DK174110B1

DK174110B1 - Optisk informationsoptegningsmedium

Info

Publication number: DK174110B1
Application number: DK198902543A
Authority: DK
Inventors: Emiko Hamada; Yuji Arai; Yuaki Shin; Takashi Ishiguro
Original assignee: Taiyo Yuden Kk
Priority date: 1988-07-30
Filing date: 1989-05-25
Publication date: 2002-06-24
Also published as: DK254389A; EP0353392A3; KR910003602A; DE68918652D1; US4990388A; PT91310B; EP0353392A2; PT91310A; FI893561A0; DK254389D0; ATE112649T1; KR950006839B1; MY104122A; AU3510589A; PH26092A; FI893561A; ES2064377T3; EP0353392B1; DE68918652T2; HK114195A

Description

DK 174110 B1

OPTISK INFORMATIONSOPTEGNINGSMEDIUM

Den foreliggende opfindelse angår et optisk informationsregistreringsmedium omfattende: 5 - et lystransmitterende substrat, - et lysabsorberende lag, der overlejrer substratet for at absorbere en laserstråle, og - et lysreflekterende lag, som overlejrer det lysabsor-10 berende lag.

Fra europæisk patentansøgning EP Q 132 410 kendes et informationsregistreringsmedium til brug sammen med fokuserede laserstråler, der er moduleret med registrerede in-15 formationssignaler, og som omfatter et substrat med et registreringslag sammensat af mindst to lag, hvor det første lag er dannet på substratet, og det andet lag er dannet ovenpå det første lag. Substratet og det første lag omfatter egenskaber for høj gennemsigtighed for la-20 serstråler. Det andet lag er dannet af et metal der hovedsageligt er et metal med et lavt smeltepunkt, og som er i stand til at absorbere laserstråler, og som tilsammen med det første lags materiale danner en legering, hvor tykkelsen af det første lag er af en sådan størrel-25 se, at refleksion af laserstråler der kommer ind fra substratsiden er reduceret som følge af interferenseffekten forårsaget af mutiple refleksioner. Metallet af det andet lag er følgelig legeret til det første lag på grund af den fokuserede bestråling af registreringslaserstrålen, 30 gennem substratet på registreringslaget, der ændrer betingelserne for de mutiple refleksioner samt refleksionen i registreringslaget som set fra substratet, hvorved der udføres registreringen af informationssignaler.

35 Fra japansk patentansøgning JP 59-40336 kendes et informationsregistreringsmedium, der tilvejebringer registre- DK 174110 B1 2 ring med et højt signal/støj forhold i et bredt effektområde af lys, ved skrivning uden nogen deformation, ved dannelsen af en høj smeltepunkts beskyttende film der omfatter et smeltepunkt højere end en registrerings tempe-5 ratur, og som undertrykker deformeringen af registreringslaget af et registreringsmedie til registrering ved opvarmning. Det 40nm tykke registrerings lag fremstillet af Sb2Se3 er dannet på et lys transmitterende substrat fremstillet af polymethyl methacrylat ved væske udfæld-10 ning eller lignende, et 40nm tykt reflekterende lag fremstillet af Bi2Te3 er væske udfældet på registreringslaget, og yderligere på dette reflekterende lag er dannet et 15nm tykt beskyttelseslag ved væske udfældning eller lignende, og det er fremstillet af metal eller en lege-15 ring omfattende et smeltepunkt højere end > 100°C end det reflekterende lag, f.eks. 585°C smeltepunkt af Bi2Te3, som f.eks. In2Te3, Mn, Ni, Cr, Ni-Cr-Mn-Cr, Mn-Cu, Ni, for at undertrykke mekaniske deformationer af registreringslaget og det reflekterende lag. Som beskyttelses-20 film, foruden omtalte film, kan en høj smeltepunkt resin film anvendes, og i dette tilfælde blandes et farvestof med en høj absorberingsevne af skrive og læse IR lys.

Fra IBM Technical Disclosure Bullitin, vol 25, no. 11B, 25 april 1983, ARMONK USA, side 5940-5941/ K. Y. Ahn & Al.: "Deformed Mirror Optical Storage Structure" kendes en deformeret spejl-optisk registreringsstruktur. Boble dannelse kan bruges til optiske registreringsmaterialer. I denne klasse af materialer registreres information ved 30 selektivt at blistre en tynd metal film (omkring lOnm tyk) på et lag af et polymert materiale. Nogle af de tekniske udfordringer af denne struktur omfatter: (1) den tynde metalliske film skal på samme tid udvise tilstræbte optiske og mekaniske egenskaber, (2) den skal være fri 35 for huller, (3) både det metalliske og polymere lag skal være kemisk stabile, og (4) den metalliske film skal klæ- DK 174110 B1 3 be godt til den polymere film for at spot størrelse. Desuden skal det underliggende dekompositions lag være i stand til at blive fremstillet hurtigt over et stort substratområde.

5

Konventionelle optiske informationsregistreringsmedia af denne type har et registreringslag, for eksempel af metal, såsom Te, Bi eller Mn eller et farvestof, såsom cya-nin, merocyanin eller ftalcyanin, og de er beregnede til 10 at registrere data på en sådan måde, at registreringslaget, når det bestråles med en laserstråle, deformeres, sublimeres, fordampes eller modificeres for at danne huller. Med optiske informationsregistreringsmedia, som har sådanne registreringslag, er det almindeligt at danne et 15 mellemrum bag registreringslaget for at lette deformationen, sublimeringen, fordampningen eller ændringen af registreringslaget med henblik på dannelsen af hullerne. Et typisk eksempel er en lamineret struktur, en såkaldt luftsandwichstruktur, hvor et par substrater er la-20 mineret med et mellemrum derimellem.

Med de optiske informationsregistreringsmedia af denne type stråler en skrivelaserstråle gennem et transparent substrat for at danne optisk læsebare huller i registre-25 ringslaget. For reproducering af de registrerede data stråler en læselaserstråle, der har mindre styrke end skrivelaserstrålen, gennem substratet og kontrasten mellem lys, som reflekteres fra hullerne, og det lys, som reflekteres fra den ikke-hulforsynede del, læses som et 30 elektrisk signal.

Inden for lydregistrering- og informationsbehandlingsområdet er der i praksis en bred anvendelse af optiske informationsregistreringsmedia af såkaldt ROM-type (læsela-35 ser-type), hvor data allerede er registreret, og hvor yderligere data ikke kan registreres, ligesom de regi- 4 DK 174110 B1 strerede data ikke længere kan slettes eller omskrives. Optiske informationsregistreringsmedia af denne type har ikke et sådant registreringslag, som beskrevet ovenfor. Huller svarende til data, der skal reproduceres, er alle-5 rede dannet på et substrat, for eksempel af polycarbonat, for eksempel ved pressestøbning, og et reflekterende lag af metal, som for eksempel Au, Ag, Cu eller Al, er dannet derpå, og et beskyttelseslag er endvidere tilvejebragt derpå.

10

Det mest typisk optiske informationsregistreringsmedium af denne ROM-type, er en kompakt skive, en såkaldt CD, der har en bred anvendelse inden for lydregistrering og informationsbehandlingsområderne. Specifikationen for re-15 gistrerings- og udlæsningssignaler for denne CD er standardiseret i såkaldt CD format, og reproducerings- eller play-back apparater for en CD i overensstemmelse med dette format er almindelige tilgængelige som compact disc spillere (CD-spillere).

20

Ovennævnte optiske informationsregistreringsmedia anvender en laserstråle på samme måde som en CD. Det er derfor særdeles ønskeligt, at sådanne media følger samme standarder som de almindelige herskende standarder for CD.

25

Imidlertid har konventionelle optiske informationsregistreringsmedia et registreringslag, som ikke er tilstede i en CD, og de er udformet for at danne huller i registreringslaget og ikke i substratet.

30 I visse tilfælde er der endvidere tilvejebragt et mellemrum for at lette dannelsen af hullerne i dette registreringslag. Som følge heraf er udlæsningssignalerne naturligvis forskellige fra en CD’s udlæsningssignaler. I for-35 bindelse med de konventionelle optiske informationsregistreringsmedia har det derfor været vanskeligt at op- DK 174110 B1 5 fylde ovennævnte såkaldte CD standarder for CD. Navnlig vil refleksionskoefficienten og modulationsgraden af de anvendte udlæsningssignaler være for lave til at opfylde standarderne.

5

Det er derfor formålet med den foreliggende opfindelse at tilvejebringe et skrivebart optisk informationsregistreringsmedium, som er i stand til at tilvejebringe en høj releksionskoefficient og udlæsningssignaler, der har en 10 høj modulationsgrad for at opfylde CD standarderne.

Dette kan opnås ved at substratet har et lag, der er nærliggende det lysabsorberende lag, og som kan deformeres· af energi, som genereres ved det lysabsorberende lags ab-15 sorption af laserstrålen for dannelse af optiske læsbare huller.

Den foreliggende opfindelse er baseret på den erkendelse, at optiske læsbare huller kan dannes direkte på substra-20 tet af en laserstråle ved hjælp af et laserstråleabsorberende lag, der virker som et middel til at danne sådanne huller, hvorved det er muligt at frembringe en registrerbar optisk skive, som opfylder CD standarderne.

25 I forbindelse med den foreliggende opfindelse vil udtrykket "optisk læsbare huller" eller "huller" generelt omfatte optisk læsbare eller detekterbare mærker af alle typer.

30 Når det lysabsorberende lag i dette optiske informationsregistreringsmedium bestråles med en laserstråle genererer det varme under laserstrålens absorption, og samtidig undergår det smeltning, fordampning, sublimering, reaktion, dekomposition eller modifikation. Når laserstrålen i 35 en fokuseret tilstand påtrykkes det lysabsorberende lag, genereres energi lokalt. Virkningen af en sådan energi 6 DK 174110 B1 når substratets overfladelag nærliggende det lysabsorberende lag, hvorved overfladelaget lokalt deformeres for dannelse af optisk modificerede dele (optisk læsbare huller) .

5 Således vil de optisk modificerede dele, som er dannet på substratets overfladelag, være forskellige fra de, der er dannet i konventionelle registreringslag, og de vil nærmest ligne CD-huller, som er præformet på en substrat-10 overflade, for eksempel ved pressestøbning. I det optiske læsbare informationsregistreringsmedium med en sådan struktur kan et reflekterende lag være tilvejebragt på det lysabsorberende lag i nær kontakt dermed. Således vil det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den 15 foreliggende opfindelse også svare til en CD ud fra et konfigurations-synspunkt. Det er navnlig væsentligt, at det herved et muligt let at opnå et optisk skrivebart informationsregistreringsmedium, navnlig af den type registrerbare optisk skive, hvor der skrives én gang, og som 20 opfylder CD standarderne med henblik på refleksionskoefficienten for læselaserstrålen, modulationsgraden for udlæsningssignalerne og blokfejlhyppigheden.

Opfindelsen vil herefter blive forklaret nærmere under 25 henvisning til den medfølgende tegning, hvor fig. 1 skematisk viser et partielt snit gennem et perspektivisk billede illustrerende en udførelsesform for strukturen af det optiske informationsregistreringsmedium 30 ifølge den foreliggende opfindelse, fig. 2 et partielt forstørret snit taget langs banen for informationsregistreringsmediet i fig. 1 forud for en optisk registrering, 35 DK 174110 B1 7 fig. 3 et partielt forstørret snit taget langs banen for det optiske informationsregistreringsmedium i fig. 1 efter den optiske registrering, 5 fig. 4 et partielt forstørret snit taget langs banen af en anden udførelsesform for det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse forud for optisk reregistrering, 10 fig. 5 et partielt forstørret snit taget langs banen af samme udførelsesform, som illustreret i fig. 4, og efter den optiske registrering, fig. 6 et partielt forstørret snit taget langs banen af 15 en yderligere udførelsesform for det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse forud for optisk registrering, fig. 7 et partielt forstørret snit taget langs banen af 20 den i fig. 6 viste udførelsesform efter den optiske registrering, fig. 8 et partielt forstørret snit taget langs banen af en yderligere udførelsesform for det optiske informati-25 onsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse og forud for den optiske registrering, fig. 9 et partielt forstørret snit taget langs banen af den i fig. 8 viste udførelsesform efter den optiske regi-30 strering, fig. 10 et partielt forstørret snit taget langs banen af en yderligere udførelsesform for det optiske registreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse og forud 35 for optisk registrering, 8 DK 174110 B1 fig, 11 et partielt forstørret snit taget langs banen af den i fig. 10 viste udførelsesform efter den optiske registrering, 5 fig. 12 en graf til illustration af forholdet mellem en optisk parameter repræsenteret ved formlen p = ngbs^abs^' ^vor nabs er ^en rea^-e del af det sammensatte brydningsindeks for den optisk skives lysabsorberende lag, dabs er det lysabsorberende lags tykkelse, og λ er 10 bølgelængden for læselaserstrålen og refleksionskoefficienten for læselaserstrålen, fig. 13 en graf til illustration af forholdet mellem den imaginære del kabS af det sammensatte brydningsindeks for 15 den optiske skives lysabsorberende lag og refleksionskoefficienten for læselaserstrålen, fig. 14 et partielt forstørret skematisk, perspektivisk billede af overfladen af det lystransmitterende substrat 20 i det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse efter optisk registrering, og fig. 15(a) og 15(b) grafer til illustration af forholdet mellem den bevægede afstand af en spids eller et prøvele-25 gerne langs banen og højden af hullet eller et fremspring, når overfladen af det transparente substrat i fig. 14 blev observeret ved hjælp af STM (Skanderende Tunnelerende Mikroskop).

30 Fig. 1-11 illustrerer skematisk forskellige strukturer for det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen. I disse figurer indikerer henvisningsbetegnelsen 1 et lystransmitterende substrat, 2 betegner et lysabsorberende lag, der overlejrer substratet, og hen- DK 174110 B1 9 visningsbetegnelsen 3 indikerer et lysreflekterende lag, der overlejrer det lysabsorberende lag. Henvisningsbetegnelsen 4 indikerer et beskyttelseslag.

5 Det lystransmitterende substrat 1 er fremstillet af et materiale, som har en høj gennemtrængelighed for laserstråler og er almindeligvis fremstillet af et resin med en udmærket styrke, såsom en polycarbonat, et acrylatre-sin eller en epoxyresin. Imidlertid kan substratet være 10 fremstillet af et hvilket som helst andet materiale, når blot det er gennemtrængelig for skrive- og læselaserstrå-ler, og når i det mindste overfladelaget nærliggende det lysabsorberende lag kan deformeres af den energi, som er genereret af det lysabsorberende lag ved absorption af 15 skrivelaserstrålen, for således at danne optisk læsbare huller. Med henblik herpå har substratet eller i det mindste dets overfladelag fortrinsvis en varmedistorsi-onstemperatur inden for et område fra 85°C til 200°C, og navnlig fra 90°C til 150°C, således som målt ifølge ASTM 20 D648 under en belastning på 4,6 kg/cmz og/eller en Rock well hårdhed inden for et område fra M200 til M75, fortrinsvis fra M105 til M80, således som målt i overensstemmelse med ASTM D785. Når substratets var-medistorsionstemperatur eller Rockwell hårdheden er inden 25 for ovennævnte område, kan den energi, som genereres af det lysabsorberende lag 2 under absorptionen af skrivela serstrålen, effektivt absorberes ved den lokale deformation af substratet l’s overfladelag, således at der ikke optræder nogen spændinger af betydning i de dannede hul- 30 ler, hvorved stabiliteten af de registrerede data vil væ re sikret. Hvis varmedistorsionstemperaturen eller hårdheden er for lav, vil de dannede huller have en tendens til let at blive deformeret af varme eller en ydre kraft, hvorved stabiliteten vil blive ringe. Hvis varmedistor-35 sionstemperaturen eller hårdheden på den anden side er 10 DK 174110 B1 for høj, vil den energi, som er genereret af det lysabsorberende lag 2, kun med besvær kunne absorberes i form af en deformation af substratet 1, og det er vanskeligt at danne distinkte huller 5, hvorved det vil blive van-5 skeligt at opnå udlæsningssignaler med en høj module-ringsgrad.

Tykkelse af substratet 1 er ikke kritisk, men den er almindeligvis inden for et område fra 1,1 til 1,5 mm.

10

Det lysabsorberende lag 2 er et lag, som absorberer en laserstråle, der trænger gennem det lystransmitterende substrat 1, hvorefter det genererer varme og samtidig undergår en smeltning, fordampning, sublimering, reaktion, 15 dekomposition eller modifikation. Det er almindeligvis dannet ved, at spin coate et farvestof, såsom et cyanin-farvestof på substratet 1 eller på et mellemlag 6, der er dannet på substratet 1.

20 Tykkelsen af det lysabsorberende lag 2 er almindeligvis inden for et område fra 20 til 500 nm, fortrinsvis fra 100 til 300 nm.

Det lysreflekterende lag 3 er almindeligvis fremstillet 25 af et metal, såsom guld, sølv, kobber, aluminium eller en legering deraf. Tykkelsen af det lysreflekterende lag 3 er almindeligvis inden for et område fra 30 til 150 nm, fortrinsvis fra 40 til 130 nm.

30 Beskyttelseslaget 4 er fremstillet af et resin med udmærket modstand mod slagpåvirkning ligesom det lystransmitterende substrat 1 og er mest almindeligt dannet med en overfladebelægning af en ultraviolet hærdbar resin ved spin coating efterfulgt af en bestråling med ultra-35 violette stråler med henblik på hærdningen. Andre materialer, som for eksempel et epoxyresin, et acrylatresin og DK 174110 B1 11 et hårdt lag silikoneresin, kan normalt anvendes. Det er også muligt at anvende et eftergiveligt materiale, såsom et urethanresin, for at opnå en pudeeffekt.

5 Tykkelsen af beskyttelseslaget 4 er ikke kritisk og er almindeligvis inden for et område fra 3 til 30 pm, fortrinsvis fra 5 til 15|im.

Således som vist i fig. 4-7, kan et mellemlag 6, såsom et 10 resinlag eller et lag, der er modstandsdygtigt overfor opløsningsmidler, være anbragt mellem substratet 1 og det lysabsorberende lag. Således som vist i fig. 5 og 7, deformeres et sådan mellemlag 6 af den energi, som er frembragt af det lysabsorberende lag 2 under absorptionen af 15 skrivelaserstrålen for at danne optisk modificerede huller 5. Hvis et sådant mellemlag 6 er tilstrækkeligt tykt, vil huller 5 blive dannet deri, således som vist i fig.

5, hvorved mellemlaget fungerer som substratet l's overfladelag. Hvis mellemlaget 6 er relativt tyndt, det 20 vil sige har en tykkelse på højst 30 nm, vil ikke alene mellemlaget 6 men også substratet 1 blive deformeret, således som vist i fig. 7. Når et sådant mellemlag 6 ikke er tilstede, vil substratet l's overfladelag blive deformeret, således som vist i fig. 3 for dannelse af optisk 25 modificerede huller 5.

Mellemlaget 6 har fortrinsvis en varmedistorsionstempera-tur inden for et område fra 50°c til 150°C, fortrinsvis fra 85°C til 140°C, således som målt ifølge ASTM D648 ved 30 en belastning på 4,6 kg/cm2 og/eller en Rockwell hårdhed inden for et område fra M100 til M50, navnlig fra M95 til M75, således som målt ifølge ASTM D785. Mellemlaget 6's varmedistorsionstemperatur og Rockwell hårdhed inden for ovennævnte områder foretrækkes af samme grunde, som nævnt 35 i forbindelse med varmedistorsionstemperaturen og Rock- 12 DK 174110 B1 well hårdheden for substratet 1. Mellemlaget 6 kan være fremstillet af et resin, såsom et acrylatresin, et vinyl-chloridresin, et vinylidenchloridresin, et polystyrenre-sin, et polyesterresin, et polyurethanresin, et cellulo-5 seresin eller et silikoneresin. Imidlertid kan et hvilket som helst andet resin benyttes, når blot det opfylder ovennævnte egenskaber for mellemlaget 6.

Tykkelsen af mellemlaget er almindeligvis inden for et 10 område fra 2 nm til 500 μιη, navnlig fra 10 til 200 nm.

Endvidere kan et hårdt lag 16, der kun er varmede formerbart med mere besvær end substratet, være anbragt mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekteréride lag 3, 15 således som vist i fig. 8 og 9, eller på det lysreflekterende lag 3, således som vist i fig. 10 og 11. Det hårde lag 16 er fremstillet af et materiale, der er varmedefor-merbar med mere besvær end substratet og fortrinsvis har en Rockwell hårdhed på mindst M100, således som målt 20 ifølge ASTM D785 og/eller en varmedistorsionstemperatur på mindst 100°C, navnlig mindst 130°C, således som målt ifølge ASTM D648 ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

Hver af fig. 2,4,6,8, og 10 illustrerer en tilstand forud 25 for optisk registrering ved hjælp af en laserstråle. Hver af fig. 3,5,7,9 og 11 illustrerer en tilstand efter den optiske registrering. Når en laserstråle 7 fra en optisk pick-up 8 i fokuseret tilstand stråler på det lysabsorberede lag 2, vil substratet l's overfladelag lokalt defor-30 meres af den energi, som er dannet ved det lysabsorberende lag 2, for at danne optisk modificerede huller 5, således som skematisk illustreret i disse figurer.

I det optiske informationsregistreringsmedium ifølge op-35 findelsen foretrækkes det, at en optisk parameter repræ- DK 174110 B1 13 senteret ved p = nabSdafcsA, hvor nat)S er den reale del af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag, dabs er tykkelsen af det lysabsorberende lag, og λ er bølgelængden for læselaserstrålen, hvor 0,05 £ p ^ 5 0,06, og hvor den imaginære del katøs af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag højst er 0,3.

Fig. 12 er en graf, som illustrerer forholdet mellem den optiske parameter p = nabsdabs//^' hvor nabs er den reale del af det sammensatte brydningsindeks for den optiske 10 skives lysabsorberende lag 2, da^s er tykkelsen af det lysabsorberende lag 2, og λ er bølgelængden for læselaserstrålen og refleksionskoefficienten for lys, der er trængt gennem substratet, når en halvleder laserstråle med en bølgelængde λ på 780 nm blev anvendt som læsela-15 serstrålen, hvilken graf illustrerer to eksempler for den optiske skive. Endvidere illustrerer fig. 13 refleksionskoefficienten, når den imaginære del kaj3S blev ændret fra en værdi nær ved 0 til en værdi på 2,0 ved at ændre lystransmissionskoefficienten for det lysabsorberende 20 lag, medens den reale del af det sammensatte brydningsindeks blev fastholdt på et konstant niveau med n^g = 2,4 i forhold til en optisk skive, hvor der blev anvendt en guldfilm, som det lysreflekterende lag. Fra disse figurer fremgår det tydeligt, at når den optiske parameter p = 25 nabs^abs^^ imaginære del kaks tilfredsstiller ovennævnte betingelser, så kan en høj refleksionskoefficient opnås, hvorved det på let måde er muligt at sikre de standardegenskaber, som er fastsat i CD standarderne, for eksempel en refleksionskoefficient på mindst 70%.

30

Fig. 14 illustrerer skematisk overfladen af det lystransmitterende substrat 1 i det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen med beskyttelses- 14 DK 174110 B1 laget 4, det lysreflekterende lag 3 og det lysabsorberende lag 2 fjernet efter optisk registrering. For at danne huller 5 langs en præformet rille 9, som er en sporingsstyrerille, der er dannet på overfladen af substratet, 5 blev en fokuseret laserstråle moduleret ved hjælp af EFM signaler benyttet til at bestråle det lysabsorberende lag 2 langs den præformede rille 9, og derefter blev beskyttelseslaget 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet fra substratet 1. Derefter blev også det lysabsorbe-10 rende lag 2 fjernet fra overfladen af substratet 1.

Endvidere blev overfladen af det lystransmitterende substrat 1 observeret langs den præformede rille 9 ved hjælp af STM (Scanderende Tunnelerende Mikroskop). Resultaterne 15 er illustreret i fig. 15(a) og 15(b). I disse figurer indikerer abscissen den bevægede afstand af en spids (et prøvelegeme) 10 langs den præformede rille 9, det vil sige i sporingsretningen, og ordinaten indikerer højden af substratet l's overflade. Fig. 15(a) illustrerer et til-20 fælde, hvor længden af et hul er relativt kort med et niveau på 10.000 Å, hvorved det er tydeligt, at en distinkt deformation i form af et fremspring med en højde på ca.

200 Å er dannet. Fig. 15(b) illustrerer ligeledes et tilfælde, hvor længden af et hul er relativ lang med et ni-25 veau på 40.000 Å, hvorved en deformation i form af et fremspring med en højde på ca. 200 Å observeres, men fremspringet har to spidsværdier med en lidt lavere del ved midten. I en foretrukket udførelsesform er de optiske læsbare huller således dannet i den præformede rille 9, 30 der som en sporingsstyrerille er dannet på substratet l's deformerbare overfladelag.

I det optiske informationsregistreringsmedium ifølge opfindelsen er et lag, som befinder sig bag det lysabsorbe-35 rende lag 2 i forhold til det lystransmitterende lag 1, såsom det lysreflekterende lag 3 eller beskyttelseslaget DK 174110 B1 15 4, fortrinsvis fremstillet af et materiale, der har en varmedistorsionstemperatur og en hårdhed, der er større end for det lag, hvori hullerne 5 er dannet. ..Ved at fremstille laget bag det absorberende lag 2 af et hårdt mate-5 riale, kan de registrerede signalers blokfejlhyppighed effektivt reduceres, hvorved det på let måde er muligt at opfylde standardkravene til BLER (blokfejlhyppighed), som ikke må være større end 3 x lCT^, således som foreskrevet i CD standarderne.

10

Den foreliggende opfindelse vil nu blive beskrevet mere detaljeret under henvisning til de efterfølgende eksempler. Det bemærkes imidlertid, at den foreliggende opfindelse på ingen måde er begrænset til sådanne specifikke 15 eksempler.

EKSEMPEL 1.

Et polycarbonatsubstrat 1, der har en tykkelse på 1,2 mm 20 og en yderdiameter på 12 0 mm samt en inderdiameter på 15 mm og med en spiralformet præformet rille dannet på sin overflade med en bredde på 0,8 μπι, en dybde på 0,08 μπι og en stigning på 1,6 μιη, blev dannet ved sprøjtestøbning. Dette polycarbonatsubstrat 1 havde en Rockwell hårdhed 25 (ASTM D785) på M75, hvilket svarer til pencilhårdheden HB og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 121°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

Et organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende 30 lag 2 blev dannet af 0,65 g 1,1’-dibutyl-3,3,3',3'-tetramethyl-4,5,4',5'-dibenzoedodicarbocyaninperchlorat (produkt nr. NK3219, fremstillet af Nippon Kanko Shikiso Kenkyusho) opløst i 10 ml diacetonealkoholopløsningsmid-del, og opløsningen blev belagt på overfladen af substra-35 tet 1 ved spincoating for at danne et lysabsorberende lag 16 DK 174110 B1 2 af en lysfølsom farvestof film med en tykkelse på 130 nm. Den optiske parameter p = naksdabsA, hvor nabs er de reale del af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag, dabs 5 er tykkelsen af laget, og λ er bølgelængden for læsela-sérstrålen, var 0,45 og den imaginære del kaks af det sammensatte brydningsindeks var 0,05.

En guldfilm med en tykkelse på 80 nm blev derefter dannet 10 ved katodeforstøvning på hele overfladen af det område, som er dækket af diameteren fra 45 til 118 mm af skiven for at danne et lysreflekterende lag 3. Endvidere blev der på dette lysreflekterende lag 3 spincoated et ultraviolet hærdbart resin, som derefter blev hærdet ved be-15 stråling med ultraviolette stråler for dannelse af et beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 10 μιτι. Efter hærdningen havde beskyttelseslaget 4 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

20

Den således tilvejebragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaser med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s med en registreringseffekt på 6,0 mW for at registrere EFM-signaler. Derefter blev den 25 optiske skive afspillet på en kommerciel tilgængelig CD-spiller (Aurex XR-V73, med bølgelængde λ = 780 nm for læ-selaserstrålen), hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen var 72%, Ιχι/ltop var °'68' I3/<Itop var 0,35 og blokfejlhyppigheden BLER var 1,2 x 10“^.

30 CD-standarderne foreskriver, at refleksionskoefficienten er mindst 70%, at ^n/itop er mindst 0,6, at I3/It0p er fra 0,3 til 0,7, og at blokfejlhyppigheden BLER ikke er DK 174110 B1 17 større end 3 x 10”^. Den optiske skive ifølge dette eksempel opfylder disse standarder.

Efter registreringen blev den optiske skives beskyttel-5 seslag 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet, og den blotlagte overflade af det lysabsorberende lag 2 blev inspiceret, hvorved der blev observeret lineære fine uregelmæssigheder, som fremtrådte med et ydre profil i form af huller. Endvidere blev det lysabsorberende lag 2 afva-10 sket med et opløsningsmiddel, og substratet l’s overflade blev inspiceret, hvorved der blev observeret dannelse af optisk modificerede huller 5.

Den lagdelte struktur af den optiske skive er skematisk 15 illustreret i fig. 2, og samme struktur efter den optiske registrering er skematisk illustreret i fig. 3.

EKSEMPEL 2.

20 En optisk skive blev frembragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af en epoxyresin blev spin-coated for at dannet et hårdt lag med en tykkelse på 100 nm mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 i eksempel 1. Efter hærdningen havde denne 25 epoxyresin en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

På den således frembragte optiske skive blev der regi-30 streret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev denne optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved refleksionskoefficienten af halvlederlaserstrålen og læ-sesignaloutputtes karakteristika blev de samme som i ek- 35 sempel 1 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,0 x 10"^.

18 DK 174110 B1

Overfladen af den optiske skives substrat 1 blev efter registreringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelse af hullerne 5.

5 EKSEMPEL 3.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at der mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3 i ek-10 sempel 1 var dannet et hårdt lag af et siliko-neacrylatresin med en tykkelse på 100 nm ved spin-coating på det lysabsorberende lag 2, og et bindelag af et epoxy-resin med en tykkelse på 20 nm blev dannet ved spin-coating på oversiden af dette hårde lag. Efter hærdning 15 havde silikoneacrylatresinlaget en Rockwell hårdhed (ASTM D7 85) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM

D648) på 100°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

På den således frembragte optiske skive blev EEM-signaler 20 registreret med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller (Aurex XR-V73), som blev benyttet i eksempel 1 med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm, hvorved reflek-25 sionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 75%, In/Itop var 13/Itop var °/35 °9 blokfejl hyppigheden BLER var 2,5 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 1 for 30 at bekræfte dannelse af huller 5.

DK 174110 B1 19 EKSEMPEL 4,

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at en film eller en 5 legering af guld og antimon i et forhold på 9:1 ved dannet ved vakuumdampaflej ring som et lysreflekterende lag 3 på det lysabsorberende lag 2, og på dette reflekterende lag 3 blev der dannet et beskyttelseslag 4 af et ultraviolet hærdbart resin med et bindelag af et epoxyresin med 10 en tykkelse på 20 nm indskudt derimellem. Ovennævnte lysreflekterende lag 3 havde en hårdhed mindst svarende til pencilhårdheden H.

På den således frembragte optiske skive blev der regi-15 streret EFM-signaler med en registreringseffekt på 6,2 mW på samme måde som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt 20 til 72%, In/Itop var °*62, 13/Itop var °/32 og blokfejl-.

hyppigheden BLER var 3,5 x 10”^. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

25 EKSEMPEL 5.

En optisk skive blev frembragt på samme måde som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af, at et hårdt lag af 30 ultraviolet hærdbart resin blev spin-coated på siden for indfaldende lys af polycarbonatsubstratet 1 for at danne et substratbeskyttelseslag med en tykkelse på 1 Jim, det lysabsorberende lag 2 blev dannet på den side, der var forsynet med en præformede rille, og på dette lysabsorbe-35 rende lag 2 blev der dannet en film af en legering af 20 DK 174110 B1 guld og iridium i et forhold på 3:1 ved katodeforstøvning som et lysreflekterende lag 3. Det lysreflekterende lag 3 havde en hårdhed mindst svarende til pencilhårdheden 5H.

5 På den således frembragte optiske skive blev EFM-signaler registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet på samme CD-spiller, som blev anvendt i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt 10 til 70%, In/Itop var 0/62, 13/Itop var °'37 °9 blokfej 1- hyppigheden BLER var 3,5 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

15 EKSEMPEL 6.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at det lysreflek-20 terende lag 3 var dannet af et sølvlag med en tykkelse på 60 nm og et hårdt lag af et silikonemiddel blev spin-coated derpå, opvarmet og hærdet for at danne et hårdt beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 0,3 μκι. Beskyttelseslaget 4 havde en hårdhed mindst svarende til pencil-25 hårdheden HB.

På den således frembragte optiske skive blev EFM-signaler registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af 30 samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, ϊχχ/Ι^ορ var 0,63, ^/^top var 6,35 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,8 x 10“3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter regi- DK 174110 B1 21 steringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 7.

5

En optisk skive blev frembragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at et epoxyresin med inkorporeret polysulfid var tyndet med diglycidylæter blev spin-coated for dannelse af et bindelag på 30 nm på 10 det lysreflekterende lag 3, som var dannet ved vakuum-dampaflej ring af en guldfilm med en tykkelse på 50 nm, og et hårdt lag af et silikonemiddel blev spin-coated på bindelaget, opvarmet og hærdet for dannelse af et hårdt beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 0,3 μιη.

15 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 20 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaser strålen blev bestemt til 72%, Ιιχ/Itop var °'65, *3/*top" var 0,35 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,5 x 10“^. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter registeringen inspiceret på samme måde som beskre-25 vet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

22 DK 174110 B1 EKSEMPEL 8.

En optisk skive blev frembragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 1, med undtagelse af at det lysabsorberen-5 de lag blev dannet ved anvendelse af 1,1'-dibutyl-3, 3, 3' , 3'-tetramethyl-5,5'-diethoxyindodicarbocyaninperc-hlorat, et hårdt lag af et epoxyresin med en tykkelse på 100 nm blev dannet på det lysreflekterende lag 3, et ultraviolet hærdbart resin blev dannet derpå i en tykkelse 10 på 10 Mm, og derefter blev beskyttelseslaget 4 dannet.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 1. Derefter blev denne optiske skive afspillet af 15 den samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, In/Itop var °'68' I3//Itop var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 8,3 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 1 efter 20 registeringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 1 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 9.

25 på overfladen af det samme polycarbonatsubstrat 1, som blev benyttet i eksempel 1, blev et acrylatresin opløst i diisobutylketon spin-coated for at danne et mellemlag 6 med en tykkelse på 40 nm. Mellemlaget 6 havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M85,og en varmedistorsions-30 temperatur (ASTM D648) på 100°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

Som organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag 2 blev 0,6 g 1,11-dipropyl-3,3,3’,3’-tetramethyl-35 5,5’-dimethoxyindodicarbocyaniniodid opløst i 10 ml af et DK 174110 B1 23 isopropylalkoholopløsningsmiddel. Opløsningen blev belagt på · overfladen af ovennævnte substrat 1 ved spincoating for dannelse af et lysabsorberende lag 2 af en lysfølsom farvestoffilm med en tykkelse på 120 nm. Den optiske pa-5 rameter p = n^gd^gA, hvor nabs er den reale del af det sammensatte brydningsindeks for det lysabsorberende lag 2, daks er tykkelsen af laget, og λ er bølgelængden for læsela-serstrålen, var 0,41, og den imaginære del k^g af det 10 sammensatte brydningsindeks var 0,02.

Derefter blev et silikoneacrylatresin opløst i cyclohexan spin-coated derpå for dannelse af et silikoneacrylatre-sinlag med en tykkelse på 100 nm, en pencilhårdhed på 2H, 15 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 120°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2. Derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning for dannelse af et lysreflekterende lag 3. Derefter blev et ultraviolet hærdbart resin spin-coated på det lysreflek-20 terende lag 3 og hærdet ved bestråling med ultraviolette stråler for dannelse af et beskyttende lag 4 med en tykkelse på 10 pm. Efter hærdning havde beskyttelseslaget 4 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90, en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C ved en belastning på 25 4, 6 kg/cm2.

Den således optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm, og med en lineær hastighed på 1,2 m/s og med registreringseffekt på 30 7,5 mW for at registrere EFM-signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 1, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, 24 DK 174110 B1

Ill/Itop var 0/62, I^/I^Qp var 0,31 og blokfejlhyppigheden BLER var 4,0 x 10-3.

Endvidere blev den optiske skives beskyttelseslag 4 og 5 det lysreflekterende lag 3 efter registreringen skrallet af, og det lysabsorberende lag 2 blev afvasket med et opløsningsmiddel, og overfladen af mellemlaget blev inspiceret for at bekræfte dannelsen af huller 5.

10 EKSEMPEL 10.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 med undtagelse af, at et silokonebe-lægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at 15 danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 pm, og det lysabsorberende lag 2 blev dannet derpå.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,8 mW 20 på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 73%, In/Itop var 0/62, 13/Itop var 0,31 og blokfejl- 25 hyppigheden BLER var 3,4 x 10“3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

30 EKSEMPEL 11.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af at, et glassubstrat blev benyttet som substratet 1, og et isocyanatre- DK 174110 B1 25 sin opløst i en opløsningsmiddelblanding af toluen og methylethylketon i et forhold på 1:1 blev spin-coated på det reflektive lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 ran.

5 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,2 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-10 spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Ιιχ/Itop var 0/65, 13/Itop var °'33 °9 blokfej 1- hyppigheden BLER var 3,6 x 10”^. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter re-15 gistreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 12.

20 En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som be-; skrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 |im, og det lysabsorberende lag 2 blev dannet derpå, og polybutadien 25 blev spin-coated på det reflekterende lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,2 mW 30 på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Ιχι/Itop var °/66' I3/Itop var °'35 og blokfejl- 26 DK 174110 B1 hyppigheden BLER var 3,5 x 10”^. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

5 EKSEMPEL 13.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at tykkelsen af 10 mellemlaget 6 blev ændret til 20 nm, og intet siliko-nacrylatresinlag var tilvejebragt, og en film af en legering af iridium og guld i et forhold på 1:9 blev dannet ved katodeforstøvning som det reflekterende lag 3. Legeringslaget havde en pencilhårdhed på 2H.

15 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-20 spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, In/Itop var 0/63, 13/Itop var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,3 x 10~^. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter re-25 gistreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5. Hullerne 5 var udstrakt til overfladen af substratet, da mellemlaget 6's tykkelse var meget ringe.

30 Den lagdelte struktur af denne optiske skive er skematisk illustreret i fig. 6, og samme struktur efter optisk registrering er skematisk illustreret i fig. 7.

DK 174110 B1 27 EKSEMPEL 14.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at et silikone-5 belægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 μιη, det lysabsorberende lag 2 var dannet derpå, intet silikone-acrylatresinlag blev dannet, og en film af en legering af iridium og guld i et forhold på 1:9 blev ved katodefor-10 støvning dannet som det reflekterende lag 3.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,8 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev 15 den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD- spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, Iii/I^op var 0,64, 13/Itop var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,8 x 10”3. Endvidere blev overfla-20 den af den optiske skives mellemlag 6 efter re gistreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 15.

25

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at intet siliko-neacrylatresinlag blev dannet, en film af en legering af iridium og guld i et forhold på 1:9 blev dannet som det 30 reflekterende lag 3 ved katodeforstøvning, og polyisopren blev spin-coated på det lysreflekterende lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 nm, og beskyttelseslaget 4 af et ultraviolet hærdbart resin blev dannet derpå.

28 DK 174110 B1 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,4 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet på samme CD-spiller, som blev 5 benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Ii]_/ltop

var 0,64, 13/Itop var °'32 °9 blokfejlhyppigheden BLER

var 4,1 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter registreringen inspiceret på 10 samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 16.

15 En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at intet siliko-neacrylatresinlag blev dannet, en kobberfilm med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det reflekterende lag 3, og et hærdbart bisphenolepoxyresin fortyndet i et digly-20 cidylæteropløsningsmiddel blev spin-coated for dannelse af et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 Mm som beskyttelseslaget 4. Beskyttelseslaget havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M110, og havde således en funktion som et hårdt lag.

25 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,0 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-30 spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 75%, I22/1top var 13/Itop var °/33 °9 blokfejl hyppigheden BLER var 2,9 x 10-3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter re- DK 174110 B1 29 gistreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 17.

5

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 for at danne et silikatlag med en tykkelse på 0,01 μιη, det ly-10 sabsorberende lag 2 blev dannet derpå, intet silikone-acrylatresinlag blev dannet, en kobberfilm med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det lysreflekterende lag 3, og et hærdbart bisphenolepoxyresin fortyndet i et digly-cidylæteropløsningsmiddel blev spin-coated for dannelse 15 af et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 μη som beskyttelseslaget 4.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler med en registreringseffekt på 7,0 mW 20 på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev,., den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD- spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, Iji/Itop var °'64' I3/Itop var °'33 °9 blokfejl- 25 hyppigheden BLER var 3,5 x 10"3. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter re gistreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

30 EKSEMPEL 18.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 9, med undtagelse af, at intet siliko-neacrylatlag blev dannet, en kobberfilm med en tykkelse 35 på 50 nm blev dannet ved vakuumdampaf lej ring som det lys- 30 DK 174110 B1 reflekterende lag 3, et polyvinylacetatresin opløst i en opløsningsmiddelblanding af toluen og methylethylketon i et forhold på 6:4 blev spin-coated på det lysreflekterende lag for at danne et bindelag med en tykkelse på 20 nm, 5 beskyttelseslaget 4 blev dannet derpå, og en bispheno-leopxyresin af hærdbar type fortyndet med digly-cidylæteropløsningsmiddel blev spin-coated for dannelse af et epoxyresinlag med en tykkelse på 10 μη som beskyttelseslaget 4.

10 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EEM-signaler med en registreringseffekt på 7,4 mW på samme måde, som beskrevet i eksempel 9. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-15 spiller, som blev benyttet i eksempel 9, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, in/ltop var 0/64, ^/I^p var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,6 x 10"^. Endvidere blev overfladen af den optiske skives mellemlag 6 efter re-20 gistreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 9 for at bekræfte dannelsen af huller 5.

EKSEMPEL 19.

25 En polycarbonatskive (Panlite, handelsnavn, fremstillet af Tenjin Kasei K.K.) med en tykkelse på 1,2 mm, en yderdiameter på 120 mm, og en inderdiameter på 15 mm og med en spiralformet præformet rille 9, der havde en bredde på 0,8 μιη, en dybde på 0,08 μτη og en stigning på 1,6 Mm i et 30 område dækket af diameteren fra 46 til 117 mm på skiven, og dannet ved sprøjtestøbning, blev benyttet som det lystransmitterende substrat 1. Dette polycarbonatsubstrat 1 havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en var-medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C ved en be-35 lastning på 4,6 kg/cm2. Et organisk farvestof til dan- DK 174110 B1 31 nelse af det lysabsorberende lag 2 blev frembragt af 0,65 g af 1,11-dibutyl-3,3,3',3'-tetramethyl-4,5,4 *,5’-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat (produkt nr. NK3219, fremstillet af Nippon Kanko Shikiso K.K.), som var opløst 5 i 10 ml af et diacetonealkoholopløsningsmiddel. Denne opløsning blev ved spin-coating belagt på overfladen af substratet 1 for dannelse af det lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm.

10 Derefter blev en sølvfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning over hele overfladen af et område dækket af diameteren fra 45 til 118 mm af skiven, for således at danne det lysreflekterende lag 3. På det lys- , reflekterende lag 3 blev der derefter spin-coated et ul-15 traviolet hærdbart resin, som blev hærdet ved bestråling med ultraviolette stråler for dannelse af et beskyttelseslag 4 med en tykkelse på 10 μιη. Efter hærdningen af det med ultraviolette stråler hærdbare resin havde beskyttelseslaget 4 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 20 og en varmedistorsions.temperatur (ASTM D648) på 150°C ved, en belastning på 4,6 kg/cm2.

Den således frembragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved 25 en lineær hastighed på 1,2 m/s med en registreringseffekt på 6,0 mW for registrering af EFM-signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af en kommercielt tilgængelig CD-spiller (Aurex XR-V73, bølgelængde for læ- selaserstrålen λ = 780 nm), hvorved Ii]/Itop' som blev 30 opnået fra øje mønsteret af udlæsningssignalerne, var 0,63, og 13/Itop var O/32· 32 DK 174110 B1 CD-standarderne foreskriver, at In/^top er mindst 6 og I3/Itop er fra 0,3 til 0,7. Således opfylder den optiske skive ifølge dette eksempel standarderne.

5 Endvidere blev den optiske skive beskyttelseslag 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet efter registreringen, og overfladen af det lysabsorberende lag 2 blev inspiceret, hvorved der blev observeret lineære fine uregelmæssigheder, der fremtrådte på en sådan måde, at de re-10 præsenterede grundprofilet for huller. Endvidere blev det lysabsorberende lag 2 afvasket med et opløsningsmiddel, og substratet l's overflade blev inspiceret, hvorved optisk modificerede huller 5 i form af fremspring blev observeret .

15 EKSEMPEL 20.

En optisk skive blev fremstillet på samme måde, som beskrevet i eksempel 19, med undtagelse af, at der som det 20 lystransmitterende substrat 1 blev benytte en polycarbo-natskive (Iupilon, handelsnavn, fremstillet af Mitsubishi Gas Kagaku K.K.) med en tykkelse på 1,2 mm, en yderdiameter på 120 mm, en inderdiameter på 15 mm og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstempera- 25 tur (ASTM D648) på 132°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og med en spiralformet præformet hul 8 for signaler med CD-format dannet med en bredde på 0,6 pm, en dybde på 0,8 μπ\ og en stigning på 1,6 μιη. i et diameterområde fra 4 6 til 80 mm af skiven og den spiralformede præformede rille 30 9, der er dannet udefter i forhold dertil med en bredde på 0,8 μιη og en dybde på 0,08 μη og en stigning på 1,6 |im i et diameterområde fra 80 til 117 mm på skiven, der blev dannet ved sprøjtestøbning, og som blev benyttet som det lystransmitterende substrat 1, en guldfilra blev benyttet DK 174110 B1 33 som det lysreflekterende lag 3, og et epoxyresinlag med en tykkelse på 2 μια blev dannet ved spin-coating mellem det lysreflekterende lag 3 og beskyttelseslaget 4, som er fremstillet af det ultraviolet hærdbare resin. Epoxyre-5 sinlaget havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 140°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2. Det indre diameterområde fra 46 til 80 mm af denne optiske skive er et såkaldt ROM-(læselager)-område, og det ydre diameterområde fra 80 til 10 117 mm er et registrerbart område.

På det registrerbare område af den således frembragte op- . tiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 19. Derefter blev den op-15 tiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved In/Itop var °'62 og I3/Itop var °'32·

Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 20 1 efter registrering inspiceret på samme måde, som be skrevet i eksempel 19 for at bekræfte dannelse af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 21.

25

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 19, med undtagelse af, at der som det lystransmitterende substrat 1 blev benyttet en polystyrenskive med en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M80 og en 30 varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 89°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2, den præformede rille på skiven blev udsat for webling på 22,11 kHz med en amplitude på 30 nm, et silikoneacrylatresinlag med en tykkelse på 40 nm blev dannet ved spin-coating mellem det lysabsorberen-35 de lag 2 og det lysreflekterende lag 3 og et epoxy- 34 DK 174110 B1

resinlag med en tykkelse på 10 nm blev dannet ved spin-coating mellem dette lag og det lysabsorberende lag og en guldfilm blev dannet som det lysreflekterende lag 3. Si-likoneacrylatreseinlaget havde en Rockwell hårdhed (ASTM 5 D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM

D648) på 200°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i ek-10 sempel 19. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved IU/Itop var °'63 °9 I3/Itop var °'33·

Endvidere blev overfladen af den optiske skives substrat 15 1 efter registreringen inspiceret på samme måde, som be skrevet i eksempel 19 for at konstatere dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 22.

20

Som lystransmitterende substrat 1 blev der anvendt samme polycarbonatskive, som i eksempel 19.

På dette lystransmitterende substrat 1 blev et acrylatre-25 sin spin-coated for at danne et mellemlag med en tykkelse på 70 nm. Derefter blev et organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberende lag 2 på 0,65 g 1,1 ’-dipropyl-3,3,3’,3'-tetramethyl-5,5'-dimethoxyindodicarbocyaninio-did opløst i 10 ml diacetonealkoholopløsningsmiddel, og 30 opløsningen blev påført ved spin-coating på mellemlaget 6 på substratet 1 for dannelse af et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 90 nm. Mellemlaget 6 havde en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 100°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på 35 M85.

DK 174110 B1 35

Derefter blev et silikoneacrylatresin dannet ved spin-coating i en tykkelse på 50 nm på ovennævnte lysabsorberende lag 2. Derefter blev en guldfilra med en tykkelse på 5 50 nm dannet ved katodeforstøvning på hele overfladen af et område med en diameter fra 45 til 118 mm af skiven for dannelse af det lysreflekterende lag 3. Endvidere blev et ultraviolet hærdbart resin spin-coated på det lysreflekterende lag 3 og hærdet ved bestråling med ultraviolette 10 stråler til dannelse af et beskyttende lag 4 med en tykkelse på 10 μπι.

Den således frembragte optiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved 15 en lineær hastighed på 1,2 m/s med en registreringseffekt på 6,0 mW for registrering af EFM-signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller (Aurex XR-V73, med bølgelængde for læselaserstrålen λ = 780 nm), hvorved Ιιχ/Itop tilve-20 jebragt fra udlæsningssignalernes øjemønster var 0,63 og I3/Itop var °'32· CD-s tandarderne foreskriver, at iii/itop mindst er 0,6 og 13/Itop er fra °'3 til 0,7. Således vil den optiske skive 25 ifølge dette eksempel tilfredsstille standarderne.

Derefter blev denne optiske skives beskyttelseslag 4, det lysreflekterende lag 3 og det lysabsorberende lag 2 afskrællet efter registreringen, og mellemlaget 6’s over-30 flade blev inspiceret, hvorved dannelsen af optiske modificerede huller 5 i form af fremspring blev bekræftet.

DK 174110 B1 36 EKSEMPEL 23.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 5 6 blev dannet af en vinylchloridcopolymer med en varme- distorsionstemperatur (ASTM D648) på 80°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M95 i en tykkelse på 60 nm.

10 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved

Ill/Itop var °'66 °9 I3/Itop var °'35· 15

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22 for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

20 EKSEMPEL 24.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 25 6 blev dannet af et acrylatresin med en varmedistorsions- temperatur (ASTM D648) på 90°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100, og tykkelsen af det lysabsorberende lag 2 blev ændret til 130 nm, og intet acrylresinlag blev dannet mellem det ly-30 sabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3, og endelig var det lysreflekterende lag 3 dannet af en film af en legering af guld og iridium i et forhold på 9:1.

På den således frembragte optiske skive blev der regi-35 streret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i ek- i i DK 174110 B1 37 sempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved

Ill/Itop var °'63 °9 I3/Itop var °'32* 5 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6, efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

10 EKSEMPEL 25.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af en vinylidenchloridcopolymer med en var-15 medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 66°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60 i en tykkelse på 60 nm.

På den således frembragte optiske skive blev der regi-20 streret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved

Ill/Itop var °'67 °9 I3^Itop var °'36· 25 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

30 EKSEMPEL 26.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af polystyren med en varmedeformationstem- DK 174110 B1 38 peratur (ASTM D648) på 85°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M70.

På den således frembragte optiske skive blev der regi-5 streret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Il l /1 top var 65 °9Γ j^/Itop var 10 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

15 EKSEMPEL 27.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af en polyvinylacetat med en varmedistorsi-20 onstemperatur (ASTM D648) på 55°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M70 i en tykkelse på 60 nm, og isocyanat blev spin-coated på sili-koneacrylatresinlaget i en tykkelse på 10 nm.

25 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EEM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Ill/Itop var 0,66 og 13/Itop var °,32.

30

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

35 DK 174110 B1 39 EKSEMPEL 28.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 5 6 blev dannet af en polyester med en varmedistorsionstem- peratur (ASTM D648) på 70°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M70, og til dannelse af det lysabsorberende lag 2 blev der anvendt et organisk farvestof 1,1’-dibutyl-3,3,3',31-tetramethyl-10 4,5,41,5'-dibenzoindodicarbocyaninperchlorat, endvidere var et silikoneresin påført på det lysabsorberende lag 2 i stedet for silikoneacrylatresinet, og et bis-phenolepoxyresinlag af hærdbar type blev dannet på det lysreflekterende lag 3 i en tykkelse på 20 nm.

15 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved 20 iu/Itop var 0/61 °9 I3/Itop var °'31·

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modifice-25 rede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 29.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som be-30 skrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af polyuretharesin med en varmedistorsions- temperatur (ASTM D648) på 50°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60 og i en tykkelse på 50 nm, og et silikoneresin blev spin-coated 35 på dette mellemlag 6 i en tykkelse på 15 nm for en opløs- DK 174110 B1 40 ningsmiddelmodstandsdygtig behandling, og derefter blev et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm dannet ved anvendelse af 1,1'-dibutyl-3,3,3’,3’-tetramethyl-4,5,4',5r-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat, og intet 5 silikoneacrylatresin var pålagt mellem det lysabsorberende lag 2 og det lysreflekterende lag 3, og endelig var det lysreflekterende lag 3 dannet af en film af en legering af guld og iridium i et forhold på 9:1.

10 På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Ill/Itop var °'66 0<3 I3/Itop var °'33· 15

20 EKSEMPEL 30.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 25 6 blev dannet af et polyurethanresin med en varmedistor- sionstemperatur (ASTM D648) på 50°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60, og et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på dette mellemlag 6 i en tykkelse på 15 nm for opløsningsmiddel-30 modstandsdygtig behandling, og derefter blev et lysabsorberende lag 2 dannet ved anvendelse af 1,11-dibutyl-3, 3, 3’ , 3’-tetramethyl-4,5,4’,5'-dibenzoindodicarboxyanin-perchlorat, og et silikoneresin var dannet på dette lysabsorberende lag 2 istedet for silikoneacrylatresinet, 35 et polysulfidinkorporeret epoxyresin blev påført det lys- DK 174110 B1 41 reflekterende lag 3 i en tykkelse på 20 nm, og det beskyttende lag 4 blev dannet derpå.

På den således frembragte optiske skive blev der regi-5 streret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved

Ill/Itop var °'66 °9 I3/Itop var °'33· 10 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

15 EKSEMPEL 31.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et celluloseresin med en varmedistorsi- 20 onstemperatur (ASTM D648) på 60°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100, og til dannelse af det absorberende lag 2 blev der anvendt et organisk farvestof l^'-dibutyl-S^^’^'-tetramethyl-4,5,41,5'-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat, og et sili-25 koneresin blev påført på det lysabsorberende lag 2 iste-det for silikoneacrylatresinet.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i ek-30 sempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Ill/Itop var °'65 °<? I3/Itop var °'32·

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter regi-35 streringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i ek- DK 174110 B1 42 sempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

EKSEMPEL 32.

5

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et termoplastisk urethanresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 50°C ved en be-10 lastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M30, og i en tykkelse på 50 nm, og et silikonebelægningsmiddel blev spin-coated på mellemlaget 6 i en tykkelse på 15 nm for opløsningsmiddelmodstandsdygtig behandling, og derefter blev et lysabsorberende lag 2 dan-15 net ved anvendelse af ^l'-dibutyl-S^S’^'-tetramethyl-4,5,4',5'-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat, og et sili-koneresin blev pålagt istedet for silikoneacrylatresinet.

Ill/Itop var 0,67 °9 I3/Itop var °'34· 25 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

30 EKSEMPEL 33.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et acrylresin med en varmedistorsions-35 temperatur (ASTM D648) på 70°C ved en belastning på 4,6 DK 174110 B1 43 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90, og et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm blev dannet ved anvendelse af 1,1'-dipropyl-5,7,5'/7'-dimethoxyindodicarboxyaninfluorborat som organisk farve-5 stof, og det lysreflekterende lag 3 blev dannet ved hjælp af en kobberfilm, medens beskyttelseslaget 4 blev dannet af en hård belægning af silikonemiddel i en tykkelse på 5 μιη.

Ill/Itop var °'63 °9 I3/Itop var °'32· 15

20 EKSEMPEL 34.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 25 6 blev dannet af et polyurethanresin med en varmedistor- sionstemperatur (ASTM D648) på 50°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60, endvidere blev der som organisk farvestof for det lysabsorberende lag 2 anvendt 1,11-dipropyl-5,7,5',7'-30 dimethoxyindodicarboxyaninfluorborat, og en SI02 film med en tykkelse på 30 nm blev ved katodeforstøvning dannet på det lysabsorberende lag 2, medens det reflekterende lag 3 var dannet af en kobberfilm, og et epoxyresin var spin-coated på det lysreflekterende lag 3 i en tykkelse på 20 DK 174110 B1 44 nm, medens beskyttelseslaget 4 var dannet derpå af en hård belægning af silikonemiddel i en tykkelse på 5 Jim.

Ill/,Itop var °'66 °9 * 3/* top var °'33· 10 Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter registreringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

15 EKSEMPEL 35.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at der blev benyttet en glasskive som det lystransmitterende substrat 20 1, og mellemlaget 6 blev dannet af et acrylatresin med en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 70°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90, og med en præformet rille dannet ved hjælp af en fotopolymerisationsmetode, og et lysabsorberende lag 2 25 med en tykkelse på 130 nm blev dannet ved anvendelse af 1,1'-dipropyl-5,7,5’,7'-dimethoxyindodicarboxyanin-fluorborat som et organisk farvestof, og det lysreflekterende lag 3 blev dannet af en kobberfilm, medens beskyttelseslaget 4 var dannet af en hård belægning af siliko-30 nemiddel i en tykkelse på 5 μιη.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved DK 174110 B1 45 hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Ill/,Itop var °'63 0<? I3/Itop var °'32·

Endvidere blev overfladen af mellemlaget 6 efter regi-5 streringen inspiceret på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, for at bekræfte dannelsen af optisk modificerede huller 5 i form af fremspring.

SAMMENLIGNENDE EKSEMPEL 1.

10

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 22, med undtagelse af, at mellemlaget 6 blev dannet af et silikoneresin med en varmedistorsi-onstemperatur (ASTM D648) på 180°C ved en belastning på 15 4,6 kg/cm2 og en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100.

På den således frembragte optiske skive blev der registreret EFM-signaler på samme måde, som beskrevet i eksempel 22. Derefter blev den optiske skive afspillet ved 20 hjælp af den kommercielt tilgængelige CD-spiller, hvorved Ill/Itop var °'28 °9 I3/Itop var °'05· Således vil denne skive ikke tilfredsstille CD-formatet.

25 EKSEMPEL 36.

Et polycarbonatsubstrat 1 med skiveform og med en tykkelse på 1,2 mm, en yderdiameter på 120 mm og en inderdiame-ter på 15 mm og med en spiralformet præformet rille frem-30 stillet med en bredde på 0,8 Jim, en dybde på 0,08 μπι og en stigning på 1,6 jjm inden for et diameterområde fra 46 til 117 mm på skiven, blev dannet ved sprøjtestøbning. Polycarbonatsubstratet 1 havde en Rockwell hårdhed (ASTM

DK 174110 B1 46 D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 132°C.

Som organisk farvestof til dannelse af det lysabsorberen-5 de lag blev der anvendt 0,65 g 1,l'-dibutyl-3,3,3',3'-te-tramethyl-4,5,4’,5'-dibenzoindodicarboxyaninperchlorat (produkt nr. NK3219, fremstillet af Nippon Kanko Shikiso K.K.) som var opløst i 10 ml af et diacetonealkohol-opløsningsmiddel. Opløsningen blev påført på overfladen 10 af substratet 1 ved spin-coating for dannelse af et lysabsorberende lag 2 med en tykkelse på 130 nm.

Derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet ved katodeforstøvning over hele overfladen i et diameter-15 område fra 45 til 118 mm af skiven for dannelse af et lysreflekterende lag 3. Endvidere blev et ultraviolet hærdbart resin spin-coated på det lysreflekterende lag 3 og hærdet ved bestråling med ultraviolette stråler for dannelse af beskyttelseslaget 4 med en tykkelse på 10 μιη.

20 Efter hærdningen havde beskyttelseslaget en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varme distorsionstemperatur (ASTM D648) på 150°C.

Det registrerbare område 7 af den således frembragte op-25 tiske skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s og med en registreringseffekt på 6,0 mW for registrering af EEM-signaler. Derefter blev den optiske skive afspillet ved hjælp af en kommercielt tilgængelig CD-30 spiller (Aurex XR-V73, med en bølgelængde for læselaser- strålen λ = 780 nm), hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen var registreret til 72%, Ιχι/Itop var 0,65, og 13/Itop var °'35' blokfejlhyppigheden BLER var 3,4 x 10~3.

DK 174110 B1 47 CD-standarderne foreskriver, at refleksionskoefficienten er mindst 70%, Ιχι/Itop er mindst 0,6, 13/ltop er ^ra 3 til 0,7 og blokfejlhyppigheden BLER ikke er højere end 3 5 x 10-2. Den optiske skive ifølge dette eksempel opfylder standarderne.

Derefter blev den optiske skives beskyttelseslag 4 og det lysreflekterende lag 3 afskrællet efter registreringen, 10 og det lysabsorberende lag 2 blev afvasket med et opløsningsmiddel, og overfladen af det lystransmitterende substrat 1 blev betragtet ved STM (Skanderende Tunnelerende Mikroskop), hvorved deformationer i form af fremspring blev observeret i det hulforsynede område. Endvidere blev 15 det registrerede område og det ikke-registrerede område af substratet 1 målt ved hjælp af et spektrofotometer, hvorved der i det registrerede område blev observeret andre spidsværdier end spidsværdierne for det resin, som blev observeret ved det ikke-registrerede område.

20

Dette eksempel illustrerer det tilfælde, hvor beskyttelseslaget 4 blev benyttet som et hårdt lag.

EKSEMPEL 37.

25 På et polycarbonatsubstrat (Panlite, fremstillet af Teijin Kagaku) med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, endvidere 30 blev et silikonacrylatlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som et hårdt lag 6, og et sølvlag med en tykkelse på 50 nm var dannet derpå ved vakuumdampaf lej ring som et lysreflekterende lag 3, og samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, blev dannet derpå. Ovennævnte sub-35 strat havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en DK 174110 B1 48 varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C. Endvidere havde nævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

5 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, Ii]/It0p var 0,63, 13/Itop var 10 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,5 x 10-3.

Endvidere blev overfladen af den optiske skives lystransmitterende substrat 1 efter registreringen inspiceret ved hjælp STM (Skanderende Tunnelerende Mikroskop) 15 på samme måde som beskrevet i eksempel 36, hvorved deformationen i form af fremspring blev observeret ved den hulforsynede del. Den centrale del af denne deformation var lidt lavere end de ydre dele, og deformationen 6 viste sig at have to spidsværdier, således som illustreret 20 i fig. 15 (b) .

EKSEMPEL 38.

På et polycarbonatsubstrat (Iupilon, fremstillet af Mit-25 subishi Gas Kagaku) med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, et epoxyresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som et hårdt lag 6, og en guldfilm med en tykkelse 30 på 50 nm blev dannet ved vakuumdampaflejring derpå som et lysreflekterende lag 3, og det samme beskyttelseslag 4, som blev benyttet i eksempel 36, blev dannet derpå. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 132°C. I 35 modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rock- DK 174110 B1 49 well hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsions-temperatur {ASTM D648) på 140°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme må-5 de, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Ιχι/Itop var °'62' 13/Itop var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,4 x 10“3.

10 EKSEMPEL 39.

På et polystyrensubstrat med samme form og med en præformet rille, som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som omtalt ovenfor, 15 og et acrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som et hårdt lag 6, ligesom et epoxyresin blev spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne, hvorefter en guldfilm med en tykkelse på 50 nm ved vaku-umdampaflej ring blev dannet som et lysreflekterende lag 20 3, og derpå blev der dannet samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M80 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 89°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en 25 varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 100°c.

På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrå-30 len blev bestemt til 72%, In/Itop var O'62' I3/Itop var 0,31 og blokfejlhyppigheden BLER var 7,0 x 10~3.

DK 174110 B1 50 EKSEMPEL 40.

På en polymethylmethacrylatsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et 5 lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, hvorefter et polyesterresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som et hårdt lag 6, og et guldlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaflej ring, og et 10 epoxyresin blev endvidere spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne og derpå blev samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36 dannet. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en var-medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 110°C. I modsæt-15 ning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M110 og en var- medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 115°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme må-20 de, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, Ιιχ/Itop var °'64' I3y,Itop var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 8,0 x 10-3.

25 EKSEMPEL 41.

På et polyolefinsubstrat med samme form og med en præfor-roet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i ek-30 sempel 36 ved anvendelse af 1,1T-dibutyl-3, 3,3',3’-tetramethyl-5,5’- diethoxyindodicarboxyaninperchlorat og derefter blev et silikoneacrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det hårde lag 6, og en guldlag med en tykkelse 35 på 50 nm blev dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 DK 174110 B1 51 ved vakuumdampaflej ring, og endvidere blev et epoxyresin spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne og derpå blev samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, dannet. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM 5 D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 140°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

10 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 74%, Ιχι/Itop var I3/'Itop var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,3 x 10”^.

15 EKSEMPEL 42.

På et epoxyresinsubstrat med samme form og med en præformet rille, som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsor-20 berende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1’-dibutyl-3, 3,31,3'-tetramethyl-5,5’- diethoxyindodicarboxyaninperchlorat, og et silikoneresin-lag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det hårde 25 lag 6, og en aluminiumsfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vakuumdampaflejring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3, og det samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, blev dannet derpå. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistor-30 sionstemperatur (ASTM D648} på 135°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på Ml 00 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 180°C.

DK 174110 B1 52 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 73%, In/Itop var ^,61, 13/Itop var 5 0,30 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,0 x 10-3.

EKSEMPEL 43.

På et polycarbonatsubstrat (Panlite, fremstillet af Tei-10 jin Kagaku) med samme form og med en praeformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, en sølvfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vakuumaflejring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3, et silikoneacry-15 latlag med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det hårde lag 6, og det samme beskyttelseslag 4, som omtalt i eksempel 36, blev dannet derpå. Substrat havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistor- sionstemperatur (ASTM D648) på 135°C. I modsætning hertil 20 havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme må-25 de, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, Ιχι/Itop var °/64, ^/^top var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 3,7 x 10-3.

30 EKSEMPEL 44.

På et polycarbonatsubstrat (Iupilon, fremstillet af Mitsubishi Gas Kagaku) med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorbe- DK 174110 B1 53 rende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet ovenfor, en guldfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vaku-umdampaflej ring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3, og et epoxyresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dan-5 net derpå som det hårde lag 6, der også fungerede som beskyttelseslaget. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistorsionstemperatur (ASTH D648) på 135°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en 10 varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 140°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme må- . de, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrå-15 len blev bestemt til 72%, Ιχχ/Itop var °'63' I3/Itop var 0,33 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,7 x 10“·*.

EKSEMPEL 45.

20 På et polystyrensubstrat med samme form og med en præformet rille, som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som omtalt ovenfor, en guldfilm med en tykkelse på 50 nm blev ved vakuumdamp-aflej ring dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 og 25 et acrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som det hårde lag 6, der også fungerede som et beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M80 og en varmedeformationstemperatur (ASTM D648) på 89°c. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde 30 lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 100°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, DK 174110 B1 54 hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, ^n^top var 0/63, 13/Itop var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 7,1 x 10-^ 5 EKSEMPEL 46.

På en polymethylmethacrylatsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet 10 ovenfor, og derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 nm dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved va-kuumdampaflej ring, og et epoxyresin blev spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne, og et polyester-resinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det 15 hårde lag 6, der også fungerede som et beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M100 og en varmedeformationstemperatur (ASTM D648) på 110°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D7 85) på Ml 10 og en var- 20 medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 115°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrå-25 len blev bestemt til 72%, Ιιχ/Itop var °/65/ ^^top var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 8,3 x 10“3.

EKSEMPEL 47.

30 På et polyolefinsubstrat med samme form og med en præformet rille, som beskrevet i eksempel 36, blev et lysabsorberende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1'-dibutyl- DK 174110 B1 55 3, 3,3', 3' -tetramethyl-5, 5’ - diethoxyindodicarboxyaninperchlorat, og derefter blev en guldfilm med en tykkelse på 50 run dannet derpå som det lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaflej ring, og et 5 epoxyresin blev spin-coated derpå for at forbedre bindingsegenskaberne, og et silikoneacrylatresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet derpå som det hårde lag 6, der også fungerede som beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M75 og en varmedistor-10 sionstemperatur (ASTM D648) på 140°C. I modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på Ml 00 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 200°C.

15 På denne optiske skive blev data registreret på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 71%, Ιχι/Itop var 0/21, 13/Itop var 0,34 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,4 x 10-3.

20 EKSEMPEL 48.

På et epoxyresinsubstrat med samme form og med en præformet rille, som forklaret i eksempel 36, blev et lysabsor-25 berende lag 2 dannet på samme måde, som beskrevet i eksempel 36 ved anvendelse af 1,1’-dibutyl-3, 3, 3', 3'-tetramethyl-5,5'- diethoxyindodicarboxyaninperchlorat, og derpå blev en aluminiumsfilm med en tykkelse på 50 nm dannet som det 30 lysreflekterende lag 3 ved vakuumdampaflejring, og et si-likoneresinlag med en tykkelse på 50 nm blev dannet som det hårde lag 6, der også fungerede som beskyttelseslag. Substratet havde en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M90 og en varmedistorsionstemperatur (ASTM D648) på 135°C. I 35 modsætning hertil havde ovennævnte hårde lag 6 en Rock- DK 174110 B1 56 well hårdhed (ASTM D785) på M100 og en var-medistorsionstemperatur (ASTM D648) på 180°C.

På denne optiske skive blev data registreret på samme må-5 de, som beskrevet i eksempel 36 og derefter afspillet, hvorved refleksionskoefficienten for halvlederlaserstrålen blev bestemt til 72%, ^n^top var 0,62, ^/^top var 0,32 og blokfejlhyppigheden BLER var 2,1 x 10“^.

10 SAMMENLIGNENDE EKSEMPEL 2.

En optisk skive blev tilvejebragt på samme måde, som beskrevet i eksempel 36, med undtagelse af, at beskyttelseslaget 4, der blev fremstillet af det ultraviolette 15 hærdbare resin var frembragt for at have en Rockwell hårdhed (ASTM D785) på M60 og en varmedistorsionstempera- tur (ASTM D648) på 90°C ved en belastning på 4,6 kg/cm2 efter hærdning.

20 Denne optisk skive blev bestrålet med en halvlederlaserstråle med en bølgelængde på 780 nm ved en lineær hastighed på 1,2 m/s for at registrere EFM-signaler på samme måde, som forklaret i eksempel 36, hvorved ingen passende distinkte huller blev observeret på substratet 1. Deref-25 ter blev denne optiske skive afspillet ved hjælp af samme CD-spiller, som blev benyttet i eksempel 36, hvorved refleksionskoefficienten for den optiske skive blev bestemt til 71%, IU/Itop var 0,7, I 3/Itop var 0/37, men blokfejlhyppigheden BLER var 1,5 x 10”* og er således ikke i 30 stand til at opfylde CD-standarderne.

Som beskrevet i det foregående, er det med det optiske informationsregistreringsmedium ifølge den foreliggende opfindelse muligt optisk at danne huller svarende til CD

DK 174110 B1 57 ved bestråling med en laserstråle, og samtidig er det reflekterende lag tilvejebragt bag det lysabsorberende lag i nær kontakt dermed, hvorved det er muligt at frembringe en lagdelt struktur svarende til den for en CD. Således 5 er det ifølge den foreliggende opfindelse muligt let at opnå et registrerbart optisk in formationsregistreringsmedium, der opfylder CD-formatet.

Claims

1. Optisk informationsregistreringsmedium omfattende: 5. et lystransmitterende substrat, - et lysabsorberende lag, der overlejrer substratet for at absorbere en laserstråle, og - et lysreflekterende lag, som overlejrer det lysabsorberende lag, 10 kendetegnet ved, at substratet har et lag, der er nærliggende det lysabsorberende lag, og som kan deformeres af energi, som genereres 15 ved det lysabsorberende lags absorption af laserstrålen for dannelse af optiske læsbare huller.

2. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det lystransmitterende sub- 20 strat har en varmedistorsionstemperatur i et område fra 85°C til 200°C målt i overensstemmelse med ASTM D648 ved en belastning på 4,6 kg/cm2.

3. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 1 25 eller 2, kendetegnet ved, at det lystransmitte- rende substrat har en Rockwell hårdhed i et område fra M200 til M75 målt i overensstemmelse med ASTM D785.

4. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 1,2 30 eller 3, kendetegnet ved, at et mellemlag er anbragt mellem substratet og det lysabsorberende lag, og at mellemlaget har en varmedistorsionstemperatur i området fra 50°C til 150°C målt i overensstemmelse med ASTM D648 ved en belastning på 4,6 kg/cm2. 35 DK 174110 B1 59

5. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge krav 4, kendetegnet ved, at mellemlaget har en Rockwell hårdhed i et område fra Ml00 til M50 målt i overensstemmelse med ASTM D785. 5

6. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst af kravene 1-5, kendetegnet ved, at et hårdt lag, der er vanskeligere varmdeformerbart end substratet er anbragt på det lysreflekterende lag eller 10 mellem det lysabsorberende lag og det lysreflekterende lag, og at nævnte hårde lag har en Rockwell hårdhed på mindst M100 målt i overnesstemmelse med ASTM D785 og/eller en varmedistorsionstemperatur på mindst 100PC målt i overensstemmelse med ASTM D64 8 ved en belastning 15 på 4,6 kg/cm2.

7. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst af kravene 1-6, kendetegnet ved, at substratet er fremstillet af et polycarbonatresin, et 20 acrylatresin eller et epoxyresin.

8. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst af kravene 1-7, kendetegnet ved, at det lysabsorberende lag indeholder et cyaninfarvestof. 25

9. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst af kravene 1-8, kendetegnet ved, at det reflekterende lag er fremstillet af guld, sølv, kobber, aluminium eller en legering deraf. 30

10. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst af kravene .1-9, kendetegnet ved, at det deformerbare overfladelag af substratet har en sporingsstyrerille, hvori de optiske læsbare huller 35 skal dannes. DK 174110 B1 60

11. Optisk informationsregistreringsmedium ifølge et hvilket som helst af kravene 1-10, kendetegnet ved, at beskyttelseslaget er tilvejebragt som et øverste 5 lag.