JPS6036472B2 - ニツケル被膜の形成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はニッケル無電解メッキによってニッケル金属被
膜を形成するニッケル被膜の形成方法を提供するもので
ある。

更に本発明の具体的な目的について言及すれば、特に温
度を上げる事が好ましくない不導体物に良好なる導体膜
（ニッケル被膜〉をつけることであり、音声レコードの
原盤であるラッカ盤の導体化、ガラス板上のレジスト膜
に信号を担持した光方式ビデオ・ディスクの記録源盤の
表面導体化に用いて最大の効果が得られる。音声レコー
ドの原盤は、音声信号によって駆動されるダイヤモンド
・スタイラスによってラツカ盤と呼ばれる原盤の表面樹
脂層に音声信号に対応した条痕を刻みつけることによっ
て得られる。

この記録原盤は、銀塩を特定の還元剤の作用の下で還元
し、金属銀を析出させるいわゆる銭鏡法によりその表面
に導体被膜を形成する。次に、この銭腰を陰極としてニ
ッケルを鰭着させマスタを作成する。この銀を表面層と
するマスタ上にニッケルを電着させてマザーを作り、こ
のニッケル・マザーから、再びその表面にニッケルを亀
着させてスタンパを作る。このスタンパはしコード複製
のための金型として使用される。この様に最も普通には
マスタ作成のため記録源盤の導体化のために銀鏡法が用
いられるのであるが、銀は酸化しやすいため放置してお
くとミクロな荒れを生ずるという問題があり、またやわ
らかく傷つきやすいため多数杖のマザーをそれから複製
するのに難点があった。

更に銀は析出粒子が粗大化しやすく、再生信号の品質を
劣化させるという欠点がある。特に近年その開発が急速
に促進されている極めて高密度に情報が担持されるビデ
オ・ディスク，ＰＣＭオーディオ・ディスク等の記録原
盤に対しては問題となっている。この問題の解決法とし
て銀鏡に代わってニッケル無電解〆ッキ法が導入されつ
つある。

その一例について光学方式ビデオ・ディスク製造工程の
プロセスを説明する中で以下に述べる。光学方式ビデオ
・ディスクは音声レコードの場合とその記録源盤が異る
だけで基本的には全く類似のプロセスで作ることができ
る。

ガラス坂上に塗布されたレジスト膜を情報信号によって
変調されたレーザ光を照射し、その後現像することによ
って原信号に対応した小孔（ビット）を多数レリーフ状
に形成させる。

次にその上を導体化させるための処理を行うのであるが
、この処理方法として無電解ニッケル・メッキがほどこ
される。その一例を述べると予じめ上記原盤の表面を塩
化第一すず溶液、塩化パラジウム溶液によって処理し、
センシタイジンク及びアクチベーションを行った後、次
の液組成１持つ無電解〆ッキ液中に浸済する。液組成
１ 硫酸ニッケル・・・・・・２０夕／１ 次亜リン酸ソーダ・・・・・・２５夕／１有機酸・・・
・・・０．５多／１ この場合、液温８０００で約１〜２分の浸糟により、１
０００Ａ程度のニッケル被膜を形成することができる。

このニッケル被膜は燐を約１０％程度含むＮｊ−Ｐ合金
である。この場合上述の如く約８０℃の液中に浸猿する
ため熱によるレジスト膜のダレや基板の熱膨張による変
形を生じ品質の劣化を避けられないという問題を持って
いる。次亜燐酸ソーダを還元剤としてＮｉ−Ｐ合金を析
出させる無電解〆ッキ液の次点は高温処理が必要である
ということであるが、一方では耐蝕性のすぐれた品質の
良い表面が得られ、液の安定性にすぐれコスト的にも安
価であるという特長を持っている。別の例は、次の液組
成０を持つニッケル無電鱗液中に上述の如く前処理され
た原盤を浸債することによってニッケル被膜が形成され
る。液組成 ０ 塩化ニッケル …… ４５夕／１ 濃アンモニア水・・・・・・１６０泌／ＩＮ−メモルボ
ラザン ……１夕／１ 安定剤・・・・・・１のｐ／１ この場合、液温４０ｏｏで約２分の浸漬で厚さ１０００
Ａ程度のニッケル被膜を作ることができる。

このニッケル被膜はホウ素を含んだ合金となり、算電性
が良好で、つき廻りがよく、スキップが発生し難いとい
う特長の他に、低い温度でメッキを開始させることがで
きるという大きな利点を有している。しかし、ニッケル
ーホウ素合金被膜はニッケル−燐合金被膜に比べてコス
ト的に高く、液の安定性にやや欠けるという欠点の他に
レジスト膜との密着性をその大きな内部応力の故に阻害
されるという難点を持ち、銭鏡法に代わる手段としては
問題があった。本発明は上述の問題点を解決して樹脂上
への無電解〆ッキ、殊にビデオ・ディスクのレジスト原
盤のように高密度に情報が記録された原盤より竜銭法に
より母型を作成する工程に用いて大きな効果を示すニッ
ケル被膜の形成方法を提供するものである。

本発明の一実施例を以下に述べる。

前述の如く音声レコードのマスタ作成に用いられても、
またビデオ・ディスクのマスタ作成に用いられてもいづ
れも好結果を得ることが出釆るが、いづれにしても比較
的熱的に不安定要因を持つ不導体（例えばラッカやレジ
スト）の記録源盤が適用対象である。適用されるべき記
録原盤は予じめ無電解〆ツキの良好なる開始と均一付着
性の向上を期するため、通常の方法によりセンシタィジ
ング及びアクチベーション処理が適切に行われることが
望まれる。次いでこの記録原盤は次の液組成ｍの処理液
中に浸潰される。液組成 ｍ 前述の液組成１が体積比８５％ 前述の液組成０が体積比１５％ を含有する無電解ニッケル・メッキ液が予じめ準備され
た処理液である。

この処理液は３５こ０〜４ぴＣに保たれる。浸潰された
被メッキ物である記録源盤表面は約１〜３分後におよそ
３００〜１０００△程度の厚さの合金ニッケル被膜を生
ずる。この被膜は・原盤に対する密着性良好であり、引
き続き行われるニッケル電解メッキに対して望ましい性
質を持ち、またその被膜自身の応力も小さい。

また上述の如く比較的低温でメッキ処理が行われるため
原盤自身の情報プロフィールを劣化させることがないと
いう特徴を持っている。この薄いメッキ被膜の元素絹成
構成を調べると、原盤表面近く（すなわち一番最初に析
出された層）ではホウ素（Ｂ｝元素を多く含みそれより
内部に入ると燐（Ｐ）元素が多く含まれていることが分
る。

これは無電解〆ッキ開始時にはＮｉ−Ｂ合金がより多く
析出され、次いで析出されたニッケル自身を触媒として
ほぼ液組成比に近い割合でＮｉ−Ｐ及びＮｉ−Ｂ合金が
析出されるものと推定される。しかして、Ｎｊ被膜をボ
リュームとしみるとその多くをＮｉ−Ｐ合金が占めるた
め好ましいニッケル被膜を形成するものと判断される。
換言すればＮｉ−Ｂはメッキの開始に重要な役割を果し
、Ｎｉ−Ｐが原盤導体化のための被膜を形成するものと
言える。なお、液組威１及び０の混合比は、０の濃度が
上ればメッキ開始の諸条件（温度、時間等）は緩和され
るが、析出されたニッケル組成物はＮｉ−Ｂが多くなり
内部歪等の問題を発生すると共に０の液の補充が必要と
なってくる。発明者の実験によれば液組成皿の比率が最
も好ましく、望むべくは液組成０が体積比で５〜２５％
の中にあるべきである。すなわち、少くとも次亜リン酸
イオン及びホウ化水素イオンを持つ還元剤を共に合わせ
もつニッケル無電鱗溶中のホゥ化水素イオン濃度を５〜
２５％にする。以上述べた如く本発明の方法によるニッ
ケル被膜の形成は、音声レコードのラッカ盤やビデオ・
ディスク、音声ＰＣＭディスクのレジスト原盤の如き熱
に弱い素機に適用して極めて有用な実用的な効果を発揮
するものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 少くとも次亜リン酸イオン及びホウ化水素イオンを
   持つ還元剤を共に合せ含有するニツケル無電解溶中で処
   理することを特徴とするニツケル被膜の形成方法。