JPS61160850A - 光デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 埋業上の利用分野 本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。

再生または消去可能な光ディスクに関するものである。

従来の技術 この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルｆ
４イオディスクとして商品化され、ディジタル信号を記
録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開発
されている。

第６図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。

これはＰＣＭ変換されたディジタル信号が叫脂基板にピ
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。

第５図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたビット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、６は反射膜４にコーデ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光でち
る。

上記ディスクは一般的に第７図に示す成形器により第８
図に示す成形工程を経て作成される。第８図（→に示す
スタンパ−である光ディスク用原盤７に樹脂が成形され
、藁８図Φ）　、　（Ｃ）に示す工程でディジタル信号
が転写され樹脂基板２が作成される。その後順次反射膜
形成工程、保護膜形成工程をへて第５図（Ｃ）に示す光
ディスクが作成される。

次に、第６図に従来の光ディスク用原盤７の製造方法を
示す。

第３図（ａ）トｆ）は各々の工程における断面図である
。

ガラス原盤８に７オトレジスト９が塗布され、レーザ光
にて露光され現像されてディジタル信号部１ｏが形成さ
れる。

次に、ニッケル（Ｎ’ｉ）などの金属薄膜１１が真空蒸
着法などにより設けられ、ニッケル（Ｎｉ　）メッキ層
１２が設けられる。その後、ガラス原盤８を除去すれば
光ディスク用原盤７が得られる。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような工程を経て得られた光ディス
ク用原盤のディジタル信号部１０の断面形状は矩形であ
り、成形法にて樹脂基板２を得る場合に、光ディスク用
原盤表面の１対脂が流れる抵抗が大きくなるため樹脂の
流れが悪くなり、ディスクの複屈折率を小さくすること
が困難となる。

また樹脂の乱流による外観不良などの光学的特性が悪く
なるなどの問題点を有していた。

本発明は上記問題点に鑑み、光学的特性の優れた光ディ
スクを提供するものである。

問題点を解決するための手段 上記間覇を解決するために本発明の光ディスクは、露光
用レーザ光の感度の異なる２種類以上の７オトレジスト
をガラス原盤に積層塗布し、上記フォトレジストに上記
レーザｔｍ光し現暉することにより、光ディスク用原盤
のピット列状信号部または空溝形状信号部などのディジ
タル信号形成部の断面形状を２段階以上の矩形状または
台形にした光ディスク用原盤により成形されるものであ
る。

作　　　用 本発明は上記した手段により、露光用レーザ光の感度の
異なる２種類以上のフォトレジストをガラス原盤に積層
塗布する。例えば、波長４４１６人のヘリウム会カドミ
ウム（Ｈｅ−Ｃｄ）レーザ光に対して、普通の感度を有
するフォトレジストを第１層に、次に上記波長に鋭敏な
感度を有するフォトレジストを第２層に選びガラス原盤
に塗布し、上記レーザ光を露光し現像すれば、光ディス
ク用原盤のディジタル信号形成部の断面形状が２段階矩
形状または近似的に台形のものが得られるため、樹脂基
板を成形法で得る場合、光ディスク用原盤の表面におけ
る抵抗が小さくなることより、樹脂の乱流が少なくなる
ために複屈折率の小さな、しかも乱流の影響による成形
不良や外観不良のない優れた光ディスクが得られる。

実施例 以下本発明の一実施別の光ディスクについて、図面を参
照しながら説明する。

第２図は本発明の第１の実施例における光ディスク用原
盤の製造工程を示すもので、第２図（〜〜（ｆ）は各工
程における断面図を示す。

ガラス原盤８に、露光用レーザであるヘリウム・カドミ
ウム（Ｈｅ−Ｃｄ）レーザの波長４４１６人に対して、
普通の感度を有する第１の７オトレジスト１３と、鋭敏
な感度を有する第２の７オトレジスト１４とを順次積層
塗布する。次に上記レーザを第１の７オトレジスト１３
．第２の７オトレジスト１４とに照射露光し現像処理を
施こすことにより、ディジタル信号部１６の断面形状が
２段階矩形状のものが得られる。これにニッケル（Ｎｉ
）の金属薄膜１６を真空蒸着等の方法で形成する。次に
、ニッケルメッキ層１７を形成し、ガラス原盤７を除去
すれば、ディジタル信号部１６の断面形状が２段階の矩
形形状の光ディスク用原盤１８が形成される。

このようにして成形した光ディスク用原盤１８をスタン
パ−として第７図に示すような成形器の内周保持部１９
と外周保持部２０に固定し、射出口２１より樹脂を射出
すれば第１図に示す光ディスクの摘脂基盤２２が空間２
３内に成形することができるのである。

この樹脂基盤は光ディスク用原盤１８のディジタル信号
部１６の断面形状が２段階矩形状であるので、光ディス
ク成形時に樹脂の流れがスムーズになり特性の優れたも
のが得られる。その後反射膜、保護膜を形成して光ディ
スクを得る。

次に本発明の第２の実施例について図面を参照しながら
説明する。

第２図は本発明の第２の実施例を示す光ディスク用原盤
の製造工程であり、第２図（−）〜（ｆ）は各工程にお
ける断面図を示す。

ガラス原盤８に、上記露光用レーザ光に対して、普通の
感度を有する第１の７オトレジスト１３と、鋭敏な感度
を有する第２のフォトレジスト２３ととが積層塗布され
る。ここで第１の７オトレジスト１３と第２の７オトレ
ジスト２４は第１の実施例のものに比して感度差が少な
いものとしている。

次に、上記レーザ光を照射、露光し現鐵処理を施こすこ
とにより、ディジタル信号部２６の断面形状が台形のも
のが得られる。これに金属薄膜２６を形成したのち、ニ
ッケルメッキ層２７を形成し、ガラス原盤８を除去すれ
ば、ディジタル信号ｓ２６の断面形状が台形での光ディ
スク用原盤２８が形成される。これにより得られる光デ
ィスクの樹脂基４２９は第４図に示すものとなる。

以上のように、ディジタル信号部の断面形状が２段階矩
形状または台形の光ディスク用原盤ならば成形法で樹脂
基板を得る場合に、原盤表面の抵抗が小さくなるため、
ポリカーボネートなどの樹脂の流動性が良くなり、光学
特性の優れた光ディスクが得られる。

発明の効果 以上のように本発明によれば、露光用レーザ光の感度の
異なる２種類以上のフォトレジストを順次ガラス原盤に
積層塗布し、上記フォトレジストに上記レーザ光を露光
し現障することにより、ディジタル信号部の断面形状が
、２段階以上の矩形状または台形の光ディスク川原ａｔ
設けることができるので、原盤表面を樹脂が流れる抵抗
が小さくなり、従って樹脂の流動性が良くなりｔ！！１
！乱流の影響による成形不良の少ないしかも複屈折率な
どの光学的特性の優れた光ディスクを安定的に大量に安
価で提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例における光ディスクの樹
脂基盤の断面図、第２図は同光ディスク用原盤の製造工
程を示し、第２図（→〜（ｆ）は各工程における断面図
、第３図は本発明の第２の実施例における光ディスク用
原盤の製造工程を示し、第３図（→〜（０は各工程にお
ける断面図、第４図は同第２の実施例における樹脂基盤
の断面図、第６図（ａ）、（坤、（→はディジタルオー
ディオディスクの平面図、断面図および要部拡大図、第
６図は従来の光ディスク用原盤の製造工程を示し、第６
図（ａ）〜（りは各工程における断面図、第７図は一般
の樹脂基盤成形器の断面図、第８図は光ディスクの樹脂
基盤の成形工程を示し、第８図（−〜（Ｃ）は各工程に
おける断面図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、３
・・・・・・ディジタル信号部、４・・・・・・反射膜
、６・・・・・・保護膜、６・・・・・・半導体レーザ
、８・・・・・ガラス原盤、１３・・・・・・第１のフ
ォトレジスト、１４，２４・・・・・・第２のフォトレ
ジスト、１５，２５・・・・・・ディジタル信号部、１
６・・・　・金属薄膜、１７・・・・・ニッケルメッキ
層、１８．２８・・・・・・光ディスク用原盤、２２．
２９・・・・・・樹脂基盤。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第　
１　図 第２図 第　：１　１２ 嘔　　　　　諭　）　　　〜 Ｑ 否　　　　　　８ 第６図 第７図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 露光用レーザ光に対する感度の異なる２種類以上のフォ
   トレジストをガラス原盤に積層塗布し、このフォトレジ
   ストにレーザ光を露光し現像することにより得られる光
   ディスク用原盤をスタンパーとして成形した樹脂基盤と
   、この樹脂基盤上に設けた反射膜および保護膜よりなり
   、ディジタル信号形成部の断面形状を、２段階以上の矩
   形状または台形としてなる光ディスク。