JPS6363151A - 光学的情報記録担体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光学的に情報の読み出しを行うカード状の光
学的情報記録担体（以下、光カードと称す）の製造方法
に関する。

［従来の技術］ 従来、情報を光学的に記録再生する事は既に行なわれて
おり、通常はレーザー光を用いて情報記録担体上の光学
記録層の一部を揮散させるか、反射率の変化を生じさせ
る。或は変形を生じさせ、光学的な反射率や透過率の差
に依って情報を記録し、或は再生を行なっている。この
様な光学記録再生方式に於いて使用する情報記録担体は
、磁気記録再生方式に於いて使用する情報記録担体に比
べ、記録密度が１桁以上高く、従って記録部を狭い幅で
形成しても記録密度を保つことができる。

ところで光学記録用の情報記録体には記録及び再生の両
方を行う場合と、予め記録された情報記録体を再生のみ
行う場合とがあり、例えばビデオディスク、デジタルオ
ーディオディスクは後者に当たる。このような再生専用
の情報記録体はレーザー光のような干渉性を有する光を
用いて再生するときは情報を微細な凹凸として記録する
が、タングステンランプの光のような一般の光は干渉性
を有しないため、微細な凹凸から情報を再生することは
不可能であり、光学濃度差による微細なパターンとする
ことが望まれる。

たとえば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散して
なる記録層を有するカード類が提案されている。この記
録層への情報の書込みは、レーザビームを記録層に照射
して記録ピットを形成して行なわれている。この記録層
はコーティング法により連続的に製造でき、しかも銀を
用いることによって広い波長域にわたって均一な反射率
が得られ、種々の波長のレーザビームを用いた記録再生
装置への適用が可能であるという利点を有している。し
かしながらこの記録層に、写真的手法で記録を行なう場
合には、光反射性と解像性とを同時に向上させることは
困難であり、たとえば現像時間を長くすると光反射性は
向上するが、記録部（露光部）が太る傾向が認められ解
像性が低下してしまう。逆に現像時間を短かくすると解
像性は向上するか光反射性が不充分になってしまうとい
う問題点があった。

一方また、記録材料の記録層にレーザビームなどのエネ
ルギービームなスポット状に照射して、記録層の一部を
状態変化させて記録する、いわゆるヒートモード記録材
料が提案されている。このヒートモード記録材料に用い
る記録層としては、テルル、ビスマスなとの金属薄膜、
ポリスチレン、ニトロセルロースなどの有機薄膜、ある
いは相転位を利用したテルル低酩化物膜などが用いられ
ている。これらの記録材料は、情報の書込みの後現像処
理などの必要がなく、「書いた後直読する」ことのでき
る、いわゆるＤＲＡＷ　（ダイレクトリード　アフター
　ライト；　ｄｉｒｅｃｔ　ｒｅａｄ　ａｆｔｅｒｗｒ
ｉｔｅ　）媒体であり、高密度記録が可能であり追加書
込みも可能であることから、ディスク用あるいはカード
用の記録材料としての用途の拡大が期待されている。

これらのヒートモード記録材料のうち最も広く用いられ
ている、テルルあるいはビスマスなどの金属薄膜を基板
上に蒸着してなる記録材料においては、情報の書込みは
、レーザビームなどのエネルギービームを金属薄膜上に
スポット照射することにより、この部分の金属を蒸発除
去あるいは融解移動除去してピットを形成して行なわれ
ている。また情報の読出しは、読出し光を記録層上に照
射し、記録部であるピット部と未記録部である金属薄膜
とにおける反射率の違いを読取ることによって行なわれ
ている。ところで、情報の書込みに際しては、読出すべ
き情報そのものに相当する記録ピットを形成することに
加えて、光の案内溝に相当するトラッキングならびに読
出すべきピットを特定するためのブレフォーマツティン
グをも記録層に書込む必要があった。

ところが記録層を構成するテルル、ビスマスなどの金属
は、ある程度毒性を有するため取扱いに充分な配慮を要
するとともに、レーザビームなどのエネルギービームの
照射によりピットを形成することは、高度の制御技術が
必要とされ、しかもそのピット形成工程が複雑であるた
めコスト面からみても必ずしも安いものではなかった。

したがって、光の案内溝に相当するトラッキングならび
に読出すべきピットを特定するためのブレフォーマツテ
ィングがレーザビーム照射以外の簡便な方法により大量
にしかも安価に形成しつるような記録材料が出現するな
らば、極めて有用性の高いものが得られると期待される
。

［発明が解決しようとする問題点］ 従って、本発明は、主に再生専用の光カードであって、
干渉性を有しない一般の光ででも再生てきる非干渉性光
源再生用の光学的情報記録担体を容易にかつ効率よく複
製するための方法を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 即ち、本発明は大村上に積層された光学的高反射層の表
面にフォトレジスト層を形成し、該フォトレジスト層に
微細な光学濃度パターンからなる原版を介してパターン
露光を行った後、現像してレジストパターンを形成し、
次いで露出した光学的高反射層に着色部を設け、その後
レジストパターンを除去することを特徴とする光学的情
報記録担体の製造方法である。

以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明する。

第１図乃至第７図は本発明の光学的情報記録担体の製造
方法の一例を示す工程図である。

基　　板 本発明で用いられる基板は、第１図に示す様に、基材１
上に光学的高反射層２が積層されたものである。上記に
於いて、基材１は用途に応じた剛性、加工性を有し、後
工程、特にレジストの現像工程や光学的高反射層の着色
工程での劣化等の影響を受けないものが望ましい。

基材ｌの具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
等のプラスチックのフィルム若しくはシートの単独又は
ラミネート品が使用される。

光学的高反射層２は金、銀、アルミニウム、銅、スズ、
ニッケルもしくはコバルト等の金属の薄膜層であって、
これらの層は前記した金属を用いて、例えば真空蒸着す
るかスパッタリングを行うことにより形成することがで
きる。

フォトレジスト層の形成 次に、第２図に示す様に、上記の基材ｌの光学的高反射
層２の表面にフォトレジストを塗布してフォトレジスト
層３を形成する。使用するフォトレジストはポジ型・ネ
ガ型のいずれでもよいが、解像力が高く、パターン露光
の際の原版パターンを充分に解像しつるものを選択して
用いる。

パターン露光・現象 次に、第３図に示す様に、基材上のフォトレジスト層３
に原版４を用いて露光を行う。原版４としては光学的な
透過・反射のいずれかのタイプのパターンにより情報が
点状に記録されたものであればよく、点の形状は円、長
円、長方形等であり、その大きさは円の場合、直径がｌ
μ１１〜５Ｂである。原版４に形成された点状の記録は
複製されるべきものと同一の大きさで形成されているも
のでもよいが、露光が拡大・縮小を伴うときはその限り
ではなく、拡大・縮小の率を考慮して適宜に定める。又
、原版４は繰り返し使用するために光学的・機械的に耐
久性の高いものであることが望ましい。

パターン露光後、第４図に示す様に、使用したフォトレ
ジストに合わせた現像液を使用して現像を行い不要部分
のフォトレジスト層を除去して、光学的高反射層上に原
版４のパターンに応じたレジストパターン５を形成する
。

着　　色　　工　　程 次に、第５図に示す様に、この様にして形成されたレジ
ストパターン５を利用して高反射層の露出部６を着色す
る。着色方法は光学的濃度の高いインキを用いて印刷法
もしくは塗布法により形成するか、無反射クロムを蒸着
するか、或いは露出部に電着法により着色粒子を堆積さ
せることにより着色部７を形成することが出来る。その
後レジストパターンを除去する。これにより、第６図に
示す様に、原版４のパターンに応じた箇所に着色部７と
それ以外の光学的高反射層露出部６ａとを有する情報記
録体を得る。

実　　装　　工　　程 次に、第７図に示す様に、上記した情報記録体に熱接着
性の接着層９を介して透明保護層８を貼り合せることに
より、光学的情報記録担体を得ることができる。

透明保護層としては、光学的再生に支障のないものてあ
れば良く、例えばアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、ポリエーテル樹
脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。

また、接着剤は公知の熱可塑性或いは熱硬化性の接着剤
で透明性があるものであれば特に限定されない。

［実施例］ 次に、実施例について述べるが、本発明はこれにより何
ら限定されるものではない。

実施例１ たて・よこ共に５　ｃｍ、厚み２５０１のカーボンブラ
ック練り込みポリエチレンテレフタレートフィルムを基
材とし、その上に真空蒸着法により厚さ０．５μｍのア
ルミニウム層を形成した。

得られた情報記録媒体のアルミニウム層上にポジ型フォ
トレジスト（シゾレイ社製、ＡＺ−１３５０Ｊ）をスピ
ンナーコート法により塗布し、直径５）ｚｍの円が１０
μｍ間隔て縦横に配列されたパターンを有する原版を１
：ｌ（原寸）で露光し、所定の現像液で現像し、レジス
トパターンを形成した。

露出したアルミニウム層を陽極とし、硫酸浴（５ｗｔ％
）中で陽極酸化（６Ｖ、１５分間）した。

青色顔料のインダスレンブルー（三井東圧社製）とトル
エンとプライオライＯＭＳ＜ビニルトルエン−アクリレ
ート樹脂）との８：１００：５（重量比）の混合物を分
散化させた後、アイソパーＨ（エッソ社製）とを１：８
０（重量比）の割合で混合分散した溶媒を調製した。次
に、前記の陽極酸化アルミニウム層のついた基板を上記
の溶媒中に浸゛漬シ、電着法（間隔２ｍｍ、　１００Ｖ
　）により青色顔料を陽極酸化アルミニウム上に青色パ
ターンを形成した。

レジストを剥膜した後、塩化ビニル−酢酸とニルーマイ
レン酸樹脂を介してアクリルフィルムを重ね合わせ、　
１２０℃の加熱圧着ロール法により光カードを製造した
。

得られた光カードをレーザー再生装置で反射率を測定し
たところ、アルミニウム層の光学的高反射層と青色顔料
の青色パターンとの反射率比は約５であった。

［発明の効果］ 本発明によれば、非干渉性の光を用いて再生可能な光学
的情報記録担体な、各工程自体は公知の工程を用いなが
ら効率よく製造でき、得られる光学的情報記録担体は光
学的高反射層と着色パターン層とからなるコントラスト
の高い記録を行うことができるので、本発明の方法は特
に再生専用の光学的情報記録担体の大量複製方法として
利用価値が大きいものである。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第７図は本発明の光学的情報記録担体の製造
方法の一例を示す工程図である。 １・・・基材 ２・−・光学的高反射層 ３・・・フォトレジスト層 ４・・・原版 ５・・・レジストパターン ６・・・露出部 ６ａ・・・光学的高反射層露出部 ７・・・着色部 ８・・・透明保護層 ９・・・接着層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基材上に積層された光学的高反射層の表面にフォトレジ
   スト層を形成し、該フォトレジスト層に微細な光学濃度
   パターンからなる原版を介してパターン露光を行った後
   、現像してレジストパターンを形成し、次いで露出した
   光学的高反射層に着色部を設け、その後レジストパター
   ンを除去することを特徴とする光学的情報記録担体の製
   造方法。