JPH07201075A

JPH07201075A - 光情報媒体

Info

Publication number: JPH07201075A
Application number: JP5351301A
Authority: JP
Inventors: Toru Fujii; 徹藤井; Emiko Hamada; 恵美子浜田; Yuji Arai; 雄治新井
Original assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Current assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date: 1993-12-30
Filing date: 1993-12-30
Publication date: 1995-08-04

Abstract

(57)【要約】【目的】高い反射率を有し、且つその反射層の耐触性
が高く、低コスト化が図れ、しかもジッタ値の良好な光
情報媒体を得る。【構成】光情報媒体は、透光性基板１の上に設けられ
記録層２と、この記録層２の上に設けられ、透光性基板
側から入射した光を反射する反射層３、６と、この反射
層３、６の上に設けられた保護層４とを有する。前記反
射層が２層構造からなり、その透光性基板側の第一層３
が熱伝導性の良好なＡｇもしくはＣｕまたはそれらの合
金からなる。また、その上の第二層６が耐触性の高いＡ
ｌまたはその合金からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光の照射により、いわ
ゆる追記が可能な記録層を有する光情報媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、色素層等を用いた記録層を有し、
この記録層にレーザ光を照射することにより、データを
記録することができる、いわゆる追記型の光情報媒体で
あって、コンパクトディスク（以下「ＣＤ」という）の
規格を満足した追記型ＣＤが開発されている。

【０００３】この種の光情報媒体は、表面にトラッキン
グ用のグルーブが形成されたポリカーボネート等からな
る透光性の基板の上に色素等からなる記録層を形成し、
その上に反射層として金属層を形成し、さらにその上を
紫外線硬化性樹脂等からなる保護層で覆ったのが一般的
な構造である。

【０００４】ＣＤについて定めた規格、いわゆるレッド
ブックやオレンジブック等と称されるフォーマット規格
では、波長７８０ｎｍにおける再生光の反射率が７０％
以上であることが必要であるとされている。前記のよう
な記録層を有しない一般のＣＤにおいては、前記反射層
としてＡｌ膜が形成され、これにより前記ＣＤ規格を満
足する７０％以上の反射率が得られていた。また、高温
多湿下の環境試験においても、充分な耐触性が得られて
いた。

【０００５】しかし、前述のような色素膜等からなる記
録層を有する光情報媒体において、Ａｌ膜からなる反射
層を用いた場合、充分な反射率を得ることができない。
そこで、追記型のＣＤについては、より高い反射率が得
られ、しかも耐触性の高いＡｕ膜が反射層として使用さ
れていた。

【０００６】

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、前
記追記型のＣＤにおいて反射層として使用されるＡｕ
は、高価であるため、光情報媒体のコスト低減を図るこ
とが困難であった。また、追記型ＣＤを評価するうえ
で、重要な特性にジッタがある。ジッタとは、デジタル
信号の時間軸方向の揺れを意味し、このジッタ値が低い
程記録状態が良好であることを示している。しかしなが
ら、反射層としてＡｕ膜を形成した従来の追記型ＣＤに
おいては、このジッタ値が、特に低線速記録において悪
いという課題があった。そこで本発明は、前記従来の光
情報媒体における課題に鑑み、高い反射率を有し、且つ
反射層の耐触性に優れ、低コスト化が図れ、しかも良好
なジッタ値が得られる光情報媒体を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち、前記の目的を
達成するため、本発明は、透光性基板の上に直接または
他の層を介して設けられた記録層と、この記録層の上に
直接または他の層を介して設けられ、透光性基板側から
入射した光を反射する反射層と、この反射層の上に直接
または他の層を介して設けられた保護層とを有する光情
報媒体において、前記反射層が２層構造からなり、その
透光性基板側の第一層の熱伝導率が２００Ｗ／ｍＫ以上
であり、その上の第二層が、前記第一層に比べて耐触性
の高い防触層であることを特徴とするものである。

【０００８】この場合において、反射層の第一層はＡｇ
もしくはＣｕまたはそれらの合金からなるものがよく、
また、反射層の第二層がＡｌまたはその合金からなるも
のがよい。さらに、反射層の第一層の厚みは３０ｎｍ以
上、第二層の厚みは３０ｎｍ以上であることが好まし
い。

【０００９】

【作用】前記本発明による光情報媒体では、反射層の第
一層が２００Ｗ／ｍＫ以上の高い熱伝導率を有するた
め、記録時に記録層に吸収される熱を速やかに発散させ
ることができる。このため、反射層の熱歪が起こりにく
く、蓄熱エネルギの低減及び記録前後の記録部分への熱
的影響が少なくなる。これにより、ピットの形成が熱的
に安定して行われ、ジッタ値が良好となる。具体的に
は、後述する比較例３のように、ＡｇやＣｕに比べて熱
伝導率の低いＡｕで反射膜を形成した光情報媒体では、
波長７８０ｎｍの半導体レーザを線速１．２ｍ／ｓｅｃ
（ＣＬＶ）で照射したときの３Ｔジッタ（α）のピット
ランドの平均値は３０ｎｓ程度である。これに対して本
発明による光情報媒体では、２５ｎｓ程度の３Ｔジッタ
（α）のピットランドの平均値が得られる。

【００１０】透光性基板側から入射した光を反射する反
射層の第一層がＡｇもしくはＣｕまたはそれらの合金か
らなる場合、高い反射率が得られる。このＡｇもしくは
Ｃｕまたはそれらの合金は、従来のＡｕ膜に比べて耐触
性が劣るが、この上に耐触性の高い第二層を設けたこと
により、実用上充分な耐触性も得られる。また、Ａｇや
Ｃｕは、Ａｕに比べてコストが低く、しかも２層構造に
より、反射層全体として従来のＡｕからなる反射層に比
べてコスト低減が図れる。

【００１１】さらに、前記光情報媒体において、反射層
の第二層がＡｌまたはその合金からなるものでは、高い
耐触性が得られ、しかもコストの低減効果も高い。さら
に、各層の熱伝導率をその材料固有のバルク特性に近づ
けるために、反射層の第一層の厚みを３０ｎｍ以上、第
二層の厚みを３０ｎｍ以上とする。ただし、これら２層
の膜厚が各々１５０ｎｍ以上となると、各層の持つ成膜
時の残留応力が大きくなり、記録媒体としての耐候性が
極端に悪化する。特に、高温・高湿度環境下での反射層
の２層間、反射層と保護層或は反射層と記録層との間の
剥離が発生しやすくなり、好ましくない。

【００１２】

【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
しながら、詳細に説明する。本発明による光情報媒体の
模式的な構造の例を、図１と図２に示す。同図におい
て、１は、例えばポリカーボネート等からなる透光性を
有する基板であり、この透光性基板１上には、図２に示
されたように、所定のピッチでスパイラル状のトラッキ
ング用プリグルーブ５が設けられている。２は、この透
光性基板１の上に形成された色素膜等からなる記録層で
ある。また３と６は、その上に形成された反射層で、第
一層３と第二層６との複合層からなる。４は、この反射
層の第二層の上に設けられた保護層を示す。これらの層
の間に図示してない他の層が介在されることもある。

【００１３】前記反射層の第一層３は、２００Ｗ／ｍＫ
以上と、熱伝導率に高い金属膜からなり、具体的には、
ＡｇもしくはＣｕまたはそれらの合金膜からなる。その
膜厚は３０ｎｍ以上とする。また、第二層６は、前記第
一層より耐触性の高い金属、その他の膜とする。具体的
には、Ａｌ、Ａｌ合金、或はＳｉＯ₂ 膜等の耐触性の高
い膜からなるが、特にＡｌやＡｌ合金が好ましい。その
膜厚はやはり３０ｎｍ以上である。

【００１４】次に本発明による光情報媒体の具体例につ
いて、比較例と共に説明する。（実施例１）直径４６〜１１７ｍｍφの範囲に、幅０．
８μｍ、深さ０．０８μｍ、ピッチ１．６μｍのスパイ
ラル状のプレグルーブが形成された厚さ１．２ｍｍ、外
径１２０ｍｍφ、内径１５ｍｍφのポリカーボネート基
板を射出成形法により成形した。

【００１５】記録層を形成するための有機色素として、
０．６５ｇの１，１’ジブチル３，３，３’，３’テト
ラメチル４，５，４’，５’ジベンゾインドジカーボシ
アニンパークロレート（日本感光色素社製、品番ＮＫ３
２１９）を、ジアセトンアルコール溶剤１０ｃｃに溶解
し、これを前記の基板１の表面に、スピンコート法によ
り塗布し、平均膜厚１３０ｎｍの記録層を形成した。

【００１６】次に、この記録層の上から前記ポリカーボ
ネート基板の直径４５〜１１８ｍｍφの領域の全面にス
パッタリング法により、膜厚５５ｎｍの純度９９．０％
のＡｇ膜を成膜し、さらにこの上に膜厚６０ｎｍの純度
９９．０％のＡｌ膜を成膜し、２層構造の反射層を形成
した。この反射層の上に紫外線硬化性樹脂（ＤＩＣ社製
のＳＤ−１７）をスピンコートし、これに紫外線を照射
して硬化させ、膜厚５μｍの保護層４を形成した。

【００１７】こうして得られた光ディスクの波長７８０
ｎｍの半導体レーザ光の反射率は、７５％であった。ま
た、この光情報媒体を温度７０℃、湿度８５％の環境に
２０００時間放置した後に、再び反射率を測定したとこ
ろ、前記反射率７５％に変化は無かった。さらにこの光
情報媒体にＥＦＭ信号を記録した後、波長７８０ｎｍの
半導体レーザを線速１．２ｍ／ｓｅｃ（ＣＬＶ）で照射
し、３Ｔジッタ（α）のピットランドの平均値を測定し
たところ、２５ｎｓであった。

【００１８】（実施例２）前記実施例１と同様の形状及
びプレグルーブを有するポリカーボネート基板の上に、
前記と同様にして記録層２を形成した後、この上に膜厚
５０ｎｍのシリコンアクリル層を形成した。このシリコ
ンアクリル層の上に、真空蒸着法により膜厚５５ｎｍの
Ａｇ−Ｃｕ合金膜を成膜し、さらにその上に膜厚６０ｎ
ｍのＡｌ膜を成膜し、反射層を形成した。この反射層の
上に、前記実施例１と同様の保護層を形成した。

【００１９】こうして得られた光ディスクの波長７８０
ｎｍの半導体レーザ光の反射率は、７５％であった。ま
た、温度７０℃、湿度８５％の環境に２０００時間放置
した後に、再び反射率を測定したところ、前記反射率７
５％に変化は無かった。さらにこの光情報媒体にＥＦＭ
信号を記録した後、同様にして３Ｔジッタ（α）のピッ
トランドの平均値を測定したところ、２５ｎｓであっ
た。

【００２０】（比較例１）前記実施例１において、反射
層を膜厚５５ｎｍのＡｇ膜（純度９９．９９％）のみで
形成したこと以外は、同実施例と同様にして、光ディス
クを製作した。こうして得られた光ディスクの波長７８
０ｎｍの半導体レーザ光の反射率は、７５％であった。
しかし、この光情報媒体を温度７０℃、湿度８５％の環
境に２０００時間放置した後に、再び反射率を測定した
ところ、前記反射率６３％に低下していた。さらにこの
光情報媒体にＥＦＭ信号を記録した後、同様にして３Ｔ
ジッタ（α）のピットランドの平均値を測定したとこ
ろ、２７ｎｓであった。

【００２１】（比較例２）前記実施例１において、反射
層を膜厚５５ｎｍのＡｌ膜からなる第一層と、膜厚６０
ｎｍのＣｕ膜からなる第二層との２層構造とした以外
は、同実施例と同様にして、光ディスクを製作した。こ
うして得られた光ディスクの波長７８０ｎｍの半導体レ
ーザ光の反射率は、６０％であった。さらにこの光情報
媒体にＥＦＭ信号を記録した後、同様にして３Ｔジッタ
（α）のピットランドの平均値を測定したところ、２８
ｎｓであった。

【００２２】（比較例３）前記実施例１において、反射
層を膜厚６０ｎｍのＡｕ膜のみで形成したこと以外は、
同実施例と同様にして、光ディスクを製作した。こうし
て得られた光ディスクの波長７８０ｎｍの半導体レーザ
光の反射率は、７４％であった。また、この光情報媒体
を温度７０℃、湿度８５％の環境に２０００時間放置し
た後に、再び反射率を測定したところ、前記反射率７４
％に変化は無かった。さらにこの光情報媒体にＥＦＭ信
号を記録した後、同様にして３Ｔジッタ（α）のピット
ランドの平均値を測定したところ、３０ｎｓであった。

【００２３】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、反
射層を特殊な２層構造としたことにより、高い反射率を
有し、その反射率の劣化が少なく、良好なジッタ値が得
られ、しかもコスト低減が図れる光情報媒体が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】光記録媒体の構造の例を示す模式半断面斜視図
である。

【図２】第１図の光記録前のトラッキング方向に断面し
た拡大断面図である。１透光製基板２記録層３反射層の第一層４保護層６反射層の第二層

Claims

【整理番号】００５０５０４−０１【特許請求の範囲】

【請求項１】透光性基板の上に直接または他の層を介
して設けられた記録層と、この記録層の上に直接または
他の層を介して設けられ、透光性基板側から入射した光
を反射する反射層と、この反射層の上に直接または他の
層を介して設けられた保護層とを有する光情報媒体にお
いて、前記反射層が２層構造からなり、その透光性基板
側の第一層の熱伝導率が２００Ｗ／ｍＫ以上であり、そ
の上の第二層が、前記第一層に比べて耐触性の高い防触
層であることを特徴とする光情報媒体。
【請求項２】前記請求項１において、反射層の第一層
がＡｇもしくはＣｕまたはそれらの合金からなることを
特徴とする光情報媒体。
【請求項３】前記請求項１または２において、反射層
の第二層がＡｌまたはその合金からなることを特徴とす
る光情報媒体。
【請求項４】前記請求項１〜３の何れかにおいて、反
射層の第一層の厚みが３０ｎｍ以上であり、第二層の厚
みが３０ｎｍ以上であることを特徴とする光情報媒体。