JPH05151616A - 光記録媒体、その製造方法及び再生装置 - Google Patents
光記録媒体、その製造方法及び再生装置Info
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- JPH05151616A JPH05151616A JP3310593A JP31059391A JPH05151616A JP H05151616 A JPH05151616 A JP H05151616A JP 3310593 A JP3310593 A JP 3310593A JP 31059391 A JP31059391 A JP 31059391A JP H05151616 A JPH05151616 A JP H05151616A
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- Japan
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- recording medium
- optical recording
- mold
- substrate
- signal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】記録密度の高い再生専用型の光記録媒体、その
製造方法及びこのような光記録媒体を適用する再生装置
を提供すること。 【構成】別々の情報の信号ピット２、５、８を有する複
数の反射層が色素膜３、６、９により構成され、各反射
層の信号を互いに異なる波長の光１１、１２、１３の反
射光で読み出す光記録媒体。光の入射側の色素膜は、そ
れと逆の側の他の色素膜を読み出すための光を透過させ
る色素により構成される。この光記録媒体は、信号ピッ
トを持つ基板に色素膜を形成し、他の信号ピットを持つ
金型に紫外線硬化樹脂を置き、基板の色素膜を持つ面を
押付け、樹脂を硬化させ、金型を剥離し、さらに他の色
素膜を信号ピット上に形成することを繰り返して製造す
る。
製造方法及びこのような光記録媒体を適用する再生装置
を提供すること。 【構成】別々の情報の信号ピット２、５、８を有する複
数の反射層が色素膜３、６、９により構成され、各反射
層の信号を互いに異なる波長の光１１、１２、１３の反
射光で読み出す光記録媒体。光の入射側の色素膜は、そ
れと逆の側の他の色素膜を読み出すための光を透過させ
る色素により構成される。この光記録媒体は、信号ピッ
トを持つ基板に色素膜を形成し、他の信号ピットを持つ
金型に紫外線硬化樹脂を置き、基板の色素膜を持つ面を
押付け、樹脂を硬化させ、金型を剥離し、さらに他の色
素膜を信号ピット上に形成することを繰り返して製造す
る。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザーディスク（Ｌ
Ｄ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、再生専用コンパク
トディスク（ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｉ）等の再生専用型
光記録媒体、その製造方法及び再生装置に関する。
Ｄ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、再生専用コンパク
トディスク（ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｉ）等の再生専用型
光記録媒体、その製造方法及び再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクには再生専用型と読み書き可
能型とがある。前者にはＬＤやＣＤがあり、現在大量に
生産されている。再生専用型光ディスクには上記以外に
マルチメデア媒体としてＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｉ等があ
り、これらは今後大きく発展しようとしている。特に電
子出版物としての光ディスクに対する期待は大きい。こ
れらの再生専用型光ディスクは現在よりもさらに記録密
度を上げることが強く望まれている。例えばＬＤやＣＤ
ではより長時間の映画や音楽等を記録でき、あるいは同
じ記録容量ならば光ディスクの寸法を小さくすることが
できる。またＣＤ−ＲＯＭ等でも、寸法が小さくても記
録容量の極めて大きくなり使い勝手の良い光ディスクと
なる。
能型とがある。前者にはＬＤやＣＤがあり、現在大量に
生産されている。再生専用型光ディスクには上記以外に
マルチメデア媒体としてＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｉ等があ
り、これらは今後大きく発展しようとしている。特に電
子出版物としての光ディスクに対する期待は大きい。こ
れらの再生専用型光ディスクは現在よりもさらに記録密
度を上げることが強く望まれている。例えばＬＤやＣＤ
ではより長時間の映画や音楽等を記録でき、あるいは同
じ記録容量ならば光ディスクの寸法を小さくすることが
できる。またＣＤ−ＲＯＭ等でも、寸法が小さくても記
録容量の極めて大きくなり使い勝手の良い光ディスクと
なる。
【０００３】記録密度を向上させる手段としては使用レ
ーザー光の波長を短くすることにより光スポット寸法を
小さくする方法がある。現在光ディスクに使用されてい
る半導体レーザー光波長は約８３０ｎｍ、あるいは約７
８０ｎｍであるが、このような短波長化の要請のために
６００ｎｍ台の波長を有する半導体レーザーの開発が活
発に進められている。またレーザー光の波長を半分にす
るＳＨＧ（第２高調波；Second Harmonic Generatio
n）技術による５３２ｎｍ等の光スポットの開発も盛ん
である。光スポット寸法は波長に比例して小さくなるの
で、現在の７８０ｎｍから５３２ｎｍに替わるとすれ
ば、スッポト寸法は約３割小さくなり、記録密度として
は約２倍大きくなる。なお、この種の技術に関連するも
のとしては、日経エレクトロニクス、５３６巻、第３０
４頁（１９９１）がある。
ーザー光の波長を短くすることにより光スポット寸法を
小さくする方法がある。現在光ディスクに使用されてい
る半導体レーザー光波長は約８３０ｎｍ、あるいは約７
８０ｎｍであるが、このような短波長化の要請のために
６００ｎｍ台の波長を有する半導体レーザーの開発が活
発に進められている。またレーザー光の波長を半分にす
るＳＨＧ（第２高調波；Second Harmonic Generatio
n）技術による５３２ｎｍ等の光スポットの開発も盛ん
である。光スポット寸法は波長に比例して小さくなるの
で、現在の７８０ｎｍから５３２ｎｍに替わるとすれ
ば、スッポト寸法は約３割小さくなり、記録密度として
は約２倍大きくなる。なお、この種の技術に関連するも
のとしては、日経エレクトロニクス、５３６巻、第３０
４頁（１９９１）がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術は、い
ずれもさらに記録密度を上げることについては十分配慮
されていなかった。上記の程度の密度ではまだ不十分で
あり、さらに記録密度を上げようとするればレーザー光
波長をさらに短くする必要があるが、半導体レーザー及
びＳＨＧ技術の現状から判断して、近い将来このような
短波長レーザーが実用化されるとは予想が困難である。
ずれもさらに記録密度を上げることについては十分配慮
されていなかった。上記の程度の密度ではまだ不十分で
あり、さらに記録密度を上げようとするればレーザー光
波長をさらに短くする必要があるが、半導体レーザー及
びＳＨＧ技術の現状から判断して、近い将来このような
短波長レーザーが実用化されるとは予想が困難である。
【０００５】本発明の第１の目的は、記録密度の高い再
生専用型の光記録媒体を提供することにある。本発明の
第２の目的は、記録密度の高い再生専用型の光記録媒体
の製造方法を提供することにある。本発明の第３の目的
は、このような光記録媒体を適用する再生装置を提供す
ることにある。
生専用型の光記録媒体を提供することにある。本発明の
第２の目的は、記録密度の高い再生専用型の光記録媒体
の製造方法を提供することにある。本発明の第３の目的
は、このような光記録媒体を適用する再生装置を提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的は、
（１）互いに異なる波長の光ビームの反射光で読み出す
ことのできる凹凸ピットよりなる情報信号を有する複数
の反射層を基板上に有し、該光ビームの入射側に設けら
れた反射層は、それと逆の側に設けられた他の反射層を
読み出すための光ビームを実質的に透過させることを特
徴とする光記録媒体、（２）上記１記載の光記録媒体に
おいて、上記反射層の少なくとも１層は色素膜により構
成されることを特徴とする光記録媒体、（３）上記１又
は２記載の光記録媒体において、上記反射層の上記光ビ
ームの入射側から最も離れた反射層は、金属膜から構成
されることを特徴とする光記録媒体、（４）上記１から
３のいずれか一に記載の光記録媒体において、基板上に
設けられた複数の上記反射層の上に保護層を有すること
を特徴とする光記録媒体によって達成される。
（１）互いに異なる波長の光ビームの反射光で読み出す
ことのできる凹凸ピットよりなる情報信号を有する複数
の反射層を基板上に有し、該光ビームの入射側に設けら
れた反射層は、それと逆の側に設けられた他の反射層を
読み出すための光ビームを実質的に透過させることを特
徴とする光記録媒体、（２）上記１記載の光記録媒体に
おいて、上記反射層の少なくとも１層は色素膜により構
成されることを特徴とする光記録媒体、（３）上記１又
は２記載の光記録媒体において、上記反射層の上記光ビ
ームの入射側から最も離れた反射層は、金属膜から構成
されることを特徴とする光記録媒体、（４）上記１から
３のいずれか一に記載の光記録媒体において、基板上に
設けられた複数の上記反射層の上に保護層を有すること
を特徴とする光記録媒体によって達成される。
【０００７】上記第２の目的は、（５）信号ピットを少
なくとも一方の面に有する基板を準備する第１の工程、
該基板の信号ピットを有する面に色素膜を形成する第２
の工程及び上記と異なる信号ピットを有する金型の上に
紫外線硬化樹脂を配置し、これに基板の信号ピットを有
する側を押付け、紫外線硬化樹脂を硬化させ、金型を剥
離し、転写された信号ピット上に上記と異なる色素膜を
形成することを１回以上繰り返す第３の工程を有するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法、（６）上記５記
載の光記録媒体の製造方法において、上記第１の工程
は、信号ピットを有する金型を用い、透明樹脂を射出成
形して行うことを特徴とする光記録媒体の製造方法、
（７）上記５記載の光記録媒体の製造方法において、上
記第１の工程は、信号ピットを有する金型を用い、この
上に紫外線硬化樹脂を配置し、これに透明基板を押付
け、紫外線硬化樹脂を硬化させ、金型を剥離して行うこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法、（８）上記５か
ら７のいずれか一に記載の光記録媒体の製造方法におい
て、上記第３の工程の後に、上記信号ピットと異なる信
号ピットを有する金型の上に紫外線硬化樹脂を配置し、
これに基板の信号ピットを有する側を押付け、紫外線硬
化樹脂を硬化させ、金型を剥離し、転写された信号ピッ
ト上に金属膜を形成する第４の工程を有することを特徴
とする光記録媒体の製造方法によって達成される。
なくとも一方の面に有する基板を準備する第１の工程、
該基板の信号ピットを有する面に色素膜を形成する第２
の工程及び上記と異なる信号ピットを有する金型の上に
紫外線硬化樹脂を配置し、これに基板の信号ピットを有
する側を押付け、紫外線硬化樹脂を硬化させ、金型を剥
離し、転写された信号ピット上に上記と異なる色素膜を
形成することを１回以上繰り返す第３の工程を有するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法、（６）上記５記
載の光記録媒体の製造方法において、上記第１の工程
は、信号ピットを有する金型を用い、透明樹脂を射出成
形して行うことを特徴とする光記録媒体の製造方法、
（７）上記５記載の光記録媒体の製造方法において、上
記第１の工程は、信号ピットを有する金型を用い、この
上に紫外線硬化樹脂を配置し、これに透明基板を押付
け、紫外線硬化樹脂を硬化させ、金型を剥離して行うこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法、（８）上記５か
ら７のいずれか一に記載の光記録媒体の製造方法におい
て、上記第３の工程の後に、上記信号ピットと異なる信
号ピットを有する金型の上に紫外線硬化樹脂を配置し、
これに基板の信号ピットを有する側を押付け、紫外線硬
化樹脂を硬化させ、金型を剥離し、転写された信号ピッ
ト上に金属膜を形成する第４の工程を有することを特徴
とする光記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００８】上記第３の目的は、（９）上記１から４に
記載の光記録媒体を保持するための保持手段と、互いに
異なる複数の波長の光を照射する光ヘッド又は互いに異
なる波長の光を照射する複数の光ヘッドと、該光ヘッド
の波長を選択する制御手段と、該光記録媒体と該光ヘッ
ドの相対的な位置を移動させるための移動手段とを有す
ることを特徴とする光記録媒体の再生装置によって達成
される。
記載の光記録媒体を保持するための保持手段と、互いに
異なる複数の波長の光を照射する光ヘッド又は互いに異
なる波長の光を照射する複数の光ヘッドと、該光ヘッド
の波長を選択する制御手段と、該光記録媒体と該光ヘッ
ドの相対的な位置を移動させるための移動手段とを有す
ることを特徴とする光記録媒体の再生装置によって達成
される。
【０００９】本発明の光記録媒体の特徴は、信号ピット
を有する反射層が２層以上設けられ、各々の反射層に対
応した波長の異なる２以上の光ビームを用いて再生され
ることにより、記録密度を向上させることにある。この
光記録媒体の一例の模式図を図１に示し、さらに詳しく
説明する。基板１として、例えば射出成形で作製された
信号ピット２を持つポリカーボネート基板を用いる。基
板の作製方法は、ガラス基板にポジ型ホトレジストを塗
布し、レーザー光のパワーを情報の信号に従って変化さ
せて記録する。この時に、セクターマーク、セクターや
トラックアドレス等の情報が入ったアドレスマーク等や
トラッキング用の溝も記録する。露光部分を、現像液で
現像して除去し、原盤を得る。原盤上にニッケル層をス
パッタリング法で形成し、このニッケル層を電極として
ニッケルめっきを行って金型（ニッケルスタンパ）を得
る。このニッケルスタンパを型として、ポリカーボネー
トの射出成形により、信号ピット２が転写されたポリカ
ーボネート基板を作製する。信号ピットが位相差による
穴の反射率の低下を利用して設けられるときは、穴の深
さは、再生光の波長をλとして、λ／２とすることが必
要である。
を有する反射層が２層以上設けられ、各々の反射層に対
応した波長の異なる２以上の光ビームを用いて再生され
ることにより、記録密度を向上させることにある。この
光記録媒体の一例の模式図を図１に示し、さらに詳しく
説明する。基板１として、例えば射出成形で作製された
信号ピット２を持つポリカーボネート基板を用いる。基
板の作製方法は、ガラス基板にポジ型ホトレジストを塗
布し、レーザー光のパワーを情報の信号に従って変化さ
せて記録する。この時に、セクターマーク、セクターや
トラックアドレス等の情報が入ったアドレスマーク等や
トラッキング用の溝も記録する。露光部分を、現像液で
現像して除去し、原盤を得る。原盤上にニッケル層をス
パッタリング法で形成し、このニッケル層を電極として
ニッケルめっきを行って金型（ニッケルスタンパ）を得
る。このニッケルスタンパを型として、ポリカーボネー
トの射出成形により、信号ピット２が転写されたポリカ
ーボネート基板を作製する。信号ピットが位相差による
穴の反射率の低下を利用して設けられるときは、穴の深
さは、再生光の波長をλとして、λ／２とすることが必
要である。
【００１０】つぎにこの基板の上に反射層として塗布あ
るいは蒸着により色素膜３を形成する。この色素膜に対
しては波長λ3の光ビームを再生に用いる。この色素膜
は波長λ3の光１１を反射させるが、透過はさせない。
しかも後方にある反射層を構成する色素膜６、９に対応
する波長λ6、λ9の光を透過させることが必要である。
るいは蒸着により色素膜３を形成する。この色素膜に対
しては波長λ3の光ビームを再生に用いる。この色素膜
は波長λ3の光１１を反射させるが、透過はさせない。
しかも後方にある反射層を構成する色素膜６、９に対応
する波長λ6、λ9の光を透過させることが必要である。
【００１１】つぎに色素膜３の上に紫外線硬化樹脂４を
用いて異なる情報を有するスタンパーから信号ピット５
を転写する。この上に色素膜６を形成する。この色素膜
６は波長λ6の光１２を反射させるが、透過はさせな
い。しかも後方にある色素膜９に対応する波長λ9の光
は透過する必要がある。色素膜６の上に上記と同様の方
法で信号ピット８が転写させられた紫外線硬化樹脂７
と、その上に色素膜９を形成する。この色素膜９に必要
な条件は波長λ9の光１３を反射することであるが、こ
の場合は後方に反射層がないので光１３を一部透過させ
ても構わない。また、全部反射してもよい。従ってこの
反射層にはＡｌ、Ｐｔ、Ａｕ等の金属膜を使用すること
ができる。最後の反射層を形成したあとは、その上に紫
外線硬化樹脂等を用いて、保護膜１０を形成して光記録
媒体を完成する。両面タイプの場合は接着剤によりこの
ような光記録媒体を２枚貼り合わせる。
用いて異なる情報を有するスタンパーから信号ピット５
を転写する。この上に色素膜６を形成する。この色素膜
６は波長λ6の光１２を反射させるが、透過はさせな
い。しかも後方にある色素膜９に対応する波長λ9の光
は透過する必要がある。色素膜６の上に上記と同様の方
法で信号ピット８が転写させられた紫外線硬化樹脂７
と、その上に色素膜９を形成する。この色素膜９に必要
な条件は波長λ9の光１３を反射することであるが、こ
の場合は後方に反射層がないので光１３を一部透過させ
ても構わない。また、全部反射してもよい。従ってこの
反射層にはＡｌ、Ｐｔ、Ａｕ等の金属膜を使用すること
ができる。最後の反射層を形成したあとは、その上に紫
外線硬化樹脂等を用いて、保護膜１０を形成して光記録
媒体を完成する。両面タイプの場合は接着剤によりこの
ような光記録媒体を２枚貼り合わせる。
【００１２】図１には反射層が３層の場合の光記録媒体
の断面を示しているが、さらに多数の反射層を形成して
も良いことは当然であり、その分記録密度が向上する。
反射層の数の上限は特にないが、製造又は使用が容易な
のは１０層以下であり、より容易なのは５層以下であ
る。また複数の異なる波長の光ビームを用いるが、その
波長に応じてそれに対応する反射層の信号ピット密度を
高めることをすれば、全体として光記録媒体の記録密度
もさらに向上する。
の断面を示しているが、さらに多数の反射層を形成して
も良いことは当然であり、その分記録密度が向上する。
反射層の数の上限は特にないが、製造又は使用が容易な
のは１０層以下であり、より容易なのは５層以下であ
る。また複数の異なる波長の光ビームを用いるが、その
波長に応じてそれに対応する反射層の信号ピット密度を
高めることをすれば、全体として光記録媒体の記録密度
もさらに向上する。
【００１３】上記の射出成形基板としてはポリカーボネ
ート以外にポリオレフイン、ポリメチルメタクリレート
等を用いることができる。また、フォトポリメリゼーシ
ョン法として、前記ニッケルスタンパ上に紫外線硬化樹
脂を置き、透明基板をこれに押付け、紫外線硬化樹脂を
紫外線により硬化させ、ニッケルスタンパを剥離して信
号ピットが転写された基板を得る方法もある。このとき
の透明基板にはガラスや押出し法、注型法で作製された
ポリカーボネート、ポリオレフイン、ポリメチルメタク
リレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト等を用いることができる。上記の紫外線硬化樹脂とし
てはアクリル基を１個から３個有するモノマーに光重合
開始剤を数パーセント添加したものを使うことができ
る。
ート以外にポリオレフイン、ポリメチルメタクリレート
等を用いることができる。また、フォトポリメリゼーシ
ョン法として、前記ニッケルスタンパ上に紫外線硬化樹
脂を置き、透明基板をこれに押付け、紫外線硬化樹脂を
紫外線により硬化させ、ニッケルスタンパを剥離して信
号ピットが転写された基板を得る方法もある。このとき
の透明基板にはガラスや押出し法、注型法で作製された
ポリカーボネート、ポリオレフイン、ポリメチルメタク
リレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト等を用いることができる。上記の紫外線硬化樹脂とし
てはアクリル基を１個から３個有するモノマーに光重合
開始剤を数パーセント添加したものを使うことができ
る。
【００１４】また上記の反射層を形成する代表的な色素
としては、シアニン系、フタロシアニン系、アントラキ
ノン系、ナフトキノン系、インジゴ系、アクリジン系、
オキサジン系、チアゾール系、スチルベン系、ピラゾロ
ン系等の色素を使用することができる。
としては、シアニン系、フタロシアニン系、アントラキ
ノン系、ナフトキノン系、インジゴ系、アクリジン系、
オキサジン系、チアゾール系、スチルベン系、ピラゾロ
ン系等の色素を使用することができる。
【００１５】図２に各反射層に使われる色素膜の吸収ス
ペクトルを示す。色素膜３はλ3の波長で吸収があり、
λ6、λ9の波長では吸収がほとんど無い。色素膜６はλ
6の波長で吸収があり、λ9の波長ではほとんど吸収が無
い。また色素膜９はλ9の波長光を反射させる。ある波
長での色素膜の反射率は、Ｆｒｅｓｎｅｌの関係式によ
りその波長での屈折率ｎと消衰係数ｋによって決定され
るが、光ディスク装置に望ましい反射率である１０％か
ら数十％を得るためにはｋがある程度大きいこと、つま
りその波長での吸収があることが必要である。大抵の色
素のｎは１．５から２．５である。また基板材料のｎは
１．５から１．６であるから、反射率が１０％以上にな
るためにはｋの値は約１．０以上が必要である。これは
色素膜が十分厚いとした場合である。一方色素膜の厚さ
としては、上記のように反射する波長の光をほとんど透
過させない程度にする必要がある。例えば、波長５００
ｎｍの光がｋ＝１の色素膜の中を約４０ｎｍだけ進むと
その強度は１／ｅに減衰することになり、厚さ１００ｎ
ｍの膜でも十分光の透過を抑えることができる。好まし
い色素膜の厚みは、ｋの値にもよるが１０ｎｍから１，
０００ｎｍの範囲である。色素の種類は極めて多いから
上記の条件を満たす材料を見出すことは容易である。
ペクトルを示す。色素膜３はλ3の波長で吸収があり、
λ6、λ9の波長では吸収がほとんど無い。色素膜６はλ
6の波長で吸収があり、λ9の波長ではほとんど吸収が無
い。また色素膜９はλ9の波長光を反射させる。ある波
長での色素膜の反射率は、Ｆｒｅｓｎｅｌの関係式によ
りその波長での屈折率ｎと消衰係数ｋによって決定され
るが、光ディスク装置に望ましい反射率である１０％か
ら数十％を得るためにはｋがある程度大きいこと、つま
りその波長での吸収があることが必要である。大抵の色
素のｎは１．５から２．５である。また基板材料のｎは
１．５から１．６であるから、反射率が１０％以上にな
るためにはｋの値は約１．０以上が必要である。これは
色素膜が十分厚いとした場合である。一方色素膜の厚さ
としては、上記のように反射する波長の光をほとんど透
過させない程度にする必要がある。例えば、波長５００
ｎｍの光がｋ＝１の色素膜の中を約４０ｎｍだけ進むと
その強度は１／ｅに減衰することになり、厚さ１００ｎ
ｍの膜でも十分光の透過を抑えることができる。好まし
い色素膜の厚みは、ｋの値にもよるが１０ｎｍから１，
０００ｎｍの範囲である。色素の種類は極めて多いから
上記の条件を満たす材料を見出すことは容易である。
【００１６】
【作用】再生専用型の光記録媒体において、情報の信号
ピットを有する反射層を複数積層し、これを異なる波長
の複数の光ビームで再生することにより、光記録媒体の
記録密度を数倍高めることができる。
ピットを有する反射層を複数積層し、これを異なる波長
の複数の光ビームで再生することにより、光記録媒体の
記録密度を数倍高めることができる。
【００１７】
実施例１ まず、基板の作製方法を説明する。光学研磨した厚さ１
０ｍｍのガラス基板にポジ型ホトレジストを塗布し、波
長４５７．９ｎｍのアルゴンイオンレーザー光のパワー
を情報の信号に従って変化させて記録を行う。この時
に、セクターマーク、セクターやトラックアドレス等の
情報が入ったアドレスマーク等やトラッキング用の溝も
記録する。次に、露光部分を、現像液で現像して除去
し、原盤を得る。原盤上にニッケル層をスパッタリング
法で形成する。そしてこのニッケル層を電極としてニッ
ケルめっきを行って厚さ約２００μｍの金型（ニッケル
スタンパ）を得る。このニッケルスタンパを型として、
射出成形により直径１２ｃｍのポリカーボネート基板を
作製した。
０ｍｍのガラス基板にポジ型ホトレジストを塗布し、波
長４５７．９ｎｍのアルゴンイオンレーザー光のパワー
を情報の信号に従って変化させて記録を行う。この時
に、セクターマーク、セクターやトラックアドレス等の
情報が入ったアドレスマーク等やトラッキング用の溝も
記録する。次に、露光部分を、現像液で現像して除去
し、原盤を得る。原盤上にニッケル層をスパッタリング
法で形成する。そしてこのニッケル層を電極としてニッ
ケルめっきを行って厚さ約２００μｍの金型（ニッケル
スタンパ）を得る。このニッケルスタンパを型として、
射出成形により直径１２ｃｍのポリカーボネート基板を
作製した。
【００１８】この射出成形法で作製されたポリカーボネ
ート基板は、片方の表面にはニッケルスタンパーから転
写された情報の信号ピットがある。一方、色素としてロ
ーダミン６Ｇを準備し、これをエチルアルコールに溶解
して５重量％溶液とした。つぎに上記のポリカーボネー
ト基板の信号ピット面に塗布法によりローダミン色素膜
を形成した。回転数は毎分２，０００回転としたが、こ
のときの色素膜の厚さは２００ｎｍであった。このロー
ダミン色素膜の吸収ピーク波長は５３０ｎｍであり、こ
の波長での反射率は約２０％、透過率はほとんど０％で
あった。また、７８０ｎｍの光に対しては透明である。
ート基板は、片方の表面にはニッケルスタンパーから転
写された情報の信号ピットがある。一方、色素としてロ
ーダミン６Ｇを準備し、これをエチルアルコールに溶解
して５重量％溶液とした。つぎに上記のポリカーボネー
ト基板の信号ピット面に塗布法によりローダミン色素膜
を形成した。回転数は毎分２，０００回転としたが、こ
のときの色素膜の厚さは２００ｎｍであった。このロー
ダミン色素膜の吸収ピーク波長は５３０ｎｍであり、こ
の波長での反射率は約２０％、透過率はほとんど０％で
あった。また、７８０ｎｍの光に対しては透明である。
【００１９】つぎに紫外線硬化樹脂として１，４−ブタ
ンジオールジアクリレートに光重合開始剤として１，１
−ジメトキシ−１−フエニルアセトフエノンを２重量％
添加したものを準備した。また上記ニッケルスタンパー
とは異なる情報の信号ピットを有する別のニッケルスタ
ンパーも用意した。このスタンパーの表面に紫外線硬化
樹脂を置き、その上に色素膜を下にしてポリカーボネー
ト基板を押しつける。紫外線硬化樹脂がスタンパー全面
に拡がったら、基板側から紫外線を照射し紫外線硬化樹
脂を硬化させる。紫外線の波長は約３５０ｎｍであり上
記のローダミン色素膜はこれを透過させることができ
る。つぎにスタンパーと紫外線硬化樹脂との間を剥離す
ることにより、すでに信号ピットを有するローダミン色
素膜の上に別の情報の信号ピットを有する紫外線硬化樹
脂の層が形成されたことになる。その紫外線硬化樹脂層
の厚さは約２０μｍであった。その上に厚さ約７００ｎ
ｍのＡｌの反射膜を蒸着法により設けた。さらにその上
に上記の紫外線硬化樹脂を塗布したあと、紫外線を照射
して硬化させ保護膜とした。Ａｌの反射膜でなく、上記
と異なる吸収ピーク波長を持つ色素の膜としてもよい。
ンジオールジアクリレートに光重合開始剤として１，１
−ジメトキシ−１−フエニルアセトフエノンを２重量％
添加したものを準備した。また上記ニッケルスタンパー
とは異なる情報の信号ピットを有する別のニッケルスタ
ンパーも用意した。このスタンパーの表面に紫外線硬化
樹脂を置き、その上に色素膜を下にしてポリカーボネー
ト基板を押しつける。紫外線硬化樹脂がスタンパー全面
に拡がったら、基板側から紫外線を照射し紫外線硬化樹
脂を硬化させる。紫外線の波長は約３５０ｎｍであり上
記のローダミン色素膜はこれを透過させることができ
る。つぎにスタンパーと紫外線硬化樹脂との間を剥離す
ることにより、すでに信号ピットを有するローダミン色
素膜の上に別の情報の信号ピットを有する紫外線硬化樹
脂の層が形成されたことになる。その紫外線硬化樹脂層
の厚さは約２０μｍであった。その上に厚さ約７００ｎ
ｍのＡｌの反射膜を蒸着法により設けた。さらにその上
に上記の紫外線硬化樹脂を塗布したあと、紫外線を照射
して硬化させ保護膜とした。Ａｌの反射膜でなく、上記
と異なる吸収ピーク波長を持つ色素の膜としてもよい。
【００２０】この光記録媒体の再生装置には波長が７８
０ｎｍと５３２ｎｍの２種類の光ヘッドを備えた。後者
はＳＨＧ素子を用いて作り出した。まず５３２ｎｍの光
ヘッドでローダミン色素膜にある信号を再生した。この
時のＣ／Ｎ比は５５〜６０ｄＢであり、従来法によるコ
ンパクトディスクと同等であった。つぎに７８０ｎｍの
光ヘッドでＡｌ膜にある信号を再生した。この時もＣ／
Ｎ比は５５〜６０ｄＢと良好であった。つまり１枚のＣ
Ｄで従来の２枚分の記録容量となっている。
０ｎｍと５３２ｎｍの２種類の光ヘッドを備えた。後者
はＳＨＧ素子を用いて作り出した。まず５３２ｎｍの光
ヘッドでローダミン色素膜にある信号を再生した。この
時のＣ／Ｎ比は５５〜６０ｄＢであり、従来法によるコ
ンパクトディスクと同等であった。つぎに７８０ｎｍの
光ヘッドでＡｌ膜にある信号を再生した。この時もＣ／
Ｎ比は５５〜６０ｄＢと良好であった。つまり１枚のＣ
Ｄで従来の２枚分の記録容量となっている。
【００２１】実施例２ 直径１２ｃｍ、厚さ１．１５ｃｍの化学強化ガラス基板
を用意した。実施例１で用いた信号ピットが転写された
ニッケルスタンパーの表面に、実施例１で用いた紫外線
硬化樹脂を置き、その上にガラス基板を押しつける。紫
外線硬化樹脂がスタンパー全面に拡がったら、基板側か
ら紫外線を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させる。つぎに
スタンパーと紫外線硬化樹脂との間を剥離することによ
り、信号ピットを有する基板が得られた。以下、実施例
１と同様にして２層の反射膜を持つ光記録媒体が得られ
た。この光記録媒体を再生したときの反射膜のＣ／Ｎ比
はいずれも５５〜６０ｄＢであった。
を用意した。実施例１で用いた信号ピットが転写された
ニッケルスタンパーの表面に、実施例１で用いた紫外線
硬化樹脂を置き、その上にガラス基板を押しつける。紫
外線硬化樹脂がスタンパー全面に拡がったら、基板側か
ら紫外線を照射し紫外線硬化樹脂を硬化させる。つぎに
スタンパーと紫外線硬化樹脂との間を剥離することによ
り、信号ピットを有する基板が得られた。以下、実施例
１と同様にして２層の反射膜を持つ光記録媒体が得られ
た。この光記録媒体を再生したときの反射膜のＣ／Ｎ比
はいずれも５５〜６０ｄＢであった。
【００２２】実施例３ 本発明の光記録媒体を再生するのに適した再生装置の一
例の模式図を図３に示して説明する。光ディスク２１
は、スピンドル２２に保持され、モーター２３により回
転される。光ヘッド２４は、互いに異なる複数の波長の
光２５を発する半導体レーザー２６を有する。この光ヘ
ッド２４に代えて、互いに異なる波長の光を発する半導
体レーザーを有する光ヘッドを複数用いてもよい。図は
３つの波長の光を発する半導体レーザーの例を挙げた
が、光記録媒体の反射層の数に応じて当然この数は変更
される。さらに光ヘッドの波長を選択するために制御手
段２７が備えられる。
例の模式図を図３に示して説明する。光ディスク２１
は、スピンドル２２に保持され、モーター２３により回
転される。光ヘッド２４は、互いに異なる複数の波長の
光２５を発する半導体レーザー２６を有する。この光ヘ
ッド２４に代えて、互いに異なる波長の光を発する半導
体レーザーを有する光ヘッドを複数用いてもよい。図は
３つの波長の光を発する半導体レーザーの例を挙げた
が、光記録媒体の反射層の数に応じて当然この数は変更
される。さらに光ヘッドの波長を選択するために制御手
段２７が備えられる。
【００２３】
【発明の効果】本発明の光記録媒体は、複数の反射層を
有し、各々の反射層にある信号を波長の異なる複数の光
ビームで読み出すことにより、その記録密度を大幅に高
めることができた。
有し、各々の反射層にある信号を波長の異なる複数の光
ビームで読み出すことにより、その記録密度を大幅に高
めることができた。
【図１】本発明の一例の多層の反射層を有する再生専用
型光記録媒体の断面模式図である。
型光記録媒体の断面模式図である。
【図２】色素膜の吸収スペクトル図である。
【図３】本発明の一例の再生装置の模式図である。
１ 基板 ２、５、８ 信号ピット ３、６、９ 色素膜 ４、７ 紫外線硬化樹脂 １０ 保護膜 １１、１２、１３ 光ビーム ２１ 光ディスク ２２ スピンドル ２３ モーター ２４ 光ヘッド ２５ 光 ２６ 半導体レーザー ２７ 制御手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西田 哲也 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (9)
- 【請求項１】互いに異なる波長の光ビームの反射光で読
み出すことのできる凹凸ピットよりなる情報信号を有す
る複数の反射層を基板上に有し、該光ビームの入射側に
設けられた反射層は、それと逆の側に設けられた他の反
射層を読み出すための光ビームを実質的に透過させるこ
とを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】請求項１記載の光記録媒体において、上記
反射層の少なくとも１層は色素膜により構成されること
を特徴とする光記録媒体。 - 【請求項３】請求項１又は２記載の光記録媒体におい
て、上記反射層の上記光ビームの入射側から最も離れた
反射層は、金属膜から構成されることを特徴とする光記
録媒体。 - 【請求項４】請求項１から３のいずれか一に記載の光記
録媒体において、基板上に設けられた複数の上記反射層
の上に保護層を有することを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項５】信号ピットを少なくとも一方の面に有する
基板を準備する第１の工程、該基板の信号ピットを有す
る面に色素膜を形成する第２の工程及び上記と異なる信
号ピットを有する金型の上に紫外線硬化樹脂を配置し、
これに基板の信号ピットを有する側を押付け、紫外線硬
化樹脂を硬化させ、金型を剥離し、転写された信号ピッ
ト上に上記と異なる色素膜を形成することを１回以上繰
り返す第３の工程を有することを特徴とする光記録媒体
の製造方法。 - 【請求項６】請求項５記載の光記録媒体の製造方法にお
いて、上記第１の工程は、信号ピットを有する金型を用
い、透明樹脂を射出成形して行うことを特徴とする光記
録媒体の製造方法。 - 【請求項７】請求項５記載の光記録媒体の製造方法にお
いて、上記第１の工程は、信号ピットを有する金型を用
い、この上に紫外線硬化樹脂を配置し、これに透明基板
を押付け、紫外線硬化樹脂を硬化させ、金型を剥離して
行うことを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】請求項５から７のいずれか一に記載の光記
録媒体の製造方法において、上記第３の工程の後に、上
記信号ピットと異なる信号ピットを有する金型の上に紫
外線硬化樹脂を配置し、これに基板の信号ピットを有す
る側を押付け、紫外線硬化樹脂を硬化させ、金型を剥離
し、転写された信号ピット上に金属膜を形成する第４の
工程を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項９】請求項１から４に記載の光記録媒体を保持
するための保持手段と、互いに異なる複数の波長の光を
照射する光ヘッド又は互いに異なる波長の光を照射する
複数の光ヘッドと、該光ヘッドの波長を選択する制御手
段と、該光記録媒体と該光ヘッドの相対的な位置を移動
させるための移動手段とを有することを特徴とする光記
録媒体の再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3310593A JPH05151616A (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 光記録媒体、その製造方法及び再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3310593A JPH05151616A (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 光記録媒体、その製造方法及び再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05151616A true JPH05151616A (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=18007121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3310593A Pending JPH05151616A (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 光記録媒体、その製造方法及び再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05151616A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449590A (en) * | 1991-06-04 | 1995-09-12 | International Business Machines Corporation | Multiple data surface optical data storage system |
| WO1995034112A3 (en) * | 1994-06-08 | 1996-03-07 | Prima Ind Establishment | Dimer laser, method and apparatus for data transmission, method and apparatus for storing and reading data, method and apparatus for detecting diatomic molecules, and laser projection microscope |
| US5627817A (en) * | 1995-05-08 | 1997-05-06 | International Business Machines Corporation | Optical disk data storage system with multiple write-once dye-based data layers |
| GB2323205A (en) * | 1997-03-12 | 1998-09-16 | Sharp Kk | Multilayer optical data storage device |
| EP1191519A2 (en) * | 1995-10-04 | 2002-03-27 | Reveo, Inc. | Method and apparatus for storing and retrieving information using optical data storage media |
| KR100425084B1 (ko) * | 1997-06-18 | 2004-07-21 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크 기록매체와 그 재생장치 |
| CN1314030C (zh) * | 1995-04-07 | 2007-05-02 | 松下电器产业株式会社 | 光学信息记录介质及其制造方法和制造装置，以及光学信息记录和重现装置 |
| JP2008059750A (ja) * | 1996-06-28 | 2008-03-13 | Thomson Multimedia | ２つの異なる読み取り装置に使用できる光ディスク |
| CN100466080C (zh) * | 1995-04-07 | 2009-03-04 | 松下电器产业株式会社 | 光学信息记录介质 |
-
1991
- 1991-11-26 JP JP3310593A patent/JPH05151616A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449590A (en) * | 1991-06-04 | 1995-09-12 | International Business Machines Corporation | Multiple data surface optical data storage system |
| WO1995034112A3 (en) * | 1994-06-08 | 1996-03-07 | Prima Ind Establishment | Dimer laser, method and apparatus for data transmission, method and apparatus for storing and reading data, method and apparatus for detecting diatomic molecules, and laser projection microscope |
| CN1314030C (zh) * | 1995-04-07 | 2007-05-02 | 松下电器产业株式会社 | 光学信息记录介质及其制造方法和制造装置，以及光学信息记录和重现装置 |
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| EP1191519A2 (en) * | 1995-10-04 | 2002-03-27 | Reveo, Inc. | Method and apparatus for storing and retrieving information using optical data storage media |
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| KR100425084B1 (ko) * | 1997-06-18 | 2004-07-21 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크 기록매체와 그 재생장치 |
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