JPS59186154A - ビデオデイスク用原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はビデオディスク用原盤の製造方法に関するもの
である。

〔従来技術〕

ビデオディスクは映像媒体の一種であり、画像の明暗９
色彩及び音声などの情報をオーディオ用のレコード円盤
と同様の渦巻状の軌道に沿ってビット（凹部）又はブロ
ック（凸部）の形状９寸法などの変化とし′ＣＨ’ｒ２
録し、この媒体を機械的あるいは光学的に走査して得た
信号を映像信号に変換しＴＶ画像として再生することの
できる媒体である。

かかるビデオディスクを製造するには、従来のオーテイ
オレコード用レコード円盤の製造と同様に、原盤からメ
ッキ等の方法によってスタンバ〜（金型）を作成し、圧
縮成形あるいは射出成形等の方法を用いてスタンバ−を
順次転写し多数のビデオディスクを得るのが一般的であ
る。

現在、ビデオディスクの方式は大きく５つに分けられる
。１つは、レコード円盤に記録されたビットの情報なレ
ーザ光によって走査し、ビットの形状及び寸法等を光の
散乱あるいは干渉等による信号として検出する光学読取
り方式であり、他の２つは、レコード円盤に記録された
ビット情報を機械的に走査し、ビットの形状。

寸法等を静電容量の相違及び機械的振動の相違として検
出する静電読取り方式及び機械的読取り方式である。

本発明は、これらいずれの方式にも適用できるビデオデ
ィスク用原盤の製造方法であるが、ここでは光学読取り
方式のビデオディスクを得るための原盤を製造する方法
を例にして説明する。

従来のビデオディスク用原盤は第１Ａ図〜第１Ｅ図に示
す工程により製造されるのが一般的である。まず光学研
磨されたガラス基板１上にポジ型のフォトレジスト２を
第１Ａ図の如く塗布（膜厚１０００〜１５００　Ａ　）
する。このフォトレジスト層２の厚さは、この原盤を用
いて、ビデオディスクを形成した時、そのビデオディス
クに形成されたビットの深さが元の散乱あるいは干渉が
十分に起るような深さになるように選択される。次に、
ビデオ信号で変調されたレーザビームでこのフォトレジ
スト層２に信号を書き込んだ後、フォトレジストを現像
すると第１Ｂ図の如くに凹部３が形成される。次いで、
第１Ｃ図の如く、全面に電気メッキによる導電用として
金属薄膜４を真空蒸着、化学メッキ等の公仰の方法を用
いて形成する。その上に従来のオーディオ用レコード円
盤の製造と同様にニッケル等の金属５を電気メッキする
（第１Ｄ図）。

最後に、メッキされたニッケル層５をはく離して第１Ｅ
図に示すようなスタンバ−（金型）が得られる。ここで
、凸部６は第１Ｃ図の凹部３に対応している。このよう
にして作成されたスタンバ−を用いてビデオディスクＬ
ｍるには。

光学的に透明なプラスチック材料１例えばｐＨＨＡ（ポ
リメチルメタクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）
等に射出成形装置を用いて成・　３　・ 形処理を施すことにより、第１Ｅ図の凸部６に対応した
ビットの形成されたビデオディスクが得られるのである
。

しかしながら、かかる方式では、フォトレジスト層２に
レーザビームを照射した後、そのフォトレジストを現像
した後でないと原盤への記録が正確に行なわれたか否か
を確認することが出来ない、即ち記録のモニタリングが
出来ないという欠点があった。また、上述した従来の方
式では、原盤からスタンバ−をはく離する際に、フォト
レジスト層２もガラス基板１より局部的あるいは全面に
わたって脱落するために、１枚の原盤から複数のスタン
バ−を得る罠は、オーディオ用レコード円盤の製造と全
く同様にして１枚の原盤からマスターを作成し、これＫ
ｔ電気メッキ行ないマザーを作成し、このマザーに電気
メッキを繰返し行って複数のスタンバ−を作成するのが
一般的である。この場合には、原盤とスタンバ−の間に
２回の転写工程が入ることになり、原盤から直接得たス
タンバ−に比べ・　４　・ ｓ／Ｎ、欠陥密度等が劣っている。

かかる欠点を解決する方法として、例えば、特開昭５５
−４６００４号がある。第２Ａ図〜第２Ｄ図に示す如く
、まずカラス基板１１上に厚さ６００Ａ０以下の金属層
１２を形成し、その金属層１２にレーザビームをパター
ン状に照射してその部分の金属層を第２Ｂ図１６の如く
除去し、残っている非照射部分の金属層１２を一極とし
て金属１４を所望の厚さに電気メッキし、次いで金属を
薄層１５状に設けて全面を導電性とした後、その上に第
２Ｄ図の如く電気メッキして所望のスタンバ−１６を形
成し、前記導電石１５から分離するものである。この方
法では、従来方式と異なり、第２Ｂ図の金属層１２と非
金属部１６との反射率の差を利用して記録時のモニタリ
ングが可能であり、更に、スタンバ−のはく離の際に原
盤表面の情報ビットに損傷を与えろこともないので１枚
の原盤からθ数のスメンバーを得ることも可能である。

しかしｒｌがら、この方法では、レーザビームの照射に
よる金属の除去の為、除去された周辺部が局部的に盛り
上がり、更に電気メッキにおける電極端部への電界集中
により、第２Ｂ図を拡大明示すると第３図の如くピット
部１３周辺の金属層が大きく盛り上がり、これがビデオ
ディスクに転写されると、ティスフ再生時の解像度を非
常に悪くするという欠点を■している。

〔発明の目的〕

本発明の目的は原盤へのレーザ記録時のモニタリングが
可能で、しかも得られるビデオディスクのビット形状が
理想的でかつ、１枚の原盤から直接複数のスタンバ−を
得ることが可能なビデオディスク用原盤の製造方法を提
供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は、光学研磨された基板上に厚さがビデオディス
クとしてのビツト深さに相当する第１の金属層９合成樹
脂層、及び第２の金属層を順次形成し、第２の金属層に
レーザビームをパターン状に照射してその部分の金属層
及びその直下の合成樹脂層を除去した後、第１の金属層
を上記合成樹脂層パターンをマスクとしてエツチングし
１次いで合成樹脂層と共に第２の金属層を除去し、しか
る後、金属を薄層状に設げて全面を導電性とし、その上
にニッケル等の金属を電気メッキして所望の厚さにし、
次いで、そのメッキされた金属を前記導電層から分離し
てスタンバ−とするようにしたことを特徴とするビデオ
ディスク用原盤の製造方法である。

〔発明の実施例〕

以下１本発明を第４Ａ図〜第４Ｅ図により説明する。ま
ず、第４Ａ図の如く光学研磨されたカラス基板２１上に
第１の金属層２２として厚さ１０００〜１５００Ａ０の
クロム層を真空蒸着法等により形成し、その上に合成樹
脂層２３としてポジ型フォトレジストを塗布、乾燥した
後、第２の金属層２４として厚さ３００　Ａ程度のアル
ミニウム層を真空蒸着法で形成する。ここで、第一の金
属層２２の厚さはビデオディスクのビット深さとなる。

例えは、Ｈｅ　−Ｎｅレーザを再生光（波長λ＝６５２
８Ａ　）に、ＰＭＭＡをビデオディスク基材・　７　・ （屈折率ｙＬ＝１．５）に用−る方式ではビット深さｄ
が再生元の干渉を十分起こすようにｄ＝λ／（ｒＬ・４
）キ１０５０Ａに選択され、λ−ｙ８ａａｉの半導体レ
ーザな用いる場合にはｄ中１４０ＯＡに選択される為、
再生方式によって適当に第一層の厚さを選択する。また
、次の工程でのレーザ記録モニタリングの感度を上げる
為、合成樹脂層２３と第２の金属層２４の厚さの合計が
モニタリング光の波長の１／４になるように選択してお
く。次の工程では、第４Ｂ図に示す如く、第２の金属層
２４に映像信号で変調されたレーザビームをパターン状
に照射することにより、照射部の金属及びその直下のフ
ォトレジスト層２３を除去する１この時、除去された部
分２５の深さがモニタリング光の波長の１／４になって
いる為、反照光は十分な干渉を起こし、十分な感度でモ
ニタリング出来ることが容易に理解できよう。次に、こ
のパターンをマスクとして第１の金属層２２であるクロ
ム層をスパッタエツチングし、しかる後上記フォトレジ
スト２６をアセトン等の有機接剤あ、　８　。

るいはレジストはく離で第２の金属層２４と一緒に除去
することにより、第４Ｃ図に示す如く、ビットの断面形
状が理想的な矩形状をしたビデオディスク情報パターン
を得る。次に、第４Ｄ図の如く厚さ１００〜３００　、
ｊ’のクロム等の薄層２６を全面に形成して表面を導電
性とし、これを陰極としてニッケル等の金属２７を所望
の厚さく約３００μｍ）まで電気メッキしく第４Ｅ図）
、シかる後、ニッケルメッキ層２７を導電層２６との界
面よりはく離すれば、スタンバ−が得られる。この際、
原盤の情報パターンが全て金属である為、スタンバ−の
はく離による原盤の損傷が全くなく、１枚の原盤から第
４Ｅ図に示す如く電気メッキとはく離を順次繰返すこと
により原盤に極めて忠実なスタンバ−を２枚以上得るこ
とが可能となる。

本発明に用いられる基板としてはガラスが一般的である
が、光学研磨されていれば、石英。

アルミナ、サファイヤ等の他、金属板又は表面が導電性
を有する板を用いることも出来る。特に金属板等を用い
る場合には、第１の金属層のエツチングに対して十分選
択性があることが必要となるが、この場合には、第４Ｄ
図に示す導電層の形成が不要となり工程が簡略化できる
。

ぼた、本発明で使用される全ての金属層は空気中で安定
であれば特に制限がなく、クロム、ニッケル、アルミニ
ウム、金、白金、ロジウム。

イリジウム、コバルト等の多くの金属を用いることが出
き、その形成方法も公知の真空蒸溜。

スパッタリング、化学メッキ等を用いることが出来る。

−万１合奴使脂層としては、第１／＠金属のエツチング
マスクとしての機能なＭし、第２鳥金属との密着性が良
好で、均一な膜厚を容易に得られるものであれば特に制
限はなく、フォトレジストや半導体プロセスで公知のポ
リイミド系の層間絶縁材料等を用いることが出来る。

更に、第１の金属層のエンチング方法としては良好なビ
ット断面が得られるスパッタエツチング、反応性スパッ
タエツチング、イオンエツチング等のドライエツチング
法が適当であることは百うまでもない。

以上の実施例では、叱４Ｂ図に示す如く、レーザビーム
により第２の金属層と同時に合成樹ＨＥＮも除去したが
、レーザビームのノ々ワーを訴蟹し″″ＣＣ第２属層だ
けを除去し、しかる後この’＝　Ｍ　ｒｖ；ｒをエツチ
ングマスクとして会Ｘ但１月四層をエツチング、Ｖｌｌ
えはプラズマ灰化することにより第４Ｂ図に示１如＜　
Ｈ丁望の・（ターンな得ることも出来る。この場合には
、合戚俳１脂層の厚さｙｓｏｏｏ、７ｗ度にすれはモー
タリングも可能である。

以上の説明に２い工は、元学説取り方式のビデオディス
クを得るための原盤の製造方法について説明したが、他
にも静電読取り方式及び機械的読取り方式のビデオディ
スクのための原盤製造にも本発明な用いろことか出来る
。

〔発明の幼果〕

以上に述べたように１本発明によれは、レーザカッチイ
ンク時のモニタリングが出来、ビットの断面形状が極め
て良好なビデオディスク川原・　１１　・ 盤を得ることが出来るだけでなく、１枚の原盤から直接
２枚以上のスタンバ−を得ることが可能となるので、原
盤からスタンバ作成に要する作業時間を大幅に短縮する
ことが出来、ビデオディスクの製造コストの低減に多大
の効果を有し、しかもビデオディスクの性能同大にも大
きな効果があることは明らかである。

【図面の簡単な説明】

第１Ａ図〜第１Ｅ図、及び第２Ａ図〜第２Ｄ図はそれぞ
れ従来のビテオティスク用原盤、スタンバ−の製造工程
を示す断面図、耐３図は従来の製造工程の欠点を示す貌
明図、第４Ａ図〜第４Ｅ図は本発明の一実施例としての
ビデオディスク用原盤の人造工程を示す断面図でおる。 １　、１１　、２１・・・基板 ２．２２・・・フォトレジスト ３．２８・・・ビット部 ２２　、２４　、２６・・・金属層 ２７・・・ニッケルメッキ層 代理人弁理士　商　槁　明　夫 ・１２　・ 第３図 −３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板に情報トラックが設けられたビデオディスク用
   原盤の製造方法において、前記基板上に第１の金属層１
   合成樹脂層及び第２の金属層を順次形成し、第２の金属
   層忙レーザビームをパターン状に照射してその部分の金
   属層及びその直下の合成ｍ脂層を除去した後、第１の金
   属層を上言已合成樹脂層パターンをマスクとしてエツチ
   ングし１次いで合成樹脂肩と共に第２の金属層を除去し
   、しかる後、第３の金属を薄層状に設けて全面を導電性
   とし。 その上に更に別の第４の金属を電気メッキして所望の厚
   さにし、そのメッキされた第４の金属を前記第３の金属
   から成る導電層から分離してスタンバ−とするようにし
   たことを特徴とするビデオディスク用原盤の製造方法。