JPS62246784A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光学的に情報の書き込み、再生読み出しを行
う光記録媒体に関するものである。

［従来の技術］ 従来、光記録媒体としては、光ビーム、例えばレーザー
光の照射により、媒体の形状変化や構造変化、或いは物
性常数に変化を起こし、これにより情報を記録・再生す
るものが要求されている。

これ等の要求に応えるものとして、例えば、特開昭５９
−８２６４５号公報のように染・顔料を使って記録層に
穴をあけるもの、特開昭１１９−９６７１６号公報のよ
うに金属膜に穴をあけるもの、特開昭５９−１７１６８
９号公報のように金属膜を変形するもの、特開昭５０−
４６３１７号公報のように結晶−非晶質の相変化による
光学常数の変化を利用するものなどが知られている。

他方、記録層に形状変化を起こす形式の光記録媒体が知
られている。

この様な記録層に形状変化を起こす材料としては、Ｔｅ
、　Ｒｉ、　Ｓｎ、　Ｓｂ、　Ｉｎ等の低融点金属やシ
アニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、メチン
系、などの染・顔料（有機色材）を使用した例が知られ
ているが、金属の場合、吸収成分が少ない為に゛書き込
み′に高いパワーが必要となり、また有機色材の場合に
は一般にその反射率が低い為にＳ／Ｎが上がらず、いず
れの場合も満足すべき結果は得られていない。

この為、金属による反射層と有機色材による吸収層とを
積層して記録層を形成する光記録媒体か特開昭５９−４
５６４２号公報などに提案されている。

他方、上記の光記録媒体において、容量な増し、その情
報の記録・再生の信頼性をあげるためには、トラッキン
グサーボな助ける為のプリグループ（案内ｎ）やデータ
の記録管理のための番地データ等をあらかじめ設けてお
くことが要求されている。

このために、通常ブレフォーマツティングと呼ばれ、一
般的には光ディスク等に用いられている様に、第３図に
示す如く基板ｌにあらかじめ決められた様式の凹凸をつ
けて、その上に光吸収層３および光反射層４を積層した
光記録層２を設けることによってブレフォーマツティン
グが行われている。

この方法としては、基板上に紫外線硬化型樹脂を塗布し
、これをスタンパ−でその表面に予めフォーマツティン
グされている情報を転写する、所謂２Ｐ法や基板の射出
成形の際にスタンパ−を金型に形成しておいて転写する
方法などがある。

しかしながら、第３図に示されるように光記録部が光反
射層と光吸収層とから成る場合には基板上のブレフォー
マツティングを精度よく再現することか′Ｃきないとい
う問題がある。

即ち、このことは記録・再生の際にトラッキングがかか
りづらく、誤動作も多くなるので録再情報の４′％頼性
が低下する結果となる。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明者等は、この様な従来の技術に鑑み研究を行った
結果、ブレフォーマツティングを従来の様に基板上に凹
凸を形成して設けるのではなく、光記録層の一部である
吸収層に設けることにより、情報の信頼性が高く、製造
時の分留りがよく低コストの光記録媒体な提供すること
がてきることを知見し本発明の完成に至ったものである
。

［問題点を解決するための手段］ 即ち、本発明は光ビームを用いて記録・再生を行う光記
録媒体において、光記録層が光反射層と、凹凸状の光吸
収層とからなることを特徴とする光記録媒体である。

以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。

第１図は本発明の代表的な構成例を示す断面図である。

同第１図において、本発明の光記録媒体は光反射層４を
凹凸状のブレンす−マッティングを設けた光吸収層３の
上に積層して光記録層２を形成し、該光記録層２を光吸
収層３が下になる様に基板ｌの上に設けてなるものであ
る。

こようにして構成されたブレフォーマツティングは誤動
作の少ない信頼性の高い情報を与えることができる。

第２図は本発明の他の構成例を示す断面図であり、凹凸
状のブレフォーマツティングを設けた光吸収層３の上に
積層した光反射層４を保護層５で被償し、光吸収層３を
接着層６を介して基板ｌの上に設けてなるものである。

本発明において、基板ｌはガラス板、セラミックス板、
アルミやステンレス等の金属板やシート、ポリカーボネ
ート、ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート（Ｐ
ＭＭＡ）などのプラスチック板などを使用することが出
来る。基板は透明・不透明を問わず、又そのサイズも光
記録媒体の支持体である機能を満足すれば特に制限は無
い。又、光吸収層が充分厚い場合には基板を省略するこ
とも出来る。

本発明において、光記録層２が光反射層４と凹凸状の光
吸収層３からなることが本発明の特徴である。

光記録層としては、光ビームの照射を受けてその光を吸
収し、これを熱に変換してその熱によって記録ピットを
形成する、所謂、ヒートモート記録材料であり、しかも
信号の読み取りの為の反射を有していることが要求され
る。

本発明は、この点に鑑み第１図に示される様に光反射層
４と光吸収層３をそれぞれ積層して光記録層とすること
を特徴とするものである。

末完ＩＪＩにおいて、光反射層は記録情報のＳ／Ｎを規
定する重要な要因で、記録前の反射強度と記録後の反射
強度との比が大きいことが要求される。

加えて、この光反射層からの反射信号は光記録媒体の記
録・再生にとって重要なＡ丁、＾Ｆを作動させる信号と
なる。

これらの点を考えると光反射層の反射率は高いほど好ま
しいが、媒体の記録を考えると適当な透通事も必要であ
り、両者の合理的な按分が必要となる。

光反射層の反射率としては記録・再生光、特に再生光で
の波長で１０〜８５％、好ましくは１５〜■％が良好で
ある。

光反射層としては金、銀、銅、すす、アルミ、ニッケル
、クロムなどの金属の蒸着、化学メッキ、物理現象など
の無電解メッキやこれら金属粒子をベヒクル中に分散し
た塗膜などによって構成される。

光反射層の膜厚は、光記録層を構成する光吸収層との関
連によって決定される反射率と、その加工法、すなわち
蒸着か無電解メッキ、分散媒の塗布のいずれを選択する
かで決定され、その範囲は数拾へ〜数■／層、好ましく
は２０Ａ〜１．０■／ｍが望ましい。

本発明において、光吸収層は記録の際に照射された光エ
ネルギーを吸収し、熱エネルギーに変換する機能と、そ
の熱によりそれ自身が変形して積層した反射層と記録部
を形成する機能を併せてもつものである。

光吸収層は、光記録の際の記録ビームの波長に吸収特性
を持つ染・顔料などの光吸収物質、もしくはこれらの光
吸収物質をバインダー中に分散して構成される。

この光吸収物質としては。

（１）　　Ｔｅ、　Ｂｉ、　Ｓｎ、　Ｓｂ、　Ｉｎ等の
低融点金属及び篩、　Ａｇ、　Ｃｕなとの金属粒子、 （２）シアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系
、テトラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキン系、
ポリメチン系などの染・顔料、（３）ベンゼンジチオー
ルニッケル錯体などの有機金属錯体、 （４）ニグロシンやカーボンブラックなどの黒色染・顔
料、 （５）複写機で使用される黒色トナー　マグネタイト（
Ｆ、Ｏ）などの無機化合物、 などが好ましく使用出来る。

又、これらの光吸収物質を、溶解もしくは分散するベヒ
クル、バインダーとしては、ポリ塩化ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニル系、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のオレフィン系、ポリメチルメ
タクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル系
、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリスチレン系、セ
ルローズ系、ポリカーボネート系、アイオノマー系等の
樹脂及びこれらの共重合体、混合物からなる有機高分子
物質やステアリン酸、バルミチン酸、フタル酸、コハク
酸などの有機カルボン酸及び固形パラフィンなどが挙げ
られる。

即ち、これらの物質としては４００℃以下までの低温、
好ましくは２００℃以下の低温で溶融、熱軟化などの熱
変形を起こすものが好ましく使用できる。

この様に構成される光吸収層の膜厚は、数拾へ〜数■／
謹、好ましくは　７００八〜１．８ｍ／ｍが望ましい。

又、本発明によれば光吸収層にはブレフォーマツティン
グが設けられているのが特徴である。

このブレフォーマツティングの方法としては、（１）光
吸収層をあらかじめ決められたパターンに従って作られ
たスタンバ−によって必要に応じて熱をかけながら型押
しする方法、 （２）光ディスクの２Ｐ法と同様に光吸収層を光硬化型
樹脂で作る方法。

（３）光吸収層を熱成形で作る際に金型にスタンパ−を
用いる方法、 など□が挙げられ□る。

本発明において、光記録層２は基板１の上に設けられる
が、その場合光吸収層３と光反射層４を順次基板ｌ上に
塗布して光記録層を設定してもよく、またドライラミネ
ート剤等の接着層を介して光記録層を設けてもよい。

又、光記録層が、例えば銀塩乳材のようにあらかじめ薄
いフィルム等の上にコートされているものは、そのフィ
ルムごと接着剤を介して基板上に設定することができる
。

本発明において、保護層５は、光記録層の機械的、化学
的ン□物理的な耐環境性を付与するもので、記録・再生
光に対し透明な材料で光記録層２を被覆する。

例えば、ガラス板やセラミック板、ポリメチルメタアク
リレート、ポリカーボネート、塩化ビニル、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリスチレン、ＣＲ−３９、ポリメ
チルペンテンなどのプラスチック板を必要に応じて接着
層を介して光記録層上に設ける。

別な例では、上述のプラスチック材料を直接光記録層上
にコートし、硬化せしめて保護層とする。この場合、放
射線硬化型の樹脂を使用することも一法である。

保護層は光記録層の上に設けられるが、必ずしも密着し
ている必要はなく、スペーサーを介し空気もしくは不活
性ガスを介して設けられても良い。

保護層の外側の表面には、取扱いの上でキズやゴミの付
着を防ぐ為の耐磨粍処理、硬膜処理、防汚・防染処理、
帯電防止処理や耐久性向上を意図した、防湿処理、防紫
外線処理、防酸素透過処理（０□ガスバリヤ−処理）を
必要に応じて施すことができる。

本発明の光記録媒体に光記録層の側からレーザー光を照
射し情報の書き込みを行うと、ブレフォーマツティング
が設けられた光記録層の光照射部には記録ピットが形成
される。このレーザー光照射により情報の書き込みが行
われる際、ブレフォーマツディングが整然と明瞭に形成
されているので情報の書き込みが正確に行われ、また光
吸収層の軟化、溶融に伴い、記録ピットの形状を整形、
即ちリムが生じない、サイズの安定したピットを作り、
優れた再生信号を与えることができる。

［実施例］ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。

実施例１ 光記録媒体として、たて１０ｃｍ、よこ１０ｃ＋＊、厚
さ２５０＃Ｌ１１のポリエチレンテレフタレート基板（
ルミラーＴ；束し株式会社製）に光吸収層としてニグロ
シンな３％含有するシクロヘキサノン溶液とし、２ｐｍ
の厚さにバーコードで成膜した。この光吸収層を予じめ
１０が５ｐｍで緑り返しピッチ１０ＩＬ■の長さ８０ｍ
／園、深さ０．５１Ｌ■にフォーマツティングされてい
るスタンバ−を使用して熱プレスにて型押しすることに
よりその表面にブレフォーマツティングを施した。

次いで、この光吸収層の凹凸面に光反射層として銅を５
ＯＡの膜厚で真空蒸着して光記録層を形成した。

得られた光記録層に半導体レーザー（８３０ｎｍ）をビ
ーム径ａＩＬ園、３　■Ｗの出力で書き込みを行った。

再生をビーム径３ＪＬ■、０．１■Ｗの出力で行った結
果、０．５以上の良好なコントラストを得た。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の光記録媒体は光記録層の
光吸収層を凹凸状に形成してブレフォーマツティングを
設けているので、情報の記録・再生における信頼性が高
くなり、また製造が容易で安価に提供できる等の優れた
利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体の代表的な構成例を示す断
面図、第２図は他の構成例を示す断面図および第３図は
従来の基板にブレフォーマツティングを設けた光記録媒
体を示す断面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光ビームを用いて記録・再生を行う光記録媒体において
   、光記録層が光反射層と、凹凸状の光吸収層とからなる
   ことを特徴とする光記録媒体。