JPS615454A - 音盤，記録盤の複製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は音盤、記録盤の複製方法に関するものである。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

音盤、記録盤は音声及び／又は映像等の情報をビットや
グループの形状、寸法などの変化として記録した情報ト
ラックを有し、この記録された情報を機械的、電気的晟
いは光学的に取り出して映ｒ象及び／又は音声信号に変
換し、再生するものである。これらはデジタルオーディ
オディスク、ビデオディスク、ドキュメントファイルデ
ィスク、ＰＣＭディスク、ホログラフィックディスクな
どの高密度記録ディスクとして広く利用されるようにな
った。

上記の音盤、記録盤では普通、オリジナル原盤上の情報
をメッキ等の手段を施してプレスマスク（スタンバ）を
外相し、このプレスマスクラ使用してオーディオ用レコ
ード盤を作るのと同様に順次転写して多数のプラスチッ
ク成形盤を作り、これを記録或いは再生用媒体として用
いている。それ故、ｖ’ｉ’ａ方式などの他の映像記録
再生方法に比較して記録或いは再生用媒体が非常に安価
に、かつ多数枚を同時に製造できると云う長所を有する
。

記録或いは再生される情報は年々、微細化、高密度化に
なり、ザブミクロソサイズに達しており、メッキ等の手
段を施してプレスマスク（スタンバ）を作製する際、オ
リジナル原盤（以下、原盤と称す。）の情報を忠実に再
現させることが重要である。

かかるｎ−ｆＥ？Ｆ、記録盤の製造方法としては、従来
広のような方法が知られている。

例えば第１２〜１６図に示される工程により原盤及びプ
レスマスクが製造される。第１２図は原盤用感光劇料で
光学研磨されたガラス基板１上にポジ形のフォトレジス
ト層２が設けられている。このフォトレジスト層の厚さ
は、形成されたマスクを用いてプラスチック成形盤を形
門した時、該成形、盤に形成されたピットの深さが光の
散乱、回折或いは干渉が十分起るような深さになるよう
に、即ち読み取りビーム波長のｙに選択される。次にビ
デオ信号で変調されたレーザービームでこのフォトレジ
スト層に信号を梼き込んだ後、フォトレジスト層を現像
すると第１３図のような原盤となる。

第１３図において３はレーザービームが照射され、現像
によって除去された部分である。次いで第１４図のよう
に全面に金属薄膜４を設ける。次にその上に−に、従来
からオーディオ用レコード用盤の製盤に用いられてい東
のと同じようにニッケルの如き金属層５を電鋳により設
ける（第１５図）。最後に、メッキされたニッケル層を
剥離して、第１６図に示すようなプレスマスクが得られ
る。ここで凸部６は第１３図の凹部３に対応している。

このよう　　　　　（にして形成されたマスクを用いて
音盤或いは記録盤を得るには、アクリル樹脂やポリカー
ボネート樹脂の如き透明な熱可塑樹脂を用い、で、イン
ジェクション成形、インジエクシ田ンコンプレツショ／
成形したり、塩化ビニルΦ酢酸ビニル共重合体にｈ−ボ
ン粒子を充填した材料を用いてコングレッション成形し
たり、光重合法や熱重合法を採用することによ凱第１６
図の凸部６に対応したピーットの形成入れた音盤或いは
記録盤が得られるのである。

しかしながら、かかる方法で音盤或いは記録盤を製造す
るには、一枚の原盤から一枚のマスタしか複′製できず
、多数枚のプラスチック成形盤を得るには、マスクから
マザーへ、マザーからスタ／。

パへとメッキを繰９返し複製しなければならず、複製の
工程が増えるに従って原盤の情報を再現する忠実度が低
下すると云う欠点があった。それ故原盤の情報を忠実に
プラスチック成形盤として再現させるには、多数の原盤
が必要となり、第１３図に示す如き原盤を回転させなが
らレーザービームを照射するのでは、工程が複雑とな９
長時間を要すると云う欠点があった。

他の方法として第１７〜′１８図に示す方法力（あるＯ
第１７図はこの方法に用いられる出発材料で、例えば光
学研磨された平坦で平滑なガラス基板７の上に厚さ４０
０〜１０００λ程度の金属薄膜８のＳ設けられる。次に
第１８図の如くこの金属薄膜にビデオ信号で変調きれた
例えばＡｒレーザービームを照射して該金属薄膜８を選
択的に除去する。９は該レーザービームによって金属薄
膜８が除去された部分を示す。この様にして〕くターン
を形成する方法は前述した方法とは異な９、レーザービ
ームを照射した時に該金属薄膜の温度が局部的に上昇し
、溶融、蒸発除去されるため、得られるピットの周辺に
は隆起を生じ、原盤の解像度が極めて低い上、ＳＺＮ比
が著しく低下しギしまう。

更に他の方法として第１９〜２２図に示す方法カニある
。光学研磨されたガラス基板１９上にエツチング層１０
及びレーザ感光１１が順次設けられ、この方法の出発材
料が構成されている。次に第２０図の如く、この出発材
料にビデオ信号で変調されたし゛−ザービームを照射し
て該レーザ感光層を選択的に感光する。次いで現像によ
り感光部の感光層を除去する。第２１図の如くエツチン
グ処理によ９該除去部分に相当するエツチング層１０を
除去し、マスクを形成する。このように形成したマスク
パターン表面全体に第２２図のように、ネガ形フォトレ
ジスト層１２を塗布し、背面から紫外線を一様に照射し
／こ後、７．１　トレジスト層を現像して第２３図のよ
うに凸部１３を得る。このようにして得らねるビットは
、フォトレジスト層にネガ形を用いるだめの解像度に劣
り、音盤、記録盤の高密度化、高精ｔｉｌｌ化に伴うピ
ットの小形化に対応できないと永う欠点があった。

更に他の方法として、第２３〜２４図に示す方法がある
。第１９〜２１図の方法と同様にマスクパターンを形成
し、このマスクパターンに第２４図に示す如く基板１４
上に感光剤層１５、例えばレジスト層が設けられた部材
を、パターンとレジスト層が対向するように密着させて
露光し、現像して複製する方法（第２５図）も知られて
いる。しかし音盤或いは記録盤のように大面積のもので
は全域に渡り均一に密着させることは困雛であり、マス
ク上のパターンをレジス）Ｍ上に正確に再現させること
ができないと云う欠点があった。

〔発明の目的〕

本発明は、原盤即ちマスクからの複製が忠実で解職性に
富んだ、且つ、耐久性、生産性の高い音盤、記録盤の複
製方法を提供することを目的とする。

〔発明の概要〕

本発明者らは上記目的を達成すべく、鋭意研究を重ねた
結果、原盤となるマスクのパターン上にポジ形しジスト
層を設け、マスクを通して一様に露光し、次いで現像し
凹凸部を形成することによって得られる音盤、記録盤は
、原盤であるマスクに損傷を与えずに、多数の複製が容
易に得られるという事実を見い出し、本発明を完成した
。

即ち、本発明の音盤、記録盤の複製方法は基板上にエツ
チング層及びレーザ感光層を順次設けた後・ｖ−ｆｗ−
”を３射し’Ｃ１ｌｉｅ　Ｌ／　−ｆ感光層を　　　１
．・選択的に除去し、次いでエツチング処理により該　
　　１除去部分に和尚するエツチング層を除去し、マス
クを形成する工程と、前記マスクのエツチング層上にポ
ジ型レジスト層を設け、前記マスクを通して一様に露光
した後、レジスト層を現［象して凹凸部を形成する工程
を有することを％徴とする。更に凹凸部を有するレジス
ト層上に電極薄膜を設けた後、メッキ層を設け、次いで
前記マスクと前記メッキ層を剥離する工程を有すること
を特徴とする。

用いるエッチ７７層はマスクとして用いることができれ
ば特に限定されるものではないが、例えばＭＩ　ＳｉＱ
、　ｌ　Ｓｉ、　Ｓｉ、Ｎ４１　Ｍｏ＋　Ｃｒ、　Ｃｒ
ｕｘ、　Ａｕ、　５ｎ０２１　Ｉｎ２Ｏ３゜Ｎ１）１’
Ｊ″ａ、　０ａＡｓ　　などてあり、これらを単独で、
又は２（ψ以上を混合して或いは重畳して用いることが
できる。

また、用いろレーザＩ−♂に光層とはポジ型レジストで
あり、用いろニップ−ノブ法は乾式、湿式を問わすイが
、好寸しくは、プラズマエッチンク、スパッタニッチ／
グ、イオンエツチングなどのドライエツチングである。

次に本発明の音盤、記録盤を複製する方法を図面を参照
しながら説明する。

第１〜１１図は、本発明の音盤、記録盤の複製方法の一
例を示す工程の概念的断面図である。第１図は基体２０
上にエツチング層２１及びレーザ感光層２２が形成され
た本発明の音盤、記録盤を複製するためのマスクの記録
前の状態を示すものである。

本発明の方法に用いられる基体２ｏとしては表面が平滑
で寸法安定性に優れ、特に途中の工程で腐食又は変形し
ないものが好ましく、石英ガラス、硼ケイ酸ガラスなど
の広範なガラス材料の中から選ばれる。光学研磨された
ガラスは特に好ましい。

本発明では、かかる基体上に先ず、エツチング層２１を
設ける。エラ４−／グ）ｆｔ！は、蒸着、スパッタリン
グ、イオンブレーティング、プラズマＣＶＤ等の手法を
用いて付着させる。

次いで、エツチング層２１の上にレーザ感光層２２を、
回転塗布などにより設け、ベーキングを行う。

レーザ感光層２２には、ポジ型レジストが使われ、レー
ザビームの照射部は現像により除去され得、かつ後述す
るエツチングの際、レーザビームの未照射部分２３が、
その下のエツチング層のマスクの働きをしている。即ち
レーザビームに対する感応性は高いが、後述するエツチ
ングを受けにくいかもしくは全く受けない物質が用いら
れる。レーザ感応層２２の厚さは、エツチングの間にレ
ーザ感応層がマスクとして作用するに十分でなければな
らない。

このようにして作成した材料に、音声及び／又は映障等
の情報を公知の手段でアルゴンレーザ等の強弱或いはオ
ンオフ信号に変換したレーザビームを照射し、エチルア
セテートセロソルブを主成分とする現１象液で現像し、
第２図に示すようにレーザ感応層のレーザ照射部２４を
除去する。

次いで、レーザビーム未照射部分２３をマスクとし゛て
、例えばリアクティブイオンエツチングにより、エツチ
ング層２１のし、−ザビーム照射部分２５に対応する部
分２６を除去し、ビット２７を形成した後（第３図）レ
ーザビーム未照射部分２３のレーザ感応層分除去するこ
とにより第４図に示した音盤、記録盤用のマスクを得る
。そこで、このように形成したマスク表面全体に第５図
のようにポジ型レジスト層２８を塗布し、背面からマス
クを通して一様に放射線、例えば紫外線を照射した後、
フォトレジスト層を現像して、第６図及び第７図のよう
に凸部２９を得る。凸部２９と凹部３０との段差、即ち
情報パターシは０次回折光に対する１次回折光の値を観
測すれば、制御することも可能である（第７図）。この
ようにすることにより、音盤、記録盤のピット或いはダ
ルーブに要求される光の散乱或いは干渉を起すに十分な
深さの凹凸パターンを得ることができる。

次いで第８図に示すように全面に金属薄膜３１を設け、
第９図に示すｆうに全乳薄膜３１上に金属層３２をηイ
、気メッキした後、これを剥離することにより、マスタ
ースタンパ３６（第１０図）が得られ、とれに更に金属
をメッキして剥離すれば、マザースタンパが得られる。

このようにすることにより、　　　　　（１枚の原盤用
マスクから多数のマスタースタンパを形成することが可
能となる。第１１図に示されるように該マスタースタン
パを用いてプラスチック成形を行なえば音盤、記録盤３
７が得られる。ここでプラスチック成形盤３７上の四部
３４はマスタースタンパの凸部３５に対応していること
は勿論である。

〔発明の実施例〕　・ 以下、本発明の音盤、記録盤の複製方法を実施例によっ
て詳説する。

実施例および比較例 光学研磨したホウケイ酸ガラス基板（外径２００φ、中
心孔径１５φ、厚さ８　ｍ　）を真空蒸着装置内に保持
し、真空度２　Ｘ　１０’ｔｏｒｒ　（７）下でＯｒを
８５０人厚に蒸着した。次いでこのＣｒ層上にＡＺ−１
４００（シュプレー社製）から成るポジ型フォトレジス
ト層を１６００λ厚に回転塗布する。焼付後、ガラス基
板を回転させながら１μｍφ程度に絞った０、０３〜０
．３Ｗ程度のパワーのにレーザを選択的に照射し、フォ
トレジスト層を感光化した。現像によりフォトレジスト
層の感光部を選択的に除去した後、ジメチルメタン：酸
素が３：１０の混合ガス圧Ｑ、４ｔＯｒｒのもとで、電
極間距離５５ｍ＋、２分間のエツチングにより、レーザ
照射部のＣｒを除去［７、スパイラル状に信号が付与さ
れたマスクを得た。更に竺号の付与されたマスク上ＫＡ
Ｚ−１３５０（シュプレー社製）から成るポジ型レジス
ト層を塗布する。マスクの基板側から紫外線を照射し、
ポジ型レジスト層を選択的に感光した後、あら□かじめ
求められた０次回折光と１次回折光の比になるまで現１
象してスパイラル状の凹凸信号を形成した。次いで凹凸
表面のレジスト層上に高層を１０００人の厚さに蒸着形
成し更ニスルファミン＠Ｎｉとホウ酸を主成分としたメ
ッキ浴中で２５０μｍの厚さにメッキを施し、メッキ層
とマスクとを、レジスト層を境に剥離しマスタースタン
パを得た。マスクは洗浄後、繰り返し同様のプロセスで
マスタースタンパを形成した。得られたマスタースタン
パは、製作枚数によらずマスクの情報信号を忠実に再現
していた。

〔発明の効果〕

本発明の製造方法は、生産性が高く、得られる音盤、記
録盤も原盤からの複製が忠実で解像性に富むものである
。

スフ記録盤及びスタンバの製造工程を示す図である。

１．７，１４，１９，２（）：基板 ２　、１１．１５＋　２２．２８　：ポジをレジスト層
１２、：ネガ型レジスト層 ３、６．９．２４．２５．２６．３４．３５　：レーザ
ービーム照射部分に対応する部分 ２３、：レーザービーム未照射部分に対応する部分４．
８，３１１　　：金属薄膜 ５．３２．：金り層（電鋳による） １０．２１．：エッチ／ダ層　２７．：ビット２９、：
凸部の情報信号　　　３０．　：凹部の情報（８号３６
、：マスタースタンバ ３７、ニブラスチック成形盤（音（クエ、記録盤）代理
人　弁理士　則　近　憲　佑 （ほか１名） 第１図 第４図 第　　５　図 第９図 第１０図 第１２図 第１５図 第１６図 第２１図 第２２図 第２４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体上にエッチング層及びレーザ感光層を順次設け
   た後、レーザビームを照射して前記レーザ感光層を選択
   的に除去し、次いでエッチング処理により該除去部分に
   相当するエッチング層を除去し、マスクを形成する工程
   と、前記マスクのエッチング層上にポジ型レジスト層を
   設け、前記マスクを通して一様に露光した後、レジスト
   層を現像して凹凸部を形成する工程を有することを特徴
   とする音盤、記録盤の複製方法。 ２、基体上にエッチング層及びレーザ感光層を順次設け
   た後、レーザビームを照射して前記レーザ感光層を選択
   的に除去し、次いでエッチング処理により該除去部分に
   相当するエッチング層を除去し、マスクを形成する工程
   と、前記マスクのエッチング層上にポジ型レジスト層を
   設け、前記マスクを通して一様に露光した後、レジスト
   層を現像して凹凸部を形成する工程と、さらに前記レジ
   スト層上に電極薄膜を設けた後、メッキ層を設け、次い
   で前記マスクと前記メッキ層を剥離する工程を有するこ
   とを特徴とする特許請求範囲第１項記載の音盤、記録盤
   の複製方法。