JPH0648551B2 - 光デイスク用原盤の製造方法 - Google Patents
光デイスク用原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPH0648551B2 JPH0648551B2 JP12654485A JP12654485A JPH0648551B2 JP H0648551 B2 JPH0648551 B2 JP H0648551B2 JP 12654485 A JP12654485 A JP 12654485A JP 12654485 A JP12654485 A JP 12654485A JP H0648551 B2 JPH0648551 B2 JP H0648551B2
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- Japan
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- master
- plating
- thin film
- metal thin
- optical disk
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はビデオディスク，ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク），静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録，再生または消去可能な
光ディスクを製造するための光ディスク用原盤の製造方
法に関するものである。
ク（例えばコンパクトディスク），静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録，再生または消去可能な
光ディスクを製造するための光ディスク用原盤の製造方
法に関するものである。
従来の技術 この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録，再生，消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発されている。
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録，再生，消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発されている。
第３図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。これはＰＣＭ
変換されたディジタル信号が樹脂基板にピット列状に記
録され、半導体レーザにより再生されるものである。
であるコンパクトディスクの概要を示す。これはＰＣＭ
変換されたディジタル信号が樹脂基板にピット列状に記
録され、半導体レーザにより再生されるものである。
第３図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
樹脂基板２は、一般的に射出成形や射出・圧縮成形など
成形法で量産される。光デイスク用原盤は樹脂基板２を
成形で得るために必要なもので、成形金型に取付けられ
る。
成形法で量産される。光デイスク用原盤は樹脂基板２を
成形で得るために必要なもので、成形金型に取付けられ
る。
第２図に従来の光ディスク用原盤の製造方法を示す。第
２図ａ〜ｆは各々の工程を示す断面図である。ガラス基
板７にフォタレジスト８が塗布され、レーザ光９により
ディジタル信号が記録され現像によりディジタル信号部
１０が形成される。次に、ニッケル（Ｎｉ）などの金属
薄膜１１が蒸着法により形成され、その上にニッケル
（Ｎｉ）のメッキ処理によりメッキ膜１２が形成され
る。その後、ガラス基板７と剥離すれば光ディスク用原
盤が形成される。
２図ａ〜ｆは各々の工程を示す断面図である。ガラス基
板７にフォタレジスト８が塗布され、レーザ光９により
ディジタル信号が記録され現像によりディジタル信号部
１０が形成される。次に、ニッケル（Ｎｉ）などの金属
薄膜１１が蒸着法により形成され、その上にニッケル
（Ｎｉ）のメッキ処理によりメッキ膜１２が形成され
る。その後、ガラス基板７と剥離すれば光ディスク用原
盤が形成される。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成で得られた光ディスク用
原盤の信号面のニッケル(Ｎｉ)などの金属薄膜１１は、
蒸着等の方法により形成するため、蒸着条件により酸化
などの膜質が不安定になることがあり、機械的な強度が
劣化し、樹脂基板の成形数の増加にともない表面状態が
変化しエラーフラッグの増加などディスク特性が悪化す
るなどの問題点を有していた。
原盤の信号面のニッケル(Ｎｉ)などの金属薄膜１１は、
蒸着等の方法により形成するため、蒸着条件により酸化
などの膜質が不安定になることがあり、機械的な強度が
劣化し、樹脂基板の成形数の増加にともない表面状態が
変化しエラーフラッグの増加などディスク特性が悪化す
るなどの問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、光ディスク用原盤の信頼性
を向上し、寿命を長くすることのできる光ディスク用原
盤の製造方法を提供するものである。
を向上し、寿命を長くすることのできる光ディスク用原
盤の製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記問題を解決するために本発明の光ディスク用原盤の
製造方法は、ガラス基板にフォトレジストを塗布し、レ
ーザ光により信号を記録し現象してガラス原盤を形成し
たのち、上記ガラス原盤上にメッキ処理に用いる材料と
は異種の金属薄膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理
を施こすことによりメッキ膜を形成したのち、上記金属
膜をエッチング等の方法で除去しメッキ膜だけで構成し
たものである。
製造方法は、ガラス基板にフォトレジストを塗布し、レ
ーザ光により信号を記録し現象してガラス原盤を形成し
たのち、上記ガラス原盤上にメッキ処理に用いる材料と
は異種の金属薄膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理
を施こすことによりメッキ膜を形成したのち、上記金属
膜をエッチング等の方法で除去しメッキ膜だけで構成し
たものである。
作用 本発明は上記した構成によって、ガラス基板にフォトレ
ジストを塗布し、レーザ光により信号を記録し現像しガ
ラス原盤を形成したのち、メッキ材料とは異種の金属薄
膜を蒸着法の方法で形成し、メッキ処理を施こしメッキ
膜を形成したのち、上記金属薄膜を除去すれば、メッキ
膜だけで構成される光ディスク用原盤が得られるため
に、表面に信頼性のやゝ劣る蒸着等により形成された金
属薄膜が存在しないため、膜質の優れたメッキ膜が表面
を構成することにより信頼性の高い寿命の長い光ディス
ク用原盤が得られる。
ジストを塗布し、レーザ光により信号を記録し現像しガ
ラス原盤を形成したのち、メッキ材料とは異種の金属薄
膜を蒸着法の方法で形成し、メッキ処理を施こしメッキ
膜を形成したのち、上記金属薄膜を除去すれば、メッキ
膜だけで構成される光ディスク用原盤が得られるため
に、表面に信頼性のやゝ劣る蒸着等により形成された金
属薄膜が存在しないため、膜質の優れたメッキ膜が表面
を構成することにより信頼性の高い寿命の長い光ディス
ク用原盤が得られる。
実施例 本発明の一実施例の光ディスク用原盤の製造方法につい
て図面を参照しながら説明する。
て図面を参照しながら説明する。
第１図ａ〜ｇは本発明の光ディスク用原盤の製造工程を
示す断面図である。第１図ａはガラス基板７を示し、第
１図ｂにおいてガラス基板７上にフォトレジスト８を塗
布したのちディジタル信号に対応したレーザ光９を記録
する工程を示す。第１図ｃは現像工程を示し、上記レー
ザ光９により形成されたディジタル信号部１０が設けら
れたガラス原盤が形成される。第１図ｄは上記ガラス原
盤上に次工程のメッキ処理に用いるメッキ材料であるニ
ッケル（Ｎｉ）とは異種材料であるアルミニウム（Ａ
ｌ）の金属薄膜１３を蒸着等の方法で設ける工程を示
す。第１図ｅは上記金属薄膜１３上に電気メッキ法にて
ニッケル（Ｎｉ）のメッキ膜１３を形成する工程を示
す。第１図ｆはアルミニウムの金属薄膜１３とニッケル
のメッキ膜１２とが設けられた複合基材を示す。第１図
ｇは、上記複合基材を弱アルカリ液である水酸化ナトリ
ウム（ＮａＯＨ）水溶液に浸漬する化学エッチング法に
て、Ａｌの金属薄膜１３を除去し、Ｎｉのメッキ膜１２
だけ形成された光ディスク用原盤を示す。
示す断面図である。第１図ａはガラス基板７を示し、第
１図ｂにおいてガラス基板７上にフォトレジスト８を塗
布したのちディジタル信号に対応したレーザ光９を記録
する工程を示す。第１図ｃは現像工程を示し、上記レー
ザ光９により形成されたディジタル信号部１０が設けら
れたガラス原盤が形成される。第１図ｄは上記ガラス原
盤上に次工程のメッキ処理に用いるメッキ材料であるニ
ッケル（Ｎｉ）とは異種材料であるアルミニウム（Ａ
ｌ）の金属薄膜１３を蒸着等の方法で設ける工程を示
す。第１図ｅは上記金属薄膜１３上に電気メッキ法にて
ニッケル（Ｎｉ）のメッキ膜１３を形成する工程を示
す。第１図ｆはアルミニウムの金属薄膜１３とニッケル
のメッキ膜１２とが設けられた複合基材を示す。第１図
ｇは、上記複合基材を弱アルカリ液である水酸化ナトリ
ウム（ＮａＯＨ）水溶液に浸漬する化学エッチング法に
て、Ａｌの金属薄膜１３を除去し、Ｎｉのメッキ膜１２
だけ形成された光ディスク用原盤を示す。
一般的に電気メッキ法にてニッケル（Ｎｉ）がガラス原
盤用メッキ材料に用いられるのは、硬度が高く、メッキ
処理法が容易であるためである。また、上記メッキ材料
であるニッケル（Ｎｉ）とは異種の材料としては、アル
ミニウム（Ａｌ）の他に、銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ），チ
タン（Ｔｉ）などの材料で、Ｎi とは異種の材料であ
り、酸やアルカリなどの特定の水溶液に対して選択的に
化学エッチングされる材料であればよい。
盤用メッキ材料に用いられるのは、硬度が高く、メッキ
処理法が容易であるためである。また、上記メッキ材料
であるニッケル（Ｎｉ）とは異種の材料としては、アル
ミニウム（Ａｌ）の他に、銀（Ａｇ），銅（Ｃｕ），チ
タン（Ｔｉ）などの材料で、Ｎi とは異種の材料であ
り、酸やアルカリなどの特定の水溶液に対して選択的に
化学エッチングされる材料であればよい。
また、化学エッチングの他に、メッキ材料とは異種の金
属薄膜だけをスパッタリング，イオンエッチングなどの
物理的エッチング法でも除去しても有効である。
属薄膜だけをスパッタリング，イオンエッチングなどの
物理的エッチング法でも除去しても有効である。
このように、メッキ材料とは異種の金属薄膜を蒸着等の
方法で形成したのち、物理的または化学的エッチング等
の方法で上記金属薄膜を除去すれば、金属学的に安定な
メッキ材料だけで光ディスク用原盤が形成されるため光
ディスク原盤としては信頼性が高く、安定であるなどの
効果がある。
方法で形成したのち、物理的または化学的エッチング等
の方法で上記金属薄膜を除去すれば、金属学的に安定な
メッキ材料だけで光ディスク用原盤が形成されるため光
ディスク原盤としては信頼性が高く、安定であるなどの
効果がある。
発明の効果 以上のように本発明によれば、ガラス基板にフォトレジ
ストを塗布し、レーザ光により信号を記録し現像してガ
ラス原盤を形成したのち、上記ガラス原盤上にメッキ材
料とは異種の金属薄膜を形成したのち、メッキ処理を施
こしメッキ膜を設けたのち、上記金属薄膜をエッチング
等の方法で除去することにより光ディスク用原盤を形成
すれば、蒸着等の方法で形成された比較的不安定な要因
の多い金属薄膜が存在しない、安定した信頼性の高いメ
ッキ膜だけの光ディスク用原盤が得られることにより、
信頼性が向上し、寿命ものび、量産性の優れた光ディス
ク用原盤を提供することができる。
ストを塗布し、レーザ光により信号を記録し現像してガ
ラス原盤を形成したのち、上記ガラス原盤上にメッキ材
料とは異種の金属薄膜を形成したのち、メッキ処理を施
こしメッキ膜を設けたのち、上記金属薄膜をエッチング
等の方法で除去することにより光ディスク用原盤を形成
すれば、蒸着等の方法で形成された比較的不安定な要因
の多い金属薄膜が存在しない、安定した信頼性の高いメ
ッキ膜だけの光ディスク用原盤が得られることにより、
信頼性が向上し、寿命ものび、量産性の優れた光ディス
ク用原盤を提供することができる。
第１図(a)〜(g)は本発明の一実施例における光ディスク
用原盤の製造方法の工程を示す断面図、第２図(a)〜(f)
は従来の光ディスク用原盤の製造方法の工程を示す断面
図、第３図(a)，(b)，(c)は光ディスクの一種であるデ
ィジタルオーディオディスクの平面図、断面図、および
要部拡大図である。 １……ディスク、２……樹脂基板、７……ガラス基板、
８……フォトレジスト、９……レーザ光、１０……ディ
ジタル信号部、１２……メッキ膜、１３……金属薄膜。
用原盤の製造方法の工程を示す断面図、第２図(a)〜(f)
は従来の光ディスク用原盤の製造方法の工程を示す断面
図、第３図(a)，(b)，(c)は光ディスクの一種であるデ
ィジタルオーディオディスクの平面図、断面図、および
要部拡大図である。 １……ディスク、２……樹脂基板、７……ガラス基板、
８……フォトレジスト、９……レーザ光、１０……ディ
ジタル信号部、１２……メッキ膜、１３……金属薄膜。
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス基板にフォトレジストを塗布し、レ
ーザ光により信号を記録し現像してガラス原盤を形成し
たのち、上記ガラス原盤上にメッキ処理に用いる材料と
は異種の金属薄膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理
を施こすことによりメッキ膜を形成したのち、上記金属
薄膜をエッチング等の方法で除去することによりメッキ
膜だけで構成される光ディスク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12654485A JPH0648551B2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 光デイスク用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12654485A JPH0648551B2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 光デイスク用原盤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284844A JPS61284844A (ja) | 1986-12-15 |
| JPH0648551B2 true JPH0648551B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=14937808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12654485A Expired - Fee Related JPH0648551B2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 光デイスク用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648551B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3719200A1 (de) * | 1987-06-09 | 1988-12-29 | Ibm Deutschland | Optische speicherplatte und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP12654485A patent/JPH0648551B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61284844A (ja) | 1986-12-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |