JPS5833604B2 - レコ−ド用原盤の製造法 - Google Patents

レコ−ド用原盤の製造法

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JPS5833604B2
JPS5833604B2 JP243974A JP243974A JPS5833604B2 JP S5833604 B2 JPS5833604 B2 JP S5833604B2 JP 243974 A JP243974 A JP 243974A JP 243974 A JP243974 A JP 243974A JP S5833604 B2 JPS5833604 B2 JP S5833604B2
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JP
Japan
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master
nickel
lacquer
liquid
record
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JP243974A
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JPS5094901A (ja
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新一 倉橋
正夫 斉藤
文夫 伊藤
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Nippon Columbia Co Ltd
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Nippon Columbia Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5094901A publication Critical patent/JPS5094901A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレコード用原盤の製法に関するものでとくにレ
コードラッカー盤に導電性を与える方法に関するもので
ある。
第1図を用いて従来のレコード盤の製造法について説明
するに、先ずアルミ盤1の上に硝酸セルロースを主体と
したラッカ一層2を設けたラッカー原盤3に音溝4を形
成せしめ、該ラッカー原盤3に電鋳を施すために鉄液と
還元液とをスプレィにより吹付は該ラッカー盤上に銀を
還元析出せしめて導電性を与える。
さらにその上にニッケル電鋳により補強層6を形成した
後ラッカー原盤3から該補強層6を剥離する。
この場合銀薄膜5とラッカー原盤3との接合面にて剥離
せしめて後銀薄膜を除去しラッカー原盤の音溝4に対応
する凸凹の溝を有するマスター6′が得られる。
次に該マスター6′に酸化処理を行ない剥離膜を形成し
た後ニッケル電鋳を行なってマザー7を作製する。
その後該マザー7に剥離処理を施してニッケル電鋳を行
って、スタンパ−8を形成せしめ、該スタンパ−8を使
用し加熱圧縮成形または射出成形によりレコード盤9を
製作する。
上記した従来の方法においてマスター6′を得るにラッ
カー原盤8にニッケル電鋳を施すのに先立って銀薄膜6
を還元析出法等により形成し、これに補強層6を電鋳し
、ラッカー原盤3より剥離後鍋薄膜5を除去するのはマ
スター6′上に電鋳するマザー7が該マザーから剥離出
来るようにするためである。
ところが上記のように銀薄膜5を形成後除去してしすう
のでラッカー原盤の音溝4の形状を忠実にマスター6′
に転写することが期待できず、しかも音として再生した
際雑音成分が多くなることは避けられない。
また銀は比較的に還元されやすく、例えばホルマリン、
ロツセル塩、ぶどう糖、等の還元剤により容易に還元さ
れる。
この還元される反応速度が速いと粒子が生じやすくピン
ホールの原因となるため液を冷却したり弱い還元剤を用
いて反応速度を制御して遅くする必要がある。
本発明は上記様々の欠点に鑑みてなされたもので上記の
欠点を解消し高忠実低雑音のレコード盤を得られる方法
を提供しようとするものである。
以下第2図を用いて本発明を説明しよう。
なお第1図と同一の部分には同一符号を付して重複説明
を避けている。
本発明はラッカー原盤3上に銀薄膜を形成せずに直接マ
スターの表面材料となるニッケル薄膜を形威せしめ、そ
の上にニッケル電鋳を施し表面金属と一体の補強層を形
威しラッカー原盤の音溝に対応したマスターを得るため
に威されたもので、該マスターはラッカー原盤3との境
界面より剥離せしめられる。
このように表面金属層5と補強層6とが一体に構成せし
められたマスター6〃では該表面金属層5を除去する必
要はないのでラッカー原盤3上の音溝4に対応した形状
が得られ、したがって原音を忠実に再生できしかも雑音
が小さいという利点が得られる。
しかしニッケルは銀に比較して一般に還元されに<<、
次亜リン酸ノーグーにより高温下でニッケルの析出が可
能であるがラッカー原盤3が高温に耐えられず使用出来
ずまた低温無電解法によりラッカー原盤にニッケル薄膜
を生成せしめることもできるが強力な還元剤を用いる必
要があること、使用後のメッキ槽の清掃が必要であるこ
と、ニッケル析出抑制のためにPHを下げて液を保存す
る必要があること、筐たニッケル還元の際水素ガスの発
生があること等の理由により同一条件で数多く処理を行
う場合液の管理が非常に困難になるという欠点がある。
とくに水素ガスの発生は致命的であり、ラッカー原盤の
音溝4に該水素ガスが残った場合にはピンホールが発生
し原音の忠実な再生は望めなくなる。
本発明は上記銀鏡法とニッケル無電解メッキ法の欠点を
回避しようとするもので、ニッケルスプレィ法によりニ
ッケル薄膜を生成せしめることを特長としている。
このニッケルスプレィ法ハニッケル液と還元剤である水
素化ホウソ化合物とをスプレィにてラッカー原盤3上に
吹付はニッケル薄膜を形成せしめることにより銀鏡法と
ニッケル無電解法の前記諸問題を解決するものである。
このニッケルスプレィ法の利点は、ニッケル液と還元液
とを別々に用いるため液の管理が非常に簡単で無電解メ
ッキのように液の析出抑制の必要が無いというところに
あり、還元力の強い液を使用することができる。
また本発明にかける方法においてはスプレィの際ラッカ
ー原盤3を回転せしめながら液を吹付けるので音溝4に
残存する水素ガスは該スプレィの液圧力により除去せし
めらへまた液が外気に接して後ラッカー原盤3に吹付け
られるため該液中の溶存酸素の量が多くなり水素ガスに
よるピンホールの発生は妨げられる。
またニッケルイオンと還元剤が随時供給されるため、均
一な膜が連続して形成でき、しかも析出条件は銀鏡法の
条件に比較して広く液温の管理もとくに必要ではない。
次に本発明による具体的な実施例を掲げて説明しよう。
実施例 1 ニッケル液:塩化ニッケル50g/4.塩化アンモニウ
、ム50 g / 4還元液ニホウ水素化ナトリウム1
g/l、水素化ナトリウム4S’/、!。
PH=12、液温15〜35℃、厚さ0.05〜0.1 実施例 2 ニッケル液:硫酸ニッケル40g/7.硫酸アンモニウ
ム30 g/l還元液ニホウ水素化ナトリウム1.0g
/、!、水酸化ナトリウム4 g/l、PH=12、液
温15〜35℃、厚さ0.05〜0.1 実施例 3 ニッケル液:塩化ニッケル50 g/4. 塩化アンモ
ニウム50g/A、還元液ニホウ水素化カリウム5 g
/7. PH=13、液温15〜35℃、厚さ0.05
〜0.1 上記実施例1〜3に記載の条件特にホウ水素化ナトリウ
ムを0.5〜2.0g/Aにするによってスプレィ法に
て、ニッケル表面金属層を形成せしめ、このようにして
得た該金属層の上に、スルフアミノ酸ニッケル400g
/、!、硼酸35 g / Z%PH=4.0、液温4
0℃のメッキ液にて0.5〜30A/dmの電流で厚さ
0.3rMLの補強層を形成しマスター6“を得、該マ
スター6“を用いて従来の方法によりマザー8を得、該
マザー8を用いてスタンパ−9を作成しこれによりレコ
ード盤9を加熱圧縮成型または射出成型により作製する
以上記したように本発明によれば原音を忠実に再現でき
るレコード盤を作業性良く作製することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のレコード盤の成形工程を示す工程図、第
2図は本発明による工程図である。 1はアルミ盤、2はラッカ一層、3はラッカー原盤、4
はラッカ一層上に設けられた音溝、5は銀薄膜、6は補
強層、6はマスター、6′はマスター、7はマザー、8
はスタンパ−19はレコード盤である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ラッカー盤の表面にスプレィ法によってニッケル液
    と水素化ホウ素化合物の還元剤を吹付け、ニッケルの金
    属層を形成することを特徴とするレコード用原盤の製造
    法。
JP243974A 1973-12-22 1973-12-22 レコ−ド用原盤の製造法 Expired JPS5833604B2 (ja)

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JP243974A JPS5833604B2 (ja) 1973-12-22 1973-12-22 レコ−ド用原盤の製造法

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JPS5094901A JPS5094901A (ja) 1975-07-29
JPS5833604B2 true JPS5833604B2 (ja) 1983-07-21

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ID=11529292

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6070616U (ja) * 1983-10-19 1985-05-18 石川島建材工業株式会社 ブレキヤストコンクリ−ト床版の接続構造

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NL7611395A (nl) * 1976-10-15 1978-04-18 Philips Nv Werkwijze voor het vermenigvuldigen van kunst- stof informatiedragers alsmede een in deze werkwijze toegepaste giethars, substraat en matrijs.
JPS5545343U (ja) * 1978-09-19 1980-03-25
DE102019133806A1 (de) * 2019-12-10 2021-06-10 B.H. Mayer's Kunstprägeanstalt GmbH Münze oder Medaille

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JPS5094901A (ja) 1975-07-29

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