｕを用いているが、他の金属や合金を用いてもよ
い。例えば、ＡｇＰｄＣｕなどの銀合金、Ａｌ、Ｔｉ、
Ｃｒなどの金属またはこれらの合金を反射層の材料とし
て用いることができる。
てＡｕを用いているが、他の金属や合金を用いてもよ
い。例えば、ＡｇＰｄＣｕなどの銀合金、Ａｌ、Ｔｉ、
Ｃｒなどの金属またはこれらの合金を反射層の材料とし
て用いることができる。
【００７２】本実施形態では、基材１０１の材料として
透明なポリカーボネイトを用いたが、基材１０１は再生
光を透過する必要が無いため、所望の溝あるいはピット
が形成しやすい材料であれば、不透明の材料を用いて基
材１０１を作製しても良い。一方、記録再生光を入射さ
せる側に位置する透明基材１０４は、記録再生光を透過
し得る材料であれば、ポリカーボネイト以外の材料を用
いて作製しても良いまた、本実施形態では、透明接着層
１０５として放射線硬化樹脂を用いたが、記録層１０３
の特性を害さない限り、熱硬化性樹脂や他の樹脂を用い
てもよい。
透明なポリカーボネイトを用いたが、基材１０１は再生
光を透過する必要が無いため、所望の溝あるいはピット
が形成しやすい材料であれば、不透明の材料を用いて基
材１０１を作製しても良い。一方、記録再生光を入射さ
せる側に位置する透明基材１０４は、記録再生光を透過
し得る材料であれば、ポリカーボネイト以外の材料を用
いて作製しても良いまた、本実施形態では、透明接着層
１０５として放射線硬化樹脂を用いたが、記録層１０３
の特性を害さない限り、熱硬化性樹脂や他の樹脂を用い
てもよい。
【００７３】次に、図４を参照しながら、本実施形態の
光ディスクを作製する方法を説明する。
光ディスクを作製する方法を説明する。
【００７４】まず、溝やピットの形状を有するスタンパ
を用いて、射出成形により、円盤状の基材４０１を作製
する（図４（ａ））。この後、基材４０１の溝またはピ
ットが転写された面上に、スパッタ法によって金薄を堆
積させ、反射層４０２を形成する（図４（ｂ））。図４
（ｃ）に示すように基材４０１の内周部分に記録材料４
０３を滴下した後、基材４０１を高速（例えば３００〜
２０００ｒｐｍ）で回転させることにより、記録層４０
４を形成する（図４（ｄ））。塗布された記録層４０４
は、基材４０１の表面に形成された溝内部を埋め込み、
記録層４０４の表面は略平坦になる。
を用いて、射出成形により、円盤状の基材４０１を作製
する（図４（ａ））。この後、基材４０１の溝またはピ
ットが転写された面上に、スパッタ法によって金薄を堆
積させ、反射層４０２を形成する（図４（ｂ））。図４
（ｃ）に示すように基材４０１の内周部分に記録材料４
０３を滴下した後、基材４０１を高速（例えば３００〜
２０００ｒｐｍ）で回転させることにより、記録層４０
４を形成する（図４（ｄ））。塗布された記録層４０４
は、基材４０１の表面に形成された溝内部を埋め込み、
記録層４０４の表面は略平坦になる。
【００７５】以上の工程により、第１の基板を作製す
る。
る。
【００７６】一方、図４（ｅ）に示すように、少なくと
も片面が鏡面の第２の基板（第２基材）４０５を射出成
形によって作製する。このとき、第２基材４０５の厚さ
は、再生光の収差を減らすため、薄くすることが好まし
い。本実施形態における第２基材４０５の厚さは０．３
ｍｍ以下（例えば０．１ｍｍ）に設定することが好まし
い。０．３ｍｍ以下の薄い第２基材４０５は、射出成形
法以外の方法で容易に形成することができる。例えば、
０．３ｍｍ以下の所望の厚さを有する透明シートから第
２基材４０５を形成することができる。
も片面が鏡面の第２の基板（第２基材）４０５を射出成
形によって作製する。このとき、第２基材４０５の厚さ
は、再生光の収差を減らすため、薄くすることが好まし
い。本実施形態における第２基材４０５の厚さは０．３
ｍｍ以下（例えば０．１ｍｍ）に設定することが好まし
い。０．３ｍｍ以下の薄い第２基材４０５は、射出成形
法以外の方法で容易に形成することができる。例えば、
０．３ｍｍ以下の所望の厚さを有する透明シートから第
２基材４０５を形成することができる。
【００７７】第２基材４０５の好ましい厚さは、光ディ
スク装置に用いる光学系のＮＡ値によって異なる。記録
再生光の波長が例えば４０５ｎｍ程度、光学系のＮＡが
０．８５程度の場合、ディスクの傾きによって生じる収
差を小さくするという観点から、第２基材４０５の厚さ
は０．２ｍｍ以下にすることが好ましく、約０．１ｍｍ
にすることが更に好ましい。本実施形態では、この第２
基材４０５には、溝やピットを形成しないため、射出成
形や、あるいは、その他の方法によっても高い精度で作
製できる。
スク装置に用いる光学系のＮＡ値によって異なる。記録
再生光の波長が例えば４０５ｎｍ程度、光学系のＮＡが
０．８５程度の場合、ディスクの傾きによって生じる収
差を小さくするという観点から、第２基材４０５の厚さ
は０．２ｍｍ以下にすることが好ましく、約０．１ｍｍ
にすることが更に好ましい。本実施形態では、この第２
基材４０５には、溝やピットを形成しないため、射出成
形や、あるいは、その他の方法によっても高い精度で作
製できる。
【００７８】図４（ｆ）に示すように、第１の基板の記
録層４０４が形成された面の内周部に、放射線硬化型樹
脂４０６としてアクリル系放射線硬化樹脂を滴下した
後、放射線硬化型樹脂４０６の上に第２の基板４０５を
重ね合わせる。このとき、第２の基板４０５の片面が鏡
面で無い場合、その非鏡面が第１の基板と対向するよう
に重ね合わせる。
録層４０４が形成された面の内周部に、放射線硬化型樹
脂４０６としてアクリル系放射線硬化樹脂を滴下した
後、放射線硬化型樹脂４０６の上に第２の基板４０５を
重ね合わせる。このとき、第２の基板４０５の片面が鏡
面で無い場合、その非鏡面が第１の基板と対向するよう
に重ね合わせる。
【００７９】その後、図４（ｇ）に示すように第１基材
４０１を高速回転させることによって均一な放射線硬化
樹脂４０６の層を形成する。次に、図４（ｈ）に示すよ
うに、放射線硬化型樹脂４０６を紫外線ランプによって
硬化させ、透明接着層４０７を形成する。これにより、
図４（ｉ）に示すように、第２基材４０５側から記録再
生可能な光ディスクが作製される。
４０１を高速回転させることによって均一な放射線硬化
樹脂４０６の層を形成する。次に、図４（ｈ）に示すよ
うに、放射線硬化型樹脂４０６を紫外線ランプによって
硬化させ、透明接着層４０７を形成する。これにより、
図４（ｉ）に示すように、第２基材４０５側から記録再
生可能な光ディスクが作製される。
【００８０】第２基材４０５を作製する際、第２基材４
０５の片面にピットなどを転写した情報記録層（再生専
用層）を形成してもよい。この場合、ＡｇＰｄＣｕ合金
などで半透明反射層を設けると、追記型情報記録層と再
生専用層の２つの記録層を持つ２層型光ディスクが得ら
れる。
０５の片面にピットなどを転写した情報記録層（再生専
用層）を形成してもよい。この場合、ＡｇＰｄＣｕ合金
などで半透明反射層を設けると、追記型情報記録層と再
生専用層の２つの記録層を持つ２層型光ディスクが得ら
れる。
【００８１】なお、記録層４０４が形成された第１の基
板上にスピンコート法などによって放射線硬化樹脂を均
一に塗布し、この樹脂を紫外線照射によつて硬化させ、
それによって保護層を形成した後、第２基材４０５と貼
り合わせても良い。このような保護層を厚く形成する
と、第２基材４０５を貼り合わせること無しに、所望の
光ディスクを得ることもできる。
板上にスピンコート法などによって放射線硬化樹脂を均
一に塗布し、この樹脂を紫外線照射によつて硬化させ、
それによって保護層を形成した後、第２基材４０５と貼
り合わせても良い。このような保護層を厚く形成する
と、第２基材４０５を貼り合わせること無しに、所望の
光ディスクを得ることもできる。
【００８２】（実施の形態２）図５を参照しながら、本
発明による光ディスクの第２の実施形態を説明す。
発明による光ディスクの第２の実施形態を説明す。
【００８３】本実施形態における光ディスクは、本実施
形態における光ディスクは、溝が形成された面（第１
面）を有する第１基材５０１と、第１基材５０１におけ
る第１面上に設けられた積層構造とを備えている。図示
されている例では、第１基材５０１の第２面（第１面と
は反対側の面）には溝やピットは形成されていない。
形態における光ディスクは、溝が形成された面（第１
面）を有する第１基材５０１と、第１基材５０１におけ
る第１面上に設けられた積層構造とを備えている。図示
されている例では、第１基材５０１の第２面（第１面と
は反対側の面）には溝やピットは形成されていない。
【００８４】第１基材５０１は、射出成形によってポリ
カーボネイト材料から形成された円盤状の基板である。
第１基材５０１は透明である必要はない。
カーボネイト材料から形成された円盤状の基板である。
第１基材５０１は透明である必要はない。
【００８５】上記積層構造は、反射層５０２と、反射層
５０２上に形成された記録層５０３と、記録層５０３を
覆うように配置された透明部材とを有している。基材５
０１、反射層５０２、および記録層５０３は、前述した
実施形態２の基材１０１、反射層１０２、および記録層
１０３と同様の構造を有している。
５０２上に形成された記録層５０３と、記録層５０３を
覆うように配置された透明部材とを有している。基材５
０１、反射層５０２、および記録層５０３は、前述した
実施形態２の基材１０１、反射層１０２、および記録層
１０３と同様の構造を有している。
【００８６】本実施形態における透明部材は、記録／再
生光を透過し得る透明な材料から形成されており、図５
の例では、放射線硬化樹脂層５０４と、ピットで情報を
記録している半透明反射層５０５と、記録再生光を入射
させる透明カバー層５０６と含む積層構造を有してい
る。例えば、放射線硬化樹脂層５０４の厚さは１０〜３
０μｍであり、半透明反射層５０５の厚さは５〜２０μ
ｍ、透明カバー層５０６の厚さは０．１〜０．２ｍｍで
ある。再生時の読み取り精度を向上させるには、透明カ
バー層５０６は薄い方が好ましい。
生光を透過し得る透明な材料から形成されており、図５
の例では、放射線硬化樹脂層５０４と、ピットで情報を
記録している半透明反射層５０５と、記録再生光を入射
させる透明カバー層５０６と含む積層構造を有してい
る。例えば、放射線硬化樹脂層５０４の厚さは１０〜３
０μｍであり、半透明反射層５０５の厚さは５〜２０μ
ｍ、透明カバー層５０６の厚さは０．１〜０．２ｍｍで
ある。再生時の読み取り精度を向上させるには、透明カ
バー層５０６は薄い方が好ましい。
【００８７】上記の構成を採用することにより、対物レ
ンズ５０７を通して、記録層５０３に情報を追記するこ
とができるだけでなく、半透明反射層５０５の再生専用
情報および記録層５０３に記録された情報を再生するこ
とができる。
ンズ５０７を通して、記録層５０３に情報を追記するこ
とができるだけでなく、半透明反射層５０５の再生専用
情報および記録層５０３に記録された情報を再生するこ
とができる。
【００８８】なお、放射線硬化樹脂層５０４および透明
カバー層５０６は、記録再生光に対して透明な材料であ
れば、放射線硬化樹脂以外の樹脂から形成されても良
く、また、多層膜であっても良い。
カバー層５０６は、記録再生光に対して透明な材料であ
れば、放射線硬化樹脂以外の樹脂から形成されても良
く、また、多層膜であっても良い。
【００８９】次に、図６を参照しながら、本実施形態に
かかる光ディスクを作製する方法を説明する。
かかる光ディスクを作製する方法を説明する。
【００９０】まず、溝の凹凸形状を有するスタンパを用
いて、射出成形により、円盤状の第１基材６０１を作製
する（図６（ａ））。この後、第１基材６０１の溝また
はピットが転写された面上に、スパッタ法によって金薄
膜を堆積させ、反射層６０２を形成する（図６
（ｂ））。図６（ｃ）に示すように第１基材６０１の内
周部分に記録材料６０３を滴下した後、第１基材６０１
を高速回転させることにより、記録層６０４を形成する
（図６（ｄ））。
いて、射出成形により、円盤状の第１基材６０１を作製
する（図６（ａ））。この後、第１基材６０１の溝また
はピットが転写された面上に、スパッタ法によって金薄
膜を堆積させ、反射層６０２を形成する（図６
（ｂ））。図６（ｃ）に示すように第１基材６０１の内
周部分に記録材料６０３を滴下した後、第１基材６０１
を高速回転させることにより、記録層６０４を形成する
（図６（ｄ））。
【００９１】以上の工程により、第１の基板を作製す
る。
る。
【００９２】一方、図６（ｅ）に示すように、射出成形
によって片面にピットによって情報が記録された第２の
基板（第２基材）６０５を作製する。ピットの配列が再
生専用の記録情報を反映している。
によって片面にピットによって情報が記録された第２の
基板（第２基材）６０５を作製する。ピットの配列が再
生専用の記録情報を反映している。
【００９３】次に、図６（ｆ）に示すように、第１基材
６０１の記録層６０４が形成された面の内周に、放射線
硬化型樹脂６０６としてアクリル系紫外線硬化樹脂を滴
下した後、第２基材６０５のピット転写面側と記録層６
０４が対向するように重ね合わせる。そして、第１基材
６０１を高速回転させることによって均一な放射線硬化
樹脂の層を形成した後、紫外線ランプにより硬化させ
て、透明接着層を形成する（図６（ｇ））。
６０１の記録層６０４が形成された面の内周に、放射線
硬化型樹脂６０６としてアクリル系紫外線硬化樹脂を滴
下した後、第２基材６０５のピット転写面側と記録層６
０４が対向するように重ね合わせる。そして、第１基材
６０１を高速回転させることによって均一な放射線硬化
樹脂の層を形成した後、紫外線ランプにより硬化させ
て、透明接着層を形成する（図６（ｇ））。
【００９４】次に、図６（ｈ）に示すように、第２基材
６０５を剥離することによって、透明接着層の表面に第
２基材６０５のピットが転写して形成される。第２基材
６０５の剥離を容易にするため、予め第２基材６０５の
表面を剥離し易い材料でコートしておくことが望まし
い。
６０５を剥離することによって、透明接着層の表面に第
２基材６０５のピットが転写して形成される。第２基材
６０５の剥離を容易にするため、予め第２基材６０５の
表面を剥離し易い材料でコートしておくことが望まし
い。
【００９５】上記透明接着層の上に金属、例えばＡｇＰ
ｄＣｕ合金による半透明反射層６０７をスパッタリング
法により形成する（図６（ｉ））。更に放射線硬化樹脂
をスピンコートした後、この樹脂を硬化させることによ
って透明カバー層（厚さ０．０５〜０．２μｍ）６０８
を形成する（図６（ｊ））。透明カバー層６０８は、ポ
リカーボネイトなどの略透明材料基材から形成しても良
い。略透明材料基材は放射線硬化樹脂によって第１の基
板に接着される。
ｄＣｕ合金による半透明反射層６０７をスパッタリング
法により形成する（図６（ｉ））。更に放射線硬化樹脂
をスピンコートした後、この樹脂を硬化させることによ
って透明カバー層（厚さ０．０５〜０．２μｍ）６０８
を形成する（図６（ｊ））。透明カバー層６０８は、ポ
リカーボネイトなどの略透明材料基材から形成しても良
い。略透明材料基材は放射線硬化樹脂によって第１の基
板に接着される。
【００９６】上記の方法を採用する代わりに、記録層６
０４が形成された第１基板６０１に、放射線硬化樹脂を
スピンコート法などにより均一に塗布し、紫外線照射に
より硬化させて保護層を形成した後、第２基材６０５と
貼り合わせても良い。
０４が形成された第１基板６０１に、放射線硬化樹脂を
スピンコート法などにより均一に塗布し、紫外線照射に
より硬化させて保護層を形成した後、第２基材６０５と
貼り合わせても良い。
【００９７】上記の各実施形態では、第１基材に形成し
た溝の形状には言及しなかったが、溝はディスク上で蛇
行（ウォブル）するように形成されていても良い。その
場合、溝の蛇行（ウォブリグ）に基づいてクロック信号
やアドレス情報などを再生することもできる。
た溝の形状には言及しなかったが、溝はディスク上で蛇
行（ウォブル）するように形成されていても良い。その
場合、溝の蛇行（ウォブリグ）に基づいてクロック信号
やアドレス情報などを再生することもできる。
【００９８】
【発明の効果】本発明の光ディスクによれば、トラッキ
ングに用いられる基材の溝が浅い場合でも、良好なプッ
シュプルトラッキング信号が得られる。また、溝を浅く
でき、溝のある基材を厚くしても記録密度を向上させる
ことができるため、高記録密度化に適したディスクを容
易に作製できるようになる。
ングに用いられる基材の溝が浅い場合でも、良好なプッ
シュプルトラッキング信号が得られる。また、溝を浅く
でき、溝のある基材を厚くしても記録密度を向上させる
ことができるため、高記録密度化に適したディスクを容
易に作製できるようになる。
【図１Ａ】本発明による光ディスクの実施形態を示す断
面図である。
面図である。
【図１Ｂ】本発明の実施の形態１における光ディスクの
溝部を示す拡大図である。
溝部を示す拡大図である。
【図２】従来の光ディスク構造を示す断面図である。
【図３】従来の他の光ディスク構造を示す断面図であ
る。
る。
【図４】（ａ）〜（ｉ）は、実施形態１における光ディ
スクの作製工程を示す断面図である。
スクの作製工程を示す断面図である。
【図５】本発明による光ディスクの第２の実施形態を示
す断面図である。
す断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｊ）は、実施形態２における光ディ
スクの作製工程を示す断面図である。
スクの作製工程を示す断面図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、本発明による光ディスクの
反射層が有する島状構造を示す図である。
反射層が有する島状構造を示す図である。
１０１ 基材
１０２ 反射層
１０３ 記録層
１０４ 透明基材
１０５ 透明接着層
１０６ 対物レンズ
２０１ 基材
２０２ 記録層
２０３ 反射層
２０４ 基材
２０５ 接着層
２０６ 対物レンズ
３０１ 基材
３０２ 記録層
３０３ 反射層
３０４ 基材
３０５ 接着層
３０６ 対物レンズ
４０１ 基材
４０２ 反射層
４０３ 記録材料
４０４ 記録層
４０５ 基材
４０６ 放射線硬化型樹脂
４０７ 透明接着層
５０１ 基材
５０２ 反射層
５０３ 記録層
５０４ 透明樹脂層
５０５ 半透明反射層
５０６ 透明カバー層
５０７ 対物レンズ
６０１ 基材
６０２ 反射層
６０３ 記録材料
６０４ 記録層
６０５ 基材
６０６ 放射線硬化型樹脂
６０７ 半透明反射層
６０８ 透明カバー層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４Ａ
５３５ ５３５Ｇ
５３８ ５３８Ｃ
５３８Ｆ
５４１ ５４１Ｂ
５４１Ｄ
５４１Ｈ
５６１ ５６１Ｐ
7/09 7/09 Ｃ
7/26 ５３１ 7/26 ５３１
Ｆターム(参考） 5D029 JB13 JB36 KB14 LB07 RA01
WB17 WD12
5D118 AA13 BA01 BB03 BC02 CD03
5D121 AA01 AA04 AA07 EE22 FF03
Claims (30)
- 【請求項１】 凹部が形成された面を有する第１基材
と、前記面上に設けられた積層構造とを備えた光ディス
クであって、 前記積層構造は、 前記第１基材の前記面上に設けられた反射層と、 前記反射層上に形成され、前記凹部の内部を実質的に埋
め込む記録層と、 前記記録層を覆うように配置され、記録／再生光を透過
し得る透明部材とを有している光ディスク。 - 【請求項２】 前記第１基材の前記凹部の底部における
前記記録層の厚さは、前記第１基材の平坦部分における
前記記録層の厚さの１．５倍以上である請求項１に記載
の光ディスク。 - 【請求項３】 前記記録層の表面における段差が前記反
射層の表面における段差よりも小さくなるように前記記
録層の表面が略平坦化されている請求項１に記載の光デ
ィスク。 - 【請求項４】 前記記録層は塗布によって形成されてい
る請求項１に記載の光ディスク。 - 【請求項５】 前記記録層は色素を含有する記録材料か
ら形成されている請求項１に記載の光ディスク。 - 【請求項６】 前記記録層は前記反射層に存在する開口
部分を介して部分的に前記第１基材の表面と接触してい
る請求項５に記載の光ディスク。 - 【請求項７】 前記第１基材は、記録光が照射された記
録層と反応する材料から形成されている請求項６に記載
の光ディスク。 - 【請求項８】 前記反射層は、島状構造を有する材料か
ら形成されている請求項６に記載の光ディスク。 - 【請求項９】 前記透明部材は、放射線硬化樹脂から形
成されている請求項１に記載の光ディスク。 - 【請求項１０】 前記透明部材は、熱硬化性樹脂から形
成されている請求項１に記載の光ディスク。 - 【請求項１１】 前記透明部材は、 前記記録／再生光を透過しうる第２基材と、 前記第２基材を前記第１基材と接着させる接着層と、 を含んでおり、 前記第１基材と前記第２基材とが前記接着層を介して貼
り合わせられている請求項１から８のいずれかに記載の
光ディスク。 - 【請求項１２】 前記接着層は、放射線硬化樹脂から形
成されている請求項１１に記載の光ディスク。 - 【請求項１３】 前記透明部材は、半透明反射層および
第２記録層を含んでいる請求項１１に記載の光ディス
ク。 - 【請求項１４】 前記第２記録層には、溝および／また
はピットによって再生専用情報が記録されている請求項
１３に記載の光ディスク。 - 【請求項１５】 前記記録／再生光を透過し得る保護膜
が前記第１基板と前記接着層との間に形成されている請
求項１１に記載の光ディスク。 - 【請求項１６】 前記透明部材の厚さは０．３ｍｍ以下
である請求項１に記載の光ディスク。 - 【請求項１７】 前記第１基材の厚さは１．０〜１．２
ｍｍである請求項１６に記載の光ディスク。 - 【請求項１８】 再生光の波長をλ、前記記録層の屈折
率をｎとしたとき、前記凹部の深さが、λ／（４×ｎ）
以下である請求項１に記載の光ディスク。 - 【請求項１９】 第１の基板を作製する工程と、第２の
基板を作製する作工程と、前記第１および第２の基板を
略透明な接着剤によって貼り合わせる工程とを包含する
光ディスク作製方法であって、 前記第１の基板を作製する工程は、 （ａ）凹部を有する面を備えた基材を用意する工程と、 （ｂ）前記基材の前記面上に反射層を形成する工程と、 （ｃ）記録層で前記凹部の内部を実質的に埋め込む工程
と、を包含する、光ディスク作製方法。 - 【請求項２０】 前記基材の前記凹部の底部における前
記記録層の厚さを、前記基材の平坦部分における前記記
録層の厚さの１．５倍以上にする請求項１９に記載の光
ディスク作製方法。 - 【請求項２１】 前記工程（ｃ）は、前記記録層をスピ
ンコート法で前記反射層上に塗布する工程を含む請求項
１９に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項２２】 前記第２の基板を作製する工程は、 略透明基材の片面にピットおよび／または溝を形成する
工程と、 半透明膜を形成する工程とを包含する請求項１９に記載
の光ディスク作製方法。 - 【請求項２３】 前記略透明な接着剤として放射線硬化
樹脂を用いる請求項１９に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項２４】 塗布工程の後、記録層上に保護膜を形
成し、貼り合わせ工程を行うことを特徴とする請求項１
９に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項２５】 （ａ）凹部を有する面を備えた基材を
用意する工程と、 （ｂ）前記基材の前記面上に反射層を形成する工程と、 （ｃ）記録層で前記凹部の内部を実質的に埋め込む工程
と、 （ｄ）略透明材料を塗布する工程と、 （ｅ）前記略透明材料を硬化させる工程とを包含する光
ディスク作製方法。 - 【請求項２６】 前記反射層の表面に形成された前記凹
部の底部における前記記録層の厚さを、前記反射層の表
面の平坦部分における前記記録層の厚さの１．５倍以上
にする請求項２５に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項２７】 前記工程（ｃ）は、前記記録層をスピ
ンコート法によって前記反射層上に塗布する工程を含む
請求項２５または２６に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項２８】 前記塗布工程の後、前記略透明材料を
塗布する工程の前において、 ピットまたは溝によって情報が記録されている情報層を
形成する工程と、 半透明な反射層を形成する工程とを更に包含する請求項
２５に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項２９】 前記略透明材料の塗布をスピンコート
法により行う請求項２５に記載の光ディスク作製方法。 - 【請求項３０】 前記略透明材料は放射線硬化樹脂から
形成されており、前記略透明材料を硬化させる工程で
は、前記略透明材料に放射線を照射する請求項２５に記
載の光ディスク作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001268445A JP2003109246A (ja) | 2000-09-29 | 2001-09-05 | 光ディスクとその作製方法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000300053 | 2000-09-29 | ||
| JP2000-300053 | 2000-09-29 | ||
| JP2001225009 | 2001-07-25 | ||
| JP2001-225009 | 2001-07-25 | ||
| JP2001268445A JP2003109246A (ja) | 2000-09-29 | 2001-09-05 | 光ディスクとその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003109246A true JP2003109246A (ja) | 2003-04-11 |
Family
ID=26601204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001268445A Pending JP2003109246A (ja) | 2000-09-29 | 2001-09-05 | 光ディスクとその作製方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6835432B2 (ja) |
| EP (1) | EP1193700B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003109246A (ja) |
| KR (1) | KR100888179B1 (ja) |
| CN (1) | CN1224025C (ja) |
| DE (1) | DE60127063T2 (ja) |
| HK (1) | HK1044408A1 (ja) |
| TW (1) | TWI237821B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006114200A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-04-27 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体とその製造方法、および光記録媒体の記録方法 |
| US7551831B2 (en) | 2002-07-10 | 2009-06-23 | Pioneer Corporation | Information recording medium and information recorder |
| US7646698B2 (en) | 2004-05-11 | 2010-01-12 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| EP2224443A1 (en) | 2004-07-12 | 2010-09-01 | Panasonic Corporation | Method of producing an information recording medium and information recording/reproducing method |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004093070A1 (ja) * | 2003-04-14 | 2004-10-28 | Mitsubishi Chemical Corporation | 光記録媒体及びその記録再生方法 |
| ATE410293T1 (de) * | 2003-05-14 | 2008-10-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Verfahren zur herstellung von einer optischen anordnung auf eine mehrzal von körpern |
| JP2007527080A (ja) * | 2003-07-11 | 2007-09-20 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 記録可能な光記録担体 |
| KR100766764B1 (ko) * | 2004-07-16 | 2007-10-17 | 미츠비시 가가쿠 메디아 가부시키가이샤 | 광기록 매체 및 광기록 매체의 광기록 방법 |
| US20060067202A1 (en) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Tohru Yashiro | Optical recording medium, its production method, and recording method of the optical recording medium |
| US20090290255A1 (en) * | 2005-11-11 | 2009-11-26 | Showa Denko K.K. | Method of manufacturing magnetic recording media, magnetic recording media and magnetic read/write device |
| JP4462294B2 (ja) * | 2007-06-05 | 2010-05-12 | ソニー株式会社 | 記録媒体及び記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4359750A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-16 | Eastman Kodak Company | Optical disc structure |
| GB9017266D0 (en) * | 1990-08-07 | 1990-09-19 | Ici Plc | Optical recording elements |
| JP2596474B2 (ja) | 1991-03-18 | 1997-04-02 | 太陽誘電株式会社 | 光情報記録媒体 |
| JPH06150385A (ja) * | 1992-11-10 | 1994-05-31 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体 |
| JPH07141693A (ja) * | 1993-09-22 | 1995-06-02 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
| KR100209819B1 (ko) * | 1993-10-18 | 1999-07-15 | 사또 아끼오 | 광기록매체, 광기록매체의 표면에 프린팅하는 방법및 자외선경화형잉크 |
| JPH07137448A (ja) | 1993-11-15 | 1995-05-30 | Pioneer Electron Corp | 光記録媒体およびその製造方法 |
| US5904969A (en) * | 1995-07-07 | 1999-05-18 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical data recording medium and manufacturing method thereof |
| JPH0963120A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Sony Corp | 光学記録媒体 |
| US5972459A (en) | 1997-04-25 | 1999-10-26 | Sony Corporation | Optical recording medium and optical disk apparatus |
| JPH10302310A (ja) | 1997-04-25 | 1998-11-13 | Sony Corp | 光学記録媒体及び光学ディスク装置 |
| JP4111666B2 (ja) * | 2000-09-21 | 2008-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 光情報記録媒体の製造方法 |
| JP4076739B2 (ja) * | 2001-06-13 | 2008-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 光記録媒体 |
-
2001
- 2001-09-05 JP JP2001268445A patent/JP2003109246A/ja active Pending
- 2001-09-25 US US09/963,233 patent/US6835432B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-27 EP EP01123159A patent/EP1193700B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-27 DE DE60127063T patent/DE60127063T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-28 TW TW090124087A patent/TWI237821B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-09-29 CN CNB011361042A patent/CN1224025C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-29 KR KR1020010060881A patent/KR100888179B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-08-09 HK HK02105838A patent/HK1044408A1/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7551831B2 (en) | 2002-07-10 | 2009-06-23 | Pioneer Corporation | Information recording medium and information recorder |
| US8036071B2 (en) | 2004-05-11 | 2011-10-11 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| US7646698B2 (en) | 2004-05-11 | 2010-01-12 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| EP2207174A2 (en) | 2004-05-11 | 2010-07-14 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| EP2207175A2 (en) | 2004-05-11 | 2010-07-14 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| EP2207172A2 (en) | 2004-05-11 | 2010-07-14 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| EP2207173A2 (en) | 2004-05-11 | 2010-07-14 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| US8149682B2 (en) | 2004-05-11 | 2012-04-03 | Panasonic Corporation | Wobble information recording method, information recording medium, and recording and reproduction method and apparatus thereof |
| EP2224441A1 (en) | 2004-07-12 | 2010-09-01 | Panasonic Corporation | Method of producing an information recording medium and information recording/reproducing method |
| EP2224440A1 (en) | 2004-07-12 | 2010-09-01 | Panasonic Corporation | Method of producing an information recording medium and information recording/reproducing method |
| EP2224442A1 (en) | 2004-07-12 | 2010-09-01 | Panasonic Corporation | Method of producing an information recording medium and information recording/reproducing method |
| EP2230665A1 (en) | 2004-07-12 | 2010-09-22 | Panasonic Corporation | Method of producing an information recording medium and information recording/reproducing method |
| US7965592B2 (en) | 2004-07-12 | 2011-06-21 | Panasonic Corporation | Information recording medium, integrated circuit, recording/playback apparatus, computer program, and information recording/playback method |
| US7965593B2 (en) | 2004-07-12 | 2011-06-21 | Panasonic Corporation | Information recording medium, integrated circuit, recording/playback apparatus, computer program, and information recording/playback method |
| US7965591B2 (en) | 2004-07-12 | 2011-06-21 | Panasonic Corporation | Information recording medium, integrated circuit, recording/playback apparatus, computer program, and information recording/playback method |
| US8045445B2 (en) | 2004-07-12 | 2011-10-25 | Panasonic Corporation | Information recording medium, integrated circuit, recording/playback apparatus, computer program, and information recording/playback method |
| EP2224443A1 (en) | 2004-07-12 | 2010-09-01 | Panasonic Corporation | Method of producing an information recording medium and information recording/reproducing method |
| JP2006114200A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-04-27 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体とその製造方法、および光記録媒体の記録方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1193700B1 (en) | 2007-03-07 |
| DE60127063D1 (de) | 2007-04-19 |
| US6835432B2 (en) | 2004-12-28 |
| CN1224025C (zh) | 2005-10-19 |
| KR20020025837A (ko) | 2002-04-04 |
| KR100888179B1 (ko) | 2009-03-10 |
| CN1347106A (zh) | 2002-05-01 |
| US20020039346A1 (en) | 2002-04-04 |
| EP1193700A3 (en) | 2005-07-06 |
| DE60127063T2 (de) | 2007-06-21 |
| EP1193700A2 (en) | 2002-04-03 |
| HK1044408A1 (en) | 2002-10-18 |
| TWI237821B (en) | 2005-08-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7986601B2 (en) | Multi-purpose high-density optical disc | |
| JP2000030257A (ja) | 光情報媒体とその記録方法 | |
| KR100888179B1 (ko) | 광디스크와 그 제작 방법 | |
| US8675464B2 (en) | Dual sided optical storage media and method for making same | |
| US7910191B1 (en) | Method for forming light-transmitting cover layer for optical recording medium | |
| US6721265B1 (en) | High-density optical information recording medium and a substrate and a stamper for the manufacture thereof | |
| US20110096655A1 (en) | Forming light-transmitting cover layer for recording medium | |
| JP4266044B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| US20070147223A1 (en) | Optical disc and method of producing the same | |
| JP2002150611A (ja) | 多層光ディスク、多層光ディスク記録再生方法及び装置 | |
| JP4577404B2 (ja) | 光ディスク記録媒体の製造方法 | |
| WO2007058309A2 (ja) | 光記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
| JP4649395B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
| JP2002279707A (ja) | 片面２層ディスクの作製方法、該２層ディスク及び記録再生装置 | |
| US20050073943A1 (en) | Optical recording medium and method of manufacturing the same | |
| JP2003006919A (ja) | 光記録媒体、および光記録媒体製造方法 | |
| JP4922134B2 (ja) | 光記録媒体および媒体認識信号の記録方法 | |
| US20050074577A1 (en) | Optical recording medium | |
| US7986611B1 (en) | High-density optical recording media and method for making same | |
| JP2000339766A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| US20050073942A1 (en) | Optical recording medium and method of manufacturing the same | |
| JP2008186509A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2006318645A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2005196967A (ja) | 情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂基板の製造方法 | |
| JP2005108344A (ja) | 光記録媒体および光記録媒体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080627 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090626 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090714 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091201 |