JPS615454A - 音盤,記録盤の複製方法 - Google Patents
音盤,記録盤の複製方法Info
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- JPS615454A JPS615454A JP12530684A JP12530684A JPS615454A JP S615454 A JPS615454 A JP S615454A JP 12530684 A JP12530684 A JP 12530684A JP 12530684 A JP12530684 A JP 12530684A JP S615454 A JPS615454 A JP S615454A
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- mask
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は音盤、記録盤の複製方法に関するものである。
音盤、記録盤は音声及び/又は映像等の情報をビットや
グループの形状、寸法などの変化として記録した情報ト
ラックを有し、この記録された情報を機械的、電気的晟
いは光学的に取り出して映r象及び/又は音声信号に変
換し、再生するものである。これらはデジタルオーディ
オディスク、ビデオディスク、ドキュメントファイルデ
ィスク、PCMディスク、ホログラフィックディスクな
どの高密度記録ディスクとして広く利用されるようにな
った。
グループの形状、寸法などの変化として記録した情報ト
ラックを有し、この記録された情報を機械的、電気的晟
いは光学的に取り出して映r象及び/又は音声信号に変
換し、再生するものである。これらはデジタルオーディ
オディスク、ビデオディスク、ドキュメントファイルデ
ィスク、PCMディスク、ホログラフィックディスクな
どの高密度記録ディスクとして広く利用されるようにな
った。
上記の音盤、記録盤では普通、オリジナル原盤上の情報
をメッキ等の手段を施してプレスマスク(スタンバ)を
外相し、このプレスマスクラ使用してオーディオ用レコ
ード盤を作るのと同様に順次転写して多数のプラスチッ
ク成形盤を作り、これを記録或いは再生用媒体として用
いている。それ故、v’i’a方式などの他の映像記録
再生方法に比較して記録或いは再生用媒体が非常に安価
に、かつ多数枚を同時に製造できると云う長所を有する
。
をメッキ等の手段を施してプレスマスク(スタンバ)を
外相し、このプレスマスクラ使用してオーディオ用レコ
ード盤を作るのと同様に順次転写して多数のプラスチッ
ク成形盤を作り、これを記録或いは再生用媒体として用
いている。それ故、v’i’a方式などの他の映像記録
再生方法に比較して記録或いは再生用媒体が非常に安価
に、かつ多数枚を同時に製造できると云う長所を有する
。
記録或いは再生される情報は年々、微細化、高密度化に
なり、ザブミクロソサイズに達しており、メッキ等の手
段を施してプレスマスク(スタンバ)を作製する際、オ
リジナル原盤(以下、原盤と称す。)の情報を忠実に再
現させることが重要である。
なり、ザブミクロソサイズに達しており、メッキ等の手
段を施してプレスマスク(スタンバ)を作製する際、オ
リジナル原盤(以下、原盤と称す。)の情報を忠実に再
現させることが重要である。
かかるn−fE?F、記録盤の製造方法としては、従来
広のような方法が知られている。
広のような方法が知られている。
例えば第12〜16図に示される工程により原盤及びプ
レスマスクが製造される。第12図は原盤用感光劇料で
光学研磨されたガラス基板1上にポジ形のフォトレジス
ト層2が設けられている。このフォトレジスト層の厚さ
は、形成されたマスクを用いてプラスチック成形盤を形
門した時、該成形、盤に形成されたピットの深さが光の
散乱、回折或いは干渉が十分起るような深さになるよう
に、即ち読み取りビーム波長のyに選択される。次にビ
デオ信号で変調されたレーザービームでこのフォトレジ
スト層に信号を梼き込んだ後、フォトレジスト層を現像
すると第13図のような原盤となる。
レスマスクが製造される。第12図は原盤用感光劇料で
光学研磨されたガラス基板1上にポジ形のフォトレジス
ト層2が設けられている。このフォトレジスト層の厚さ
は、形成されたマスクを用いてプラスチック成形盤を形
門した時、該成形、盤に形成されたピットの深さが光の
散乱、回折或いは干渉が十分起るような深さになるよう
に、即ち読み取りビーム波長のyに選択される。次にビ
デオ信号で変調されたレーザービームでこのフォトレジ
スト層に信号を梼き込んだ後、フォトレジスト層を現像
すると第13図のような原盤となる。
第13図において3はレーザービームが照射され、現像
によって除去された部分である。次いで第14図のよう
に全面に金属薄膜4を設ける。次にその上に−に、従来
からオーディオ用レコード用盤の製盤に用いられてい東
のと同じようにニッケルの如き金属層5を電鋳により設
ける(第15図)。最後に、メッキされたニッケル層を
剥離して、第16図に示すようなプレスマスクが得られ
る。ここで凸部6は第13図の凹部3に対応している。
によって除去された部分である。次いで第14図のよう
に全面に金属薄膜4を設ける。次にその上に−に、従来
からオーディオ用レコード用盤の製盤に用いられてい東
のと同じようにニッケルの如き金属層5を電鋳により設
ける(第15図)。最後に、メッキされたニッケル層を
剥離して、第16図に示すようなプレスマスクが得られ
る。ここで凸部6は第13図の凹部3に対応している。
このよう (にして形成されたマスクを用いて
音盤或いは記録盤を得るには、アクリル樹脂やポリカー
ボネート樹脂の如き透明な熱可塑樹脂を用い、で、イン
ジェクション成形、インジエクシ田ンコンプレツショ/
成形したり、塩化ビニルΦ酢酸ビニル共重合体にh−ボ
ン粒子を充填した材料を用いてコングレッション成形し
たり、光重合法や熱重合法を採用することによ凱第16
図の凸部6に対応したピーットの形成入れた音盤或いは
記録盤が得られるのである。
音盤或いは記録盤を得るには、アクリル樹脂やポリカー
ボネート樹脂の如き透明な熱可塑樹脂を用い、で、イン
ジェクション成形、インジエクシ田ンコンプレツショ/
成形したり、塩化ビニルΦ酢酸ビニル共重合体にh−ボ
ン粒子を充填した材料を用いてコングレッション成形し
たり、光重合法や熱重合法を採用することによ凱第16
図の凸部6に対応したピーットの形成入れた音盤或いは
記録盤が得られるのである。
しかしながら、かかる方法で音盤或いは記録盤を製造す
るには、一枚の原盤から一枚のマスタしか複′製できず
、多数枚のプラスチック成形盤を得るには、マスクから
マザーへ、マザーからスタ/。
るには、一枚の原盤から一枚のマスタしか複′製できず
、多数枚のプラスチック成形盤を得るには、マスクから
マザーへ、マザーからスタ/。
パへとメッキを繰9返し複製しなければならず、複製の
工程が増えるに従って原盤の情報を再現する忠実度が低
下すると云う欠点があった。それ故原盤の情報を忠実に
プラスチック成形盤として再現させるには、多数の原盤
が必要となり、第13図に示す如き原盤を回転させなが
らレーザービームを照射するのでは、工程が複雑とな9
長時間を要すると云う欠点があった。
工程が増えるに従って原盤の情報を再現する忠実度が低
下すると云う欠点があった。それ故原盤の情報を忠実に
プラスチック成形盤として再現させるには、多数の原盤
が必要となり、第13図に示す如き原盤を回転させなが
らレーザービームを照射するのでは、工程が複雑とな9
長時間を要すると云う欠点があった。
他の方法として第17〜′18図に示す方法力(あるO
第17図はこの方法に用いられる出発材料で、例えば光
学研磨された平坦で平滑なガラス基板7の上に厚さ40
0〜1000λ程度の金属薄膜8のS設けられる。次に
第18図の如くこの金属薄膜にビデオ信号で変調きれた
例えばArレーザービームを照射して該金属薄膜8を選
択的に除去する。9は該レーザービームによって金属薄
膜8が除去された部分を示す。この様にして〕くターン
を形成する方法は前述した方法とは異な9、レーザービ
ームを照射した時に該金属薄膜の温度が局部的に上昇し
、溶融、蒸発除去されるため、得られるピットの周辺に
は隆起を生じ、原盤の解像度が極めて低い上、SZN比
が著しく低下しギしまう。
第17図はこの方法に用いられる出発材料で、例えば光
学研磨された平坦で平滑なガラス基板7の上に厚さ40
0〜1000λ程度の金属薄膜8のS設けられる。次に
第18図の如くこの金属薄膜にビデオ信号で変調きれた
例えばArレーザービームを照射して該金属薄膜8を選
択的に除去する。9は該レーザービームによって金属薄
膜8が除去された部分を示す。この様にして〕くターン
を形成する方法は前述した方法とは異な9、レーザービ
ームを照射した時に該金属薄膜の温度が局部的に上昇し
、溶融、蒸発除去されるため、得られるピットの周辺に
は隆起を生じ、原盤の解像度が極めて低い上、SZN比
が著しく低下しギしまう。
更に他の方法として第19〜22図に示す方法カニある
。光学研磨されたガラス基板19上にエツチング層10
及びレーザ感光11が順次設けられ、この方法の出発材
料が構成されている。次に第20図の如く、この出発材
料にビデオ信号で変調されたし゛−ザービームを照射し
て該レーザ感光層を選択的に感光する。次いで現像によ
り感光部の感光層を除去する。第21図の如くエツチン
グ処理によ9該除去部分に相当するエツチング層10を
除去し、マスクを形成する。このように形成したマスク
パターン表面全体に第22図のように、ネガ形フォトレ
ジスト層12を塗布し、背面から紫外線を一様に照射し
/こ後、7.1 トレジスト層を現像して第23図のよ
うに凸部13を得る。このようにして得らねるビットは
、フォトレジスト層にネガ形を用いるだめの解像度に劣
り、音盤、記録盤の高密度化、高精till化に伴うピ
ットの小形化に対応できないと永う欠点があった。
。光学研磨されたガラス基板19上にエツチング層10
及びレーザ感光11が順次設けられ、この方法の出発材
料が構成されている。次に第20図の如く、この出発材
料にビデオ信号で変調されたし゛−ザービームを照射し
て該レーザ感光層を選択的に感光する。次いで現像によ
り感光部の感光層を除去する。第21図の如くエツチン
グ処理によ9該除去部分に相当するエツチング層10を
除去し、マスクを形成する。このように形成したマスク
パターン表面全体に第22図のように、ネガ形フォトレ
ジスト層12を塗布し、背面から紫外線を一様に照射し
/こ後、7.1 トレジスト層を現像して第23図のよ
うに凸部13を得る。このようにして得らねるビットは
、フォトレジスト層にネガ形を用いるだめの解像度に劣
り、音盤、記録盤の高密度化、高精till化に伴うピ
ットの小形化に対応できないと永う欠点があった。
更に他の方法として、第23〜24図に示す方法がある
。第19〜21図の方法と同様にマスクパターンを形成
し、このマスクパターンに第24図に示す如く基板14
上に感光剤層15、例えばレジスト層が設けられた部材
を、パターンとレジスト層が対向するように密着させて
露光し、現像して複製する方法(第25図)も知られて
いる。しかし音盤或いは記録盤のように大面積のもので
は全域に渡り均一に密着させることは困雛であり、マス
ク上のパターンをレジス)M上に正確に再現させること
ができないと云う欠点があった。
。第19〜21図の方法と同様にマスクパターンを形成
し、このマスクパターンに第24図に示す如く基板14
上に感光剤層15、例えばレジスト層が設けられた部材
を、パターンとレジスト層が対向するように密着させて
露光し、現像して複製する方法(第25図)も知られて
いる。しかし音盤或いは記録盤のように大面積のもので
は全域に渡り均一に密着させることは困雛であり、マス
ク上のパターンをレジス)M上に正確に再現させること
ができないと云う欠点があった。
本発明は、原盤即ちマスクからの複製が忠実で解職性に
富んだ、且つ、耐久性、生産性の高い音盤、記録盤の複
製方法を提供することを目的とする。
富んだ、且つ、耐久性、生産性の高い音盤、記録盤の複
製方法を提供することを目的とする。
本発明者らは上記目的を達成すべく、鋭意研究を重ねた
結果、原盤となるマスクのパターン上にポジ形しジスト
層を設け、マスクを通して一様に露光し、次いで現像し
凹凸部を形成することによって得られる音盤、記録盤は
、原盤であるマスクに損傷を与えずに、多数の複製が容
易に得られるという事実を見い出し、本発明を完成した
。
結果、原盤となるマスクのパターン上にポジ形しジスト
層を設け、マスクを通して一様に露光し、次いで現像し
凹凸部を形成することによって得られる音盤、記録盤は
、原盤であるマスクに損傷を与えずに、多数の複製が容
易に得られるという事実を見い出し、本発明を完成した
。
即ち、本発明の音盤、記録盤の複製方法は基板上にエツ
チング層及びレーザ感光層を順次設けた後・v−fw−
”を3射し’C1lie L/ −f感光層を 1
.・選択的に除去し、次いでエツチング処理により該
1除去部分に和尚するエツチング層を除去し、マス
クを形成する工程と、前記マスクのエツチング層上にポ
ジ型レジスト層を設け、前記マスクを通して一様に露光
した後、レジスト層を現[象して凹凸部を形成する工程
を有することを%徴とする。更に凹凸部を有するレジス
ト層上に電極薄膜を設けた後、メッキ層を設け、次いで
前記マスクと前記メッキ層を剥離する工程を有すること
を特徴とする。
チング層及びレーザ感光層を順次設けた後・v−fw−
”を3射し’C1lie L/ −f感光層を 1
.・選択的に除去し、次いでエツチング処理により該
1除去部分に和尚するエツチング層を除去し、マス
クを形成する工程と、前記マスクのエツチング層上にポ
ジ型レジスト層を設け、前記マスクを通して一様に露光
した後、レジスト層を現[象して凹凸部を形成する工程
を有することを%徴とする。更に凹凸部を有するレジス
ト層上に電極薄膜を設けた後、メッキ層を設け、次いで
前記マスクと前記メッキ層を剥離する工程を有すること
を特徴とする。
用いるエッチ77層はマスクとして用いることができれ
ば特に限定されるものではないが、例えばMI SiQ
、 l Si、 Si、N41 Mo+ Cr、 Cr
ux、 Au、 5n021 In2O3゜N1)1’
J″a、 0aAs などてあり、これらを単独で、
又は2(ψ以上を混合して或いは重畳して用いることが
できる。
ば特に限定されるものではないが、例えばMI SiQ
、 l Si、 Si、N41 Mo+ Cr、 Cr
ux、 Au、 5n021 In2O3゜N1)1’
J″a、 0aAs などてあり、これらを単独で、
又は2(ψ以上を混合して或いは重畳して用いることが
できる。
また、用いろレーザI−♂に光層とはポジ型レジストで
あり、用いろニップ−ノブ法は乾式、湿式を問わすイが
、好寸しくは、プラズマエッチンク、スパッタニッチ/
グ、イオンエツチングなどのドライエツチングである。
あり、用いろニップ−ノブ法は乾式、湿式を問わすイが
、好寸しくは、プラズマエッチンク、スパッタニッチ/
グ、イオンエツチングなどのドライエツチングである。
次に本発明の音盤、記録盤を複製する方法を図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
第1〜11図は、本発明の音盤、記録盤の複製方法の一
例を示す工程の概念的断面図である。第1図は基体20
上にエツチング層21及びレーザ感光層22が形成され
た本発明の音盤、記録盤を複製するためのマスクの記録
前の状態を示すものである。
例を示す工程の概念的断面図である。第1図は基体20
上にエツチング層21及びレーザ感光層22が形成され
た本発明の音盤、記録盤を複製するためのマスクの記録
前の状態を示すものである。
本発明の方法に用いられる基体2oとしては表面が平滑
で寸法安定性に優れ、特に途中の工程で腐食又は変形し
ないものが好ましく、石英ガラス、硼ケイ酸ガラスなど
の広範なガラス材料の中から選ばれる。光学研磨された
ガラスは特に好ましい。
で寸法安定性に優れ、特に途中の工程で腐食又は変形し
ないものが好ましく、石英ガラス、硼ケイ酸ガラスなど
の広範なガラス材料の中から選ばれる。光学研磨された
ガラスは特に好ましい。
本発明では、かかる基体上に先ず、エツチング層21を
設ける。エラ4−/グ)ft!は、蒸着、スパッタリン
グ、イオンブレーティング、プラズマCVD等の手法を
用いて付着させる。
設ける。エラ4−/グ)ft!は、蒸着、スパッタリン
グ、イオンブレーティング、プラズマCVD等の手法を
用いて付着させる。
次いで、エツチング層21の上にレーザ感光層22を、
回転塗布などにより設け、ベーキングを行う。
回転塗布などにより設け、ベーキングを行う。
レーザ感光層22には、ポジ型レジストが使われ、レー
ザビームの照射部は現像により除去され得、かつ後述す
るエツチングの際、レーザビームの未照射部分23が、
その下のエツチング層のマスクの働きをしている。即ち
レーザビームに対する感応性は高いが、後述するエツチ
ングを受けにくいかもしくは全く受けない物質が用いら
れる。レーザ感応層22の厚さは、エツチングの間にレ
ーザ感応層がマスクとして作用するに十分でなければな
らない。
ザビームの照射部は現像により除去され得、かつ後述す
るエツチングの際、レーザビームの未照射部分23が、
その下のエツチング層のマスクの働きをしている。即ち
レーザビームに対する感応性は高いが、後述するエツチ
ングを受けにくいかもしくは全く受けない物質が用いら
れる。レーザ感応層22の厚さは、エツチングの間にレ
ーザ感応層がマスクとして作用するに十分でなければな
らない。
このようにして作成した材料に、音声及び/又は映障等
の情報を公知の手段でアルゴンレーザ等の強弱或いはオ
ンオフ信号に変換したレーザビームを照射し、エチルア
セテートセロソルブを主成分とする現1象液で現像し、
第2図に示すようにレーザ感応層のレーザ照射部24を
除去する。
の情報を公知の手段でアルゴンレーザ等の強弱或いはオ
ンオフ信号に変換したレーザビームを照射し、エチルア
セテートセロソルブを主成分とする現1象液で現像し、
第2図に示すようにレーザ感応層のレーザ照射部24を
除去する。
次いで、レーザビーム未照射部分23をマスクとし゛て
、例えばリアクティブイオンエツチングにより、エツチ
ング層21のし、−ザビーム照射部分25に対応する部
分26を除去し、ビット27を形成した後(第3図)レ
ーザビーム未照射部分23のレーザ感応層分除去するこ
とにより第4図に示した音盤、記録盤用のマスクを得る
。そこで、このように形成したマスク表面全体に第5図
のようにポジ型レジスト層28を塗布し、背面からマス
クを通して一様に放射線、例えば紫外線を照射した後、
フォトレジスト層を現像して、第6図及び第7図のよう
に凸部29を得る。凸部29と凹部30との段差、即ち
情報パターシは0次回折光に対する1次回折光の値を観
測すれば、制御することも可能である(第7図)。この
ようにすることにより、音盤、記録盤のピット或いはダ
ルーブに要求される光の散乱或いは干渉を起すに十分な
深さの凹凸パターンを得ることができる。
、例えばリアクティブイオンエツチングにより、エツチ
ング層21のし、−ザビーム照射部分25に対応する部
分26を除去し、ビット27を形成した後(第3図)レ
ーザビーム未照射部分23のレーザ感応層分除去するこ
とにより第4図に示した音盤、記録盤用のマスクを得る
。そこで、このように形成したマスク表面全体に第5図
のようにポジ型レジスト層28を塗布し、背面からマス
クを通して一様に放射線、例えば紫外線を照射した後、
フォトレジスト層を現像して、第6図及び第7図のよう
に凸部29を得る。凸部29と凹部30との段差、即ち
情報パターシは0次回折光に対する1次回折光の値を観
測すれば、制御することも可能である(第7図)。この
ようにすることにより、音盤、記録盤のピット或いはダ
ルーブに要求される光の散乱或いは干渉を起すに十分な
深さの凹凸パターンを得ることができる。
次いで第8図に示すように全面に金属薄膜31を設け、
第9図に示すfうに全乳薄膜31上に金属層32をηイ
、気メッキした後、これを剥離することにより、マスタ
ースタンパ36(第10図)が得られ、とれに更に金属
をメッキして剥離すれば、マザースタンパが得られる。
第9図に示すfうに全乳薄膜31上に金属層32をηイ
、気メッキした後、これを剥離することにより、マスタ
ースタンパ36(第10図)が得られ、とれに更に金属
をメッキして剥離すれば、マザースタンパが得られる。
このようにすることにより、 (1枚の原盤用
マスクから多数のマスタースタンパを形成することが可
能となる。第11図に示されるように該マスタースタン
パを用いてプラスチック成形を行なえば音盤、記録盤3
7が得られる。ここでプラスチック成形盤37上の四部
34はマスタースタンパの凸部35に対応していること
は勿論である。
マスクから多数のマスタースタンパを形成することが可
能となる。第11図に示されるように該マスタースタン
パを用いてプラスチック成形を行なえば音盤、記録盤3
7が得られる。ここでプラスチック成形盤37上の四部
34はマスタースタンパの凸部35に対応していること
は勿論である。
〔発明の実施例〕 ・
以下、本発明の音盤、記録盤の複製方法を実施例によっ
て詳説する。
て詳説する。
実施例および比較例
光学研磨したホウケイ酸ガラス基板(外径200φ、中
心孔径15φ、厚さ8 m )を真空蒸着装置内に保持
し、真空度2 X 10’torr (7)下でOrを
850人厚に蒸着した。次いでこのCr層上にAZ−1
400(シュプレー社製)から成るポジ型フォトレジス
ト層を1600λ厚に回転塗布する。焼付後、ガラス基
板を回転させながら1μmφ程度に絞った0、03〜0
.3W程度のパワーのにレーザを選択的に照射し、フォ
トレジスト層を感光化した。現像によりフォトレジスト
層の感光部を選択的に除去した後、ジメチルメタン:酸
素が3:10の混合ガス圧Q、4tOrrのもとで、電
極間距離55m+、2分間のエツチングにより、レーザ
照射部のCrを除去[7、スパイラル状に信号が付与さ
れたマスクを得た。更に竺号の付与されたマスク上KA
Z−1350(シュプレー社製)から成るポジ型レジス
ト層を塗布する。マスクの基板側から紫外線を照射し、
ポジ型レジスト層を選択的に感光した後、あら□かじめ
求められた0次回折光と1次回折光の比になるまで現1
象してスパイラル状の凹凸信号を形成した。次いで凹凸
表面のレジスト層上に高層を1000人の厚さに蒸着形
成し更ニスルファミン@Niとホウ酸を主成分としたメ
ッキ浴中で250μmの厚さにメッキを施し、メッキ層
とマスクとを、レジスト層を境に剥離しマスタースタン
パを得た。マスクは洗浄後、繰り返し同様のプロセスで
マスタースタンパを形成した。得られたマスタースタン
パは、製作枚数によらずマスクの情報信号を忠実に再現
していた。
心孔径15φ、厚さ8 m )を真空蒸着装置内に保持
し、真空度2 X 10’torr (7)下でOrを
850人厚に蒸着した。次いでこのCr層上にAZ−1
400(シュプレー社製)から成るポジ型フォトレジス
ト層を1600λ厚に回転塗布する。焼付後、ガラス基
板を回転させながら1μmφ程度に絞った0、03〜0
.3W程度のパワーのにレーザを選択的に照射し、フォ
トレジスト層を感光化した。現像によりフォトレジスト
層の感光部を選択的に除去した後、ジメチルメタン:酸
素が3:10の混合ガス圧Q、4tOrrのもとで、電
極間距離55m+、2分間のエツチングにより、レーザ
照射部のCrを除去[7、スパイラル状に信号が付与さ
れたマスクを得た。更に竺号の付与されたマスク上KA
Z−1350(シュプレー社製)から成るポジ型レジス
ト層を塗布する。マスクの基板側から紫外線を照射し、
ポジ型レジスト層を選択的に感光した後、あら□かじめ
求められた0次回折光と1次回折光の比になるまで現1
象してスパイラル状の凹凸信号を形成した。次いで凹凸
表面のレジスト層上に高層を1000人の厚さに蒸着形
成し更ニスルファミン@Niとホウ酸を主成分としたメ
ッキ浴中で250μmの厚さにメッキを施し、メッキ層
とマスクとを、レジスト層を境に剥離しマスタースタン
パを得た。マスクは洗浄後、繰り返し同様のプロセスで
マスタースタンパを形成した。得られたマスタースタン
パは、製作枚数によらずマスクの情報信号を忠実に再現
していた。
本発明の製造方法は、生産性が高く、得られる音盤、記
録盤も原盤からの複製が忠実で解像性に富むものである
。
録盤も原盤からの複製が忠実で解像性に富むものである
。
スフ記録盤及びスタンバの製造工程を示す図である。
1.7,14,19,2():基板
2 、11.15+ 22.28 :ポジをレジスト層
12、:ネガ型レジスト層 3、6.9.24.25.26.34.35 :レーザ
ービーム照射部分に対応する部分 23、:レーザービーム未照射部分に対応する部分4.
8,311 :金属薄膜 5.32.:金り層(電鋳による) 10.21.:エッチ/ダ層 27.:ビット29、:
凸部の情報信号 30. :凹部の情報(8号36
、:マスタースタンバ 37、ニブラスチック成形盤(音(クエ、記録盤)代理
人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第4図 第 5 図 第9図 第10図 第12図 第15図 第16図 第21図 第22図 第24図
12、:ネガ型レジスト層 3、6.9.24.25.26.34.35 :レーザ
ービーム照射部分に対応する部分 23、:レーザービーム未照射部分に対応する部分4.
8,311 :金属薄膜 5.32.:金り層(電鋳による) 10.21.:エッチ/ダ層 27.:ビット29、:
凸部の情報信号 30. :凹部の情報(8号36
、:マスタースタンバ 37、ニブラスチック成形盤(音(クエ、記録盤)代理
人 弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第4図 第 5 図 第9図 第10図 第12図 第15図 第16図 第21図 第22図 第24図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基体上にエッチング層及びレーザ感光層を順次設け
た後、レーザビームを照射して前記レーザ感光層を選択
的に除去し、次いでエッチング処理により該除去部分に
相当するエッチング層を除去し、マスクを形成する工程
と、前記マスクのエッチング層上にポジ型レジスト層を
設け、前記マスクを通して一様に露光した後、レジスト
層を現像して凹凸部を形成する工程を有することを特徴
とする音盤、記録盤の複製方法。 2、基体上にエッチング層及びレーザ感光層を順次設け
た後、レーザビームを照射して前記レーザ感光層を選択
的に除去し、次いでエッチング処理により該除去部分に
相当するエッチング層を除去し、マスクを形成する工程
と、前記マスクのエッチング層上にポジ型レジスト層を
設け、前記マスクを通して一様に露光した後、レジスト
層を現像して凹凸部を形成する工程と、さらに前記レジ
スト層上に電極薄膜を設けた後、メッキ層を設け、次い
で前記マスクと前記メッキ層を剥離する工程を有するこ
とを特徴とする特許請求範囲第1項記載の音盤、記録盤
の複製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12530684A JPS615454A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 音盤,記録盤の複製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12530684A JPS615454A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 音盤,記録盤の複製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS615454A true JPS615454A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14906827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12530684A Pending JPS615454A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 音盤,記録盤の複製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS615454A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2630570A1 (fr) * | 1988-04-21 | 1989-10-27 | Mitev Stoyan | Matrice pour la fabrication de disques optiques |
JP2010511967A (ja) * | 2006-12-08 | 2010-04-15 | コミサリア、ア、レネルジ、アトミク−セーエーアー | 深い窪み領域の形成、及び、光記録媒体の製造におけるその使用 |
-
1984
- 1984-06-20 JP JP12530684A patent/JPS615454A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2630570A1 (fr) * | 1988-04-21 | 1989-10-27 | Mitev Stoyan | Matrice pour la fabrication de disques optiques |
JP2010511967A (ja) * | 2006-12-08 | 2010-04-15 | コミサリア、ア、レネルジ、アトミク−セーエーアー | 深い窪み領域の形成、及び、光記録媒体の製造におけるその使用 |
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