JPS61153850A - 光デイスク用原盤およびその製造方法 - Google Patents
光デイスク用原盤およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS61153850A JPS61153850A JP27790784A JP27790784A JPS61153850A JP S61153850 A JPS61153850 A JP S61153850A JP 27790784 A JP27790784 A JP 27790784A JP 27790784 A JP27790784 A JP 27790784A JP S61153850 A JPS61153850 A JP S61153850A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- master
- laser light
- disk
- digital signal
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画・文書シアイ
ルなどのディジタル信号を記録。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画・文書シアイ
ルなどのディジタル信号を記録。
再生または消去可能な光ディスクを製造するための光デ
ィスク用原盤およびその製造方法に関するものである。
ィスク用原盤およびその製造方法に関するものである。
従来の技術
この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発されている。
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発されている。
第４図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＣＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にピ
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。
第４図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
樹脂基板２は、一般的に射出成形や射出・圧縮成形など
の成形法で量産される。光ディスク用原盤は樹脂基板２
を成形で得るために必要なもので、成形金型に取付けら
れる。
の成形法で量産される。光ディスク用原盤は樹脂基板２
を成形で得るために必要なもので、成形金型に取付けら
れる。
第３図に従来の光ディスク用原盤の製造方法を示す０第
３図ａ −ｆは各々の工程における断面図である。ガラ
ス原盤７に７オトレジスト８が塗布され、レーザ光にて
露光され現像されてディジタル信号部９が形成される。
３図ａ −ｆは各々の工程における断面図である。ガラ
ス原盤７に７オトレジスト８が塗布され、レーザ光にて
露光され現像されてディジタル信号部９が形成される。
次に、ニッケル（Ｎｉ）などの金属薄膜１０が真空蒸着
法などにより設けられ、ニッケル（Ｎｉ）メッキ層１１
が設けられる。
法などにより設けられ、ニッケル（Ｎｉ）メッキ層１１
が設けられる。
その後、ガラス原盤７を除去すれば光ディスク用原盤１
２が得られる。
２が得られる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成で得られた光ディスク用
原盤のディジタル信号部９の断面形状は矩形であり、成
形法にて樹脂基板２を得る場合に、光ディスク用原盤表
面の樹脂が流れる抵抗が大きくなるため樹脂の流れが悪
くなり、ディスクの複屈折率を小さくすることが困難と
なる。また樹脂の乱流による外観不良などの光学的特性
が悪くなるなどの問題点を有していた。
原盤のディジタル信号部９の断面形状は矩形であり、成
形法にて樹脂基板２を得る場合に、光ディスク用原盤表
面の樹脂が流れる抵抗が大きくなるため樹脂の流れが悪
くなり、ディスクの複屈折率を小さくすることが困難と
なる。また樹脂の乱流による外観不良などの光学的特性
が悪くなるなどの問題点を有していた。
本癲明は上記問題点に鑑み、光学的特性の優れた光ディ
スクを製造するための光ディスク用原盤の製造方法を提
供するものである。
スクを製造するための光ディスク用原盤の製造方法を提
供するものである。
゛問題点を解決するための手段
上記問題を解決するために本発明の光ディスク用原盤お
よびその゛ｉ造方法は、露光用レーザ光の感度の異なる
２種類以上の７オトレジストを順次ガラス原盤に積層塗
布し、上記フォトレジストに上記レーザを露光し現像す
ることにより、光ディスク用原盤のビット列状信号部ま
たは空溝形状信号部などのディジタル信号形゛成蔀の断
面形状を、２段階以上の矩形状または台形にしたもので
ある。
よびその゛ｉ造方法は、露光用レーザ光の感度の異なる
２種類以上の７オトレジストを順次ガラス原盤に積層塗
布し、上記フォトレジストに上記レーザを露光し現像す
ることにより、光ディスク用原盤のビット列状信号部ま
たは空溝形状信号部などのディジタル信号形゛成蔀の断
面形状を、２段階以上の矩形状または台形にしたもので
ある。
作 用
本発明は上記した方法により、露光用レーザ光の感度の
異なる２種類のフォトレジストを順次ガラス原盤に積層
塗布する。例えば、波長４４１６へのヘリウム・カドミ
ウム（Ｈｅ −Ｃｄ ）レーザ光に対して、普通の感度
を有するフォトレジストを第１層に、次に上記波長に鋭
敏な感度を有するフォトレジストを第２層に選びガラス
原盤に塗布し、上記レーザ光を露光し現像すれば、光デ
ィスク用原盤のディジタル信号形成部の断面形状が２段
階矩形状または近似的に台形のものが得られるため、樹
脂基板を成形法で得る場合、光ディスク用原盤の表面に
おける抵抗が小さくなることより、樹脂の乱流が少なく
なるために複屈折率の小さな、しかも乱流の影響による
成形不良や外観不良のない優れた光ディスクが得られる
。
異なる２種類のフォトレジストを順次ガラス原盤に積層
塗布する。例えば、波長４４１６へのヘリウム・カドミ
ウム（Ｈｅ −Ｃｄ ）レーザ光に対して、普通の感度
を有するフォトレジストを第１層に、次に上記波長に鋭
敏な感度を有するフォトレジストを第２層に選びガラス
原盤に塗布し、上記レーザ光を露光し現像すれば、光デ
ィスク用原盤のディジタル信号形成部の断面形状が２段
階矩形状または近似的に台形のものが得られるため、樹
脂基板を成形法で得る場合、光ディスク用原盤の表面に
おける抵抗が小さくなることより、樹脂の乱流が少なく
なるために複屈折率の小さな、しかも乱流の影響による
成形不良や外観不良のない優れた光ディスクが得られる
。
実施例
以下本発明の一実施例の光ディスク用原盤の製造方法に
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の第１の実施例における光ディスク用原
盤の製造方法を示すもので、第１図ａ〜ｆは各工程にお
ける断面図を示す。
盤の製造方法を示すもので、第１図ａ〜ｆは各工程にお
ける断面図を示す。
ガラス原盤７に、露光用レーザであるヘリウム・カドミ
ウム（Ｈｅ−Ｃｄ）ｖ−ザの波長４４１６Ａに対して、
普通の感度を有する第１の７オトレジスト１３と、鋭敏
な感度を有する第２のフォトレジスト１４とを屓次積層
塗布する。次に上記レーザを第１のフォトレジスト１３
．第２の７オトレジスト１４とに照射、露光し現像処理
を施こすことにより、ディジタル信号部１６の断面形状
が２段階矩形状のものが得られる。これにニッケル（Ｎ
ｉ）の金属薄膜１６を真空蒸着等の方法で形成する。
ウム（Ｈｅ−Ｃｄ）ｖ−ザの波長４４１６Ａに対して、
普通の感度を有する第１の７オトレジスト１３と、鋭敏
な感度を有する第２のフォトレジスト１４とを屓次積層
塗布する。次に上記レーザを第１のフォトレジスト１３
．第２の７オトレジスト１４とに照射、露光し現像処理
を施こすことにより、ディジタル信号部１６の断面形状
が２段階矩形状のものが得られる。これにニッケル（Ｎ
ｉ）の金属薄膜１６を真空蒸着等の方法で形成する。
次に、ニッケルメッキ層１−７を形成し、ガラス原盤７
を除去すれば、ディジタル信号部１５の断面形状が２段
階の矩形、形状の光ディスク用原盤１８が形成される。
を除去すれば、ディジタル信号部１５の断面形状が２段
階の矩形、形状の光ディスク用原盤１８が形成される。
以下本発明の竺２の実施例について、図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
第２図は本発明の第２の実施例を示す光ディスク用原盤
の製造方法であり、８第２図ａ −ｆは各工程における
断面図を示す。
の製造方法であり、８第２図ａ −ｆは各工程における
断面図を示す。
ガラス原盤７に、上記露光用レーザ光に対して、普通の
感度を有する第１のフォトレジスト１３と、鋭敏な感度
を有する第２のフォトレジスト１９とが積層塗布される
。ここで第１のフォトレジスト１３と第２のフォトレジ
スト１９は第１の実施例のものに比して感度の差が少な
いものとしている。
感度を有する第１のフォトレジスト１３と、鋭敏な感度
を有する第２のフォトレジスト１９とが積層塗布される
。ここで第１のフォトレジスト１３と第２のフォトレジ
スト１９は第１の実施例のものに比して感度の差が少な
いものとしている。
次に、上記レーザ光を照射、露光し現像処理を施こすこ
とにより、ディジタル信号部２０の断面形状が台形のも
のが得られる。これに金属薄膜１６を形成したのち、二
、ノケルメノキ層１７を形成し、ガラス原盤を除去すれ
ば、ディジタル信号部２゜の断面形状が台形での光ディ
スク用原盤２１が形成される。
とにより、ディジタル信号部２０の断面形状が台形のも
のが得られる。これに金属薄膜１６を形成したのち、二
、ノケルメノキ層１７を形成し、ガラス原盤を除去すれ
ば、ディジタル信号部２゜の断面形状が台形での光ディ
スク用原盤２１が形成される。
本発明の第１の実施例と第２の実施例とは、基本的には
、上記レーザ光の感度の異なる２種類のフォトレジスト
を積層塗布することで共通しているが、上述したよ−う
に感度差の大きい場合には、ディジタ）Ｃ信号部の断面
形状が２段階の矩形状になり、感度差の小さい場合には
、上記断面形状は台形となる。
、上記レーザ光の感度の異なる２種類のフォトレジスト
を積層塗布することで共通しているが、上述したよ−う
に感度差の大きい場合には、ディジタ）Ｃ信号部の断面
形状が２段階の矩形状になり、感度差の小さい場合には
、上記断面形状は台形となる。
以上のように、ディ、ジタル楡号部の断面形状が２段階
矩形状または台形の光ディスク用原盤ならば成形法で樹
脂基板を得る場合に、原盤表面の抵抗が小さくなるため
、ポリカーボネートなどの樹脂の流動性が良くなり、光
学特性の優れた光ディスクが製造できる。
矩形状または台形の光ディスク用原盤ならば成形法で樹
脂基板を得る場合に、原盤表面の抵抗が小さくなるため
、ポリカーボネートなどの樹脂の流動性が良くなり、光
学特性の優れた光ディスクが製造できる。
なお、実施例ではフォトレジストの層を２層としたが、
これ以上の多層のものとしても良いことは言うまでもな
い。
これ以上の多層のものとしても良いことは言うまでもな
い。
発明の効果
以上のように本発明によれば、露光用レーザ光の感度の
異なる２種類以上の７オトレジストを順次ガラス原盤に
積層塗布し、上記フォトレジストに上記レーザ光を露光
し現像することにより、ディジタル信号部の断面形状が
、２段階以上の矩形状または台形の光ディスク用原盤を
設けることができるので原盤表面を樹脂が流れる抵抗が
小さくなり、従って樹脂の流動性が良くなり樹脂乱流の
影響による成形不良の少ないしかも複屈折率などの光学
的特性の優れた光ディスクを安定性よく大量に安価に提
供することができる。
異なる２種類以上の７オトレジストを順次ガラス原盤に
積層塗布し、上記フォトレジストに上記レーザ光を露光
し現像することにより、ディジタル信号部の断面形状が
、２段階以上の矩形状または台形の光ディスク用原盤を
設けることができるので原盤表面を樹脂が流れる抵抗が
小さくなり、従って樹脂の流動性が良くなり樹脂乱流の
影響による成形不良の少ないしかも複屈折率などの光学
的特性の優れた光ディスクを安定性よく大量に安価に提
供することができる。
第１図は本発明の第１の実施例における光ディスク用原
盤の製造方法を示し、第１図ａ −ｆは各工程における
断面図、第２図は本発明の第２０実施例における光ディ
スク用原盤の製造方法を示し、第２図ａ −ｆは各工程
における断面図、第３図は従来の光ディスク用原盤の製
造方法を示し、第３図ａ −ｆは各工程における断面図
、第４図ａ、ｂ。 Ｃは光ディスクの一種であるディジタルオーディオディ
スクの平面図、断面図、および要部拡大図である。 ｅ・・・・・・半導体レーザ、７・・・・・・ガラス原
盤、１３・・・・・第１のフォトレジスト、１４・・・
・・第２の７オトレジス）、１５．２０・・・・・・デ
ィジタル信号部、１８．２１ ・・・光ディスク用原盤
、１９・・・・・・第２のフォトレジスト。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第
１ 図 第２図 第３図
盤の製造方法を示し、第１図ａ −ｆは各工程における
断面図、第２図は本発明の第２０実施例における光ディ
スク用原盤の製造方法を示し、第２図ａ −ｆは各工程
における断面図、第３図は従来の光ディスク用原盤の製
造方法を示し、第３図ａ −ｆは各工程における断面図
、第４図ａ、ｂ。 Ｃは光ディスクの一種であるディジタルオーディオディ
スクの平面図、断面図、および要部拡大図である。 ｅ・・・・・・半導体レーザ、７・・・・・・ガラス原
盤、１３・・・・・第１のフォトレジスト、１４・・・
・・第２の７オトレジス）、１５．２０・・・・・・デ
ィジタル信号部、１８．２１ ・・・光ディスク用原盤
、１９・・・・・・第２のフォトレジスト。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第
１ 図 第２図 第３図
Claims (2)
- （１）露光用レーザ光に対する感度の異なる２種類以上
のフォトレジストを積層塗布したガラス原盤にレーザ光
を露光し現像してピット列状信号部または空溝状信号部
などのディジタル信号形成部の断面形状を、２段階以上
の矩形状または台形としてなる光ディスク用原盤。 - （２）露光用レーザ光に対する感度の異なる２種類以上
のフォトレジストを順次ガラス原盤に積層塗布し、次い
でこのフォトレジストを塗布したガラス原盤にレーザ光
を露光し現像してディジタル信号形成部を形成する光デ
ィスク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27790784A JPS61153850A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27790784A JPS61153850A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61153850A true JPS61153850A (ja) | 1986-07-12 |
Family
ID=17589951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27790784A Pending JPS61153850A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61153850A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03248342A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Nec Corp | 光ディスク基板の製造方法 |
| US6219330B1 (en) | 1997-09-30 | 2001-04-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and having first and second photoresist layers |
| NL1021760C2 (nl) * | 2002-10-28 | 2004-05-03 | Otb Groep B V | Moederplaat voor het fabriceren van een stempelplaat alsmede een stempelplaat en opslagmedium en een werkwijze voor het fabriceren van de moederplaat, stempelplaat en opslagmedium. |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5850638A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-25 | Fujitsu Ltd | 光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法 |
| JPS58155550A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-16 | Hitachi Ltd | 異なる深さを持つ溝を同時に形成する方法 |
| JPS5936340A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-28 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 |
| JPS59180839A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-15 | Fujitsu Ltd | 原盤の溝形成方法 |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP27790784A patent/JPS61153850A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5850638A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-25 | Fujitsu Ltd | 光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法 |
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| JPS5936340A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-28 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 |
| JPS59180839A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-15 | Fujitsu Ltd | 原盤の溝形成方法 |
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| US6219330B1 (en) | 1997-09-30 | 2001-04-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and having first and second photoresist layers |
| NL1021760C2 (nl) * | 2002-10-28 | 2004-05-03 | Otb Groep B V | Moederplaat voor het fabriceren van een stempelplaat alsmede een stempelplaat en opslagmedium en een werkwijze voor het fabriceren van de moederplaat, stempelplaat en opslagmedium. |
| WO2004038714A1 (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-06 | Singulus Mastering B.V. | Master plate for fabricating a stamper plate, stamper plate, storage medium, and method for fabricating the master plate, stamper plate and storage medium |
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