DE60127063T2

DE60127063T2 - Optische Platte und Verfahren zur Herstellung der optischen Platte

Info

Publication number: DE60127063T2
Application number: DE60127063T
Authority: DE
Inventors: Shinya Kadoma-shi Abe; Kazuhiro Kadoma-shi HAYASHI
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp
Priority date: 2000-09-29
Filing date: 2001-09-27
Publication date: 2007-06-21
Anticipated expiration: 2021-09-28
Also published as: JP2003109246A; EP1193700A2; CN1347106A; KR100888179B1; KR20020025837A; DE60127063D1; TWI237821B; EP1193700B1; US6835432B2; CN1224025C; EP1193700A3; HK1044408A1; US20020039346A1

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Aufzeichnungsmedium, wie z.B. eine optische Scheibe und ein Verfahren zum Herstellen des optischen Aufzeichnungsmediums. Genauer gesagt betrifft die vorliegende Erfindung eine einmal beschreibbare optische Scheibe, auf welcher Daten aufgezeichnet werden können unter Verwendung eines organischen Farbstoffes oder dergleichen.
Compact Discs (CD) haben gemeinhin Verwendung gefunden und optische Scheiben haben bereits eine Position als bedeutendes Aufzeichnungsmedium gewonnen. Zusätzlich zu einer CD von einem Typ, der nur lesbar ist, ist die Verwendung gemeinhin einer CD-R als eine Scheibe vom Typ, der einmal beschreibbar ist, auf welchem Information aufgezeichnet wird, merklich. In den letzten Jahren wird Forschung und Entwicklung auf hochdichte optische Scheiben intensiv durchgeführt und eine DVD von höherer Dichte im Vergleich zu einer CD wird vorgeschlagen und praktisch verwendet. Unter den Standards der DVD erwartet man eine DVD-R, welche ein einmal beschreibbarer Typus einer optischen Scheibe ist als ein Medium, welches relativ billig ist und auf welchem Information geschrieben werden kann. Darüber hinaus wird die Entwicklung von optischen Scheiben höherer Dichte zum Aufzeichnen von Signalen mit weiter erhöhter Dichte für hoch auflösendes Fernsehen in der Zukunft oder für ähnliche Anwendungen, welche eine größere Kapazität benötigen, anvisiert.
Herkömmlicherweise verwendet die optische Scheibe vom Typus, der einmal beschreibbar ist, typifiziert durch CD-R, in erster Linie ein Aufzeichnungsmaterial, welches einen organischen Farbstoff einschließt, als primäre Komponente. In dem Fall von DVD-R wird substantiell das gleiche Aufzeichnungsmaterial verwendet.
Im folgenden wird eine konventionelle Konfiguration einer Scheibe vom einmal beschreibbaren Typus beschrieben werden unter Verwendung eines Beispiels einer DVD-R.
2 ist illustriert eine Querschnittskonfiguration einer konventionellen DVD-R-Scheibe. Die gezeigte DVD-R-Scheibe weist eine Konfiguration auf, in welcher eine erste Basisplatte 201 und eine zweite Basisplatte 204 zusammengebunden sind mit Hilfe einer Klebeschicht 205. In der ersten Basisplatte 201 wird eine Führungsspurrille 201a ausgebildet, in einer ersten Oberfläche 201c und eine zweite Oberfläche 201d stellt eine Spiegelgrenzfläche dar. 2 illustriert eine Vielzahl von Querschnitten in einer einzelnen spiralen Form der Rille 201a. Die erste Basisplatte 201 wird ausgebildet durch Spritzgussverfahren. Die Form der ersten Oberfläche 201c wird von einem Stanzgerät übertragen.
Auf der ersten Oberfläche 201c der ersten Basisplatte 201 wird eine Aufzeichnungsschicht 202, welche einen organischen Farbstoff enthält und eine Reflexionsschicht 203 gestapelt. Die Aufzeichnungsschicht 202 wird aufgebracht durch Spin Coaten und die Reflexionsschrift 203 wird abgeschieden auf der Aufzeichnungsschicht 202 durch ein Verfahren, wie z.B. Sputtern. Das Innere der Rille 201a der ersten Basisplatte 201 wird gefüllt mit der aufgebrachten Aufzeichnungsschicht 202, so dass eine Oberfläche der Aufzeichnungsschicht 202 substantiell flach ist unabhängig von der Unebenheit der ersten Oberfläche 201c der darunter liegenden Aufzeichnungssicht 202. Dementsprechend ist eine Oberfläche der Reflexionsschicht 203, abgeschieden auf der Aufzeichnungsschicht 202 substantiell flach.
Die zweite Basisplatte 204 wird ausgebildet durch Spritzgussverfahren, ähnlich wie bei der ersten Basisplatte 201. Die zweite Basisplatte 204 wird über eine Klebeschicht 205 angebunden an die erste Basisplatte 201, in welcher die Aufzeichnungsschicht 203 und die Reflexionsschicht 203 gestapelt werden.
Schreibe-/Lese-Strahlen oder -Licht wird durch ein Objektiv 206 auf einem optischen Kopf konvergiert und auf die optische Scheibe eingestrahlt von der Seite der zweiten Oberfläche 201d der ersten Basisplatte 201. Genauer gesagt, wird die Rille 201a bestrahlt mit der Schreibe-/Lese-Strahlung, welche durch die erste Basisplatte 201 übertragen wird.
Als nächstes wird unter Verweis auf 3 ein weiteres Beispiel einer optischen Scheibe beschrieben werden.
Die optische Scheibe von 3 schließt eine Aufzeichnungsschicht vom Typ organischer Farbstoff 302 ein, welche ausgebildet ist durch Abscheiden anstelle von Spin Coaten. In der optischen Scheibe weist, da die Aufzeichnungsschicht 302 abgeschieden wird, eine Oberfläche der Aufzeichnungsschicht 302 eine Form auf, welche eine Form reflektiert einer Rille oder einer Vertiefung (eines Pits), ausgebildet auf einer ersten Oberfläche 301c der ersten Basisplatte 301. Die Form wird in einer Grenzfläche einer Reflexionsschicht 303 reflektiert. Auf die optische Scheibe wird Schreib-/Lese-Strahlung angewandt von der Seite einer zweiten Oberfläche 301d der ersten Basisplatte 301.
In beiden der oben beschriebenen optischen Scheibe wird Spurkontrolle so durchgeführt, dass die Schreib-/Lese-Strahlung die Rille nachfährt. Üblicherweise wird der Nachweis der Spurabweichung durchgeführt durch ein Gegentakt (Push-Pull)-Verfahren. In dem Gegentakt-Verfahren wird die reflektierte Strahlung von einer Scheibe konvergiert auf zwei Detektoren, unterteilt entlang einer Linie, welche parallel zu einer Rillenrichtung ist und ein Unterschied in den Intensitäten der Strahlung, nachgewiesen durch die rechten und linken Detektoren wird als ein Spursignal nachgewiesen. Aufgrund der Phasendifferenz zwischen der reflektierten Strahlung von einer Rille und der reflektierten Strahlung von einer Fläche zwischen den Rillen ist das Signal 0, wenn ein konvergierter Strahlungslicht-Spot der Schreib-/Lese-Strahlung in einer zentralen Position der Rille oder der dazwischenliegenden Fläche ist. Wenn der konvergierte Strahlungslicht-Spot zwischen dem Zentrum der Rillen und dem Zentrum der dazwischenliegenden Fläche positioniert ist, ist das Signal ein positiver Wert oder ein negativer Wert. Wenn eine Wellenlänge der Schreib-/Lese-Strahlung λ ist und k gleich 0 oder eine natürliche Zahl ist, ist eine Amplitude des Spursignals das Maximum in einem Fall, wo ein absoluter Wert (Einheit: Bogenmaß, rad) einer Phasendifferenz zwischen der reflektierten Strahlung von einer Rille und einer dazwischenliegenden Fläche gleich π(2k + 1)/λ ist.
In der konventionellen optischen Scheibe, gezeigt in 2 wird die Aufzeichnungsschicht 202 ausgebildet durch Spin Coaten, so dass es einen Vorteil dahingehend gibt, dass der Zeitraum, benötigt für den Schritt zum Ausbilden der Aufzeichnungsschicht 202 verkürzt werden kann. Da jedoch die Oberfläche der Reflexionsschicht 203 so ausgebildet wird, dass sie substantiell eben ist, treten die folgenden Nachteile auf. Das heißt, eine Phasendifferenz δ von reflektierter Strahlung durch einen Rillenabschnitt und einer reflektierten Strahlung durch einen dazwischenliegenden Flächenabschnitt wird durch eine Gleichung repräsentiert von δ = 4π × ((n1 – n2) × d1 + n2 × d2)/λ, wobei ein Diffraktionsindex der ersten Basisplatte 201 gleich n1 ist, ein Diffraktionsindex der Aufzeichnungsschicht 202 = n2 ist, eine Tiefe einer Rille gleich d1 ist und ein Oberflächenschritt der Aufzeichnungsschicht 202 zwischen einem Rillenabschnitt und einem Nicht-Rillenabschnitt d2 ist.
Wenn d2 klein ist, und ein Unterschied zwischen dem Diffraktionsindex n1 der ersten Basisplatte 201 in dem Diffraktionsindex n2 der Aufzeichnungsschicht 202 klein ist, wird es, um eine hinreichende Amplitude des Spursignals zu erhalten, notwendig, die Rillentiefe d1 zum Erzeugen einer Phasendifferenz zu erhöhen. Als ein Ergebnis wird für den Zweck des Transferrierens einer tiefen Rille oder eines tiefen Pits der Zeitraum verlängert, da eine Temperatur von Harz und Guss hoch gesetzt wird, wenn die Basisplatte durch Spritzgussverfahren ausgebildet wird. Darüber hinaus ist es schwierig, für eine gegossene Basisplatte von dem Stanzgerät freigesetzt zu werden und eine Gußfreisetzungs-Nichtuniformität und eine Fehlstelle können leicht auftreten. Daher ist es schwierig, die Produktivität zu verbessern.
In dem Fall der optischen Scheibe von 3 wird die Aufzeichnungsschicht 302 ausgebildet durch Abscheiden, so dass die Reflexionsschicht 303 ausgebildet wird in Übereinstimmung mit der Form der Rille der Basisplatte 301. Als ein Ergebnis wird die Phasendifferenz δ repräsentiert durch eine Gleichung δ = 4π × n1 × d1/λ. Folglich kann eine hinreichende Phasendifferenz erzielt werden und eine gute Spursignalamplitude kann erhalten werden, ohne die Rillentiefe d1 zu erhöhen.
Jedoch ist die Ausbildung eines Films durch Abscheiden eines Aufzeichnungsmaterials, enthaltend einen organischen Farbstoff langsam und es ist schwierig, die Produktivität zu verbessern.
Darüber hinaus ist es für die beiden optischen Scheiben, da die Schreib-/Lese-Strahlung durch die Basisplatte angewandt wird, in welche Rillen oder Pits ausgebildet werden, bedeutsam die Basisplatten 201 und 301, in welchen Rillen oder Pits ausgebildet werden, mit hoher Präzision und guter Reproduzierbarkeit zu erzeugen.
Die Dicke der entsprechenden Basisplatten 201 und 301 betrifft die Aufzeichnungsdichte. Im allgemeinen ist es zur Verbesserung der Aufzeichnungsdichte einer optischen Scheibe notwendig, einen Strahlspot-Durchmesser eines Laserstrahls, verwendet zum Schreiben/Lesen zu reduzieren. Aus diesem Grund ist es notwendig, die Wellenlänge der Laserbestrahlung zu verkürzen und ein optisches System einzusetzen, mit einem hohen NA (numerischer Aperture)-Wert. Jedoch wird, wenn der NA-Wert groß ist, eine Aberration aufgrund des Tilts (der Neigung) der Scheibe verstärkt und das Reproduktionssignal wird verschlechtert. Um eine solche Aberration zu vermindern, ist es bevorzugt, dass die Dicke der entsprechenden Basisplatten 201 und 301 reduziert wird. Da jedoch die Basisplatten 201 und 301 durch Spritzgussverfahren ausgebildet werden, ist es schwierig, präzise die Form von Rillen und Pits auszubilden, und gleichzeitig die Dicke davon zu reduzieren. Folglich ist es in den optischen Scheiben von 2 und 3 schwierig, weiter die Aufzeichnungsdichte zu verbessern.
EP 0 874 362 A2 offenbart ein Aufzeichnungsmedium für eine optische Scheibe, welches eine Basisplatte umfasst mit einer Oberfläche mit Führungsrillen, eine Reflexionsfilmschicht, angeordnet oberhalb der Oberfläche der Basisplatte, eine Phasenveränderungs-Aufzeichnungsschicht einer einheitlichen Dicke, welche ausgebildet wird auf einer Führungsrille sowie eine Lichtübertragungsschicht mit einer variablen Dicke, welche die Aufzeichnungsschicht bedeckt. Die Basisplatte wird typischerweise hergestellt als ein gestanztes Substrat, der Reflexionsfilm durch Sputtern, die Aufzeichnungsschicht durch Abscheiden und die Lichttransmissionsschicht durch Spin Coaten.
US 4,359,750 offenbart eine optische Scheibe mit einer thermisch deformierbaren Aufzeichnungsschicht, welche eine reflektive Oberfläche einer Basisplatte, welche Führungsrillen aufweist, überlagert. Die obere Aufzeichnungsschicht-Oberfläche ist substantiell planar und ihre Dicke variiert in erster Linie im Vergleich zum Rillen- und dazwischen liegenden Flächenmuster der Basisplatte der Scheibe. Durch ein geeignetes Design der Rillentiefe und der Aufzeichnungsschichtdicke im Vergleich zu einer ausgewählten Leselichtwellenlänge ist die Phasenrelation des reflektierten Lichts so, dass die Pit-Abschnitte der Aufzeichnungsschicht keine Probleme beim Detektieren der Spuren verursachen, d.h. das dazwischen liegende Rillenflächenmuster stellt stabile Spurführung zum Aufzeichnen und Lesen zur Verfügung.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die Erfindung stellt eine optische Scheibe zur Verfügung, in welcher ein hinreichend gutes Signal erhalten werden kann, selbst wenn die Tiefe einer Rille zur Spurführung vermindert wird, und welche geeignet ist, zum Verbessern der Aufzeichnungsdichte, sowie ein Verfahren zum Herstellen der optischen Scheibe. Diese Aufgaben werden gelöst durch die Merkmale von Anspruch 1, Anspruch 18 und Anspruch 23. Bevorzugte Ausführungsformen werden in den Unteransprüchen adressiert.
KURZE BESCHREIBUNG VERSCHIEDENER ANSICHTEN DER ZEICHNUNGEN
Die oben dargelegte Zusammenfassung, wie auch die folgende detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung werden besser verstanden werden, wenn sie im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen gelesen werden. Zum Zwecke der Illustrierung der Erfindung wird in den Zeichnungen eine Ausführungsform gezeigt, welche derzeit bevorzugt ist. Es sollte sich jedoch verstehen, dass die Erfindung nicht auf die präzisen Anordnungen und instrumenteller Details, wie dargestellt sind, limitiert ist. In den Zeichnungen ist folgendes dargestellt:
1A ist eine Querschnittsansicht, welche eine erste Ausführungsform einer optischen Scheibe illustriert entsprechend der vorliegenden Erfindung;
1B ist eine vergrößerte Ansicht, welche eine Spurführungsrille der optischen Scheibe der optischen Scheibe entsprechend der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
2 ist eine Querschnittsansicht, welche eine Konfiguration einer konventionellen optischen Scheibe zeigt;
3 ist eine Querschnittsansicht, welche eine Konfiguration einer weiteren konventionellen optischen Scheibe zeigt;
4 ist ein Flussdiagramm, welches die Schritte (a) bis (i) einschließt, welche die Herstellungsschritte der optischen Scheibe entsprechend der ersten Ausführungsform der Erfindung zeigen;
5 ist eine Querschnittsansicht, welche eine zweite Ausführungsform der optischen Scheibe entsprechend der vorliegenden Erfindung illustriert;
6 ist ein Flussdiagramm, welches die Schritte (a) bis (i) einschließt, welche die Herstellungsschritte der optischen Scheibe entsprechend einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung illustrieren; und
7 ist eine ebene Ansicht, welche die Schritte (a) bis (c) einschließt, welche eine inselartige Struktur einer Reflexionsschicht der optischen Scheibe zeigt entsprechend der vorliegenden Erfindung.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Im folgenden werden die bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen optischen Scheibe beschrieben werden unter Verweis auf die beigefügten Zeichnungen.
(Ausführungsform 1)
1A ist eine Querschnittsansicht, welche eine erste Ausführungsform einer optischen Scheibe entsprechend der vorliegenden Erfindung illustriert. 1A zeigt nur einen Abschnitt auf der rechten Seite einer Rotationszentrumsachse (angegeben durch eine unterbrochene Linie) der optischen Scheibe.
Die optische Scheibe dieser Ausführungsform schließt eine erste Basisplatte 101 ein mit einer ersten Oberflächen 101c, in welcher eine Spirale oder konzentrische Spurrille (Vertiefung) 101a zum Führen der Spurkontrolle ausgebildet wird sowie eine Vielschichtstruktur, abgeschieden auf der ersten Oberfläche 101c der ersten Basisplatte 101. In dem Beispiel, gezeigt in der Figur wird eine Rille ausgebildet in der ersten Oberfläche 101c der ersten Basisplatte 101, jedoch eine zweite Oberfläche (eine Oberfläche gegenüberliegend der ersten Oberfläche) 101d ist, eben. In der ersten Oberfläche 101c kann anstelle der Rille ein Pit ausgebildet werden.
Die erste Basisplatte 101 ist ein scheibenartiges Substrat, ausgebildet durch Spritzgussverfahren aus einem Polymermaterial. Die Rille 101a der ersten Basisplatte 101 wird von einem Stanzgerät in dem Spritzgussverfahren transferriert.
Da es unnötig ist, für die erste Basisplatte 101 die Schreib-/Lese-Strahlung zu übertragen, muss die erste Basisplatte 101 nicht notwendigerweise transparent sein. Sogar in dem Fall, wo ein optischer Scheibenapparat ein optisches System einsetzt mit einem hohen Na-Wert (0,8 oder mehr beispielsweise), ist es unnötig, die Dicke der ersten Basisplatte 101 zu reduzieren. Die Dicke der ersten Basisplatte 101 in dieser Ausführungsform wird zufällig ausgewählt, beispielsweise 0,6 bis 1,2 mm.
Die Vielschichtstruktur umfasst eine Reflexionsschrift 102, eine Aufzeichnungsschicht (oder eine beschreibbare Informationsschicht) 103, ausgebildet auf der Reflexionsschicht 102 und ein transparentes Element 110, so angeordnet, dass es die Aufzeichnungsschicht 103 bedeckt.
Die Reflexionsschicht 102 wird aus einem Metall ausgebildet. Die Dicke der Reflexionsschicht 102 ist 5 bis 60 nm, beispielsweise, und ist substantiell einheitlich innerhalb oder außerhalb der Rille 101a. Die Reflexionsschicht 102 im Abschnitt der optischen Scheibe weist eine Form auf, welche eine unebene Form der ersten Oberfläche 101c der ersten Basisplatte 101 reflektiert. Wie im Detail beschrieben, muss die Reflexionsschicht 102 nicht notwendigerweise aus einem Film bestehen, der einheitlich und perfekt kontinuierlich verläuft. In einer bevorzugten Ausführungsform wird die Reflexionsschicht 102 aus einem Aggregat von Metall bestehen und kann porös sein.
Die Aufzeichnungsschicht 103 wird durch einen Film aus einem Aufzeichnungsmaterial konfiguriert mit einem organischen Farbstoff und wird so ausgebildet, dass sie substantiell die Innenseite der Rille 101a der ersten Basisplatte 101 ausfüllt. Das Aufzeichnungsmaterial ist beispielsweise ein Material mit einem Cyanin-Farbstoff oder einem Farbstoff des Phthalocyanin-Typs. Wenn die Aufzeichnungsschicht 103 auf die erste Oberfläche 101c der ersten Basisplatte 101 aufgebracht wird durch ein Verfahren, wie z.B. Spin-Coaten, wird die Aufzeichnungsschicht 103 so ausgebildet, dass sie substantiell die Innenseite der Rille 101a füllt. Darüber hinaus wird die Aufzeichnungsschicht 103 auch dünn auf einem Abschnitt (einem flachen Abschnitt) 101b zwischen den Rillen ausgebildet. Vorzugsweise ist die Dicke der Aufzeichnungsschicht 103 in dem ebenen Abschnitt 101b so dünn als möglich.
1B ist eine vergrößerte Ansicht, welche den Querschnitt der Aufzeichnungsschicht 103 in größerem Detail zeigt. In 1B wird die Dicke der Aufzeichnungsschicht 103 in der Rille 101a repräsentiert durch "t1" und die Dicke davon im flachen Abschnitt 101b wird repräsentiert durch "t2". In dieser Ausführungsform ist, da das Innere der Rille 101a substantiell gefüllt ist, mit der Aufzeichnungsschicht 103, die Dicke t1 1,5fach größer als die Dicke t2. Wenn beispielsweise die Dicke d1 der Rille ungefähr 32 nm ist, ist t1 ungefähr 40 nm und t2 ist ungefähr 10 nm. Die tatsächliche Rillenbreite ist ungefähr 0,1 bis 0,3 μm, so dass die Beziehung zwischen der Rillentiefe und der Rillenbreite, die in den entsprechenden Figuren dieser Beschreibung gezeigt ist, nicht tatsächlich die aktuelle Beziehung widerspiegelt.
Es wird nun erneut auf 1A Bezug genommen. Das transparente Element 110 besteht aus einem transparenten Material, welches die Schreib-/Lese-Strahlung transmittieren kann. In dem Beispiel, das in 1A gezeigt ist, wird das transparente Element 110 durch eine transparente Basisplatte 104 konfiguriert und eine transparente Klebeschicht 105. Die transparente Klebeschicht 105 bindet die transparente Basisplatte 104 an die erste Basisplatte 101, so dass die Basisplatten aneinander gebunden werden. Die transparente Klebeschicht 105 ist nicht auf eine Schicht limitiert. Alternativ kann die transparente Klebeschicht 105 eine Vielschichtstruktur aufweisen, falls sie ein transparentes Medium darstellt. Anstelle einer transparenten Basisplatte 105, welche durch Spritzgussverfahren oder andere Verfahren ausgebildet wird, kann eine Harzschicht, die durch Bestrahlung aushärtbar ist, dick auf der Basisplatte 101 ausgebildet werden, wodurch das transparente Element 110 konstituiert wird.
Die Dicke der transparenten Klebeschicht 105 ist ungefähr 5 bis 50 μm, um ein Beispiel zu nennen. Die Dicke der transparenten Basisplatte 104 ist ungefähr 0,1 bis 0,3 mm, um ein Beispiel zu nennen. Mit Blick auf diese Zahlenwerte, kann man sehen, dass die Tiefe und die Breite der Rille 101a, gezeigt in 1A übertrieben sind in ihrer Größe mit Blick auf die Größen der anderen zusammensetzenden Elemente.
In dem Fall, wo ein Benutzer Information auf die optische Scheibe dieser Ausführungsform aufzeichnet, wird Schreib-Strahlung auf de Aufzeichnungsschicht 103 über ein Objektiv 106 eines optischen Scheibenapparates angewandt. Die Schreib-Strahlung führt thermische Energie auf die Aufzeichnungsschicht 103 zu, so dass die optischen Eigenschaften (Strahlungsabsorption durch organischen Farbstoff, um ein Beispiel zu nennen) der Aufzeichnungsschicht 103 verändert werden. Auf der anderen Seite wird in dem Fall, wo ein Benutzer die Information liest, die auf der optischen Scheibe aufgezeichnet oder gespeichert wird, die Lesestrahlung auf die Aufzeichnungsschicht 103 aufgebracht über das Objektiv 106 des optischen Scheibenapparates. Die Lesestrahlung mit kleinerer optischer Ausgabeleistung, verglichen mit derjenigen der Schreibstrahlung, wird benutzt zum Nachweis eines Unterschiedes in den optischen Eigenschaften, variiert abhängend von den Positionen der Aufzeichnungsschicht 103. Durch Detektion der Reflexivität der Lesestrahlung kann die Information gelesen werden.
In der optischen Scheibe dieser Ausführungsform wird, wenn die Schreib-/Lese-Strahlung auf die Aufzeichnungsschicht 103 angewandt wird, die Schreib-/Lese-Strahlung nicht auf die Aufzeichnungsschicht 103 über die erste Basisplatte 101 zugeführt, in welcher Rillen oder Pits in der Oberfläche davon ausgebildet werden, sondern über die transparente Basisplatte 104, gebunden an die erste Basisplatte 101. Eine "Rille" und ein "dazwischen liegendes Gebiet" werden üblicherweise durch die relative Platzierung mit Blick auf den optischen Kopf (ein Objektiv) beim Schreiben/Lesen definiert. In der optischen Scheibe von 1A wird ein Abschnitt, welcher relativ enger an dem Objektiv 106 liegt, als eine "Rille" bezeichnet und ein Abschnitt welcher relativ weiter von dem Objektiv 106 entfernt ist, wird als ein "dazwischen liegendes Gebiet" („Land") bezeichnet. Genauer gesagt, sind in der optischen Scheibe von 1A im Vergleich zu den optischen Scheiben von 2 und 3 die Rillen und das dazwischen liegende Gebiet invertiert. Mit solch einer Definition ist die optische Scheibe dieser Ausführungsform eine optische Scheibe eines so genannten "dazwischen liegenden Gebietes-Aufzeichnungs-Typs". Jedoch wird im Rahmen dieser Beschreibung im Sinne der Einfachheit eine Vertiefung, welche strikt als ein "dazwischen liegendes Gebiet" bezeichnet werden soll, als eine Rille bezeichnet. Um Verwirrung zu vermeiden, wird die Rille 101a, welche mit der Aufzeichnungsschicht 103 gefüllt ist, manchmal als eine "Vertiefung" bezeichnet.
Die Tiefe d1 der Rille 101a der ersten Basisplatte 101 ist am besten in der Beziehung von d1 = λ/(8 × n2), wenn die Wellenlänge der Schreib-/Lesestrahlung gleich λ ist und der refrektive Index der Aufzeichnungsschicht 103 gleich n2 ist. Genauer gesagt kann für einen roten Laser mit einer Wellenlänge von 650 nm ein hinreichendes Gegentakt-Spursignal erhalten werden, unter einer Bedingung, wo d1 substantiell gleich 50 nm ist. Für einen blauen Laser mit einer Wellenlänge von 405 nm kann ein hinreichendes Gegentakt-Spursignal erhalten werden bei einer Bedingung, wo d1 substantiell gleich 35 nm ist.
Nicht nur unter dem Gesichtspunkt der Eigenschaften der Spursignale ist es notwendig, die Tiefe d1 der Rille so zu setzen, um Aufzeichnungssignale mit guter Qualität bei der Reproduktion zu erhalten. Folglich ist es wünschenswert, dass die Tiefe d1 so gesetzt wird, dass sie tiefer ist, als die oben genannten Werte. Jedoch ist das Gegentakt-Spursignal minimal unter der Bedingung von d1 = λ/(4 × n2), so dass es wünschenswert ist, dass d1 so gesetzt wird, dass sie kleiner sein soll als λ/(4 × n2).
In dieser Ausführungsform werden, wenn Information auf die Aufzeichnungsschicht 103 aufgezeichnet wird, die Eigenschaften der Aufzeichnungsschicht 103, welche optische Energie aufnimmt, durch die chemische Reaktion mit dem Material der Basisplatte 101 verändert. Um eine solche chemische Reaktion auszulösen, anstelle der Existenz der Reflexionsschicht 102 als ein einheitlicher Film, ist es bevorzugt, dass Öffnungsabschnitte partiell in der Reflexionsschicht 102 ausgebildet werden und dass die Basisplatte 101 und die Aufzeichnungsschicht 103 in Kontakt stehen miteinander über die Öffnungsabschnitte. In dieser Ausführungsform wird die Reflexionsschicht 102 mit einer inselartigen Struktur ausgebildet. Die Reflexionsschicht 102 mit solch einer inselartigen Struktur wird in dem Fall erhalten, wo ein Metallfilm dünn aufgewachsen wird unter Verwendung einer dünnen Filmabscheidungstechnik, wie z.B. Gasphasenabscheidung. Jedoch ist es, falls der Film zu dünn ist, nicht bevorzugt, da die Reflexion der Schreib-/Lesestrahlung unterhalb ein gewünschtes Niveau fällt und die Intensität der Lesestrahlung abgesenkt wird. Eine bevorzugte Durchschnittsdicke der Reflexionsschicht 102 ist 5 bis 40 nm.
In 7(a) bis (c) werden verschiedene Morphologien gezeigt der Wachstumsschritte einer Goldschicht, ausgebildet durch Gasphasenabscheidung und (a) bis (c) sind ebene Ansichten erzeugt basierend auf der Beobachtung mit Hilfe eines Transmissionselektronen-Mikroskop-Fotoapparates. Wie in (a) bis (c) von 7 gezeigt, wird, ist, wenn die Metallschicht dünn ist (25 nm oder weniger, um ein Beispiel zu nennen), die Metallschicht nicht einheitlich und weist eine inselartige Struktur auf, in welchem Metallpartikel oder Abscheidungen aggregiert sind. Da die Dicke der Metallschicht vergrößert ist, wird die Größe eines jeden Metallpartikels vergrößert und benachbarte Metallpartikel werden aneinander gekoppelt. Die Metallpartikel konstituieren eventuell einen durchgehend einheitlichen Film (siehe (c) von 7).
Selbst in dem Fall, wo die Reflexionsschicht 102 aus einer Metallschicht besteht, welche die oben erwähnten inselartigen Strukturen aufweist, ist es, falls die durchschnittliche Dicke der Reflexionsschicht 102 in einem geeigneten Bereich reguliert wird, möglich, eine gewünschte Reflexion zu erhalten. In dieser Ausführungsform wird ein Metall solch einer inselartigen Struktur auch als eine "Metallschicht" oder eine "Reflexionsschicht" bezeichnet.
In dieser Ausführungsform wird eine Reflexionsschicht solch einer inselartigen Struktur verwendet, so dass ein teilweiser Kontakt zwischen der Basisplatte 101 und der Aufzeichnungsschicht 103 realisiert wird. Aufgrund des teilweisen Kontaktes kann die Hitze, erzeugt bei der Bestrahlung durch Schreibstrahlung die chemische Reaktion zwischen der Basisplatte 101 und der Aufzeichnungsschicht 103 verstärken. Es gibt eine Vorteil dahingehend, dass die chemische Reaktion die Veränderung in der Rillenbreite- und -tiefe erzeugt (die Veränderung in der Form der Rille), so dass die Qualität des reproduzierten Signals verbessert wird.
Wenn die Reflexionsschicht 102 die inselartige Struktur aufweist, wird die Struktur der Reflexionsschicht 102 verändert durch die Hitze, erzeugt in der Bestrahlung durch die Schreibstrahlung, so dass die Reflexion des bestrahlten Abschnittes der Reflexionsschicht 102 verändert wird. Als ein Ergebnis wird bei dem Einfallabschnitt der Schreibstrahlung nicht nur eine Markierung auf der Aufzeichnungsschicht 103 ausgebildet, sondern auch eine Veränderung der Reflexion durch die Reflexionsschicht 102 zu erwarten sein. Dies trägt zur Verbesserung der Detektionssensitivität der Aufzeichnungsmarkierung bei.
In dieser Ausführungsform wird Au verwendet als Material für die Reflexionsschicht 102. Alternativ kann ein weiteres Metall oder eine Legierung verwendet werden. Beispielsweise kann eine Silberlegierung, wie z.B. AgPdCu verwendet werden, ein Metall, wie z.B. Al, Ti, Cr oder eine Legierung aus diesen Metallen kann für das Material der Reflexionsschicht verwendet werden.
In dieser Ausführungsform wird transparentes Polycarbonat für das Material der Basisplatte 101 verwendet. Jedoch muss die Basisplatte 101 nicht notwendigerweise so beschaffen sein, dass sie die Lesestrahlung transmittiert. Aus diesem Grund kann ein opaques Material verwendet werden zum Ausbilden der Basisplatte 102, falls gewünschte Rillen oder Pits leicht in dem opaquen Material erzeugt werden können. Auf der anderen Seite kann für die transparente Basisplatte 104, positioniert auf der einfallenden Seite der Schreib-/Lese-Strahlung ein Material, verschieden von Polycarbonat verwendet werden, falls das Material die Schreib-/Lese-Strahlung transmittieren kann.
In dieser Ausführungsform wird ein durch Bestrahlung aushärtendes Harz verwendet für die transparente Klebeschicht 105. Alternativ kann ein thermohärtendes Harz oder ein weiteres Harz verwendet werden, falls das Material die Eigenschaften der Aufzeichnungsschicht verschlechtert.
Als nächstes wird mit Blick auf 4 ein Verfahren zum Herstellen der optischen Scheibe dieser Ausführungsform beschrieben werden.
Ein Stanzgerät, welcher eine Form von Rillen oder Pits definiert, wird verwendet und eine scheibenartige Basisplatte 401 wird ausgebildet durch Spritzgussverfahren ((a) von 4). Anschließend wird auf eine Oberfläche der Basisplatte 401, auf welche die Rollen oder Pits transferriert werden, ein dünner Metallfilm abgeschieden durch Sputtern, wodurch eine Reflexionsschicht 402 ((b) von 4) ausgebildet wird. Wie in (c) von 4 gezeigt, wird, nachdem ein Aufzeichnungsmaterial 403 auf einen inneren umlaufenden Abschnitt der Basisplatte 401 verteilt worden ist, die Basisplatte 401 bei einer hohen Geschwindigkeit rotiert (300 bis 2000 rpm um, ein Beispiel zu nennen), wodurch eine Aufzeichnungsschicht 404 ausgebildet wird ((d) von 4). Die aufgebrachte Aufzeichnungsschicht 404 füllt die Innenseiten der Rillen, ausgebildet auf der Oberfläche der Basisplatte 401, so dass die Oberfläche der Aufzeichnungsschicht 404 substantiell eben ist.
Ein erstes Substrat wird in den oben erwähnten Schritten ausgebildet.
Auf der anderen Seite wird, wie in (e) von 4 gezeigt, ein zweites Substrat (eine zweite Basisplatte) 405 mit zumindest einer Spiegelgrenzfläche erzeugt durch Spritzgussverfahren. Zu dieser Zeit ist die Dicke der zweiten Basisplatte 405 vorzugsweise dünn, da die Dicke die Apparation der Lesestrahlung reduziert. Es ist bevorzugt, dass die Dicke der zweiten Basisplatte 405 so gesetzt wird, dass sie 0,3 mm ist oder weniger (0,1 mm, um ein Beispiel zu nennen). Solch eine dünne zweite Basisplatte 405 mit der Dicke von 0,3 mm oder weniger, kann leicht durch ein Verfahren ausgebildet werden, welches sich vom Spritzgussverfahren unterscheidet. Beispielsweise kann die zweite Basisplatte 405 aus einer transparenten Schicht bestehen, welche eine gewünschte Dicke von 0,3 mm oder weniger aufweist.
Eine bevorzugte Dicke der zweiten Basisplatte 405 wird variiert, abhängend von einem NA-Wert eines optischen Systems, eingesetzt in einem optischen Scheibeapparat. In dem Fall, wo die Wellenlänge der Schreib-/Lese-Strahlung ungefähr 0,5 mm ist, um ein Beispiel zu nennen, und der NA-Wert des optischen Systems ungefähr 0,85 ist, ist es bevorzugt, dass die Dicke der zweiten Basisplatte 405 so gesetzt wird, dass sie 0,2 mm oder weniger beträgt, was dazu dient, die Aberration, verursacht, durch die Neigung einer Scheibe, zu verringern. Mehr bevorzugt wird die Dicke auf ungefähr 0,1 mm gesetzt. In dieser Ausführungsform kann, da irgendwelche Rillen oder Pits nicht in der zweiten Basisplatte 405 ausgebildet werden, die zweite Basisplatte 405 mit hoher Präzision durch Spritzgussverfahren erzeugt werden, oder mit Hilfe anderer Verfahren.
Wie in (f) von 4 gezeigt, wird ein Harz von Acryltyp, welches durch Bestrahlung aushärtbar ist, als durch Bestrahlung aushärtbares Harz 406 in den inneren umlaufenden Abschnitt einer Oberfläche des ersten Substrates verteilt, in welchen die Aufzeichnungsschicht 404 ausgebildet wird, das zweite Substrat 405 wird auf das durch Bestrahlung aushärtbare Harz 406 überlagert. Zu dieser Zeit wird, falls eine der Oberfläche des zweiten Substrates 405 nicht eine Spiegelgrenzfläche ist, die Überlagerung so durchgeführt, dass eine Nicht-Spiegel-Gränzfläche dem ersten Substrat gegenüberliegt.
Danach wird, wie in (g) von 4 gezeigt, die erste Basisplatte 401 bei einer hohen Geschwindigkeit rotiert, wodurch eine einheitliche Schicht aus dem durch Bestrahlung aushärtbaren Harz 406 ausgebildet wird. Als nächstes wird, wie in (h) von 4 gezeigt, das durch Bestrahlung aushärtbare Harz 406 mit Hilfe einer ultravioletten Lampe ausgehärtet, wodurch eine transparente Klebeschicht 407 besteht. Dementsprechend kann, wie in (i) von 4 gezeigt ist, eine optische Scheibe, auf welcher Information gespeichert und von welcher Information reproduziert werden kann, von der Seite der zweiten Basisplatte 405, erzeugt werden.
Wenn die zweite Basisplatte 405 erzeugt wird, kann eine Informationsaufzeichnungsschicht (eine Informationsschicht, die nur gelesen werden), auf welche Pits und dergleichen transferriert werden, ausgebildet werden auf einer Grenzfläche der zweiten Basisplatte 405. In diesem Fall kann eine semitransparente Reflexionsschicht aus AgPdCu-Legierung od. dgl. angeordnet werden, eine optische Scheibe eines Zweischichttyps, welche zwei Aufteilungsschichten aufweist, d.h. eine Informationsaufzeichnungsschicht vom einmal beschreibbaren Typus und eine Informationsschicht, die nur gelesen werden kann, können erhalten werden.
Alternativ wird, nachdem ein Harz, das durch Bestrahlung aushärtbar ist, einheitlich durch Spincoaten od. dgl. auf das erste Substrat aufgebracht worden ist, in welchem die Aufzeichnungsschicht 404 ausgebildet wird, das Harz ausgehärtet durch Bestrahlen durch ultraviolette Strahlung, wodurch eine Schutzschicht ausgebildet wird. Anschließend wird das erste Substrat an die zweite Basisplatte 405 gebunden. Falls solch eine Schutzschicht dick ausgebildet wird, kann eine gewünschte optische Scheibe erhalten werden, ohne die zweite Basisplatte 405 anzukleben.
(Ausführungsform 2)
Unter Verweis auf 5 wird eine optische Scheibe in einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben werden.
Die optische Scheibe in dieser Ausführungsform umfasst eine erste Basisplatte 501 mit einer ersten Oberfläche, in welcher eine Rille ausgebildet wird und (eine Vielschichtstruktur, angeordnet auf der ersten Oberfläche) der ersten Basisplatte 501.
In dem gezeigten Beispiel wird keine Rille bzw. kein Pit in einer zweiten Oberfläche (eine Grenzfläche auf der gegenüberliegenden Seite der ersten Oberfläche) bezogen auf die erste Basisplatte 501 ausgebildet.
Die erste Basisplatte 501 ist ein scheibenartiges Substrat, welches aus Polycarbonatmaterial erzeugt wird durch Spritzgussverfahren. Es ist nicht notwendig, dass die erste Basisplatte 501 transparent ist.
Die Vielschichtstruktur schließt eine Reflexionsschicht 502 ein, eine Aufzeichnungsschicht 503, ausgebildet auf der Reflexionsschicht 502 und ein transparentes Element, angeordnet, so dass es die Aufzeichnungsschicht 503 bedeckt. Die Basisplatte 501, die Reflexionsschicht 502 und die Aufzeichnungsschicht 503 weisen die gleichen Konfigurationen, wie diejenigen der Basisplatte 101 auf, der Reflexionsschicht 102 und der Aufzeichnungsschicht 103 in der oben beschriebenen ersten Ausführungsform.
Das transparente Element in dieser Ausführungsform besteht aus einem transparenten Material, welches Schreib-/Lese-Strahlung transmittieren kann. In dem Beispiel von 5 weist das transparente Element eine Vielschichtstruktur auf, welches eine durch Strahlung aushärtbare Harzschicht 504 einschließt, eine halbtransparente Reflexionsschicht 505, in welcher Information aufgezeichnet wird, in der Form von Pits sowie eine transparente Abdeckungsschicht 506 zum Transmittieren der Schreib-/Lese-Strahlung durch diese. Beispielsweise ist die Dicke der Schicht aus durch Bestrahlung aushärtbarem Harz 504 10 bis 30 μm, die Dicke der halbtransparenten Reflexionsschicht 505 ist 5 bis 20 μm und die Dicke der transparenten Abdeckungsschicht 506 ist 0,1 bis 0,2 mm. Um die Lesepräzision in der Reproduktion zu verbessern, ist die transparente Abdeckungsschicht 506 vorzugsweise so dünn als möglich.
Mit der oben beschriebenen Konfiguration kann Information einmal in der Aufzeichnungsschicht 503 über ein Objektiv 507 geschrieben werden. Darüber hinaus kann die nur zum Lesen gedachte Information in der halbtransparenten Reflexionsschicht 505 und die Information, aufgezeichnet in der Aufzeichnungsschicht 503 reproduziert werden.
Die Schicht aus durch Bestrahlung aushärtbarem Harz 504 und die transparente Bedeckungsschicht 506 können ausgebildet werden aus einem Harz, welches verschieden ist von dem Harz, das durch Bestrahlung aushärtbar ist, falls das als Material verwendet Harz transparent für die Schreib-/Lese-Strahlung ist. Alternativ kann die Schicht einen Vielschichtfilm darstellen.
Als nächstes wird unter Verweis auf 6 ein Verfahren beschrieben zum Herstellen einer optischen Scheibe dieser Ausführungsform.
Zunächst wird ein Stanzgerät mit einer uneinheitlichen Form von Rillen verwendet, um damit eine scheibenähnliche, erste Basisplatte 601 durch Spritzgussverfahren zu erzeugen ((a) von 6)). Anschließend wird auf eine Oberfläche der ersten Basisplatte 601, auf welche Rillen oder Pits transferriert werden, ein Metallfilm durch Sputtern abgeschieden, wodurch eine Reflexionsschicht 602 ((b) von 6) ausgebildet wird. Wie in (c) von 6 gezeigt, wird, nachdem ein Aufzeichnungsmaterial 603 in einem inneren umlaufenden Abschnitt der ersten Basisplatte 601 abgeschieden worden ist, die erste Basisplatte 601 bei einer hohen Geschwindigkeit rotiert, wodurch eine Aufzeichnungsschicht 604 (b) von 6 ausgebildet wird.
Ein erstes Substrat wird in den oben erwähnten Schritten erzeugt. Auf der anderen Seite wird, wie in (e) von 6 gezeigt, ein zweites Substrat (eine zweite Basisplatte) 605, auf welche Information auf einer Oberfläche in der Form von Pits aufgezeichnet ist, erzeugt durch Spritzgussverfahren. Die Anordnung von Pits reflektiert die nur zum Lesen gedachte Information.
Als nächstes wird, wie in (f) von 6 gezeigt, ein Harz vom Acryltyp, welches im Ultravioletten aushärtbar ist, als ein durch Bestrahlung aushärtbares Harz 606 auf eine innere umlaufende Fläche der Oberfläche der ersten Basisplatte 601 verteilt, auf welcher eine Aufzeichnungsschicht 604 ausgebildet wird. Anschließend werden die Substrate so überlagert, dass die Oberfläche der zweiten Basisplatte 605, auf welche Pits transferriert werden, gegenüber der Aufzeichnungsschicht 604 liegen. Nachdem eine einheitliche durch Bestrahlung aushärtbare Harzschicht ausgebildet wird durch Rotieren der ersten Basisplatte 601 bei einer hohen Geschwindigkeit, wird die Schicht ausgehärtet durch eine ultraviolette Lampe, wodurch eine transparente Klebeschicht (g) von 6 ausgebildet wird.
Als nächstes werden, wie in (h) von 6 gezeigt, durch Entfernen der zweiten Basisplatte 605 Pits der zweiten Basisplatte 605 auf eine Oberfläche der transparenten Klebeschicht transferiert. Um leicht die zweite Basisplatte 605 abzublättern, ist es gewünscht, dass die Oberfläche der zweiten Basisplatte 605 zuvor mit einem Material gecoatet werden kann, welches leicht abgeblättert werden kann.
Auf der transparenten Klebeschicht wird eine halbtransparente Reflexionsschicht 607 aus AgPdCu-Legierung um ein Beispiel zu nennen, durch Sputtern ((i) von 6) ausgebildet. Anschließend wird, nachdem das durch Bestrahlung aushärtbare Harz durch Spin Coaten aufgebracht worden ist, das Harz ausgehärtet, so dass eine transparente Bedeckungsschicht (Dicke von 0,05 bis 0,2 μm) 608 ausgebildet wird ((j) von 6). Die transparente Abdeckungsschicht 608 kann aus einer Basisplatte bestehen, welche substantiell transparent ist, wie z.B. Polycarbonat. Die substantiell transparente Basisplatte wird an das erste Substrat gebunden mit einem durch Bestrahlung aushärtbaren Harz.
Anstelle des oben erwähnten Verfahrens wird, nachdem ein durch Bestrahlung aushärtbares Harz einheitlich auf das erste Substrat 601 aufgebracht worden ist, in welchem die Aufzeichnungsschicht 604 durch Spin Coaten oder andere Verfahren ausgebildet worden ist, und das Harz durch Bestrahlung von ultravioletter Strahlung ausgehärtet worden ist, wodurch eine Schutzschicht ausgebildet worden ist, das erste Substrat 601 an die zweite Basisplatte 605 gebunden.
In den entsprechenden Ausführungsformen wird die Form der Rille, ausgebildet in der ersten Basisplatte, nicht erwähnt. Die Rille kann so ausgebildet werden, dass sie sich auf einer Scheibe erstreckt. In diesem Fall kann, basierend auf dem Wobbeln der Rille ein Uhrensignal, Adressinformation und dergleichen, reproduziert werden. Da die Wobble-Häufigkeit vorzugsweise konstant entlang der Spurrille gesetzt wird, wird die Adressinformation vorzugsweise aufgezeichnet durch Variieren des Musters oder einer spezifischen Form des Wobbelns.
Entsprechend der optischen Scheibe der vorliegenden Erfindung kann, selbst in dem Fall, wo eine Rille in einer Basisplatte für die Spurführung eng ist, ein gutes Gegentakt-Spursignal erhalten werden. Darüber hinaus kann, da die Rille eng sein kann und die Aufzeichnungsdichte verbessert werden kann, selbst, wenn die Basisplatte, welche eine Rille aufweist, mit einer erhöhten Dicke, eingesetzt wird, eine Scheibe, geeignet zum Verbessern der Aufzeichnungsdichte, leicht erzeugt werden.
Während die vorliegende Erfindung in einer bevorzugten Ausführungsform beschrieben wurde, wird es den Fachleuten auf dem Gebiet offensichtlich sein, dass die offenbarte Erfindung modifiziert werden kann auf verschiedenen Wegen und man kann annehmen, dass es viele Ausführungsformen gibt, welche verschieden sind von denjenigen, die speziell oben dargestellt und beschrieben wurden. Dementsprechend ist es beabsichtigt, durch die beigefügten Ansprüche, alle Modifikationen der Erfindung abzudecken, welche in den wahren Geist und Umfang der Erfindung fallen.

Claims

Optische Platte, die eine erste Grundplatte (101; 401; 501; 601)) umfasst, die eine Fläche (101c), in der eine Vertiefung (101a) ausgebildet ist, sowie eine mehrschichtige Struktur aufweist, die auf der Fläche (101c) angeordnet ist, wobei die mehrschichtige Struktur enthält: eine Reflektionsschicht (102; 402; 502; 602), die über der Fläche der ersten Grundplatte angeordnet ist; eine Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604), die über die Reflektionsschicht (102) ausgebildet ist, um einen Innenraum der Vertiefung (101a) auszufüllen; und ein transparentes Element (110), das in der Lage ist, Schreib-/Lese-Strahlung durchzulassen, wobei das transparente Element (110) die Aufzeichnungsschicht bedeckt; dadurch gekennzeichnet, dass der Dicke der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) in einem unteren Abschnitt der Vertiefung (101a) der ersten Grundplatte (101; 401; 501; 601) 1,5 mal so groß wie die Dicke der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) in einem flachen Abschnitt der ersten Grundplatte (101; 401; 501; 601) oder größer ist.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei eine obere Fläche der Aufzeichnungsschicht (103; 404, 503; 604) planarisiert ist und ein Absatz in der oberen Fläche der Aufzeichnungsschicht kleiner ist als eine Absatz in einer oberen Fläche der Reflektionsschicht.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei die Aufzeichnungsschicht (103; 404, 503; 604) durch Aufschleudern ausgebildet wird.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei die Aufzeichnungsschicht (103; 404, 503; 604) aus einem Aufzeichnungsmaterial besteht, das einen Farbstoff enthält.
Optische Platte nach Anspruch 4, wobei Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) über Öffnungsabschnitte, die in der Reflektionsschicht vorhanden sind, teilweise in Kontakt mit einer Fläche der ersten Grundplatte ist.
Optische Platte nach Anspruch 5, wobei die erste Grundplatte (101; 401; 501; 601) aus einem Material besteht, das mit einer Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) reagiert, die mit Schreibstrahlung bestrahlt wird.
Optische Platte nach Anspruch 5, wobei die Reflektionsschicht (103; 404, 503; 604) aus einem Material besteht, das eine inselartige Struktur hat.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei das transparente Element (110) aus einem strahlungshärtenden Harz besteht.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei das transparente Element (110) aus einem wärmehartbaren Harz besteht.
Optische Platte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei das transparente Element (110) enthält: eine zweite Grundplatte (405), die die Schreib-/Lesestrahlung durchlassen kann; und eine Klebeschicht (407) zum Verbinden der zweiten Grundplatte (405) mit der ersten Grundplatte (101; 401; 501; 601), und wobei die erste Grundplatte (101; 401; 501; 601) und die zweite Grundplatte (405) über die Klebeschicht (407) miteinander verbunden werden.
Optische Platte nach Anspruch 10, wobei die Klebeschicht (407) aus einem strahlungshärtendem Harz besteht.
Optische Platte nach Anspruch 10, wobei das transparente Element (110) eine semi-transparente Reflektionsschicht (505) und eine zweite Aufzeichnungsschicht enthält.
Optische Platte nach Anspruch 12, wobei in der zweiten Aufzeichnungsschicht Nur-Lese-Informationen in Form eines Groove und/oder eines Pit aufgezeichnet sind.
Optische Platte nach Anspruch 10, wobei ein Schutzfilm, der die Schreib-/Lese-Strahlung durchlassen kann, zwischen der ersten Grundplatte (101; 401; 501; 601) und der Klebeschicht (507) ausgebildet ist.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei eine Dicke des transparenten Elementes (110) 0,3 mm oder weniger beträgt.
Optische Platte nach Anspruch 15, wobei eine Dicke der ersten Grundplatte (101; 401; 501; 601) 1,0 bis 1,2 mm beträgt.
Optische Platte nach Anspruch 1, wobei eine Tiefe der Vertiefung λ/(4 × n) oder weniger beträgt, wenn eine Wellenlänge von Lesestrahlung λ ist und ein Brechungsindex der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) n ist.
Verfahren zum Herstellen einer optischen Platte, das einen Schritt des Erzeugens eines ersten Substrats, einen Schritt des Erzeugens eines zweiten Substrats und einen Schritt des Verbindens des ersten und des zweiten Substrats mit einem Klebstoff umfasst, der transparent ist, wobei der Schritt des Erzeugens des ersten Substrats die folgenden Schritte einschließt: Bereitstellen einer Grundplatte (101, 401, 501; 601), die mit einer Fläche versehen ist, die eine Vertiefung (101a) aufweist; Ausbilden einer Reflektionsschicht (102; 402, 502; 602) auf der Fläche der Grundplatte (101; 401; 501; 601), und Füllen eines Innenraums der Vertiefung (101a) mit einer Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604); dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der Aufzeichnungsschicht (404) in einem unteren Abschnitt der Vertiefung (101a) der Grundplatte (401) 1,5 mal so groß wie eine Dicke der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) in einem flachen Abschnitt der Grundplatte (101, 401; 501; 601) oder größer ist.
Verfahren nach Anspruch 18, wobei der Schritt (c) einen Schritt des Aufbringens der Aufzeichnungsschicht (404) auf die Reflektionsschicht (102; 402; 502; 602) durch Aufschleudern einschließt.
Verfahren nach Anspruch 18, wobei der Schritt des Erzeugens des zweiten Substrats (405) einschließt: einen Schritt des Ausbildens eines Pit und/oder eines Groove an einer Seite einer Grundplatte, die transparent ist; und einen Schritt des Ausbildens eines semi-transparenten Films (507).
Verfahren nach Anspruch 18, wobei ein strahlungshärtendes Harz als der Klebstoff verwendet wird, der transparent ist.
Verfahren nach Anspruch 18, wobei nach dem Aufbringungsschritt ein Schutzfilm auf der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) ausgebildet wird und ein Verbindungsschritt durchgeführt wird.
Verfahren zum Herstellen einer optischen Platte, das die folgenden Schritte umfasst: Bereitstellen einer Grundplatte (401, 601), die mit einer Fläche versehen ist, die eine Vertiefung (101a) aufweist; Ausbilden einer Reflektionsschicht (102; 402; 502; 602) auf der Fläche der Grundplatte (101; 401; 501; 601); Füllen eines Innenraums der Vertiefung (101a) mit einer Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604); Aufbringen eines Materials, das transparent ist; und Aushärten des transparenten Materials; dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der Aufzeichnungsschicht (103; 404, 503; 604) in einem unteren Abschnitt der Vertiefung (101a), die in einer Fläche der Reflektionsschicht (102; 402; 502; 602) ausgebildet ist, 1,5 mal so groß wie eine Dicke der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) in einem flachen Abschnitt der Fläche der Reflektionsschicht (102; 402; 502; 602) oder größer ist.
Verfahren nach Anspruch 23, wobei der Schritt (c) einen Schritt des Aufbringens der Aufzeichnungsschicht (103; 404; 503; 604) auf der Reflektionsschicht durch Aufschleudern einschließt.
Verfahren nach Anspruch 23, das des Weiteren nach dem Aufbringungsschritt und vor dem Schritt des Aufbringens des transparenten Materials umfasst: einen Schritt des Ausbildens einer Informationsschicht, in der Informationen in Form eines Pit oder eines Grooves aufgezeichnet werden; und einen Schritt des Ausbildens einer semi-transparenten Reflektionsschicht (507; 607)
Verfahren nach Anspruch 23, wobei die Aufbringung des transparenten Materials durch Aufschleudern durchgeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 23, wobei das transparente Material aus einem strahlungshärtendem Harz besteht und das transparente Material in dem Schritt des Aushärtens des transparenten Materials mit Strahlung bestrahlt wird.