JPS6262449A - 光デイスク用原盤およびその製造方法 - Google Patents
光デイスク用原盤およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6262449A JPS6262449A JP20207185A JP20207185A JPS6262449A JP S6262449 A JPS6262449 A JP S6262449A JP 20207185 A JP20207185 A JP 20207185A JP 20207185 A JP20207185 A JP 20207185A JP S6262449 A JPS6262449 A JP S6262449A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- film
- trivalent
- nickel
- trivalent chromium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画、文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
再生または消去可能な光ディスクを製造するだめの光デ
ィスク用原盤およびその製造方法に関するものである。
ィスク用原盤およびその製造方法に関するものである。
従来の技術
この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発が行われている。
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発が行われている。
第３図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＣＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にビ
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。
第３図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、５は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
樹脂基板２は一般的に射出成形や射出・圧縮成形などの
成形法で量産される。光ディスク用厚盤は樹脂基板２を
成形法で製造するために必要なものであり成形金型に取
付けられる。
成形法で量産される。光ディスク用厚盤は樹脂基板２を
成形法で製造するために必要なものであり成形金型に取
付けられる。
第２図に従来の光ディスク用原盤およびその製造方法を
示す。第２図ａ −ｆは各々の工程を示す断面図である
。ガラス基板７にフォトレジスト８が塗布され、レーザ
光９によりディジタル信号が記録され、現像処理により
ディジタル信号部１０が形成される。次にニッケル（Ｎ
１）や銀（Ａｑ）などの金属薄膜１１が蒸着等の方法で
形成され、その上にニッケル（Ｎｉ）メッキを施すこと
よりメッキ膜１２が形成される。その後、ガラス基板７
を剥離すれば先ディスク用原盤が形成される。
示す。第２図ａ −ｆは各々の工程を示す断面図である
。ガラス基板７にフォトレジスト８が塗布され、レーザ
光９によりディジタル信号が記録され、現像処理により
ディジタル信号部１０が形成される。次にニッケル（Ｎ
１）や銀（Ａｑ）などの金属薄膜１１が蒸着等の方法で
形成され、その上にニッケル（Ｎｉ）メッキを施すこと
よりメッキ膜１２が形成される。その後、ガラス基板７
を剥離すれば先ディスク用原盤が形成される。
この場合スタンバ−表面にはニッケル（Ｎｉ）や銀（Ａ
ｑ ）などの金属薄膜が蒸着法などにより設けられてい
るためポーラスで信頼性かや＼劣り強度的にも弱いこと
や、耐食性がよくないためスタンパ−寿命が短かいなど
の問題点を有していた。
ｑ ）などの金属薄膜が蒸着法などにより設けられてい
るためポーラスで信頼性かや＼劣り強度的にも弱いこと
や、耐食性がよくないためスタンパ−寿命が短かいなど
の問題点を有していた。
このためスタンパ−の表面処理として種々の方法が試み
られた。改良の一方法として、特開昭６０−７６２９号
があげられる。これにはスタンパ−およびその製造方法
において、スタンパ−表面に厚さ５００人のクロムメッ
キを施したスタンパ−および４．０〜３５ｆｌ／ｌの無
水クロム酸（Ｃｒ Ｏｓ ）と０．Ｏ６〜０．５１１７
１ （７）硫酸（Ｈ２ＢＯ３）とを含むメッキ液で得ら
れた６価クロムメッキ膜を形成することが開示されてい
る。
られた。改良の一方法として、特開昭６０−７６２９号
があげられる。これにはスタンパ−およびその製造方法
において、スタンパ−表面に厚さ５００人のクロムメッ
キを施したスタンパ−および４．０〜３５ｆｌ／ｌの無
水クロム酸（Ｃｒ Ｏｓ ）と０．Ｏ６〜０．５１１７
１ （７）硫酸（Ｈ２ＢＯ３）とを含むメッキ液で得ら
れた６価クロムメッキ膜を形成することが開示されてい
る。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成で得られた光ディスク用
原盤ではニッケル（Ｎｉ）や銀ＣＡｑ ）などの蒸着等
の方法で形成された金属薄膜は、金属薄膜自体が酸化な
どによシ膜質が不安定になシ易く機械的強度が劣下し、
スタンパ−寿命が短かくなること。また、特開昭６０−
７６２９号公報に示された６価クロムメッキは一般にサ
ージェント溶と称する無水クロム酸（ＣｒＯ２）と硫酸
（Ｈ２ＢＯ３）との混合液によるもので、６価クロムメ
ッキは液組成が単純で管理が容易であるが反面２作業環
境や排水処理などの公害面に問題があることや、６価ク
ロムメッキ膜の被覆力が弱いことや複雑な形状、特に光
ディスク用原盤である長さ数μｍ。
原盤ではニッケル（Ｎｉ）や銀ＣＡｑ ）などの蒸着等
の方法で形成された金属薄膜は、金属薄膜自体が酸化な
どによシ膜質が不安定になシ易く機械的強度が劣下し、
スタンパ−寿命が短かくなること。また、特開昭６０−
７６２９号公報に示された６価クロムメッキは一般にサ
ージェント溶と称する無水クロム酸（ＣｒＯ２）と硫酸
（Ｈ２ＢＯ３）との混合液によるもので、６価クロムメ
ッキは液組成が単純で管理が容易であるが反面２作業環
境や排水処理などの公害面に問題があることや、６価ク
ロムメッキ膜の被覆力が弱いことや複雑な形状、特に光
ディスク用原盤である長さ数μｍ。
幅０．５μｍ、高さ０．１μｍの微小ピントに対して一
様にメッキされにくいなどの問題点を有していた。
様にメッキされにくいなどの問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、光ディスク用原盤の信頼性
を向上し、寿命を長くすることや、成形されたディスク
の外観特性や光学特性を良好にするための光ディスク用
原盤およびその製造方法を提供するものである。
を向上し、寿命を長くすることや、成形されたディスク
の外観特性や光学特性を良好にするための光ディスク用
原盤およびその製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の光ディスク用原盤
およびその製造方法は、スタンパ−表面に３価クロムイ
オン、錯化剤、電導性塩、緩衝剤。
およびその製造方法は、スタンパ−表面に３価クロムイ
オン、錯化剤、電導性塩、緩衝剤。
触媒、還元剤により構成されるメッキ液にて３価クロム
メッキ処理を施し、膜厚５ｏＯ〜７００人の３価クロム
メッキ膜を形成したものである。
メッキ処理を施し、膜厚５ｏＯ〜７００人の３価クロム
メッキ膜を形成したものである。
作 用
本発明は上記した構成にて、スタンパ−の信号表面また
はスタンパ−の信号表面と裏面との両面に、メッキ液と
して少なくとも、アンモニウム塩類１０〜２０％、錯化
剤５〜１０％、硫酸クロム２０〜５０％の混合液にて構
成され、３価クロムイオン濃度を２８〜３０９７１とし
て３価クロムメッキ処理を施し、膜厚５００〜７００人
の３価クロムメッキ膜を形成したものであり、従来のス
タンパ−表面に信頼性のや＼劣る蒸着等により形成され
た金属薄膜上に膜質の優れた３価クロムメッキ膜を設け
ることによシ信頼性の高い、長寿命の光ディスク用原盤
が得られる。
はスタンパ−の信号表面と裏面との両面に、メッキ液と
して少なくとも、アンモニウム塩類１０〜２０％、錯化
剤５〜１０％、硫酸クロム２０〜５０％の混合液にて構
成され、３価クロムイオン濃度を２８〜３０９７１とし
て３価クロムメッキ処理を施し、膜厚５００〜７００人
の３価クロムメッキ膜を形成したものであり、従来のス
タンパ−表面に信頼性のや＼劣る蒸着等により形成され
た金属薄膜上に膜質の優れた３価クロムメッキ膜を設け
ることによシ信頼性の高い、長寿命の光ディスク用原盤
が得られる。
実施例
本発明の一実施例の光ディスク用原盤およびその製造方
法について図面を参照しながら説明する。
法について図面を参照しながら説明する。
第１図ａ％ｑは本発明の光ディスク用原盤およびその製
造方法を示す工程の断面図である。第１図ａはガラス基
板７を示し、第１図すはガラス基板γ上に７オトレジス
ト８を塗布したのちディジタル信号に対応したレーザ光
９を記録する工程を示す。第１図Ｃは現像工程にて上記
レーザ光９により形成されたディジタル信号部１０が設
けられたガラス原盤を示す。第１図ｄは上記ガラス原盤
上にメッキ処理を施こすための電導膜であるニッケル（
Ｎｉ）の金属薄膜１１を蒸着にて形成する工程を示す。
造方法を示す工程の断面図である。第１図ａはガラス基
板７を示し、第１図すはガラス基板γ上に７オトレジス
ト８を塗布したのちディジタル信号に対応したレーザ光
９を記録する工程を示す。第１図Ｃは現像工程にて上記
レーザ光９により形成されたディジタル信号部１０が設
けられたガラス原盤を示す。第１図ｄは上記ガラス原盤
上にメッキ処理を施こすための電導膜であるニッケル（
Ｎｉ）の金属薄膜１１を蒸着にて形成する工程を示す。
第１図ｅは上記金属薄膜１１上に電気メツキ法にてニッ
ケル（Ｎｉ）メッキ膜１２を形成する工程であり、この
状態で上記ガラス原盤から剥離すれば第１図ｆに示すよ
うにその表面がニッケル（Ｎｉ）の金属薄膜１１とニッ
ケル（Ｎｉ）メッキ膜１２との複合層より構成させるス
タンパ−１３が得られる。
ケル（Ｎｉ）メッキ膜１２を形成する工程であり、この
状態で上記ガラス原盤から剥離すれば第１図ｆに示すよ
うにその表面がニッケル（Ｎｉ）の金属薄膜１１とニッ
ケル（Ｎｉ）メッキ膜１２との複合層より構成させるス
タンパ−１３が得られる。
第１図ｑは、上記スタンパ−１３の信号表面である金属
薄膜１１上に、３価のクロムメッキ膜１４を、膜厚５０
０〜７００八に形成した光ディスク用原盤１６を示す。
薄膜１１上に、３価のクロムメッキ膜１４を、膜厚５０
０〜７００八に形成した光ディスク用原盤１６を示す。
この場合、まずメタ／パー１３を水酸化ナトリウム（Ｎ
ａ ＯＨ）の３０％水溶液中にてスタンパ−１３を陰
極にし、電流３０Ａを流し、スタンパ−表面の油脂など
を除去するため電解脱脂を施す。次に、アルカリ液の付
着したスタンパ−１３を濃度５係の硫酸（Ｈ２ＢＯ３）
水溶液に浸漬し中和する。次に、アンモニウム塩類であ
る塩化アンモニウム（ＮＨ４Ｃｌ）１５％、硫酸クロム
（Ｃｒ２（Ｓ０４）３．１８Ｈ２０）４ｏ％、錯化剤１
ｏチを主成分とし、その他緩衝剤、触媒、還元剤などに
よシ構成されるメッキ液で、３価クロムイオン濃度を２
８〜３０ ｊｉ／ｌ にし、温度６ｏ〜６０′Ｃ１電流
密度２０Ａ／ｄｍ２、時間３０秒、３価クロムメッキ処
理を施すことによシ約ｅｏｏ人の３価クロムメッキ膜１
４が形成される。
ａ ＯＨ）の３０％水溶液中にてスタンパ−１３を陰
極にし、電流３０Ａを流し、スタンパ−表面の油脂など
を除去するため電解脱脂を施す。次に、アルカリ液の付
着したスタンパ−１３を濃度５係の硫酸（Ｈ２ＢＯ３）
水溶液に浸漬し中和する。次に、アンモニウム塩類であ
る塩化アンモニウム（ＮＨ４Ｃｌ）１５％、硫酸クロム
（Ｃｒ２（Ｓ０４）３．１８Ｈ２０）４ｏ％、錯化剤１
ｏチを主成分とし、その他緩衝剤、触媒、還元剤などに
よシ構成されるメッキ液で、３価クロムイオン濃度を２
８〜３０ ｊｉ／ｌ にし、温度６ｏ〜６０′Ｃ１電流
密度２０Ａ／ｄｍ２、時間３０秒、３価クロムメッキ処
理を施すことによシ約ｅｏｏ人の３価クロムメッキ膜１
４が形成される。
この場合、錯化剤は安定な錯イオンを形成するため、電
導性塩はメッキ液に電導性を与えるため、緩衝剤はカソ
ードにおける水素イオン（Ｈ＋）濃度を一定にするため
、触媒は安定性を上げ外観をよくするため、還元剤はア
ノードにおける６価クロムの発生を防止するため各々必
要である。
導性塩はメッキ液に電導性を与えるため、緩衝剤はカソ
ードにおける水素イオン（Ｈ＋）濃度を一定にするため
、触媒は安定性を上げ外観をよくするため、還元剤はア
ノードにおける６価クロムの発生を防止するため各々必
要である。
このようにして形成された３価のクロムメッキ膜は、従
来のサージェント溶による６価のクロムメッキ膜に比較
して、スタンパ−表面に均一に一様な膜厚で形成され、
しかも被覆力が強いことなどにより、光ディスク用原盤
としては信頼性が向上し安定であるなどの効果がある。
来のサージェント溶による６価のクロムメッキ膜に比較
して、スタンパ−表面に均一に一様な膜厚で形成され、
しかも被覆力が強いことなどにより、光ディスク用原盤
としては信頼性が向上し安定であるなどの効果がある。
また、本発明の３価クロムメッキ膜を信号表面に形成し
たスタンパ−を射出成形機の金型に取付け、ポリカーボ
ネート樹脂にて直径φ１２０ｍ、厚さ１．２ｔｒａｎの
コンパクトディスクを成形した場合と、３価クロムメッ
キを施さない従来のスタンパ−との成形結果の比較を第
１表に示す。
たスタンパ−を射出成形機の金型に取付け、ポリカーボ
ネート樹脂にて直径φ１２０ｍ、厚さ１．２ｔｒａｎの
コンパクトディスクを成形した場合と、３価クロムメッ
キを施さない従来のスタンパ−との成形結果の比較を第
１表に示す。
本発明の３価クロムメッキ処理を施したメタ／パーは成
形立上がりが早く、スタンパ−寿命も伸びることや、成
形ディスクとしても外観特性、光学特性が優れているこ
と、安定性がよいことなどが判明した。
形立上がりが早く、スタンパ−寿命も伸びることや、成
形ディスクとしても外観特性、光学特性が優れているこ
と、安定性がよいことなどが判明した。
第１表： ディスク成形結果
発明の効果
以上のように本発明によれば、スタンパ−信号表面また
はスタンパ−信号表面と裏面との両面に膜厚５００〜７
００人の３価クロムメッキ膜を設けた光ディスク用原盤
は、スタンパ−表面が硬質で耐食性の良い、経時変化の
ない３価クロムメッキ膜が形成され、しかも６価りロ友
メッキ膜を形成する場合の作業環境や排水処理などの公
害問題が無く、まだ、メッキ膜の被覆力が強く、ディジ
タル信号の微小ピットや案内溝などに均一にメッキ膜を
形成することができる。さらに本発明の３価クロムメッ
キ膜を形成したスタンパ−にて成形したディスクの外観
特性は良好で、複屈折率などの光学特性も優れ、成形立
上がりが早く、スタンパ−寿命も長くなり、ディスク生
産上の量産性の向上を図ることができるなど信頼性の高
い光ディスク用原盤を提供することができる。
はスタンパ−信号表面と裏面との両面に膜厚５００〜７
００人の３価クロムメッキ膜を設けた光ディスク用原盤
は、スタンパ−表面が硬質で耐食性の良い、経時変化の
ない３価クロムメッキ膜が形成され、しかも６価りロ友
メッキ膜を形成する場合の作業環境や排水処理などの公
害問題が無く、まだ、メッキ膜の被覆力が強く、ディジ
タル信号の微小ピットや案内溝などに均一にメッキ膜を
形成することができる。さらに本発明の３価クロムメッ
キ膜を形成したスタンパ−にて成形したディスクの外観
特性は良好で、複屈折率などの光学特性も優れ、成形立
上がりが早く、スタンパ−寿命も長くなり、ディスク生
産上の量産性の向上を図ることができるなど信頼性の高
い光ディスク用原盤を提供することができる。
第１図ｉ１ ％ ｑは本発明の一実施例における光ディ
スク用原盤およびその製造方法を示す工程の断面図、第
２図ａ −ｆは従来の光ディスク用原盤およびその製造
方法を示す工程の断面図、第３図ａ。 ｂ、ｃは光ディスクの一種であるディジタルオーディオ
ディスクの平面図、断面図、および要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、７
・・・・・・ガラス基板、８・・・・・・フォトレジス
ト、９・・・・・・レーザ光、１０・・・・・・ディジ
タル信号部、１１・・・・・・金属薄膜、１２・・・・
・・メッキ膜、１３・・・・・・金属薄膜の設けられた
スタンパ−１１４・・・・・・３価クロムメッキ膜、１
６・・・・・・３価クロムメッキ膜の設けられたスタン
パ−０代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名一 状 ６ − 〇灼 ｈ ３ ０ − い 第２図 第３図
スク用原盤およびその製造方法を示す工程の断面図、第
２図ａ −ｆは従来の光ディスク用原盤およびその製造
方法を示す工程の断面図、第３図ａ。 ｂ、ｃは光ディスクの一種であるディジタルオーディオ
ディスクの平面図、断面図、および要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、７
・・・・・・ガラス基板、８・・・・・・フォトレジス
ト、９・・・・・・レーザ光、１０・・・・・・ディジ
タル信号部、１１・・・・・・金属薄膜、１２・・・・
・・メッキ膜、１３・・・・・・金属薄膜の設けられた
スタンパ−１１４・・・・・・３価クロムメッキ膜、１
６・・・・・・３価クロムメッキ膜の設けられたスタン
パ−０代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名一 状 ６ − 〇灼 ｈ ３ ０ − い 第２図 第３図
Claims (3)
- （１）スタンパーの信号表面またはスタンパーの信号表
面と裏面との両面に、膜厚５００〜７００Åの３価クロ
ムメッキ膜を設けた光ディスク用原盤。 - （２）スタンパー表面をアルカリ溶液にて電解脱脂し、
硫酸処理にて中和したのち、３価クロムイオン、錯化剤
、電導性塩、緩衝剤、触媒、還元剤により構成されるメ
ッキ液にて厚さ５００〜７００Åの３価クロムメッキ膜
を形成してなる光ディスク用原盤の製造方法。 - （３）メッキ液として少くとも、アンモニウム塩類１０
〜２０％、錯化剤５〜１０％、硫酸クロム２０〜５０％
の混合液で構成され、３価クロムイオン濃度が２８〜３
０ｇ／ｌであることを特徴とする特許請求の範囲第２項
記載の光ディスク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20207185A JPH0648553B2 (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20207185A JPH0648553B2 (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6262449A true JPS6262449A (ja) | 1987-03-19 |
| JPH0648553B2 JPH0648553B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=16451465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20207185A Expired - Lifetime JPH0648553B2 (ja) | 1985-09-12 | 1985-09-12 | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648553B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7515395B2 (en) | 2003-12-26 | 2009-04-07 | Panasonic Corporation | Material of case for storage cell |
| CN103849908A (zh) * | 2014-02-17 | 2014-06-11 | 惠州大亚湾达志精细化工有限公司 | 一种三价铬镀液及在三价铬镀液中电沉积铬镀层的方法 |
-
1985
- 1985-09-12 JP JP20207185A patent/JPH0648553B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7515395B2 (en) | 2003-12-26 | 2009-04-07 | Panasonic Corporation | Material of case for storage cell |
| CN103849908A (zh) * | 2014-02-17 | 2014-06-11 | 惠州大亚湾达志精细化工有限公司 | 一种三价铬镀液及在三价铬镀液中电沉积铬镀层的方法 |
| CN103849908B (zh) * | 2014-02-17 | 2016-04-20 | 惠州大亚湾达志精细化工有限公司 | 一种三价铬镀液及在三价铬镀液中电沉积铬镀层的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0648553B2 (ja) | 1994-06-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0478714A1 (en) | Master for optical element replication | |
| US4188240A (en) | Method for producing a metal layer by plating | |
| US3962495A (en) | Method of making duplicates of optical or sound recordings | |
| JPS6262449A (ja) | 光デイスク用原盤およびその製造方法 | |
| JPH02149691A (ja) | 金属マトリックスの製造方法 | |
| JP2000290793A (ja) | メッキ体の製造方法 | |
| JPS60174891A (ja) | 成型用金型の製造方法 | |
| EP0354773B1 (en) | Optical disk manufacture | |
| JPH0648551B2 (ja) | 光デイスク用原盤の製造方法 | |
| JPS6262450A (ja) | スタンパの製法 | |
| JPS61221392A (ja) | スタンパ− | |
| Legierse | Mastering technology and electroforming for optical disc systems | |
| JPH06259815A (ja) | 光ディスク用原盤およびその製造方法 | |
| JPS61123035A (ja) | 光デイスク用原盤およびその製造方法 | |
| JP2526980B2 (ja) | 光ディスク用スタンパ―の製造方法 | |
| JPS60151852A (ja) | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 | |
| JP2739841B2 (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JPS5833604B2 (ja) | レコ−ド用原盤の製造法 | |
| JPH056539A (ja) | 情報記録媒体用スタンパの製造方法 | |
| JPH0758564B2 (ja) | 情報記憶ディスク用原板および情報記憶ディスク用基板の製造方法 | |
| JPS6220152A (ja) | 光デイスク成形用スタンパ−とその製造法 | |
| JPH036390A (ja) | 情報記録媒体成形用スタンパーの製造方法 | |
| JPS60197959A (ja) | 光デイスクの製造方法 | |
| JPS5812150A (ja) | 情報記録担体の製造方法 | |
| JPH059775A (ja) | スタンパの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |