DK175044B1

DK175044B1 - Fremgangsmåde og medium til optisk informationsoptegning

Info

Publication number: DK175044B1
Application number: DK198902544A
Authority: DK
Inventors: Yuji Arai; Emiko Hamada; Yuaki Shin; Takashi Ishiguro
Original assignee: Taiyo Yuden Kk
Priority date: 1988-07-30
Filing date: 1989-05-25
Publication date: 2004-05-10
Also published as: AU3510889A; EP0353394A3; EP0353394B2; EP0353394B1; ATE127265T1; DE68924016D1; MY106947A; AU626072B2; ES2078901T3; DE68924016T2; CA1331807C; DK254489D0; PT91311A; PH26093A; FI893562A; FI893562A0; DK254489A; EP0353394A2; US5155723A; HK105796A

Description

i DK 175044 B1

FREMGANGSMÅDE OG MEDIUM TIL OPTISK INFORMATIONSOPTEGNING

Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde til optisk informationsregistrering på et optisk informationsregistreringsmedium samt det optiske informationsregistreringsmedium, som er forsynet med op-5 tisk læsbare huller, som er dannet derved.

Konventionelle optiske informationsregistreringsmedia af denne type har et registreringslag, for eksempel af metal, såsom Te, Bi eller Mn eller et farvestof, såsom cyanin, merocyanin eller ftalcyanin, og de 10 er beregnede til at registrere data på en sådan måde, at registreringslaget, når det bestråles med en laserstråle, deformeres, sublimeres, fordampes eller modificeres for at danne huller. Med optiske informationsregistreringsmedia, som har sådanne registreringslag, er det almindeligt at danne et mellemrum bag registreringslaget for at 15 lette deformationen, sublimeringen, fordampningen eller ændringen af registreringslaget med henblik på dannelsen af hullerne. Et typisk eksempel er en lamineret struktur, en såkaldt luftsandwichstruktur, hvor et par substrater er lamineret med et mellemrum derimellem.

20 Med de optiske informationsregistreringsmedia af denne type stråler en skrivelaserstråle gennem et transparent substrat for at danne optisk læsebare huller i registreringslaget. For reproducering af de registrerede data stråler en læselaserstråle, der har mindre styrke end skrivelaserstrålen, gennem substratet og kontrasten mellem lys, 25 som reflekteres fra hullerne,og det lys, som reflekteres fra den ik-ke-hulforsynede del,læses som et elektrisk signal.

Inden for lydregistrering-og informationsbehandlingsområdet er der i praksis en bred anvendelse af optiske informationsregistreringsmedia 30 af såkaldt ROM-type (læselaser-type), hvor data allerede er registreret, og hvor yderligere data ikke kan registreres, ligesom de registrerede data ikke længere kan slettes eller omskrives. Optiske informationsregistreringsmedia af denne type har ikke et sådant registreringslag, som beskrevet ovenfor. Huller svarende til data, der 35 skal reproduceres, er allerede dannet på et substrat, for eksempel af polycarbonat, for eksempel ved pressestøbning, og et reflekterende lag af metal, som for eksempel Au, Ag, Cu eller Al, er dannet derpå, og et beskyttelseslag er endvidere tilvejebragt derpå.

2 DK 175044 B1

Det mest typisk optiske informationsregistreringsmedium af denne ROM-type, er en koirqpakt skive, en såkaldt CD, der har en bred anvendelse inden for lydregistrering og informationsbehandlingsområderne. Speci-5 fikationen for registrerings- og udlæsningssignaler for denne CD er standardiseret, og reproducerings- eller play-back apparater for en CD i overensstemmelse med dette format er almindelige tilgængelige som kompakt skive spillere (CD-spillere).

10 Det er derfor særdeles ønskeligt, at ovennævnte optiske informations-registreringsmedia følger de samme standarder, som de almindeligt herskende standarder for CD, således at de er indbyrdes udskiftelige med de allerede herskende CD'ere og kan afspilles ved hjælp af CD-spillere for reproduktion af registreret information.

15

Imidlertid har konventionelle optiske informationsregistreringsmedia et registreringslag, som ikke er tilstede i en CD, og de er udformet for at danne huller i registreringslaget og ikke i substratet. I visse tilfælde er der endvidere tilvejebragt et mellemrum for at lette 20 dannelsen af hullerne i dette registreringslag. Som følge heraf er udlæsningssignaleme naturligvis forskellige fra en CD's udlæsningssignaler på grund af forskelle, for eksempel i laserstrålens refleksionskoefficient og udlæsningssignalemes modulation. Navnlig vil de huller, der er dannet i registreringslaget ved hjælp af laserstrålen 25 ikke være så distinkte som huller, der er dannet mekanisk, for eksempel ved pressestøbning, hvorved det har været vanskeligt at opnå en høj modulationsgrad. I forbindelse med de konventionelle optiske informationsregistreringsmedia har det derfor været vanskeligt at opfylde ovennævnte standarder for CD, og der har været vanskeligt at 30 tilvejebringe en optisk skive, der kan afspilles ved hjælp af konventionelle CD-spillere.

EP-A-0 019 329 beskriver et registreringsmedium i henhold til den indledende del af krav i, hvorved der kun i et relativt tyndt lag er 35 dannet et hul; FR-A-2368779 beskriver et registreringsmedium, hvor en varmefølsom film er dannet på et substrat. Ved at bestråle den varmefølsomme film 3 DK 175044 B1 med laserstråler, fjernes den varmefelsomme film delvist (det vil sige, at der dannes et "hul") og information kan registreres; US-A-4 398203 beskriver et registreringsmedium, hvorved der ikke er 5 et lag nærliggende substratet, men snarere et mellemliggende absorberende metallag; EP-A-0097929 beskriver en anordning med en overfladefilm (registreringslag) , der er forsynet med et substrat. Ved at bestråle overfla-10 defilmen med laserstråler, dannes der "huller" på overfladefilmen, hvorved information kan registreres.

JP-A-1982-60543 beskriver et registreringsmedium, hvorved der ikke er tilvejebragt et absorberende lag mellem et reflekterende lag og et 15 substrat, hvorved muligheden for at danne et hul, der rækker ind i substratet ikke er tilstede, og hvor CD standarderne således ikke er opfyldt

Det er derfor formålet med den foreliggende opfindelse at tilveje-20 bringe et optisk informationsregistreringsmedium, som er i stand til at tilvejebringe udlæsningssignaler med en høj modulationsgrad, som opfylder CD standarderne.

Den foreliggende opfindelse er baseret på den erkendelse, at optisk 25 læsbare huller kan dannes direkte på substratet ved hjælp af en la serstråle ved hjælp af et laserstråleabsorberende lag, der virker som et middel til at danne sådanne huller, hvorved det er muligt at frembringe en registrerbar optisk skive, som opfylder CD standarderne.

30 I hvert af omtalte dokumenter, der definerer den kendte teknik, bli ver informationen registreret med laserstråler ved brug af et lag med høj lysabsorption. 1 en sådan struktur forsøges det at opnå en høj lysabsorption, men det er vanskeligt at opnå en tilstrækkelig reflektering. Således er det ikke muligt ved kendt teknik at opnå en optisk 35 disk med tilfredsstillende modulerings- og reflekterings- karakteristika. Modsat bruges der i nærværende opfindelse en lagstruktur, der ikke er beskrevet i kendt teknik, og det nye ved opfindelsen er, at registreringsmekanismen registrerer information ved 4 DK 175044 B1 hjælp af denne lagstruktur. Derved kan der ved nærværende opfindelse opnås både en høj moduleringsgrad og en høj reflekteringsgrad.

Ifølge den foreliggende opfindelse er der tilvejebragt en fremgangs-5 måde til optisk informationsregistrering på et optisk informationsmedium i henhold til krav 1.

Den foreliggende opfindelse tilvejebringer ligeledes et optisk informationsregistreringsmedium i henhold til krav 3.

10 i forbindelse med den foreliggende opfindelse vil udtrykket "optisk læsbare huller" eller "huller" generelt omfatte optisk læsbare eller detekterbare mærker af alle typer.

15 Når det lysabsorberende lag i dette optiske informationsregistreringsmedium bestråles med en laserstråle genererer det varme under laserstrålens absorption, og samtidig undergår substratets overflade nærliggende det absorberende lag og det absorberende lag eller yderligere et lag, der ligger op ad det absorberende lag smeltning, for-20 dampning, sublimering, reaktion, dekomposition eller en modifikation.

Når laserstrålen i en fokuseret tilstand påtrykkes det lysabsorberende lag, genereres energi lokalt. Virkningen af en sådan energi når substratets overfladelag nærliggende det lysabsorberende lag, hvorved nævnte lag deformeres lokalt for dannelse af optisk modificerede dele 25 (optisk læsbare huller).

Ved de hulforsynede dele er substratets overfladelag nærliggende det lysabsorberende lag lokalt deformeret, hvorved der optræder en faseforskel mellem de hulforsynede dele og den ikke-hulforsynede del, og 30 den indfaldende laserstråle spredes, således at der vil være en væsentlig forskel i kvantiteten af den reflekterede laserstråle. Det er derfor muligt at opnå en høj modulationsgrad for udlæsningssignalerne.

35 Ovennævnte funktion er almindelig identisk, uanset den ydre form af deformationerne i substratets overflade, hvad enten deformationen er fremspringende mod det lysabsorberende lag, bølger eller takker. Udover ovennævnte deformation kan de hulforsynede dele omfatte optisk 5 DK 175044 B1 modificerede dele, hvor de optiske egenskaber lokalt er forskellige i substratets overfladelag. Der kan være dannet mellemrum ved grænsefladedelen mellem det lysabsorberende lag og det nærliggende lag, eller der kan være spredt fine bobler i det lysabsorberende lag ved de 5 hulforsynede dele, hvorved refleksionskoefficienten for laserstrålen vil være væsentlig forskellig fra de hulforsynede dele og den ikke-hulforsynede del, hvilket skyldes sådanne funktioner som faseforskel, absorption og spredning af laserstrålen, som er forårsaget deraf, og det bliver således muligt at opnå en høj modulationsgrad for udlæs-10 ningssignaleme.

Når de deformerede dele af nævnte lag har optiske egenskaber, der er forskellige fra de resterende lag, vil der ligeledes eksistere en væsentlig forskel i de optiske betingelser, navnlig i refleksionskoef-15 ficienten for laserstrålen mellem de hulforsynede dele og den ikke-hulforsynede del på grund af sådanne funktioner, som faseforskelle, absorption og spredning af den indfaldende laserstråle ved de optisk modificerede dele, og det bliver, således som nævnt ovenfor, derved muligt at opnå en høj modulationsgrad for udlæsningssignaleme.

20 Således vil de optisk modificerede dele, som er dannet på nævnte lag, være forskellige fra de, der er dannet i konventionelle registreringslag, og de vil nærmest ligne CD-huller, som er præformet på en substratoverflade, for eksempel ved pressestøbning. I det optisk 25 skrivebare informationsregistreringsmedium med en sådan struktur kan et reflekterende lag være tilvejebragt på det lysabsorberende lag i nær kontakt dermed. Således vil det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse også svare til en CD ud fra et konfigurations-synspunkt. Det er navnlig væsentligt, at det 30 herved et muligt at opnå et optisk skrivebart informationsregistreringsmedium, navnlig af den type registrerbare optisk skive, hvor der skrives én gang, og som opfylder CD standarderne med henblik på refleksionskoefficienten for læselaserstrålen, modulationsgraden for udlæsningssignalerne og blokfejlhyppigheden.

Opfindelsen vil herefter blive forklaret nærmere under henvisning til den medfølgende tegning, hvor 35 6 DK 175044 B1 fig. 1 skematisk viser et partielt snit gennem et perspekti visk billede illustrerende en udførelsesform for strukturen af det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse, 5 fig. 2 et partielt forstørret snit taget langs banen for in formationsregistreringsmediet i fig. 1 forud for en optisk registrering, fig. 3 et partielt forstørret snit taget langs banen for det optiske informationsregistreringsmedium i fig. 1 efter den 10 optiske registrering, fig. 4 et partielt forstørret snit taget langs banen af en anden udførelsesform for det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse forud for optisk reregistrering, 15 fig. 5 et partielt forstørret snit taget langs banen af samme udførelsesform, som illustreret i fig. 4, og efter den optiske registrering, fig. 6 et partielt forstørret snit taget langs banen af en yderligere udførelsesform for det optiske informationsregi-20 streringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse forud for optisk registrering, fig. 7 et partielt forstørret snit taget langs banen af den i fig. 6 viste udførelsesform efter den optiske registrering, fig. 8 et partielt forstørret snit taget langs banen af en 25 yderligere udførelsesform for det optiske informationsregi streringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse og forud for den optiske registrering, fig. 9 et partielt forstørret snit taget langs banen af den i fig. 8 viste udførelsesform efter den optiske registrering, 30 fig. 10 et partielt forstørret snit taget langs banen af en yderligere udførelsesform for det optiske registreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse og forud for optisk registrering, fig. 11 et partielt forstørret snit taget langs banen af den i 35 fig. 10 viste udførelsesform efter den optiske registre ring, fig. 12 en graf til illustration af forholdet mellem en optisk parameter repræsenteret ved formlen p = nah>c.dahl.A, hvor 7 DK 175044 B1 nabs er ^en rea^-e del af det sammensatte brydnings indeks for den optisk skives lysabsorberende lag, dabs er det lysabsorberende lags tykkelse, og λ er bølgelængden for læse-laserstrålen og refleksionskoefficienten for læselaserstrå-5 len, fig. 13 en graf til illustration af forholdet mellem den ima ginære del kaVie. af det sammensatte brydningsindeks for den optiske skives lysabsorberende lag og refleksionskoefficienten for læselaserstrålen, 10 fig. 14 et partielt forstørret skematisk, perspektivisk bille de af overfladen af def lystransmitterende substrat i det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse efter optisk registrering, fig. 15(a) og 15(b) grafer til illustration af forholdet mellem den 15 bevægede afstand af en spids eller et prøvelegeme langs ba

nen og højden af hullet eller et fremspring, når overfladen af det transparente substrat i fig. 14 blev observeret ved hjælp af STM (Skanderende Tunnelerende Mikroskop), og Fig. 16-19 er partielt forstørrede skematiske snit taget langs I

20 banerne af forskellige udførelsesformer for hullerne i de optiske informationsregistreringsmedia.

Fig. l-ll illustrerer skematisk forskellige strukturer for det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen. I disse figu-25 rer indikerer henvisningsbetegnelsen 1 et lystransmitterende substrat, 2 betegner et lysabsorberende lag, der overlejrer substratet, og henvisningsbetegnelsen 3 indikerer et lysreflekterende lag, der overlejrer det lysabsorberende lag. Henvisningsbetegnelsen 4 indikerer et beskyttelseslag.

30

Det lystransmitterende substrat 1 er fremstillet af et materiale, som har en høj gennemtrængelighed for laserstråler og er almindeligvis fremstillet af et resin med en udmærket slagstyrke, såsom en polycar-bonat, et acrylatresin eller en epoxyresin. Imidlertid kan substratet 35 være fremstillet af et hvilket som helst andet materiale, når blot det er gennemtrængelig for skrive- og læselaserstråler, og når i det mindste overfladelaget nærliggende det lysabsorberende lag kan deformeres af den energi, som er genereret af det lysabsorberende lag ved 8 DK 175044 B1 absorption af skrivelaserstrålen, for således at danne optisk læsbare huller. Med henblik herpå har substratet eller i det mindste dets overfladelag fortrinsvis en varmedistorsionstemperatur inden for et område fra 85°C til 200eC, og navnlig fra 90°C til 150eC, således som 5 målt ifølge ASTM D648 under en belastning på 4,6 kg/cm* og/eller en Rockwell hårdhed inden for et område fra M200 til M75, fortrinsvis fra M105 til M80, således som målt i overensstemmelse med ASTM D785.

Når substratets varmedistorsionstemperatur eller Rockwell hårdheden er inden for ovennævnte område, kan den energi, som genereres af det 10 lysabsorberende lag 2 under absorptionen af skrivelaserstrålen, effektivt absorberes ved den lokale deformation af substratet 1's overfladelag, således at der ikke optræder nogen spændinger af betydning i de dannede huller, hvorved stabiliteten af de registrerede data vil være sikret. Hvis varmedistorsionstemperaturen eller hårdheden 15 er for lav, vil de dannede huller have en tendens til let at blive deformeret af varme eller en ydre kraft, hvorved stabiliteten vil blive ringe. Hvis varmedistorsionstemperaturen eller hårdheden på den anden side er for høj, vil den energi, som er genereret af det lysabsorberende lag 2, kun med besvær kunne absorberes i form af en defor-20 mation af substratet 1, og det er vanskeligt at danne distinkte huller 5, hvorved det vil blive vanskeligt at opnå udlæsningssignaler med en høj moduleringsgrad.

Tykkelse af substratet 1 er ikke kritisk, men den er almindeligvis 25 inden for et område fra 1,1 til 1,5 mm.

Det lysabsorberende lag 2 er et lag, som absorberer en laserstråle, der trænger gennem det lystransmitterende substrat 1, hvorefter det genererer varme og samtidig undergår en smeltning, fordampning, sub-30 limering, reaktion, dekomposition eller modifikation. Det er almindeligvis dannet ved, at spin coate et farvestof, såsom et cyaninfar-vestof på substratet 1 eller på et mellemlag 6, der er dannet på substratet 1.

35 Tykkelsen af det lysabsorberende lag 2 er almindeligvis inden for et område fra 20 til 500 nm, fortrinsvis fra 100 til 300 nm.

9 DK 175044 B1

Det lysreflekterende lag 3 er almindeligvis fremstillet af et metal, såsom guld, sølv, kobber, aluminium eller en legering deraf. Tykkelsen af det lysreflekterende lag 3 er almindeligvis inden for et område fra 30 til 150 nm, fortrinsvis fra 40 til 130 nm.

5

Beskyttelseslaget 4 er fremstillet af et resin med udmærket modstand mod slagpåvirkning ligesom det lystransmitterende substrat 1 og er mest almindeligt dannet med en overfladebelægning af et ultraviolet hærdbart resin ved spin coating efterfulgt af en bestråling med ul-10 traviolette stråler med henblik på hærdningen. Andre materialer, som for eksempel et epoxyresin, et acrylatresin og et hårdt lag silikone-resin, kan normalt anvendes. Det er også muligt at anvende et efter-giveligt materiale, såsom et urethanresin, for at opnå en pudeeffekt.

15 Tykkelsen af beskyttelseslaget 4 er ikke kritisk og er almindeligvis inden for et område fra 3 til 30 pm, fortrinsvis fra 5 til 15μπη.

Således som vist i fig. 4-7, kan et mellemlag 6, såsom et resinlag eller et lag, der er modstandsdygtigt overfor opløsningsmidler, være 20 anbragt mellem substratet 1 og det lysabsorberende lag. Således som vist i fig. 5 og 7, deformeres et sådan mellemlag 6 af den energi, som er frembragt af det lysabsorberende lag 2 under absorptionen af skrivelaserstrålen for at danne optisk modificerede huller 5. Hvis et sådant mellemlag 6 er tilstrækkeligt tykt, vil huller 5 blive dannet 25 deri, således som vist i fig. 5, hvorved mellemlaget fungerer som substratet l's overfladelag. Hvis mellemlaget 6 er relativt tyndt, det vil sige har en tykkelse på højst 30 nm, vil ikke alene mellemlaget 6 men også substratet 1 blive deformeret, således som vist i fig.

7. Når et sådant mellemlag 6 ikke er tilstede, vil substratet l's 30 overfladelag blive deformeret, således som vist i fig. 3 for dannelse af optisk modificerede huller 5.

Mellemlaget 6 har fortrinsvis en varmedistorsionstemperatur inden for et område fra 50°C til 150eC, fortrinsvis fra 85°C til 14 0°C, således 35 som målt ifølge ASTM D648 ved en belastning på 4,6 kg/cm! og/eller en Rockwell hårdhed inden for et område fra M100 til M50, navnlig fra M95 til M75, således som målt ifølge ASTM D785. Mellemlaget 6's varmedistorsionstemperatur og Rockwell hårdhed inden for ovennævnte om- 10 DK 175044 B1 råder foretrækkes af samme grunde, som nævnt i forbindelse med varme* distorsionstemperaturen og Rockwell hårdheden for substratet 1. Mellemlaget 6 kan være fremstillet af et resin, såsom et acrylatresin, et vinylchloridresin, et vinylidenchloridresin, et polystyrenresin, 5 et polyesterresin, et polyurethanresin, et celluloseresin eller et silikoneresin. Imidlertid kan et hvilket som helst andet resin benyttes, når blot det opfylder ovennævnte egenskaber for mellemlaget 6.

Tykkelsen af mellemlaget er almindeligvis inden for et område fra 2 10 nm til 500 μπι, navnlig fra 10 til 200 nm.

Endvidere kan et hårdt lag 16, der kun er varmedeformerbart med mere besvær end substratet, være anbragt mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3, således som vist i fig. 8 og 9, eller 15 på det lysreflekterende lag 3, således som vist i fig. 10 og 11. Det hårde lag 16 er fremstillet af et materiale, der er varmedeformerbar med mere besvær end substratet og fortrinsvis har en Rockwell hårdhed på mindst M100, således som målt ifølge ASTM D785 og/eller en varme-distorsionstemperatur på mindst 100°C, navnlig mindst 130°C, således 20 som målt ifølge ASTM D648 ved en belastning på 4,6 kg/cm*.

Hver af fig. 2,4,6,8, og 10 illustrerer en tilstand forud for optisk registrering ved hjælp af en laserstråle. Hver af fig. 3,5,7,9 og 11 illustrerer en tilstand efter den optiske registrering. Når en laser-25 stråle 7 fra en optisk pick-up 8 i fokuseret tilstand stråler på det lysabsorberede lag 2, vil substratet 1's overfladelag lokalt deformeres af den energi, som er dannet ved det lysabsorberende lag 2, for at danne optisk modificerede huller 5, således som skematisk illustreret i disse figurer.

30 I det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen foretrækkes det, at en optisk parameter repræsenteret ved p nabsdabs^' hvor nabs er den rea^e del af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag, dabs er tykkelsen af det lysabsor-

35 berende lag, og λ er bølgelængden for læselaserstrålen, hvor 0,05 < p ^0,06, og hvor den imaginære del kabs af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag højst er 0,3. Pig. 12 er en graf, som illustrerer forholdet mellem den optiske parameter p = nabgdabs A, I

11 DK 175044 B1 hvor na£S er den reale del af det sammensatte brydningsindeks for den optiske skives lysabsorberende lag 2, d^g er tykkelsen af det lysabsorberende lag 2, og λ er bølgelængden for læselaserstrålen og refleksionskoefficienten for lys, der er trængt gennem substratet, når en 5 halvleder laserstråle med en bølgelængde λ på 780 nm blev anvendt som læselaserstrålen, hvilken graf illustrerer to eksempler for den optiske skive. Endvidere illustrerer fig. 13 refleksionskoefficienten, når den imaginære del k^g blev ændret fra en værdi nær ved 0 til en værdi på 2,0 ved at ændre lystransmissionskoefficienten for det ly- 10 sabsorberende lag, medens den reale del af det sammensatte brydningsindeks blev fastholdt på et konstant niveau med nahe = 2,4 i forhold til en optisk skive, hvor der blev anvendt en guldfilm, som det lysreflekterende lag. Fra disse figurer fremgår det tydeligt, at når den optiske parameter p = n^gd^^A og den imaginære del kfl^g tilfreds- 15 stiller ovennævnte betingelser, så kan en høj refleksionskoefficient opnås, hvorved det på let måde er muligt at sikre de standardegenskaber, som er fastsat i CD standarderne, for eksempel en refleksionskoefficient på mindst 70%.

20 Fig. 14 illustrerer skematisk overfladen af det lystransmitterende substrat 1 i det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen med beskyttelseslaget 4, det lysreflekterende lag 3 og det lysabsorberende lag 2 fjernet efter optisk registrering. For at danne huller 5 langs en præformet rille 9, som er en sporingsstyrerille, 25 der er dannet på overfladen af substratet, blev en fokuseret laserstråle moduleret ved hjælp af EFM signaler benyttet til at bestråle det lysabsorberende lag 2 langs den præformede rille 9, og derefter blev beskyttelseslaget 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet fra substratet 1. Derefter blev også det lysabsorberende lag 2 fjernet 30 fra overfladen af substratet 1.

Endvidere blev overfladen af det lystransmitterende substrat 1 observeret langs den præformede rille 9 ved hjælp af STM (Scanderende Tunnelerende Mikroskop). Resultaterne er illustreret i fig. 15(a) og 35 15(b). I disse figurer indikerer abscissen den bevægede afstand af en spids (et prøvelegeme) 10 langs den præformede rille 9, det vil sige i sporingsretningen, og ordinaten indikerer højden af substratet l's overflade. Fig. 15(a) illustrerer et tilfælde, hvor længden af et hul 12 DK 175044 B1 er relativt kort med et niveau på 10.000 Å, hvorved det er tydeligt, at en distinkt deformation i form af et fremspring med en højde på ca. 200 Å er dannet. Pig. 15(b) illustrerer ligeledes et tilfælde, hvor længden af et hul er relativ lang med et niveau på 40.000 Å, 5 hvorved en deformation i form af et fremspring med en højde på ca.

200 Å observeres, men fremspringet har to spidsværdier med en lidt lavere del ved midten. I en foretrukket udførelsesform er de optiske læsbare huller således dannet i den præformede rille 9, der som en sporingsstyrerille er dannet på substratet 1' s deformerbare overfla-10 delag.

Fig. 16-19 illustrerer skematisk tilstandene for hullerne 5, der er dannet ved bestrålingen med en laserstråle.

15 Fig. 16(a)-(d) illustrerer skematisk den tilstand, hvor en deformation 14 er dannet på substratet 1 nærliggende det lysabsorberende lag 2 ved det lysabsorberende lag 2' s bestråling med en fokuseret laserstråle 7.

20 Mere specifikt illustrerer fig. 16(a) skematisk et tilfælde, hvor det lysabsorberende lag 2 er blevet bestrålet med en fokuseret laserstråle, og hvor komponenterne, der udgør laget 2, samtidig undergår smeltning og dekomposition, hvor grænsefladesiden af det lystransmitterende substrat 1 nærliggende det lysabsorberende lag 2 blødgøres, 25 hvorved det lysabsorberende lag 2's komponenter diffunderer eller strømmer ind i substratet 1 for at danne en deformation 14. I mange tilfælde bliver det lysabsorberende lag 2's komponenter, ved den deformerede del, lokalt blandet og reagerer partielt kemisk med det materiale, som udgør det lystransmitterende substrat 1 for dannelse af 30 en optisk modificeret del 12 med optiske egenskaber, som er forskellige fra de for det lysabsorberende lag 2 eller det lystransmitterende substrat 1. Når det lysabsorberende lag 2 for eksempel er dannet af et cyaninfarvestof, og det lystransmitterende substrat 1 er dannet af et polycarbonat, så vil de optiske egenskaber for den optisk modi-35 ficerede del 12 udvise værdier, der er lidt forskellige fra de for det lystransmitterende substrat 1.

13 DK 175044 B1

Det er almindeligt, at materialet, som udgør det lysabsorberende lag 2, når laserstrålen bestråler et lysabsorberende lag 2 for dannelse af et hul 5, lokalt undergår varmegenerering, smeltning og dekomposition ved nævnte del, hvorved de optiske egenskaber for det lysabsor-5 berende lag 2 også vil blive lokalt ændret. I visse tilfælde er et sådant fænomen fulgt af dannelse af et mellemrum 10 mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 eller dannelsen af bobler 11, der efter afkølingen forbliver i det lysabsorberende lag 2.

10

Et sådant mellemrum 10 vil sandsynligvis navnlig dannes, når det lag, der befinder sig på siden for indfaldende lys af det lysabsorberende lag 2, som for eksempel substratet l's overfladelag, er relativt let at varmedeformere i sammenligning med laget bag det lysabsorberende 15 lag 2, som for eksempel det lysreflekterende lag 3 eller beskyttelseslaget 4, og laget bag det lysabsorberende lag 2 har en dårlig adhæsion til det lysabsorberende lag 2 i sammenligning med det nærliggende lag på siden for indfaldende lys. Når en laserstråle 7 bestråler det lysabsorberende lag 2, vil der i et sådant optisk registre-20 ringsmedium dannes energi i det lysabsorberende lag 2, og substratet 1 deformeres ved 14, således som nævnt ovenfor, og samtidig genereres der en gas i det lysabsorberende lag 2, hvorved et mellemrum 10 vil blive dannet mellem det lysabsorberende lag 2 og det nærliggende lysreflekterende lag 3, som har dårlige adhæsionsegenskaber, og gassen 25 har en tendens til at forblive i mellemrummet 10. Den gas, der er genereret indeni det lysabsorberende lag 2, kan forblive i laget i form af bobler 11.

Fig. 16(c) og (d) illustrerer andre former for deformationerne 14 i 30 det transparente substrat 1. Fig. 16(c) illustrerer en deformation 14, der er tilvejebragt i form af et fremspring, hvis top er adskilt for at danne to spidser, medens fig. 16(d) illustrerer en deformation 14 med en bølgeform, hvor fremspring og takker skiftevis gentages. I disse tilfælde kan ovennævnte mellemrum 10, boblerne 11 eller den op-35 tisk modificerede del 12 også være dannet.

Fig. 17(a)-(c) illustrerer skematisk et tilfælde, hvor deformationen 14 af det lystransmitterende substrat 1 nærliggende det lysabsorbe 14 DK 175044 B1 rende lag 2 ved området for hullet 5 er tilvejebragt i form af en tak eller en recess i forhold til det lysabsorberende lag 2.

Fig. 17(a) illustrerer et tilfælde, hvor et mellemrum 10 er dannet S ved grænsen mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3, og fig. 17(b) illustrerer et tilfælde, hvor der samtidig med dannelsen af mellemrummet 10 er dispergeret fine bobler 11 i det lysabsorberende lag 2, og hvor dekomponerende komponenter af det lysabsorberende lag 2 endvidere er diffunderet ind i det lystransmitteren-10 de substrat 1, hvori der er dannet en deformation 14, således at de dekomponerede komponenter og komponenterne, der udgør det lystransmitterende substrat 1, er blandet og delvis kemisk reagerede for dannelse af en optisk modificeret del 12. Endvidere illustrerer fig. 17(c) et tilfælde, hvor der samtidig med dannelse af ovennævnte 15 mellemrum 10, er dannet et andet mellemrum 10' mellem substratet 1 og det lysabsorberende lag 2.

Fig. 18(a)-(d) illustrerer et tilfælde, hvor deformationer 14 og 14' ved hullet 5 er udstrakt til begge lag nærliggende det lysabsorberen-20 de lag 2. Et sådant hul vil sandsynligvis være dannet i de tilfælde, hvor varmedistorsionstemperaturen eller hårdheden er stort set den samme som mellem de to lag, der er anbragt på hver side af det lysabsorberende lag 2, såsom substratet 1 og det lysreflekterende lag 3 eller beskyttelseslaget 4.

25

Fig. 18(a) illustrerer et tilfælde, hvor et mellemrum 10' er dannet mellem det lysabsorberende lag 2 og substratet 1 ved hullet 5, og fig. 18(b) illustrerer et tilfælde, hvor mellemrum 10 og 10' er dannet mellem det lysabsorberende lag 2 og det nærliggende substrat 1 30 samt mellem det lysabsorberende lag 2 og det nærliggende lysreflekterende lag 3, og fig. 18(c) illustrerer et tilfælde, hvor der er spredt fine bobler li i det lysabsorberende lag 2. Fig. 18(d) illustrerer en tilstand, hvor deformationerne 14 og 14' begge er tilvejebragt i form af fremspring, som er rettet mod det lysabsorberende lag 35 2.

Endvidere illustrerer fig. 19(a) og (b) et tilfælde, hvor en optisk modificeret del 13 har optiske egenskaber, som er forskellige fra an- DK 175044 B1 15 dre dele, er dannet ved hullet 5 i et lag på siden for det indfaldende lys i forhold til det lysabsorberende lag 2. Denne modificerede del 13 er altid anbragt på den side, hvorfra laserstrålen 7 træder ind. I mange tilfælde vil den modificerede del være udstrakt til det 5 indre af det lysabsorberende lag 2. I et sådant tilfælde kan der observeres en deformation 14 i laget nærliggende det lysabsorberende lag 2, men på grund af tilstedeværelsen af den optisk modificerede del 13 vil deformationen almindeligvis ikke være distinkt.

10 Fig. 19(a) illustrerer en tilstand, hvor en optisk modificeret del 13 er dannet på overfladen, for eksempel af substratet 1 nærliggende det lysabsorberende lag 2, og fig. 19(b) illustrerer en tilstand, hvor de optiske egenskaber gradvis ændres i en retning ifølge lagets tykkelse fra substratet 1 til det lysabsorberende lag 2.

15 Sådanne modifikationer af lagene er frembragt ved dekompositionen, reaktionen eller indbyrdes diffusion af det lysabsorberende lag 2 og et andet lag frembragt ved hjælp af den varme, der er genereret i det lysabsorberende lag 2 ved bestrålingen med en laserstråle 7. Sådanne 20 huller 5 er således dannet, når det lysabsorberende lag 2 og det nærliggende lag er fremstillet af materialer, der har sådanne funktioner.

I det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen er 25 et lag, som befinder sig bag det lysabsorberende lag 2 i forhold til det lystransmitterende lag 1, såsom det lysreflekterende lag 3 eller beskyttelseslaget 4, fortrinsvis fremstillet af et materiale, der har en varmedistorsionstemperatur og en hårdhed, der er større end for det lag, hvori hullerne 5 er dannet. Ved at fremstille laget bag det 30 absorberende lag 2 af et hårdt materiale, kan de registrerede signalers blokfejlhyppighed effektivt reduceres, hvorved det på let måde er muligt at opfylde standardkravene til BLER (blokfejlhyppighed), som ikke må være større end 3 x 10-2, således som foreskrevet i CD standarderne.

Den foreliggende opfindelse vil nu blive beskrevet mere detaljeret under henvisning til de efterfølgende eksempler. Det bemærkes imid- 35 16 DK 175044 B1 lertid, at den foreliggende opfindelse på ingen måde er begrenset til sådanne specifikke eksempler.

EKSEMPEL 1.

5

Et polycarbonatsubstrat 1, der har en tykkelse på 1,2 mm og en yderdiameter på 120 mm samt en inderdiameter på 15 mm og med en spiralformet præformet rille dannet på sin overflade med en bredde på 0,8 jun, en dybde på 0,08 pm og en stigning på 1,6 pm, blev dannet ved 10 sprøjtestøbning. Dette polycarbonatsubstrat 1 havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75, hvilket svarer til pencilhårdheden HB og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 121°C ved en belastning på 4,6 kg/cm*.

15 Et organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag 2 blev dannet af 0,65 g 1,1'-dibutyl-3,3,3' , 3·-tetramethyl-4,5,41,5'-diben-zoedodicarbocyaninperchlorat (produkt nr. NK3219, fremstillet af Nippon Kanko Shikiso Kenkyusho) opløst i 10 ml diacetonealkoho-lopløsningsmiddel, og opløsningen blev belagt på overfladen af sub-20 stratet 1 ved spincoating for at danne et lysabsorberende lag 2 af en lysfølsom farvestof film med en tykkelse på 130 nm. Den optiske parameter p = nabs^abs^^' ^vor nabs er rea^e del a^ det sammensatte brydnings 25 indeks for det lysabsorberende lag, dabs er tykkelsen af laget, og λ er bølgelængden for læselaserstrålen, var 0,45 og den imaginære del kabs det sammensatte brydningsindeks var 0,05.

30 En guldfilm med en tykkelse på 80 nm blev derefter dannet ved katodeforstøvning på hele overfladen af det område, som er dækket af diameteren fra 45 til 118 mm af skiven for at danne et lysreflekterende lag 3. Endvidere blev der på dette lysreflekterende lag 3 spincoated et ultraviolet hærdbart resin, som derefter blev hærdet ved bestrå-35 ling med ultraviolette stråler for dannelse af et beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 10 pm. Efter hærdningen havde beskyttelseslaget 4 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C ved en belastning på 4,6 kg/cm*.

17 DK 175044 B1

Den således tilvejebragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaser med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s med en registreringseffekt på 6,0 mW for at registrere EFM-signa-5 ler. Derefter blev den optiske skive afspillet på en kommerciel tilgængelig CD-spillerr (Aurex XR-V73, med bølgelængde λ = 780 nm for læselaserstrålen), hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen var 72%, Ιχχ/Itop var 0,68, I3/Itop var 0,35 og blokfejlhyppigheden BLER var 1,2 x 10-2.

10 CD-standarderne foreskriver, at refleksionskoefficienten er mindst 70%, at lix/Itop er n,in^st 0,6, at I3/It0p er ^ra 0,3 °<7» og at blokf ej lhyppigheden BLER ikke er større end 3 x 10-2. Den optiske skive ifølge dette eksempel opfylder disse standarder.

15

Efter registreringen blev den optiske skives beskyttelseslag 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet, og den blotlagte overflade af det lysabsorberende lag 2 blev inspiceret, hvorved der blev observeret lineære fine uregelmæssigheder, som fremtrådte med et ydre profil i 20 form af huller. Endvidere blev det lysabsorberende lag 2 afvasket med et opløsningsmiddel, og substratet l's overflade blev inspiceret, hvorved der blev observeret dannelse af optisk modificerede huller 5.

Den lagdelte struktur af den optiske skive er skematisk illustreret i 25 fig. 2, og samme struktur efter den optiske registrering er skematisk illustreret i fig. 3.

Overfladen af det lystransmitterende substrat 1 blev observeret ved STM (Skanderende Tunnelerende Mikroskop), hvorved det hulforsynede 30 område viste sig at være deformeret i form af fremspring. Endvidere blev det registrerede område og det ikke-registrerede område af substratet 1 målt ved hjælp af et spektrofotometer, hvorved der i det registrerede område blev observeret spidsværdier, der var forskellige fra de spidsværdier, som blev observeret i resinet i det ikke-35 registrerede område.

18 DK 175044 B1 EKSEMPEL· 2.

En optisk skive blev frembragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af af en epoxyresin blev spin-coated for at 5 dannet et hårdt lag med en tykkelse på 100 nm mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 i eksempel 1. Efter hærdningen havde denne epoxyresin en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D64 8) på 135°C ved en belastning på 4,6 kg/cmJ.

10 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samem måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev denne optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved refleksionskoefficienten af halvlederlaserstrålen og 15 læsesignaloutputtes karakteristika blev de samme som i eksempel 1 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,0 x 10"3. Overfladen af den optiske skives substrat 1 blev efter registreringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelse af hullerne 5.

Fra betragtningen af overfladen af substratet 1 ved hjælp af STM blev 20 der observeret en deformation 14 i form af et fremspring. Dette fremspring havde to spidsværdier med en lidt lavere del ved midten.

EKSEMPEL 3.

25 En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at der mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 i eksempel 1 var dannet et hårdt lag af et si-likoneacrylatresin med en tykkelse på 100 nm ved spin-coating på det lysabsorberende lag 2, og et bindelag af et epoxyresin med en tykkel-30 se på 20 nm blev dannet ved spin-coating på oversiden af dette hårde lag. Efter hærdning havde silikoneacrylatresinlaget en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 100eC ved en belastning på 4,6 kg/cmJ.

35 På den således frembragte optiske skive blev EFM-signaler registreret med en registreringseffekt på 7,0 mw på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller (Aurex XR-V73), som blev benyttet i eksempel 1 med 19 DK 175044 B1 en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 75%,

Ili/Itop var °'63' I3/Itop var °»35 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 2.5 x 10"3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 5 1 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i ek- sempel 1 for at bekræfte dannelse af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

EKSEMPEL 4 » 10

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at en film eller en legering af guld og antimon i et forhold på 9:1 ved dannet ved vakuumdampaf lej ring som et lysreflekterende lag 3 på det lysabsorberende lag 2, og på dette reflek-15 terende lag 3 blev der dannet et beskyttelseslag 4 af et ultraviolet hærdbart resin med et bindelag af et epoxyresin med en tykkelse på 20 nm indskudt derimellem. Ovennævnte lysreflekterende lag 3 havde en hårdhed mindst svarende til pencilhårdheden H.

20 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 6,2 mw på samme måde som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, 25 In/Itop var °'®2' I3/Itop var 0,32 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 3.5 x 10~3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

30 EKSEMPEL 5.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af, at et hårdt lag af ultraviolet hærdbart resin 35 blev spin-coated på siden for indfaldende lys af polycarbonatsubstratet 1 for at danne et substratbeskyttelseslag med en tykkelse på 1 μπι, det lysabsorberende lag 2 blev dannet på den side, der var forsynet med en præformede rille, og på dette lysabsorberende lag 2 blev der 20 DK 175044 B1 dannet en film af en legering af guld og iridium i et forhold på 3:1 ved katodeforstøvning som et lysreflekterende lag 3. Det lysreflekterende lag 3 havde en hårdhed mindst svarende til pencilhårdheden 5H.

5 PÅ den således frembragte optiske skive blev EFM-signaler registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet på samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev be-10 stemt til 70%, in/ltop var °«62< 13/Itop var °'37 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 3,5 x 10“3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

15 EKSEMPEL· 6.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at det lysreflekterende lag 3 var dannet 20 af et sølvlag med en tykkelse på 60 nm og et hårdt lag af et siliko nemiddel blev spin-coated derpå, opvarmet og hærdet for at danne et hårdt beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 0,3 μπ». Beskyttelseslaget 4 havde en hårdhed mindst svarende til pencilhårdheden HB.

25 På den således frembragte optiske skive blev EFM-signaler registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, In/Itop var °'63, I3//,Itop var °<35 °9 30 blokfejlhyppigheden BLER var 2,8 x 10"3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

35 EKSEMPEL· 7.

En optisk skive blev frembragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at et epoxyresin med inkorporeret polysulfid 21 DK 175044 B1 var tyndet med diglycidylaeter blev spin-coated for dannelse af et bindelag på 30 nm på det lysreflekterende lag 3, som var dannet ved vakuumdampaf lej ring af en guldfilm med en tykkelse på 50 nm, og et hårdt lag af et silikonemiddel blev spin-coated på bindelaget, opvar-5 met og hærdet for dannelse af et hårdt beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 0,3 μιη.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EPM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den 10 optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, ln/Itop var °'65» I3/|,Itop var 0,35 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,5 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspice-15 ret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

EKSEMPEL 8.

20 En optisk skive blev frembragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at det lysabsorberende lag blev dannet ved anvendelse af 1,11-dibutyl-3,3,3’,3’-tetramethyl-5, 5'- diethoxyindodicarbocyaninperchlorat, et hårdt lag af et epoxyresin med en tykkelse på 100 nm blev dannet på det lysreflekterende lag 3, 25 et ultraviolet hærdbart resin blev dannet derpå i en tykkelse på 10 μτη, og derefter blev beskyttelseslaget 4 dannet.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev denne 30 optiske skive afspillet af den samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, ^n/^top var °>68' -^/^top var °>34 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 8,3 x 10”3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme 35 måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

22 DK 175044 B1 EKSEMPEL 9.

På overfladen af det samme polycarbonatsubstrat 1, som blev benyttet i eksempel 1, blev et acrylatresin opløst i diisobutylketon spin-5 coated for at danne et mellemlag 6 med en tykkelse på 40 nm. Mellemlaget 6 havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M85,og en varmedis-torsionstemperatur (ASTM D648) på 100°C ved en belastning på 4,6 kg/cm*.

10 Som organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag 2 blev 0,6 g 1,1'-dipropyl-3,3,3',3'-tetramethyl-5,5'-dimethoxyindodicarbo-cyaniniodid opløst i 10 ml af et isopropylalkoholopløsningsmiddel. Opløsningen blev belagt på overfladen af ovennævnte substrat 1 ved spincoating for dannelse af et lysabsorberende lag 2 af en lysfølsom 15 farvestoffilm med en tykkelse på 120 nm. Den optiske parameter p = nabs^abs^' ^vor nabs er ^en rea^e del af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag 2, dajjS er tykkelsen af laget, og λ er bølgelængden for læselaserstrålen, var 0,41, og den imaginære del kabs af det sammensatte brydningsindeks var 0,02.

20

Derefter blev et silikoneacrylatresin opløst i cyclohexan spin-coated derpå for dannelse af et silikoneacrylatresinlag med en tykkelse på 100 nm, en pencilhårdhed på 2H, og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 120°C ved en belastning på 4,6 kg/cm*. Derefter blev en 25 guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning for dannelse af et lysreflekterende lag 3. Derefter blev et ultraviolet hærdbart resin spin-coated på det lysreflekterende lag 3 og hærdet ved bestråling med ultraviolette stråler for dannelse af et beskyttende lag 4 med en tykkelse på 10 μτη. Efter hærdning havde beskyttel-30 seslaget 4 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90, en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C ved en belastning på 4,6 kg/cms.

Den således optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm, og med en lineær hastighed på 1,2 m/s 35 og med registreringseffekt på 7,5 mW for at registrere EFM-signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD- spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, In/Itop var 23 DK 175044 B1 0,62, ^/I^op var 0,31 og blokfejlhyppigheden BLER var 4,0 x 10~3.

Endvidere blev den optiske skives beskyttelseslag 4 og det lysreflekterende lag 3 efter registreringen skrallet af, og det lysabsorberende lag 2 blev afvasket med et opløsningsmiddel, og overfladen af mel-5 lemlaget blev inspiceret for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 10.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-10 sempel 9 med undtagelse af, at et silokonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 μιη, og det lysabsorberende lag 2 blev dannet derpå. På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,8 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 15 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD- spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 73%, *n/*top var 0,62, I3/It0p var °'31 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 3,4 x 10~3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter re-20 gistreringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 11.

25 En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-sempel 9, med undtagelse af at, et glassubstrat blev benyttet som substratet 1, og et isocyanatresin opløst i en opløsningsmiddelblanding af toluen og methylethylketon i et forhold på 1:1 blev spin-coated på det reflektive lag for at danne et bindelag med en tykkelse 30 på 20 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,2 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp 35 af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, X11/It0p var 0,65, I3/It0p var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,6 x 10~3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 24 DK 175044 B1 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 12.

5

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 pm, og det lysabsorberende lag 2 blev dannet derpå, og 10 polybutadien blev spin-coated på det reflekterende lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,2 mW på samme måde, som beskre-15 vet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, var 0,66, I3/ItQp var °*35 blokfejlhyppigheden BLER var 3,5 x 10'3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 20 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i ek sempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 13♦ 25 En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at tykkelsen af mellemlaget 6 blev ændret til 20 nm, og intet silikonacrylatresinlag var tilvejebragt, og en film af en legering af iridium og guld i et forhold på 1:9 blev dannet ved katodeforstøvning som det reflekterende lag 3. Legerings-30 laget havde en pencilhårdhed på 2H.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp 35 af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, I^/Itop var 0,63, 13/1,.^ var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,3 x 10"3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 25 DK 175044 B1 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5. Hullerne 5 var udstrakt til overfladen af substratet, da mellemlaget G's tykkelse var meget ringe.

5

Den lagdelte struktur af denne optiske skive er skematisk illustreret i fig. 6, og samme struktur efter optisk registrering er skematisk illustreret i fig. 7.

10 EKSEMPEL 14.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tyk-15 kelse på 0,01 μιη, det lysabsorberende lag 2 var dannet derpå, intet silikoneacrylatresinlag blev dannet, og en film af en legering af iridium og guld i et forhold på 1:9 blev ved katodeforstøvning dannet som det reflekterende lag 3.

20 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,8 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, 25 -^li/^top var °'64' I3/Itop var °<32 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 2,8 x 10"3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

30 EKSEMPEL 15,

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at intet silikoneacrylatresinlag blev dannet, en film af en legering af iridium og guld i et forhold på 1:9 35 blev dannet som det reflekterende lag 3 ved katodeforstøvning, og po-lyisopren blev spin-coated på det lysreflekterende lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 nm, og beskyttelseslaget 4 af et ultraviolet hærdbart resin blev dannet derpå.

26 DK 175044 B1 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler med en registreringseffekt på 7,4 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet på samme 5 CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, In/Itop var 0,64, I3/It0p var °'32 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 4,1 x 10' 3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 10 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 16.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-15 sempel 9, med undtagelse af, at intet silikoneacrylatresinlag blev dannet, en kobberfilm med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det reflekterende lag 3, og et hærdbart bisphenolepoxyresin fortyndet i et diglycidylæteropløsningsmiddel blev spin-coated for dannelse af et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 pm som beskyttelseslaget 4. Be-20 skyttelseslaget havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M110, og havde således en funktion som et hårdt lag.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp 25 af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 75%, I13_/lt0p var 0,64, ^/^top var °<33 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 2,9 x 10’3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i ek-30 sempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 17 ·

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i ek-35 sempel 9, med undtagelse af, at et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 μπι, det lysabsorberende lag 2 blev dannet derpå, intet silikoneacrylatresinlag blev dannet, en kobberfilm med en tykkelse på 27 DK 175044 B1 50 nm blev dannet som det lysreflekterende lag 3, og et hærdbart bisphenolepoxyresin fortyndet i et diglycidylæteropløsningsmiddel blev spin-coated for dannelse af et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 μπι som beskyttelseslaget 4.

5 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved reflek-10 sionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, Ill/Itop var 13/Itop var °<33 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 3,5 x 10‘3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

15 EKSEMPEL 18.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at intet silikoneacrylatlag blev dannet, 20 en kobberfilm med en tykkelse på 50 nm blev dannet ved vakuumdampaf-lejring som det lysreflekterende lag 3, et polyvinylacetatresin opløst i en opløsningsmiddelblanding af toluen og methylethylketon i et forhold på 6:4 blev spin-coated på det lysreflekterende lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 nm, beskyttelseslaget 4 blev 25 dannet derpå, og en bisphenoleopxyresin af hærdbar type fortyndet med diglycidylæteropløsningsmiddel blev spin-coated for dannelse af et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 μπι som beskyttelseslaget 4.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-30 naler med en registreringseffekt på 7,4 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, Ij^/I^p var 0,64, I3/It0p var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 35 3,6 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

28 DK 175044 B1 EKSEMPEL· 19.

En polycarbonatskive (Panlite, handelsnavn, fremstillet af Tenjin Ka-sei K.K.) med en tykkelse på 1,2 mm, en yderdiameter på 120 mm, og en 5 inderdiameter på 15 mm og med en spiralformet præformet rille 9, der havde en bredde på 0,8 pm, en dybde på 0,08 pm og en stigning på 1,6 pm i et område dækket af diameteren fra 46 til 117 mm på skiven, og dannet ved sprøjtestøbning, blev benyttet som det lystransmitterende substrat 1, Dette polycarbonatsubstrat 1 havde en Rockwell hårdhed 10 (ASTM D7 85) på M75 og en varmedistorsionstemperatur {ASTM D64 8) på 135°C ved en belastning på 4,6 kg/cm’. Et organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag 2 blev frembragt af 0,65 g af 1,1’-dibutyl-3,3,3',31-tetramethyl-4,5,4',5'- dibenzoindodicarboxyaninperchlorat (produkt nr. NK3219, fremstillet 15 af Nippon Kanko Shikiso K.K.), som var opløst i 10 ml af et diaceto-nealkoholopløsningsmiddel. Denne opløsning blev ved spin-coating belagt på overfladen af substratet 1 for dannelse af det lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm.

29 DK 175044 B1 CD-standarderne foreskriver, at ^n^top er niindst 0,6 og I-j/It0p er fra 0,3 til 0,7. Således opfylder den optiske skive ifølge dette eksempel standarderne.

5 Endvidere blev den optiske skive beskyttelseslag 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet efter registreringen, og overfladen af det lysabsorberende lag 2 blev inspiceret, hvorved der blev observeret lineære fine uregelmæssigheder, der fremtrådte på en sådan måde, at de repræsenterede grundprofilet for huller. Endvidere blev det lysab-10 sorberende lag 2 afvasket med et opløsningsmiddel, og substratet l's overflade blev inspiceret, hvorved optisk modificerede huller 5 i form af fremspring blev observeret.

EKSEMPEL 20.

15

En optisk skive blev fremstillet på samme måde, som beskrevet i eksempel 19, med undtagelse af, at der som det lystransmitterende substrat 1 blev benytte en polycarbonatskive (Iupilon, handelsnavn, fremstillet af Mitsubishi Gas Kagaku K.K.) med en tykkelse på 1,2 mm, 20 en yderdiameter på 120 mm, en inderdiameter på 15 mm og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 132°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og med en spiralformet præformet hul 8 for signaler med CD-format dannet med en bredde på 0,6 μιη, en dybde på 0,8 Mm og en stigning på 1,6 Mm i et diameterområ-25 de fra 46 til 80 mm af skiven og den spiralformede præformede rille 9, der er dannet udefter i forhold dertil med en bredde på 0,8 Mm og en dybde på 0,08 μπη og en stigning på 1,6 Mm i et diameterområde fra 80 til 117 mm på skiven, der blev dannet ved sprøjtestøbning, og som blev benyttet som det lystransmitterende substrat 1, en guldfilm blev 30 benyttet som det lysreflekterende lag 3, og et epoxyresinlag med en tykkelse på 2 Mm blev dannet ved spin-coating mellem det lysreflekterende lag 3 og beskyttelseslaget 4, som er fremstillet af det ultraviolet hærdbare resin. Epoxyresinlaget havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 35 140°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2. Det indre diameterområde fra 46 til 80 mm af denne optiske skive er et såkaldt ROM-(læselager)-område, og det ydre diameterområde fra 80 til 117 mm er et registrerbart område.

30 DK 175044 B1 På det registrerbare område af den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 19. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den 5 kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved I^/I^p var 0,62 og I3/ltop var °'32·

Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registrering inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 19 for 10 at bekræfte dannelse af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring .

EKSEMPEL 21.

15 En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 19, med undtagelse af, at der som det lystransmitterende substrat 1 blev benyttet en polystyrenskive med en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M80 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 89°C ved en belastning på 4,6 kg/cm*, den præformede rille på skiven 20 blev udsat for webling på 22,11 kHz med en amplitude på 30 nm, et si-likoneacrylatresinlag med en tykkelse på 40 nm blev dannet ved spin-coating mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 og et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 nm blev dannet ved spin-coating mellem dette lag og det lysabsorberende lag og en guldfilm 25 blev dannet som det lysreflekterende lag 3. Silikoneacrylatreseinla-get havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 19. Derefter blev den 30 optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved ΐιχ/itop var 0,63 I3/,Itop var 0»33*

Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 19 35 for at konstatere dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 22.

31 DK 175044 B1

Som lystransmitterende substrat 1 blev der anvendt samme polycarbo-natskive, som i eksempel 19.

5 På dette lystransmitterende substrat 1 blev et acrylatresin spin-coa-ted for at danne et mellemlag med en tykkelse på 70 nm. Derefter blev et organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag 2 på 0,65 g 1,1'-dipropyl-3,3,3',31-tetramethyl-5,5'-dimethoxyindodicarbo-cyaniniodid opløst i 10 ml diacetonealkoholopløsningsmiddel, og op-10 løsningen blev påført ved spin-coating på mellemlaget 6 på substratet 1 for dannelse af et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 90 nm. Mellemlaget 6 havde en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 100°C ved en belastning på 4,6 kg/cmJ og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M85.

15

Derefter blev et silikoneacrylatresin dannet ved spin-coating i en tykkelse på 50 nm på ovennævnte lysabsorberende lag 2. Derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning på hele overfladen af et område med en diameter fra 45 til 118 mm af 20 skiven for dannelse af det lysreflekterende lag 3. Endvidere blev et ultraviolet hærdbart resin spin-coated på det lysreflekterende lag 3 og hærdet ved bestråling med ultraviolette stråler til dannelse af et beskyttende lag 4 med en tykkelse på 10 pm.

25 Den således frembragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s med en registreringseffekt på 6,0 mW for registrering af EFM- signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller (Aurex XR-V73, med bølgelængde 30 for læselaserstrålen λ = 780 nm), hvorved tilvejebragt fra udlæsningssignalemes øjemønster var 0,63 og I3/Itop var 0,32.

CD-standarderne foreskriver, at I1:L/It0p mindst er 0,6 og I3/It0p er fra 0,3 til 0,7. Således vil den optiske skive ifølge dette eksempel 35 tilfredsstille standarderne.

Derefter blev denne optiske skives beskyttelseslag 4, det lysreflekterende lag 3 og det lysabsorberende lag 2 afskrællet efter registre 32 DK 175044 B1 ringen, og mellemlaget 6's overflade blev inspiceret, hvorved dannelsen af optiske modificerede huller S i form af fremspring blev bekræftet.

5 EKSEMPEL 23.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af en vi-nylchloridcopolymer med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 10 80°C ved en belastning på 4,6 kg/cm* og en Rockwell hårdhed (ASTM

D785) på M95 i en tykkelse på 60 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den 15 optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved In/It0p var 0,66 og l3/lt0p var 0,35.

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22 for at bekræfte 20 dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 24.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-25 sempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et acrylatresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 90eC ved en belastning på 4,6 kg/cm* og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100, og tykkelsen af det lysabsorberende lag 2 blev ændret til 130 nm, og intet acrylresinlag blev dannet mellem det lysabsorberende lag 30 2 og det lysreflekterende lag 3, og endelig var det lysreflekterende lag 3 dannet af en film af en legering af guld og iridium i et forhold på 9:1.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-35 naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Ιχχ/Itop var 0,63 og I3^Itop var °«32· 33 DK 175044 B1

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6, efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

5 EKSEMPEL 25.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af en vi-nylidenchloridcopolymer med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) 10 på 66°C ved en belastning på 4,6 kg/cm* og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60 i en tykkelse på 60 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den 15 optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved ln/^top var °'67 °9F I3/Itop var °»36·

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte 20 dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 26.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-25 sempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af polystyren med en varmede formations temperatur (ASTM D648) på 85°C ved en belastning på 4,6 kg/cm’ og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M70.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-30 naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved In/Itop var 0,65 og I3/Itop var 0,34.

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen in-35 spiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

34 DK 175044 B1 EKSEMPBL 27.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse a£, at mellemlaget 6 blev dannet af en po-5 lyvinylacetat med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 55“C ved en belastning på 4,6 kg/cm5 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M70 i en tykkelse på 60 nm, og isocyanat blev spin-coated på siliko-neacrylatresinlaget i en tykkelse på 10 nm.

10 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved I^/I^ var 0,66 og I3/It0p var °»32· 15 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 28.

20

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af en polyester med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 70°C ved en belastning på 4,6 kg/cm1 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M70, 25 og til dannelse af det lysabsorberende lag 2 blev der anvendt et organisk farvestof 1,1·-dibutyl-3,3,3',3·-tetramethyl-4,5,4',5’- dibenzoindodicarbocyaninperchlorat, endvidere var et silikoneresin påført på det lysabsorberende lag 2 i stedet for silikoneacrylatresi-net, og et bisphenolepoxyresinlag af hærdbar type blev dannet på det 30 lysreflekterende lag 3 i en tykkelse på 20 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-35 spiller, hvorved In/Itop var 0,61 og I3/It0p var 0,31.

35 DK 175044 B1

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

5 EKSEMPEL 29.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af poly-uretharesin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 50eC ved 10 en belastning på 4,6 kg/cm1 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60 og i en tykkelse på 50 nm, og et silikoneresin blev spin-coated på dette mellemlag 6 i en tykkelse på 15 nm for en opløsningsmiddelmodstandsdygtig behandling, og derefter blev et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm dannet ved anvendelse af 1,1'-dibutyl-15 3,3,3' , 3'-tetramethyl-4,5,4',5'-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat, og intet silikoneacrylatresin var pålagt mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3, og endelig var det lysreflekterende lag 3 dannet af en film af en legering af guld og iridium i et forhold på 9:1.

20 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved I-^/ItQp var 0,66 og I3/It0p var °/33.

25

30 EKSEMPEL 30.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et po-lyurethanresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 50eC 35 ved en belastning på 4,6 kg/cm1 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60, og et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på dette mellemlag 6 i en tykkelse på 15 nm for opløsningsmiddelmodstandsdygtig behandling, og derefter blev et lysabsorberende lag 2 dannet ved anven- 36 DK 175044 B1 delse af 1,1'-dibutyl-3,3,3',3'-tetramethyl-4,5,4',5'-dibenzoindodi-carboxyaninperchlorat, og et silikoneresin var dannet på dette lysabsorberende lag 2 istedet for silikoneacrylatresi.net, et polysulfidinkorporeret epoxyresin blev påført det lysreflekterende lag 3 i en 5 tykkelse på 20 nm, og det beskyttende lag 4 blev dannet derpå.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-10 spiller, hvorved var 0,66 °9 -^^top var °»33-

15 EKSEMPEL 31.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et cel-20 luloseresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 60°C ved en belastning på 4,6 kg/cmJ og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100, og til dannelse af det absorberende lag 2 blev der anvendt et organisk farvestof 1,1'-dibutyl-3,3,3', 3'-tetramethyl-4,5,4', 5 ’ -dibenzoindodicarboxyaninperchlorat, og et silikoneresin blev påført 25 på det lysabsorberende lag 2 istedet for silikoneacrylatresinet.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-30 spiller, hvorved var 0,65 og l3/lt0p var 0,32.

35 37 DK 175044 B1 EKSEMPEL 32.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et ter-5 moplastisk urethanresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 50°C ved en belastning på 4,6 kg/cm’ og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M30, og i en tykkelse på 50 nm, og et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 i en tykkelse på 15 nm for opløsningsmiddelmodstandsdygtig behandling, og derefter blev et lysab-10 sorberende lag 2 dannet ved anvendelse af 1,1'-dibutyl-3,3,3',3'-te-tramethyl-4,5,4’,51-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat, og et sili-koneresin blev pålagt istedet for silikoneacrylatresinet.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-15 naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved ^i/^top var °'67 °9 I3/It0p var °·34·

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen in-20 spiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 33.

25 En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22,. med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et acrylresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 70°C ved en belastning på 4,6 kg/cma og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90, og et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm blev dan-30 net ved anvendelse af 1,1’-dipropyl-5,7,5',7'-dimethoxyindodi-carboxyaninfluorborat som organisk farvestof, og det lysreflekterende lag 3 blev dannet ved hjælp af en kobberfilm, medens beskyttelseslaget 4 blev dannet af en hård belægning af silikonemiddel i en tykkelse på 5 pm.

35 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den 38 DK 175044 B1 optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved In/It0p var 0,63 og l3/Itop var 0,32.

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen in-5 spiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 34»

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-10 sempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et po-lyurethanresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 50°C ved en belastning på 4,6 kg/cmJ og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60, endvidere blev der som organisk farvestof for det lysabsorberende lag 2 anvendt 1,11-dipropyl-5,7,5',7'-dimethoxyindodicarboxyanin-15 fluorborat, og en SI02 film med en tykkelse på 30 nm blev ved katodeforstøvning dannet på det lysabsorberende lag 2, medens det reflekterende lag 3 var dannet af en kobberfilm, og et epoxyresin var spin-coated på det lysreflekterende lag 3 i en tykkelse på 20 nm, medens beskyttelseslaget 4 var dannet derpå af en hård belægning af siliko-20 nemiddel i en tykkelse på 5 μπι.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-25 spiller, hvorved Ιχι/Ι^ορ var og I3/^Itop var °'33-

30 EKSEMPEL 35.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at der blev benyttet en glasskive som 35 det lystransmitterende substrat 1, og mellemlaget 6 blev dannet af et acrylatresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 70°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90, og med en præformet rille dannet ved hjælp af en fotopolymerisa- 39 DK 175044 B1 tionsmetode, oa et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm blev dannet ved anvendelse af 1,1'-dipropyl-5,7,5',71 -dimethoxyindodicarboxyaninfluorborat som et organisk farvestof, og det lysreflekterende lag 3 blev dannet af en kobberfilm, medens be-5 skyttelseslaget 4 var dannet af en hård belægning af silikonemiddel i en tykkelse på 5 μτη.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den 10 optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved In/Itop var 0,63 og I3/ltop var 0,32.

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte 15 dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

SAMMENLIGNENDE EKSEMPEL 1.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i ek-20 sempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et si-likoneresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 180°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100.

25 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig- naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved I^/I^p var 0,28 og I3/Itop var °>05· 30 Således vil denne skive ikke tilfredsstille CD-formatet.

EKSEMPEL 36.

Et polycarbonatsubstrat 1 med skiveform og med en tykkelse på 1,2 mm, 35 en yderdiameter på 120 mm og en inderdiameter på 15 mm og med en spiralformet præformet rille fremstillet med en bredde på 0,8 μιη, en dyb de på 0,08 pm og en stigning på 1,6 pm inden for et diameterområde fra 46 til 117 mm på skiven, blev dannet ved sprøjtestøbning. Po- 40 DK 175044 B1 lycarbonatsubstratet 1 havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 132eC.

Som organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag blev 5 der anvendt 0,65 g 1,1'-dibutyl-3,3,3',3'-tetramethyl-4,5,4',51-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat (produkt nr. NK3219, fremstillet af Nippon Kanko Shikiso K.K.) som var opløst i 10 ml af et diaceto-nealkoholopløsningsmiddel. Opløsningen blev påført på overfladen af substratet 1 ved spin-coating for dannelse af et lysabsorberende lag 10 2 med en tykkelse på 130 nm.

Derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning over hele overfladen i et diameterområde fra 45 til 118 mm af skiven for dannelse af et lysreflekterende lag 3. Endvidere blev et ultraviolet hærdbart resin spin-coated på det lysreflekte-15 rende lag 3 og hærdet ved bestråling med ultraviolette stråler for dannelse af beskyttelseslaget 4 med en tykkelse på 10 μτη. Efter hærdningen havde beskyttelseslaget en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 150°C.

20 Det registrerbare område 7 af den således frembragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s og med en registreringseffekt på 6,0 mW for registrering af EFM-signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af en kommercielt tilgængelig CD-spiller 25 (Aurex XR-V73, med en bølgelængde for læselaserstrålen λ = 780 nm) , hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen var registreret til 72%, in/itop var 0.65, og ^/Itop var 0<35, og blokfejlhyppigheden BLER var 3,4 x 10"3.

30 CD-standarderne foreskriver, at refleksionskoefficienten er mindst 70%, ijj/Itop er mindst 0,6, ij/l^op er ^ra 0,3 0,7 °9 blokfejl hyppigheden BLER ikke er højere end 3 x 10”2. Den optiske skive ifølge dette eksempel opfylder standarderne.

35 Derefter blev den optiske skives beskyttelseslag 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet efter registreringen, og det lysabsorberende lag 2 blev afvasket med et opløsningsmiddel, og overfladen af det lystransmitterende substrat 1 blev betragtet ved STM (Skanderende 41 DK 175044 B1

Tunnelerende Mikroskop), hvorved deformationer i form af fremspring blev observeret i det hulforsynede område. Endvidere blev det registrerede område og det ikke-registrerede område af substratet 1 målt ved hjælp af et spektrofotometer, hvorved der i det registrerede om-5 råde blev observeret andre spidsværdier end spidsværdierne for det resin, som blev observeret ved det ikke-registrerede område.

Dette eksempel illustrerer det tilfælde, hvor beskyttelseslaget 4 blev benyttet som et hårdt lag.

10 EKSEMPEL 37.

På et polycarbonatsubstrat (Panlite, fremstillet af Teijin Kagaku) med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 15 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, endvidere blev et silikonacrylatlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som et hårdt lag 6, og et sølvlag med en tykkelse på 50 nm var dannet derpå ved vakuumdampaflej ring som et lysreflekterende lag 3,og samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, blev dan-20 net derpå. Ovennævnte substrat havde en Rockwell hårdhed {ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C. Endvidere havde nævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

25 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, W^op I

var 0,63, I3/It0p var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,5 x 10” 3 30

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved hjælp STM (Skanderende Tunnelerende Mikroskop) på samme måde som beskrevet i eksempel 36, hvorved deformationen i form af fremspring blev observeret ved den 35 hulforsynede del. Den centrale del af denne deformation var lidt lavere end de ydre dele, og deformationen 6 viste sig at have to spidsværdier, således som illustreret i fig. 15(b).

42 DK 175044 B1 EKSEMPEL 38·

På et polycarbonatsubstrat (lupiIon, fremstillet af Mitsubishi Gas Kagaku) med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i ek-5 sempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, et epoxyresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som et hårdt lag 6, og en guldfilm med en tykkelse på 50 nm blev dannet ved vakuumdampaf lej ring derpå som. et lysreflekterende lag 3, og det samme beskyttelseslag 4, som blev benyttet i eksempel 10 36, blev dannet derpå. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM

D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 132°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 140°C.

15 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, In/Itop var 0,62, I3/Itop var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,4 x 10“ 20 3.

EKSEMPEL 39.

På et polystyrensubstrat med samme form og med en præformet rille, 25 som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som omtalt ovenfor, og et acrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som et hårdt lag 6, ligesom et epoxyresin blev spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskabeme, hvorefter en guldfilm med en tykkelse på 50 nm ved vakuumdampaflejring blev 30 dannet som et lysreflekterende lag 3, og derpå blev der dannet samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M80 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 89°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstempe-35 ratur (ASTM D648) på 100°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoef- 43 DK 175044 B1 ficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Ι-^/Ι^ρ var 0,62, l3/It0p var 0,31 og blokfejlhyppigheden BLER var 7,0 x 10' 3 5 EKSEMPEL 40.

På en polymethylmethacrylatsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, hvorefter et polyester-10 resinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som et hårdt lag 6, og et guldlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaflejring, og et epoxyresin blev endvidere spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne og derpå blev samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36 dannet.

15 Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varme-distorsionstemperatur (ASTM D648) på X10°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M110 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 115°C.

20 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, In/Itop var 0,64, I3/It0p var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 8,0 x 10' 3 25 EKSEMPEL 41.

På et polyolefinsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på 30 samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1’-dibutyl- 3,3,3’,3’-tetramethyl-5,5’-diethoxyindodicarboxyaninperchlorat og derefter blev et silikoneacrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det hårde lag 6, og en guldlag med en tykkelse på 50 35 nm blev dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaf-lejring, og endvidere blev et epoxyresin spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne og derpå blev samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, dannet. Substratet havde en Rockwell hård- 44 DK 175044 B1

hed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 140°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D64 8) på 200°C. I

5 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, ^n/^top var 0,61, ^/^top var 0-33 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,3 x 10“ 10 3.

EKSEMPEL 42.

15 På et epoxyresinsubstrat med samme form og med en præfonnet rille, som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1'-dibutyl- 3,3,3’,3'-tetramethyl-5,5'-diethoxyindodicarboxyaninperchlorat, og et 20 silikoneresinlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det hårde lag 6, og en aluminiumsfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vakuum-dampaflejring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3, og det samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, blev dannet derpå.

Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varme-25 distorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 180°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som be- 30 skrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 73%, In/Itop var 0,61, I3/Itop var °-30 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 2,0 x 10“ 3 35 EKSEMPEL 43.

På et polycarbonatsubstrat (Panlite, fremstillet af Teijin Kagaku) med samme form og med en praeformet rille, som beskrevet i eksempel 45 DK 175044 B1 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, en sølvfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vakuumaflejring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3, et silikoneacry-latlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det hårde lag 6, og 5 det samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, blev dannet derpå. Substrat havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M7S og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C, I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

10 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refléksionskoef-ficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, In/Itop var 0,64, I^/I^p var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,7 x 10" 15 3.

EKSEMPEL 44.

På et polycarbonatsubstrat (Iupilon, fremstillet af Mitsubishi Gas 20 Kagaku) med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, en guldfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved va-kuumdampaflej ring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3, og et epoxyresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som det hår-25 de lag 6, der også fungerede som beskyttelseslaget. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 140°C.

30 På denne optiske skive blev data registreret på1 samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, var 0,63, I3/It0p var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,7 x 10" 35 3.

46 DK 175044 B1 EKSEMPEL 45.

På et polystyrensubstrat med samme form og med en præformet rille, som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på 5 samme måde, som omtalt ovenfor, en guldfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vakuumdampaflej ring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 og et acrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som det hårde lag 6, der også fungerede som et beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M80 og en varme-10 deformationstemperatur (ASTM D648) på 89°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 100°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som be- 15 skrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Zn/^top var 0,63, I3/It0p var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 7,1 x 10' 3 20 EKSEMPEL 46.

På en polymethylmethacrylatsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, og derefter blev en 25 guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaf lejring, og et epoxyresin blev spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskabeme, og et polyesterre-sinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det hårde lag 6, der også fungerede som et beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell 30 hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedeformationstemperatur (ASTM D648) på 110°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M110 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 115°C.

35 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, In/Itop 47 DK 175044 B1

var 0,65, I3/ItoD var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 8,3 x 10' I

3 EKSEMPEL 47.

5 På et polyolefinsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1'-dibutyl- 10 3,3,3 ' , 3'-tetramethyl-5,5’-diethoxyindodicarboxyaninperchlorat, og derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaflejring, og et epoxyresin blev spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne, og et silikoneacrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå 15 som det hårde lag 6, der også fungerede som beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed {ASTM D785) på M75 og en varmedistor-sionstemperatur (ASTM D648) på 140°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en var-medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

20 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, In/1top var 0,21, 13/Itop var °»34 °9 blokfejlhyppigheden BLER var 2,4 x 10' 25 3.

EKSEMPEL 48.

På et epoxyresinsubstrat med samme form og med en præformet rille, 30 som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1’-dibutyl- 3,3,3’,3'-tetramethyl -5,5'-diethoxyindodicarboxyaninperchlorat, og derpå blev en aluminiumsfilm med en tykkelse på 50 nm dannet som det 35 lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaflej ring, og et silikoneresin-lag med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det hårde lag 6, der også fungerede som beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstenqperatur (ASTO D648) 48 DK 175044 B1 på 135°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 180°C.

5 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, In/Itop var 0,62,. 13/1 top var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,1 x 10" 3 10 SAMMENLIGNENDE EKSEMPEL 2.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 36, med undtagelse af, at beskyttelseslaget 4, der blev frem-15 stillet af det ultraviolette hærdbare resin var frembragt for at have en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 90°C ved en belastning på 4,6 kg/cm* efter hærdning.

20 Denne optisk skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s for at registrere EFM-signaler på samme måde, som forklaret i eksempel 36, hvorved ingen passende distinkte huller blev observeret på substratet 1. Derefter blev denne optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD- 25 spiller, som blev benyttet i eksempel 36, hvorved refleksionskoefficienten for den optiske skive blev bestemt til 71%, I1;L/It0p var 0,7,

Ij/Ij-Qp var 0,37, men blokfejlhyppigheden BLER var 1,5 x 10"1 og er således ikke i stand til at opfylde CD-standarderne.

30 BKSBMPBIi 49.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af et hårdt lag af ultraviolet hærdbart resin blev spin-coated på siden for indfaldende lys af polycarbonat-35 substratet 1 for at danne et substratbeskyttelseslag med en tykkelse på 1 μπι.

49 DK 175044 B1 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet på samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen 5 blev bestemt til 70%, I^/I^p var 0»62, I3/It0p var 0,37, og blokfejlhyppigheden BLER var 1,3 x 10-2.

Overfladen af den optiske skives substrat 1 blev efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at 10 bekræfte dannelse af huller 5, således som beskrevet i eksempel 1.

EKSEMPEL· 50.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i ek-15 sempel 1, med undtagelse af et polybutadienresin opløst i cyclohexan blev spin-coated for dannelse af et polybutadienresinlag med en tykkelse på 10 nm mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3.

20 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, var 0,65, I3/ltQp var 0,35, 25 og blokfejlhyppigheden BLER var 8,6 x 10'3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelse af huller 5, som beskrevet i eksempel 30 1.

EKSEMPEL 51.

Et polycarbonatsubstrat 1, der har en tykkelse på 1,2 mm, og en yder-35 diameter på 120 mm, og en inderdiameter på 15 mm, og med en spiralformet præformet rille 8 dannet på sin overflade med en bredde på 0,8 pm, en dybde på 0,08 pm og en stigning på 1,6 pm blev dannet ved sprøjtestøbning. Et organisk farvestof til dannelse af det lysabsor- 50 DK 175044 B1 berende lag 2 blev dannet af 0,5 g 1,1'-dipropyl-3,3,3', 3’-tetramethyl-5,5'-diethoxyindodicarbocyaninperchlorat opløst i 10 ml af et isopropylalkoholopløsningsmiddel. Opløsningen blev belagt på overfladen af substratet 1 ved spin-coating for dannelse af et lysab-5 sorberende lag 2 med en tykkelse på 100 nm. Endvidere blev en Si02- film ved katodeforstøvning dannet derpå i en tykkelse på 40 nm.

Derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning på hele overfladen af det område, som er dækket af diame-10 teren fra 45 mm til 118 mm af skiven for at danne et lysreflekterende lag 3. Endvidere blev der på dette lysreflekterende lag spin-coated et urethanresin opløst i methylethylketon med en tykkelse på 100 nm for dannelse af et stødabsorberende lag, og et ultraviolet hærdbart resin blev spin-coated derpå og hærdet ved bestråling med ultravio-15 lette stråler for dannelse af et beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 10 μυη.

Den således tilvejebragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed 20 på 1,2 m/s med en registreringseffekt på 6,8 mW for registrering af EFMsignaler. Derefter blev den optiske skive afspillet på en kommercielt tilgængelig CD-spiller (Aurex XR-V73, med bølgelængden λ = 780 nm) , hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, In/Itop var °<66' I3/Itop var °'36> °9 blok- 25 fejlhyppigheden BLER var 3,5 x 10' .

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller, som be-30 skrevet i eksempel 2.

EKSEMPEL 52.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 35 51 med undtagelse af, at Si02-filmen blev dannet ved en LPD-metode, og et dioxanopløsningsmiddel blev anvendt som opløsningsmidlet for belægningsmidlet til dannelse af det lysabsorberende lag 2.

51 DK 175044 B1 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en effekt på 7,2 mW på samme måde som beskrevet i eksempel 51. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD- spiller, som blev anvendt i eksempel 51, hvorved refleksionskoeffici-5 enten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 77%, var 0,66, 13/Itop var °'1· °9 blokfejlhyppigheden BLER var 4,0 x 10-3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved SIM på samme måde, som 10 beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller, som beskrevet i eksempel 1.

15 EKSEMPEL 53.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 51 med undtagelse af, at der istedet for SiC^-filmen blev spin-coated et epoxyresin opløst i diglycicylether til dannelse af et epoxyresin-20 lag med en tykkelse på 4 0 nm, endvidere blev et tyndt lag af en legering af guld og titanium i et forhold på 9:1 dannet som det lysreflekterende lag 3, og et polybutadienresin opløst i cyclohexan blev spin-coated for dannelse af et polybutadienresinlag med en tykkelse på 10 nm mellem det lysabsorberende lag 2 og' det lysreflekterende lag 25 3.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde som beskrevet i eksempel 51. Derefter blev den optiske skive afspillet ved 30 hjælp af samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 51, hvorved

refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, I1;L/Itop var 0.64, -^/^top var °<33' °S blokfejlhyppigheden BLER

var 2,5 x 10"3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

52 DK 175044 B1 EKSEMPEL 54.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 5 51 med undtagelse af, at der istedet for Si02-filmen blev spin-coated et epoxyresin opløst i diglycicylether til dannelse af et epoxyresin-lag med en tykkelse på 40 nm, og endvidere blev et tyndt lag af en legering af guld og titanium i et forhold på 9:1 dannet som det lysreflekterende lag 3, og et polybutadienresin opløst i cyclohexan blev 10 spin-coated for at danne et polybutadienresinlag med en tykkelse på 10 nm mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 og et hærdbart bisphenolepoxyresin blev spin-coated med en tykkelse på 20 nm mellem det lysreflekterende lag og beskyttelseslaget 4 for at forbedre vedhæftningen imellem disse.

15 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,2 mW på samme måde som beskrevet i eksempel 51. Derefter blev denne optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 51, hvorved

refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 20 74%, Ιχι/Ι^ορ var °'64< I3/Itop var °'33' °9 blokfejlhyppigheden BLER

var 3,0 x 10 " 3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som 25 beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

EKSEMPEL 55.

30 En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 51 med undtagelse af, at der istedet for Si02-filmen blev spin-coated et epoxyresin opløst i diglycicylether til dannelse af et epoxyresin-lag med en tykkelse på 4 0 nm, og endvidere blev et polybutadienresin, som var opløst i cyclohexan spin-coated for at danne et polybutadien-35 resinlag med en tykkelse på 10 nm mellem dette epoxyresinlag og det lysreflekterende lag 3, og tykkelsen af beskyttelseslaget blev ændret til 5 μπκ 53 DK 175044 B1 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler med en registreringseffekt på 7,2 mW på samme måde som beskrevet i eksempel 51. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev anvendt i eksenqpel 51, hvorved

5 refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, In/Itop var O'®4, I3/It0p var 0,32, og blokfejlhyppigheden BLER

var 3,3 x 10*3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende 10 substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

15 EKSEMPEL 56.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 51 med undtagelse afat der ikke blev dannet nogen Si02-film, åstedet blev en polybutadienresin opløst i cyclohexan spin-coated for at 20 danne et polybutadienresinlag med en tykkelse på 10 nm mellem det lysabsorberende lag 2 og det lys reflekterende lag 3, og et hærdbart bisphenolepoxyresin blev spin-coated i en tykkelse på 20 nm mellem det lysreflekterende lag og beskyttelseslaget 4 for at forbedre vedhæftningen imellem disse lag, og tykkelsen af beskyttelseslaget 25 blev ændret til 5 μπι.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-sig-naler med en registreringseffekt på 7,2 mW på samme måde som beskrevet i eksempel 51. Derefter blev den optiske skive afspillet ved 30 hjælp af samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 51, hvorved ’ refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til

74%, var 0,63, I3/It0p var 0,32, og blokfejlhyppigheden BLER

var 2,8 x 10-3.

35 Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

54 DK 175044 B1 EKSEMPEL 57.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 5 51 med undtagelse af, at der ikke blev dannet nogen Si02-film.

På den således frembragte optiske skive blev der på samme måde, som beskrevet i eksempel 51 registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,2 mW. Derefter blev den optiske skive afspillet ved 10 hjælp af samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 51, hvorved

refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 77%, Ιχι/Itop var Ij/I^op var 0,35, og blokfejlhyppigheden BLER

var 1,0 x 10'2.

15 Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved STM på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5, som beskrevet i eksempel 1.

20 Som beskrevet i det foregående, er det med det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse muligt optisk at danne huller svarende til CD ved bestråling med en laserstråle, og samtidig er det reflekterende lag tilvejebragt bag det lysabsorberende lag i nær kontakt dermed, hvorved det er muligt at frembringe en 25 lagdelt struktur svarende til den for en CD. Således er det ifølge den foreliggende opfindelse muligt let at opnå et registrerbart optisk informationsregistreringsmedium, der opfylder CD-formatet.

Claims

55 DK 175044 B1 PATENTKRAV.

1. Fremgangsmåde til optisk informationsregistrering på et optisk informationsmedium omfattende: 5 (1) et lystransmitterende substrat (1), (ii) et lysabsorberende lag (2), der overlejrer substratet for at absorbere en laserstråle (7), og 10 (iii) et lysreflekterende lag (3) , som overlejrer det lysabsorberende lag (2), hvilken fremgangsmåde omfatter, at det lysabsorberende lag (2) energi forsynes ved hjælp af en laserstråle (7), der er trængt gennem det lystransmitterende substrat (1) for dannelse af optisk 15 læsbare huller, kendetegnet ved, at nævnte optisk læsbare huller er dannet enten (a) i substratets overflade (1) nærliggende det absorberende lag (2) 20 og i det absorberende lag (2), eller (b) i substratets overflade (1) nærliggende det absorberende lag (2), i det absorberende lag (2) og endvidere i et yderligere mellemliggende lag (6) mellem substratet (1) og det lysabsorberende lag (2), 25 hvor alle nævnte lag har en passende varmedistortion og/eller en passende hårdhed.

2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, det lysabsorberende 30 lag (2) smeltes og dekomponeres under absorption af laserstrålen (7), og nævnte lag deformeres lokalt ved smeltningen og dekomponeringen af det lysabsorberende lag (2) for at danne optisk læsbare huller i lagene.

3. Optisk informationsregistreringsmedium omfattende: (i) et lystransmitterende substrat (1), 56 DK 175044 B1 ΐii> et lysabsorberende lag (2), der overlejrer substratet (1) for at absorbere en laserstråle (7) for dannelse af optisk læsbare huller, og, 5 (iii) og et lysreflekterende lag (3) , som overlejrer det lysabsorberende lag, kendetegnet ved, at nævnte optisk læsbare huller er dannet enten: 10 (a) i substratets overflade (1) nærliggende det absorberende lag (2) I og i det absorberende lag (2), eller (b) i substratets overflade (1) nærliggende det absorberende lag (2), 15. det absorberende lag (2) og endvidere i et yderligere mellemliggende lag (6) mellem substratet (1) og det lysabsorberende lag (2), hvor alle nævnte lag har en passende varmedistortion og/eller en passende hårdhed. 20

4. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 3, kendetegnet ved, at overfladelagets deformation er fremspring i retning mod det lysabsorberende lag.

5. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 3 eller 4, kendetegnet ved, at nævnte lags deformerede dele har optiske egenskaber, der er forskellige fra de resterende lag.

6. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 3,4 eller 5, 30 kendetegnet ved, at de deformerede dee af lag, nærliggende det absorberende lag, indeholder dekomponerede komponenter af det lysabsorberende lag spredt deri.

7. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst 35 af kravene 3-6, kendetegnet ved, at substratets overflade eller det yderligere lag har en sporingsstyrerille, og at de optisk læsbare huller er dannet i styrerillen. DK 175044 B1 « FIGURE I FIGURE 2 4 3 R(3l|RE 3 mmmM 2 5 7sL γ·5 I i "il·® DK 175044 B1 FIGURE 4 4 3 ////)^//^/////////////

26. FIGURE 5 4 3 {/—//////// ^/// '/ ^//\ 6 2 5 7~\jL \Νδ 1 FIGURE 6 I |f-8 1 1 , FIGURE 7 2 6 1 43 *%//////////</A 2 6 5 7^/ \ 5^ " DK 175044 B1 FIGURE 8 4 3 is 2 i FIGURE 9 4 3 IpspIpPP 2 /6 7-J \ 5 * FIGURE 10 I 11-8 4 16 L_JdJ )N ^ Λ>\ γΛ Λ A A J FIGURE , , ^ ^ 4 16 2 3 5 7-'-JL ' \ 5 ' I i__\l ' '-β DK 175044 B1 FIGURE 12 IOO C-- 80 - Λ 60 -! \N// ! ) > 40 ~ |\ / I o---O V 20 -1 ; i o u-1-1-1-1- 0 02 04 0.6 08 I.O nabsdabs/ λ. FIGURE 13 IOO I-

80 -T 60-\ 40- \ 20 O-1-1-1- .0- 0.5 1.0 1.5 20 DK 175044 B1 FIGURE 14 FIGURE 15(0) -800 Η-*1 -600 -400 ' ~——— -^-200 -1-1-10 O 10000 20000 FIGURE 15(b) H-H -1-1-1- O 20000 40000 60000 DK 175044 B1 FIGURE I6(a) FIGURE I6(b) 7·-/- \ Λ7 _j___\._.| /___jAg^ FIGURE 16 (O FIGURE 16(d) TjTr T/'VnT Γ \ / \v-7 , L i \ 8—~_^ -rQ DK 175044 B1 FIGURE I7(0) FIGURE 17(b) i / i2 / \ /4 ?~-h \ I -Λ-7 _i__ ' * _ δ-'— ^ I _[ '-s FIGURE 17(0 /4 / \ /0' T'i' \ I \ - -8 DK 175044 Bl FIGURE 18(a) FIGURE 18(b) 14' 5 14' 5 10 4 7'f' > / -V _/__^_j... —I :_-j FIGURE 18(0 FIGURE 18(d) ^'aXAJ/A./i XX%XXAÅ / \ / \ 7'^-' \ j ·—'W7 8'029 Cli6 DK 175044 B1 FIGURE 19 (a) I3 / \ /4 I \

7-T" \ / _

- “8 FIGURE 19(b) å l \ 14 /~V _[- -8