JPS62246785A - 光記録方法及び光記録媒体 - Google Patents

光記録方法及び光記録媒体

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JPS62246785A
JPS62246785A JP61089954A JP8995486A JPS62246785A JP S62246785 A JPS62246785 A JP S62246785A JP 61089954 A JP61089954 A JP 61089954A JP 8995486 A JP8995486 A JP 8995486A JP S62246785 A JPS62246785 A JP S62246785A
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Hiroyuki Imataki
今滝 寛之
Mitsuo Hiraoka
美津穂 平岡
Yoshihiro Ogawa
善広 小川
Hitoshi Yoshino
斉 芳野
Sachiko Igarashi
五十嵐 幸子
Seijiro Kato
加藤 清二郎
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/004Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
    • G11B7/0045Recording
    • G11B7/00455Recording involving reflectivity, absorption or colour changes

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光学的に情報の書き込み、再生読み出しを行
う光記録媒体に関するものである。
[従来の技術] 従来、光記録媒体としては光ビーム、例えばレーザー光
の照射により、ピット (孔)を生じるタイプやバブル
を形成するタイプおよび相変態を起こすタイプ等が知ら
れている。
これらの中で、ピット (孔)を形成するものは、支持
体上にTe、 Bi、 Sn、 Sb、 In等の低融
点金属やシアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン
系、テトラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキノン
系、ベンゼンジチオールニッケル錯体等の染・顔料(有
機色素)、及びこれら有機色素と金属との複合系の11
膜を設けて構成されている。
これらの薄膜は光ビームの照射を受け、その吸収率に応
じて熱エネルギーにかえ、そのヒートモードによって記
録ピットを形成する。
この時の記録ピットは第3図に示すように記録ピット5
の周辺部がもりあがり、リム9とよばれる突起が生ずる
このリムは光記録媒体の溶融−凝固プロセスによって生
じるものであるが、そのプロセスは非常に複雑で、その
形状や大きさは常に一定にはならず、読み取りの際に再
生信号のエラーに結びつく欠点となっていた。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は、上述の如き従来の欠点を解決するもの
で、リムのない、常に一定の大きさと形状を示す記録ピ
ットを形成することができる光記録奴体を提供するもの
である。
さらに、本発明の目的は再生信号のエラー率の小さい、
信頼性の高い光記録媒体を提供するものである。
[問題点を解決するための手段]及び[作用]即ち、本
発明は光ビームを用いて記録・再生を行う光記録媒体に
おいて、光記録層が光反射層と、多孔質な記録補助層と
、光吸収層からなることを特徴とする光記録媒体である
以下、本発明のA体重構成を図面を用いて説明する。
第1図は本発明の代表的な構成例を示す断面図である。
同第1図において、本発明の光記録媒体は光反射層6と
光吸収層8との間に、多孔質な記録補助層7を介在せし
めて積層して光記録層2aを形成し、該光記録層2aを
光吸収層8が下になる様に基板3の4二に設け、最外層
に保護層4を設けて光反射層6を保護してなるものであ
る。
また、本発明の光記録媒体の他の実施態様として光反射
層/光吸収層/多孔質な記録補助層/基板の順で積層し
てもよい。
本発明において、基板3はガラス板、セラミックス板、
アルミ板、ステンレス板等の金属板、PVC,PMMA
、PCなどのプラスチック板などを使用することが出来
る。基板は透明・不透明を問わず、又、その大きさも光
記録媒体の支持体である機能を満足すれば特に制限は無
く、場合によっては省略しても良い。
本発明において、光記録層2aが光反射層6と、多孔質
な記録補助層7と、光吸収層8からなることが本発明の
特徴の一つである。
光記録層としては、光ビームの照射を受けてその光を吸
収し、これを熱に変換してその熱によって記録ビットを
形成する、所謂、ヒートモード記録材料であり、しかも
信号の読み取りの為の反射を有していることが要求され
る。
本発明は、この点に鑑み第1図に示される様に光反射層
6と記録補助層7および光吸収層8をそれぞれ順次積層
して光記録層とするもので、特に記録補助層7が多孔質
であることを特徴とするものである。
本発明において、光反射層は記録情報のS/Nを規定す
る重要な要因で、記録前の反射強度と記録後の反射強度
との比が大きいことが要求される。
加えて、この光反射層からの反射信号は光記録媒体の記
録・1工生にとって重要な訂、APを作動させる信号と
なる。
これらの点を考えると光反射層の反射率は高いほど好ま
しいか、記録を考えると適当な透過率も必要てあり、両
者の合理的な按分が必要となる。
したがって、光反射層の反射率としては10〜85%、
好ましくは15〜60%が良好である。
光反射層としては金、銀、銅などの金属の蒸着、無電解
メッキやこれら金属粒子をベヒクル中に分散して塗布す
ることによって構成される。
光反射層の膜厚は、光記録層を構成する光吸収層との関
連によって決定される反射率と、その加工法、すなわち
蒸着か無電解メッキ、分散媒の塗布のいずれを選択する
かで決定され、その範囲は数拾へ〜数w/a 、好まし
くは20A〜1.0m/sが望ましい。
本発明において、光吸収層は照射された光エネルギーを
吸収し、熱エネルギーに変換するものて、その熱により
記録補助層が変形して、積層した反射層と記録ピットを
形成する。
光吸収層は、光記録の際の記録ビームの波長に吸収特性
を持つ染・顔料などの物質、もしくはこれらの物質をバ
インダー中に分散することによって構成される。
光吸収層としてはTe、旧、 Sn、 Sb、 In等
の低融点金属やその合金及びAu、 Ag、 Cuなど
の金属粒子、シアニン系、スクワリウム系、フタロシア
ニン系、テトラデヒドロコリン系、メチン系、ナフトキ
ン系の染・顔料及びベンゼンジチオールニッケル錯体な
どの有機金属錯体の類、カーボンブラックやニグロシン
等の黒色染・顔料などが好ましく使用出来る。
また、光吸収層の膜厚は数拾A〜数−/■、好ましくは
200A〜0.5m/sが望ましい。
本発明において、記録補助層としては、ポリ塩化ビニル
、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニル系
、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系、ポ
リメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等の
アクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリスチ
レン系、セルローズ系、ポリカーボネート系、アイオノ
マー系等の樹脂及びこれらの共重合体、混合物からなる
有機高分子物質やステアリン酸、パルミチン酸、フタル
酸、コハク酸などの有機カルボン酸及び固形パラフィン
などが好ましく使用できる。
即ち、これらの物質としては400°C以下の低温、好
ましくは200℃以下の低温で溶融、熱軟化などの熱変
形を起こすものである。
この様な記録補助層を多孔質にする方法としては以ドの
手段で行うことか出来る。
(+)成膜の際に、膨潤剤を作用させながらキャスティ
ングを行う方法。
(2)成膜の際に、アゾジカルボンアミド、ジニトロペ
ンタメチレンテトラミン等の発泡剤を作用させる方法。
(3)成膜の際に、2種以上の樹脂もしくは2成分以上
から成る共重合体を分散剤として成膜し、その後溶剤を
作用させて分散剤の少なくとも一成分以上を溶解する方
法。
共重合体としては、 PVA−アクリロニトリル系グラ
フト重合体、PVA−アクリル系グラフト重合体、アク
リル酸エチル−メタクリル酸メチル共重合体などを用い
ることができる。
(4)成膜の際に、ジアゾ化合物、例えばジエチルアミ
ノベンゼンクロリトやジメチルアミノベンゼンジアゾニ
ウムクロリドの塩化亜鉛複塩やアジド化合物をバインダ
ーとし、これに光照射する方法。
(5)溶剤キヤステングの際に、その溶剤の揮発速度を
制御することによって多孔質を作る方法。
多孔質の空隙は連続であっても、独立していても良く、
単位体積当りの空隙の割合、即ち空隙率は10%以上、
好ましくは10〜90%、特に20〜80%が良好であ
る。
記録補助層の厚さは、数拾へ〜数■l■、好ましくは7
00A〜1.8m/璽が望ましい。
また、記録補助層の成膜はバーコード、ロールコートな
どの通常知られている塗布方法によって行うことかでき
る。
本発明において、光記録層は基板3の上に設け゛られる
か、その場合、光吸収層、多孔質な記録補助層及び光反
射層を順次基板上に塗布あるいは蒸着して光記録層を設
定しても、ドライラミネート剤等の接着層を介して光記
録層を設けてもよい。
又、光記録層が、例えば銀塩感材のようにあらかじめ鴎
いフィルム等の上にコートされているものは、そのフィ
ルムごと接着剤を介して基板上に設定することかできる
本発明において、保護層4は、光記録層の機械的、化学
的、物理的な耐環境性を付与するもので、記録・再生光
に対し透明な材料で光記録層を被覆する。
例えば、ガラス板やセラミック板、ポリメチルメタアク
リレート、ポリカーボネート、塩化ビニル、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリスチレン、CR−39、ポリメ
チルペンテンなどのプラスチック板を必要に応じて接着
層を介して光記録層上に設ける。
別な例では、上述のプラスチック材料を直接光記録層上
にコートし、硬化せしめて保護層とする。この場合、放
射線硬化型の樹脂を使用することもできる。
保護層は光記録層の上に設けられるが、必ずしも密着し
ている必要はなく、空気もしくは不活性ガスを介して設
けられても良い。
保護層の外側の表面には、取扱いの上でキズやゴミの付
着を防ぐ為の耐磨粍処理、硬膜処理、防汚・防染処理、
帯電防止処理や耐久性向上を意図した。防湿処理、防紫
外線処理、防酸素透過処理(02ガスバリヤ−処理)を
必要に応じて施すことができる。
本発明の光記録媒体に、第2図に示すように光記録層2
aの側からレーザー光lを照射し情報の書き込みを行う
と、光記録層2aの光照射部には記録ビット5か形成さ
れる。この光照射により情報の書き込みが行われる際、
多孔質な記録補助層7の軟化、溶融に伴い、光照射部の
多孔質の空隙が減少することによって、記録ビットの形
状を整形、即らリムが生じない、サイズの安定したビッ
トを作り、優れた再生信号を与えることができる。
さらに、本発明の光記録媒体は光記録層が高感度である
為に光を熱エネルギーに変換するための高い吸収があり
、また、コントラストの良い信号を検出する為の適当な
反射率を持ち、さらに優れた耐久性(少なくとも10年
以上の保存に耐えること)を有するものである。
[実施例] 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1 サンクロミン・ブラック(Sunchromine B
lack)PEL (住人化学工業■製)30重量部を
、20重量%のポリビニルブチラールを含有するエタノ
ール溶液50爪間部に配合して均一に混合し、これを厚
さ0、:1mmの透明ポリエチレン基板上にバーコータ
ーで塗布して成膜し、膜厚3.5#Lsの光吸収層を設
けた。
次に、ポリビニルブチラール20重量部と、発泡剤とし
てアゾジカルボンアミド20重量部を、シクロヘキサノ
ン溶液に分散して均一に混合し、前記の光吸収層の上に
バーコーターでp!111Dシて成膜し、膜厚2#L園
で空隙率70%の多孔質な記録補助層を設けた。
さらに、該記録補助層の上に^2を蒸着し、膜厚130
Aの光反射層を設け、多孔質な光記録層を有する光記録
媒体を得た。
この光記録層に波長8300簡の半導体レーザーをビー
ム径3p、m、記録面上でのパワー3 mWで書き込み
を行った結果、再生パワー0.1■Wで再生信号で0.
75以上のコントラストが得られた。
このときの記録ビットを走査電子顕微鏡で観察した結果
、リムの生成はなく、そのピット径は3±0.25g■
の非常に安定した大きさの記録ビットが得られた。
実施例2 厚さ]、Ommのポリビニルクロライド基板上に酸性染
料アルファスト・ブラック(Alfast Black
 )SW(オリエント化学工業■)の40重量%水溶液
をスピンナーコー1〜により乾燥膜厚1.5終−の光吸
収性層を設けた。
次いで、ポリビニルアルコールの20重量%メタノール
溶液に発泡剤としてアゾジカルボンアミド(キシダ化学
)を該ポリビニルアルコールの1I2重量比を添加し、
この溶液を該吸収性層の上にバーコーター塗布し、膜厚
7終■の多孔質な記録補助層を積層した。さらにその上
に金蒸着膜を100Aの厚さに設は光記録媒体を得た。
この光記録媒体に波長830nsの半導体レーザーによ
り、ビームスポット径4μ曹、記録面上におけるパワー
6 ■Wで記録を行ない、再生パワー0.2■Wの条件
下で再生信号のコントラストは0.73以上であった。
このときの記録ビットを走査電子顕微鏡により観察した
結果、リムの生成はなく、そのピット径は4.0±0.
3psてあり非常に安定した大きさ及び形状の記録ビッ
トが得られた。
比較例1 実施例1において発泡剤のアゾジカルボンアミドを使用
しない以外全て同じ手順、条件を用いて、膜厚3.3I
の光記録層を有する光記録媒体を得た。
この光記録層に実施例1と同一条件で記録を行ったとこ
ろ、0.40以上のコントラストが得られた。
また記録ビットの周辺に幅0.1〜0.5 #L−程度
のリムが発生し、またピット径及び形状にばらつきが認
められた。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明の光記録媒体は光記録層の
記録補助層を多孔質とすることにより、記録ビットの形
状を常に一定にし、また読み取りの際に、再生信号のエ
ラー率を低減することができる等の利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光記録媒体の代表的な構成例を示すF
fi而図面第2図は情報の書き込み状態を示す断面1−
Aおよび第3図は従来の光記録媒体の記録ピットの形成
状態を示す説明図である。 l・・・レーザー光     2 a、2 b・・・光
記録層3・・・基板        4・・・保護層5
・・・記録ピット     6・・・光反射層7・・・
記録補助層     8・・・光吸収層9・・・リム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光ビームを用いて記録・再生を行う光記録媒体において
    、光記録層が光反射層と、多孔質な記録補助層と、光吸
    収層からなることを特徴とする光記録媒体。
JP61089954A 1986-04-21 1986-04-21 光記録方法及び光記録媒体 Expired - Fee Related JP2591940B2 (ja)

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JPS54150149A (en) * 1978-05-17 1979-11-26 Hitachi Ltd Production of liquid crystal display device
JPS6120237A (ja) * 1984-07-06 1986-01-29 Canon Inc 光学的情報記録媒体

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