JPS63181141A - 光学的記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は読み出し専用の光学的記録媒体の製造方法に関
するものである。

（従来技術） 光学的記録は磁気的記録と比較して記録媒体と再生ヘッ
ドが非接触であシ、且つ高密度な記録が可能であるなど
の利点がある。この光学的記録媒体としては読みだし専
用のものと追加書き込み可能表もの、消去再書き込み可
能なものが知られておシ、本発明にかかる読みだし専用
の光学的記録媒体としてはまず既に実用化されたコンパ
クトディスク（ＣＤ）や光学式のビデオディスク等が挙
げられる。これらの光学的記録媒体で採用されている方
式は媒体中に形成された凹凸構造に情報が記録され、情
報の記録密度を挙げるため記録ピット（凹部又は凸部の
最小単位）はｌＡｔｌｎ前後の大きさにし、かつレーザ
等の光源を用いて再生光を該ビットと同程度の大きさに
し、かつレーザ等の光源を用いて再生光を該ピットと同
程度の大きさに絞って情報を読み出すことが行われてい
るが、読みだし光のビームが微少々ことは再生の為にオ
ートフォカス、オートトラッキングのための技術、更に
高価なレーザ光線を使わねばならないという問題が生じ
る。

一方他の方式の光学的記録媒体として光学的に高い反射
率を有する部分と低い部分とをそれぞれ別の材料によっ
て構成し、この濃淡パターンを形成しデジタル情報を記
録する光学的記録媒体が知られている。この方式による
濃淡パターンの形成方法は例えば特開昭６（）−６６３
４６号公報に開示されているように、基板上に光学的低
反射層と光学的高反射層をこの順に積層し、表面にフォ
トレジストを塗布し、そこへ微細な濃淡パターンをもつ
マスクを介して露光し、その後フォトレジストを現像し
てレジストパターンを形成させ、しかる後レジストパタ
ーンを利用してパターン状にエツチングを行って光学的
高反射層を除去させ光学的低反射層を露出せしめること
により行っている。この方式は高価なレーザ光線を使用
しなくてもよいが、上述の様に製造工程゛の数が多く、
各工程も容易に行゛えるものではない。

レーザ光線を使用しない別方式として情報の最小単位で
ある記録ピットを回折格子で構成する光学的記録媒体が
考えられるが、数十声　オーダーの回折格子部と平滑部
を選択し、回折格子部に回折格子を形、成させるのは容
易なことではない。

（発明の目的） 本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなされたものであ
り、読み取シ用の高価なレーザ光線を使用せずに、Ｌか
も簡便表方法にょシ大量複製が行われる読みだし専用の
光学的記録媒体の製造方法を提供することにある。

（発明の概要） 本発明は基材上にフォトレジストを塗布し、形成された
フォトレジスト層にミリメートル当り数百〜数千本の線
数を有するスタンパにょシ回折格子を形成させた後、微
細表パターン状に情報が記録されたマスクを用いて露光
を行ない、その後フォトレジストを現像し、得られた記
録パターンのスタンパを起こし、該スタンパにより微細
なパターン状に回折格子が設けられた光学的記録媒体を
複製させる光学的記録媒体の製造方法。

（発見の詳述） 以下本発明を図面に基づき詳細に説明する。

第１図から第５図までは記録パターンスタンパ母型製造
の段階を順に示したもので、第１図は光学記録材料１の
構成を説明するもので基材２上にフォトレジスト層３が
積層されている。

フォトレジストはポジ型、ネガ型とも使用可能であるが
、塗布がむらなく容易に行なえ、しかも高解像力で露光
の際の微細な情報記録パターンを充分に解像しうるもの
を選び使用する。フォトレジストの例としては、５ｈｉ
ｐｌｅｙ社製ＡＺ−１３５０、東京応化■社製０ＦＰＲ
−２，０ＦＰＲ−５０００、などその他多数挙げられる
。基材２は用途に適した特性、例えば表面の平滑性、耐
性、々どを有し、後工程、フォトレジストの現像やスタ
ンパ成形工程において劣化や変形などの影響を受けない
ものを選び使用する。

ミリメートル当り数百から数千率の線数を有するスタン
パ４をフォトレジスト層３に合せて加圧し回折格子を形
成されているスタンパを使用すれば形成できる。回折格
子が形成されたこれらのスタンパは回折格子の格子定数
等が決定されれば情報パターンが異なっても再利用可能
なため生産効率上有利となる。その後回折格子が形成さ
れたフォトレジスト層３上に微細表パターン状に情報が
記録されているマスク５を介して露光を行危い（第３図
）、その次にフォトレジストを現像し回折格子が形成さ
れたレジストパターンを形成させ（第４図）、シかる後
フォトレジスト層３及び基材２の表面に金属層６を形成
させる（第５図）。金属層６は後工程の第４図の形態（
母型）のスタンパを起こす技術方法（例えば電鋳法）を
適用する際に不都合でない金属を選び、それを真空蒸着
又はスパッタリングを行なうことで形成される。それが
さらに光学的に高い反射率を有する金属の場合には、こ
の状態に読み出し光を照射すると再生も可能となり記録
状態の確認を行なうことができる。

金属層６の例としてはＡｕ　ｒ　Ａｇ　、　Ｃｒ　ｒ　
Ｃｕ　　などが挙げられる。電鋳法などの技術てよシ得
られた母型からスタンパを起こし、そして得られた記録
転写スタンパ７により光学的記録媒体の大量複製を行な
う（第６図）。複製方法としては射出成形法、圧縮成形
法、紫外線硬化樹脂を使った方法などが挙げられるが、
複製品が良質で効率よく製造できる方法を選んでから行
なう。複製された基材８の表面には光学的に高い反射率
を有する金属を選び、真空蒸着又はスパッタリングによ
り金属層９を形成させ（第７図）、その上部には光学的
に透明な材料１０で保護層を形成させる（第８図）。こ
の場合読み取シ光は材料１０の側から照射するが、逆に
基材８を光学的に透明な性質をも備えた材料を使い基材
８の側から読み出し光を照射する方式も可能である。

また、その表面に光学的に高い反射率を有する金属薄膜
を設けた熱可塑性樹脂にスタンパ７で圧縮成形を行ない
光学的記録情報を転写させる方法も可能である。このよ
うにして得られた光学的記録媒体において、回折格子の
形状が正弦波形でその深さが０．１６例の場合、Ｈｅ州
ｅレーザー（６３２，８ｎｍ）　１ｒ：入射角デで照射
した時の回折効率は３３％であり、反射率は平滑部１０
０に対し回折格子部３４となり約６０％のコントラスト
が確認される。読み取シ光は前記レーザー光に限定され
るものではなく、例えば、発光ダイオード等、特別な光
源を選ばすとも読み取シを可能とするものを提供するも
のである。

この光学的記録媒体の製造方法は、格子部と平滑部を選
択的に形成が行なえ、しかも大量複製も効率よく行なう
ことができる。

（実施例） 以下本発明を実施例により説明するが、本発明は実施例
だけに限定されるものではない。

縦６〜７ｃｒＩＫ、横５〜６副の表面が平滑なガラス板
上にフォトレジス）　（ＡＺ−１３５０）をスピナー塗
布し、乾燥後（９０℃）、フォトレジスト層上にミリメ
ートル当、９７００本の線数を有する金属板を合わせ加
圧し、しかる後微細なパターンを有するマスクを介して
露光を行ない、その後フォトレジストを現像し、レジス
トパターンを形成させた後、レジストパターン上に金蒸
着を行ない導電性薄膜を形成させた後、これをスルファ
ミン酸ニッケル浴を用いたニッケル電鋳てニッケルスタ
ンパを作成し、厚さＱ、　５　ｍｌｌのポリ塩化ビニル
シート上にニッケルスタンパの形状を圧縮成形で転写さ
せ、得られた転写表面にアルミニウム蒸着を行ない、回
折格子の設けられている部分と設けられていない部分、
つｔｂ−平滑な部分とを顕微鏡で観察したところ両者が
はっきシと区別され、また、発光ダイオードを読み毛り
光としてＣＯＤラインセンサーで読み取ったところ実用
に充分なＳハ比が得られた。

（本発明の効果） 本発明により回折格子部と平滑部を選択的に形成が行な
え、スタンパの溝状態を選べば種々の回折格子の形成も
可能となシ、シかも効率よく光学的記録媒体の大量複製
も行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図から第７図は本発明の各工程に於ける断面図の拡
大図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光学的に高い反射率を有する材料で凹凸パターンが形成
   され該凹凸パターンの凹部又は凸部の少なくとも一方に
   回折格子が形成されている光学的記録媒体の製造方法に
   於て、基材上にフォトレジストを塗布し、形成されたフ
   ォトレジスト層にミリメートル当り数百から数千本の線
   数を有するスタンパにより回折格子を形成させた後、微
   細な濃淡パターン状に情報が記録されたマスクを用いて
   露光を行い、その後フォトレジストを塗布し、形成され
   たフォトレジストを現像し、得られた記録パターンのス
   タンパを起こし該スタンパにより微細なパターン状に回
   折格子が設けられた光学的記録媒体を複製することを特
   徴とする光学的記録媒体の製造方法。