JP2515579B2 - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JP2515579B2 JP63113628A JP11362888A JP2515579B2 JP 2515579 B2 JP2515579 B2 JP 2515579B2 JP 63113628 A JP63113628 A JP 63113628A JP 11362888 A JP11362888 A JP 11362888A JP 2515579 B2 JP2515579 B2 JP 2515579B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、高感度、高品位な光学的情報記録媒体(以
下、光記録媒体と記す)に関する。
[従来の技術] 従来、光記録媒体としては、光ビーム、例えばレーザ
ー光を光記録層へ照射することにより、ピット(孔)を
生じるタイプやバブルを形成するタイプおよび相変態を
起こすタイプ等が知られている。
これらの中で、ピット(孔)を形成するものは、支持
体上にTe,Bi,Sn,Sb,In等の低融点金属やシアニン系、ス
クワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒドロコリ
ン系、ポリメチン系、ナフトキノン系、ベンゼンジチオ
ールニッケル錯体等の染・顔料(有機色素)、及びこれ
ら有機色素と金属との複合系の薄膜を設けて構成されて
いる。
これらの薄膜からなる光記録層は光ビームの照射を受
け、その吸収率に応じて熱エネルギーにかえ、そのヒー
トモードによって記録ピットを形成する。
第4図に示すように、この時の記録層2に形成される
記録ピットは、記録ピット10の周辺部がもりあがり、リ
ム11とよばれる突起が生ずる。
このリム11は光記録媒体の溶融−凝固プロセスによっ
て形成されるものであるが、そのプロセスは非常に複雑
でその形状や大きさは常に一定にはならず、読み取りの
際に再生信号のエラーに結びつく欠点がある。
他方、光カード記録媒体の様に、記録層の両面が他の
材料に密着している、いわゆる密着型記録媒体において
は、通常記録層と密着している物質の熱伝導率が空気よ
りも大きなために、密着型記録媒体の記録感度は従来の
光ディスクの様なエアーギャップを有する記録媒体より
も低くなる欠点がある。
上記の様な欠点を改善するために、第5図に示す様
に、記録層2のいずれか一方の面に記録補助層として多
孔質層9を設けた光記録媒体がすでに提案されている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、記録補助層として、多孔質層9が構成
されている光記録媒体においては次の様な問題が発生し
ている。即ち、通常、記録・再生の際に基板1からレー
ザ光12を照射するが、この場合記録層2もまた記録再生
レーザ光の一部を透過するので、多孔質層9の表面と記
録層2の界面で反射されたレーザ光の反射光は、多孔質
層9の多孔質が原因となる乱反射成分8が主体となって
いる。したがって、上記乱反射成分8が光レーザ記録の
光検出部に検出され、光記録媒体のS/Nを低下させる原
因となる問題が発生している。
本発明は、この様な従来の問題を解決するためになさ
れたものであり、光ビームによる記録時に記録層に形成
されるピットのリムの発生が少なく、かつ高感度で、高
いC/N信号を得ることができる光記録媒体を提供するこ
とを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 即ち、本発明は、基板、記録層及び記録補助層を有す
る光記録媒体において、記録補助層が多孔度の異なる多
孔質体からなり、該多孔質体の多孔度の小さい緻密部が
少なくとも記録層に面して設けられていることを特徴と
する光記録媒体である。
以下、本発明を詳細に説明する。
第1図は本発明の光記録媒体の代表的構成例を示す断
面図である。同第1図において、本発明の光記録媒体
は、基板1上に記録層2を設け、該記録層2の上に多孔
度の異なる多孔質体からなる非対称性構造を有する記録
補助層3を多孔質体の多孔度の小さい緻密部が記録層2
と接する様に積層し、その上に最外層の保護層5を接着
層4を介して接着してなるものである。
本発明において、基板1はガラス板,透明セラミック
ス板,PVC,PMMA,PC,TPXなどの透明プラスチック板などを
使用することができる。基板は光学的に透明材料である
ことが好ましい。
記録層2としては、Te,Bi,Sn,Sb,In等の低融点金属お
よびそれ等の酸化物、または金属と酸化物の混合体、お
よびシアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、
ポリメチン系、アズレン系、ナフトキノン系、ベンゼン
ジチオールニッケル錯体等の染・顔料(有機色素)等の
薄膜で構成されている。
これ等の記録媒体は、耐光性の向上を目的として赤外
線吸収剤などのスタビライザー(クエンチャー)を含有
していてもよい。
記録層の膜厚は、通常400〜1200Åの範囲が好まし
い。
記録補助層3は、ポリ塩化ビニル、酢酸セルロース、
酢酸セルロースとニトロセルロースの混合体、ポリアミ
ドヒドラジド非対称膜などのポリアミド系、ポリプロピ
レン等のオレフィン系、ポリスチレン系、ポリメチルメ
タクリレート等のアクリル系などで構成されるフィルム
または高分子層で構成される。
上記の様な樹脂からなる記録補助層を、多孔度の異な
る多孔質体からなる非対称性構造に形成するためには、
一般に限外ろ過膜、逆浸透膜等の製造法と同様の方法で
行なうことができる。具体的には、高分子溶液が基質に
流延され、溶媒が蒸発する際、溶液−空気界面で溶媒の
蒸発が速やかに起こり、表面では高分子密度の高い層が
形成され、内部では溶媒の蒸発が遅く、次いで非溶媒中
に浸漬することによって溶媒の拡散がおこり、多孔質層
が形成されることにより作製される。
この様にして作製された記録補助層は、第2図に示す
ように、多孔度の大きい多孔質部6と多孔度の小さい緻
密部7とが積層された非対称性構造の状態に形成され
る。
本発明における非対称性構造を有する記録補助層3の
緻密部7の厚みは通常10μm以下、好ましくは0.1〜5
μmであり、多孔度は0.1以下、好ましくは0.0001〜0.0
5が望ましい。また、多孔質部6の厚みは通常2〜200μ
m、好ましくは5〜50μmで、多孔度は0.1〜0.9、好ま
しくは0.5〜0.8が望ましい。
本発明において、多孔度は物質の全細孔体積Voを、細
孔を含めた物質の全体積Vで除したVo/Vを意味する。
また、記録補助層は光透過性が10%以下であることが
好ましい。その理由は、記録・再生の際に基板から照射
されたレーザ光の一部は記録層を透過して記録補助層に
達するが、さらに該記録補助層を透過したレーザ光が非
対称性の記録補助層と保護層との界面から反射する際に
記録補助層の多孔質層の孔のために乱反射成分が生じ、
ノイズが発生する原因となるからである。
接着層4は、ホットメルトタイプのエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体及びその変性樹脂、エチレン−エチルアク
リレート共重合体、酢酸ビニル−アクリレート共重合
体、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられ
る。
保護層5は、ガラス、プラスチック、金属等あらゆる
材料の使用が可能であるが、好ましくは基板1と同じ材
質のものが良い。
本発明の光記録媒体は、基板上に記録層を設け、該記
録層の上に多孔度の異なる多孔質体からなる記録補助層
を多孔度の小さい緻密部が接する様に積層し、次いで記
録補助層の上に最外層の保護層を接着層を介して接着す
ることにより容易に製造することができる。
[作用] 本発明の光記録媒体は、基板、記録層及び記録補助層
を有する光記録媒体において、記録補助層が多孔度の異
なる多孔質体からなり、該多孔質体の多孔度の小さい緻
密部が記録層に面して設けられているので、記録・再生
の際に基板から照射されたレーザ光の一部は記録層を透
過して記録補助層に達するが、該記録補助層の多孔度の
小さい緻密部により記録層/記録補助層界面での反射光
の乱反射成分が減少する。かつ、第3図に示す様に、照
射されたレーザ光の吸収によって発生した熱エネルギー
で記録補助層3の多孔質部が容易に変形するために、記
録層2が変形して記録ピットが形成される際にリムの少
ない記録ピット10が形成される。
したがって、密着構造型光記録媒体においても、記録
・再生ピット周辺のリムの発生が少なく、十分に感度が
高く、かつ高いS/N比信号を有する光記録媒体が得られ
る。
[実施例] 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明す
る。
実施例1 表面に2P法で溝巾2μm、ピッチ10μmの案内溝を形
成した厚さ1.2mmのポリメチルメタクリレート基板上
に、シアニン系色素(日本感光色素(株)製、NK−141
4)の3wt%溶液をスピンコートし、膜厚600Åの有機記
録層を形成した。
一方、溶媒キヤスト法により、酢酸セルロース−ニト
ロセルロース混合体の緻密部の厚み0.3μm、多孔度0.0
05で、また多孔質部の厚み100μm、多孔度0.7〜0.8の
非対称性の記録補助層を得た。
次に、上記非対称性の記録補助層の緻密部側を記録層
に接する様に圧着した後、接着剤(ホットメルトタイ
プ、日本マタイ製、エルファン504)を用いて、厚さ1.0
mmのポリメチルメタクリレートの保護フィルムを貼り合
せて光記録媒体を作成した。
得られた光記録媒体に、波長830nmの半導体レーザー
で、ビーム径3μm、記録面上での記録パワー3mW、照
射時間80μsecで書き込みを行なった結果、再生レーザ
ーパワー0.3mWで再生信号0.7以上のコントラストが得ら
れた。記録再生信号のC/Nは50dB以上であった。
また、記録ピットのリムの広がり半径は、記録補助層
を設けないで接着剤が直接に記録層に密着した以外は上
記と同一構成の光記録媒体の約1/3以下であった。
比較例1 実施例1と同様の方法で、非対称性記録補助層とし
て、厚み100μm、多孔度0.8の多孔質部のみからなる酢
酸セルロース−ニトロセルロース混合体からなるフィル
ムを使用した以外は実施例1と同様の構成の光記録媒体
を作成した。この光記録媒体は、実施例1と同様の記録
感度が得られたが、多孔質部の乱反射成分のために記録
再生信号のC/Nは300dB以下であった。
実施例2 実施例1と同様の方法で、記録層として、下記の構造
式(I)で表わされるポリメチン系染料を使用する以外
は実施例1と同様の構成の光記録媒体を作成した。この
光記録媒体の記録再生信号のC/Nは50dB以上であった。
また、録再信号のコントラストは0.7が得られ、記録ピ
ットのリムの広がり半径は、記録補助層を設けないで接
着剤が直接に記録層に密着した光記録媒体の約0.7以下
であった。
構造式(I) [発明の効果] 以上説明した様に、本発明の光記録媒体は、記録層上
に多孔度の異なる多孔質体からなる非対称性の記録補助
層を設けることにより、多孔質体の作用によって光ビー
ム記録時に形成されるピットのリムの発生量が少なくな
り、また記録補助層の多孔度の小さい緻密部が記録層に
面して設けられているために、記録層と記録補助層界面
での乱反射成分が減少し、高感度で、かつ高いC/N信号
を有する光記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光記録媒体の代表的構成例を示す断面
図、第2図は記録補助層の構成の一例を示す説明図、第
3図は記録層に記録ピットが形成された状態を示す説明
図、第4図および第5図は従来の光記録媒体を示す概略
的模式図である。 1…基板、2…記録層 3…記録補助層、4…接着層 5…保護層、6…多孔質部 7…緻密部、8…乱反射成分 9…多孔質層、10…記録ピット 11…リム、12…レーザ光

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板、記録層及び記録補助層を有する光記
    録媒体において、記録補助層が多孔度の異なる多孔質体
    からなり、該多孔質体の多孔度の小さい緻密部が少なく
    とも記録層に面して設けられていることを特徴とする光
    記録媒体。
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