JP2010511967A - 深い窪み領域の形成、及び、光記録媒体の製造におけるその使用 - Google Patents
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Abstract
Description
i)前記上側層をパターニングして、前記上側層を通過する少なくとも1つの第1の窪み領域を形成する工程と、
ii)パターン形成された前記上側層上にエッチングマスクを形成する工程と、
iii)前記エッチングマスクを介して下側層をエッチングして、前記第1の窪み領域を伸長する少なくとも1つの第2の窪み領域を形成する工程と、
iv)前記エッチングマスクを除去する工程と、
を連続的に備え、
前記(ii)の工程は、
パターン形成された前記上側層上に、所定の第1の波長の光放射に対してポジ型感光性がある樹脂層を蒸着することと、
前記積層体を介して前記光放射で前記樹脂層を露光することと、
前記樹脂層を現像することと、を含み、
前記積層体の下側層及び上側層が、前記所定の第1の波長に対して、それぞれ透明及び不透明である。
Claims (13)
- 少なくとも1つの上側層(2)と1つの下側層(4)との積層体(3)において少なくとも1つの窪み領域を形成するための方法であって、
i)前記上側層(2)をパターニングして、前記上側層(2)を通過する少なくとも1つの第1の窪み領域(1)を形成する工程と、
ii)パターン形成された前記上側層(2)上にエッチングマスク(7)を形成する工程と、
iii)前記エッチングマスク(7)を介して下側層(4)をエッチングして、前記第1の窪み領域(1)を伸長する少なくとも1つの第2の窪み領域(10)を形成する工程と、
iv)前記エッチングマスク(7)を除去する工程と、
を連続的に備え、
前記(ii)の工程は、
パターン形成された前記上側層(2)上に、所定の第1の波長(λ’)の光放射(9)に対してポジ型感光性がある樹脂層(8)を蒸着することと、
前記積層体(3)を介して前記光放射(9)で前記樹脂層(8)を露光することと、
前記樹脂層(8)を現像することと、を含み、
前記積層体(3)の下側層(4)及び上側層(2)が、前記所定の第1の波長(λ’)に対して、それぞれ透明及び不透明であることを特徴とする、方法。 - 前記上側層(2)がパターン形成される前に、該上側層(2)が、前記第1の波長(λ’)とは異なる所定の第2の波長(λ)の光放射(5)によって引き起こされる熱の作用に起因して相又は状態を変化させことが可能な材料によって形成されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第1の窪み領域(1)は、第2の波長(λ)の光放射(5)で前記上側層(2)の自由表面(2a)から前記上側層(2)の少なくとも1つの領域(2c)を露光し、前記露光された領域(2c)を除去することによって形成されることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記上側層(2)の材料は、
熱力学的に安定で半化学量論酸化物、
熱力学的に不安定で超化学量論酸化物、及び、
相変化材料、
から選択されることを特徴とする、請求項2又は請求項3のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第2の波長(λ)の値が405nmであることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の波長(λ’)の値が193nmであることを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記積層体(3)は、前記第1の波長に対して透明な基板を備えることを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板は、前記下側層(4)を構成することを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記基板は、酸化シリコン、アルミニウム、ジルコン、サファイア、又は、石英から作られていることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記下側層(4)は、前記上側層(2)と前記基板(11)との間に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記下側層(4)は、酸化アルミニウムの薄層、又は、硫化亜鉛と酸化シリコン若しくは窒化シリコンとの混合物の薄層であることを特徴とする請求項10記載の方法。
- 前記第1の波長(λ’)に対して透明であり且つ前記下側層(4)のエッチングに反応しにくい追加層(12)が、前記下側層(4)と前記基板(11)との間に配置されていることを特徴とする、請求項10又は請求項11のいずれか一項に記載の方法。
- 光記録媒体の製造に請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の方法を使用する方法。
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