JPS615441A - 光学的記録及び読み出し方法 - Google Patents
光学的記録及び読み出し方法Info
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- JPS615441A JPS615441A JP59125064A JP12506484A JPS615441A JP S615441 A JPS615441 A JP S615441A JP 59125064 A JP59125064 A JP 59125064A JP 12506484 A JP12506484 A JP 12506484A JP S615441 A JPS615441 A JP S615441A
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Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、画像、音声やコンピュータの外部メモリー等
各種の情報記録に用いられる光によって信号の書き込み
及び読み出しを行う方法に関する。
各種の情報記録に用いられる光によって信号の書き込み
及び読み出しを行う方法に関する。
ユーザーが記録の書き込みを行い得る、いわよゆる光記
録には、従来から多くの方法が提案されている。゛例え
ば（１）基板上にテルル等の光吸収性の大きい低融点合
金を蒸着し、レーザービームを照射した部分が融除され
てピットを形成することを利用し、ビット形成部の干渉
、回折に伴う反射光量の変化を検出して記録の読み出し
を行う方法、■基板゛上にテルル低酸化物等の光吸収性
が大き□く、かつレーザービ・−ム照射時に透過率変化
や反射率の変化を生じる物質を蒸着し、レーザー照射部
の反射光量又は透過光量の変化を検出して記録の読み出
しを行う方法、■基板上にレーザービームを吸収し熱を
発生する材料を染料を蒸着又は塗布した記録層を作りレ
ーザービーム照射部分が融除されてピントを形成するこ
とによって上記（１）と同様に記録の読み出しを行う方
法が提案されて一部実用化されている。
録には、従来から多くの方法が提案されている。゛例え
ば（１）基板上にテルル等の光吸収性の大きい低融点合
金を蒸着し、レーザービームを照射した部分が融除され
てピットを形成することを利用し、ビット形成部の干渉
、回折に伴う反射光量の変化を検出して記録の読み出し
を行う方法、■基板゛上にテルル低酸化物等の光吸収性
が大き□く、かつレーザービ・−ム照射時に透過率変化
や反射率の変化を生じる物質を蒸着し、レーザー照射部
の反射光量又は透過光量の変化を検出して記録の読み出
しを行う方法、■基板上にレーザービームを吸収し熱を
発生する材料を染料を蒸着又は塗布した記録層を作りレ
ーザービーム照射部分が融除されてピントを形成するこ
とによって上記（１）と同様に記録の読み出しを行う方
法が提案されて一部実用化されている。
」−記（１）の方法においては、耐久性の点で不安があ
り、又ピント形状において、周辺部かもりあがる等の変
形を生じる為、Ｓ／Ｎ比が十分でないといった欠点があ
った。
り、又ピント形状において、周辺部かもりあがる等の変
形を生じる為、Ｓ／Ｎ比が十分でないといった欠点があ
った。
（ＩＱの方法においては、全般的に低感度であり、吸収
率の高いテルルオキサイド等の限られた物質のみが充分
なレーザーへの吸光特性を有し、記録層の表面及び底部
の干渉等から厚み制御の厳密さが要求され、生産技術の
困難性を伴っている。
率の高いテルルオキサイド等の限られた物質のみが充分
なレーザーへの吸光特性を有し、記録層の表面及び底部
の干渉等から厚み制御の厳密さが要求され、生産技術の
困難性を伴っている。
又、」二記Ｇ１１）の方法においては、反射率が不十分
な為、アルミ等の反射層を必要とする場合が多く、アル
ミ反射層の熱伝導率が大きい為、書き込みレーザーのエ
ネルギーの大小によりピントサイズ、形状が変化すると
いった欠点がある。又、有機染料を用いた記録層の形成
は、スピンコ−１・等の塗布方法が一般的であるが、塗
布方法における膜厚の制御を厳密に行う必要があり、生
産技術面の困難性がある。
な為、アルミ等の反射層を必要とする場合が多く、アル
ミ反射層の熱伝導率が大きい為、書き込みレーザーのエ
ネルギーの大小によりピントサイズ、形状が変化すると
いった欠点がある。又、有機染料を用いた記録層の形成
は、スピンコ−１・等の塗布方法が一般的であるが、塗
布方法における膜厚の制御を厳密に行う必要があり、生
産技術面の困難性がある。
本発明は、記録感度、Ｓ／Ｎ比及び記録媒体の耐久性や
生産技術の容易性等を同時に満足する光学的記録及び読
み出し方法を提供することを目的とする。
生産技術の容易性等を同時に満足する光学的記録及び読
み出し方法を提供することを目的とする。
本発明の光学的記録及び読み出し方法は透明基板上に、
（Ａ）読み取りレーザービームの５０％以上を透過し
、ｌＯ％以りを反射し、かつ加熱時に反射率が変化する
金属の低酸化物膜からなる層と、（Ｂ）７００〜１００
０ｎ＋ｓに極大吸収を有する染料と樹脂へイングーとか
らなるレーザー吸収層とを積層してなる記録媒体に、
７００〜＋０００ｒｖの発振波長を有するレーザースポ
ントビームを透明基板を通して照射し、」−記（Ｂ）層
において発生する熱により （Ａ）層の反射率を変化せ
しめることによって記録信号を書き込み、透明基板を通
して（Ａ）層及び（Ｂ）層に変化を生じさせない低エネ
ルギー光ビームに 呻よって反射率の差異を検
出して記録信号を読み出すことを特徴とするものである
。
（Ａ）読み取りレーザービームの５０％以上を透過し
、ｌＯ％以りを反射し、かつ加熱時に反射率が変化する
金属の低酸化物膜からなる層と、（Ｂ）７００〜１００
０ｎ＋ｓに極大吸収を有する染料と樹脂へイングーとか
らなるレーザー吸収層とを積層してなる記録媒体に、
７００〜＋０００ｒｖの発振波長を有するレーザースポ
ントビームを透明基板を通して照射し、」−記（Ｂ）層
において発生する熱により （Ａ）層の反射率を変化せ
しめることによって記録信号を書き込み、透明基板を通
して（Ａ）層及び（Ｂ）層に変化を生じさせない低エネ
ルギー光ビームに 呻よって反射率の差異を検
出して記録信号を読み出すことを特徴とするものである
。
上記の（Ａ）層を構成する金属の低酸化物膜は、金属と
金属酸化物を同時に真空蒸着、スパッタリング等の方法
で蒸着を行うか、或は金属酸化物を還元性金属の共存化
において真空蒸着、スパッタリング等の方法で蒸着を行
うかして得られ、酸化モリブデン、酸化インジウム、酸
化錫、酸化ゲルマニラＪ１、酸化鉛、酸化アンチモン、
酸化ビスマス、醇化テルル等があげられ、化学量論的な
酸化状態より少ない酸素原子を含有した膜である。
金属酸化物を同時に真空蒸着、スパッタリング等の方法
で蒸着を行うか、或は金属酸化物を還元性金属の共存化
において真空蒸着、スパッタリング等の方法で蒸着を行
うかして得られ、酸化モリブデン、酸化インジウム、酸
化錫、酸化ゲルマニラＪ１、酸化鉛、酸化アンチモン、
酸化ビスマス、醇化テルル等があげられ、化学量論的な
酸化状態より少ない酸素原子を含有した膜である。
又これらの複数金属の低酸化物膜であってもよい。かか
る低酸化物は、酸化の程度によって、透過率や反射率が
変化し、通常酸化の程度が低い程、透過率が減少して反
射率が増大する傾向があり、従来技術においては、該低
酸化物層に光をあて該層の発生する熱によって透過率や
反射率を変化せしめるので、この層の透過率が大きい場
合には、感度が低い為に実用に供しえなかった。又、酸
化の層面を押え低透過率にし、感度向上を図るうとする
と多湿条件等において酸化が進行し耐久性がなくなると
いう欠点があった。
る低酸化物は、酸化の程度によって、透過率や反射率が
変化し、通常酸化の程度が低い程、透過率が減少して反
射率が増大する傾向があり、従来技術においては、該低
酸化物層に光をあて該層の発生する熱によって透過率や
反射率を変化せしめるので、この層の透過率が大きい場
合には、感度が低い為に実用に供しえなかった。又、酸
化の層面を押え低透過率にし、感度向上を図るうとする
と多湿条件等において酸化が進行し耐久性がなくなると
いう欠点があった。
本発明においては、光を吸収し熱に変換する層は主とし
て上記（Ｂ）のレーザー吸収層において行われる為、
（Ａ）の金属の低酸化物層の透過率は５０％以上好まし
くは６０％以りであることが望まれ、又、書き込みのレ
ーザービーム或は読み出し光のフォーカシングの制御等
に必要な反射率さえ確保出来ればよいので、反射率とし
ては１０％以上、好ましくは１５％以−Ｅ確保すればよ
い。
て上記（Ｂ）のレーザー吸収層において行われる為、
（Ａ）の金属の低酸化物層の透過率は５０％以上好まし
くは６０％以りであることが望まれ、又、書き込みのレ
ーザービーム或は読み出し光のフォーカシングの制御等
に必要な反射率さえ確保出来ればよいので、反射率とし
ては１０％以上、好ましくは１５％以−Ｅ確保すればよ
い。
このような上記（Ａ）層の透過率及び反射率のコントロ
ールは、金属原子種、酸化の程度及び膜厚によって制御
され、吸収係数の大きいテルル低酸化等も上記透過率を
満足する範囲まで膜厚を薄く制御すれば実用可能である
。
ールは、金属原子種、酸化の程度及び膜厚によって制御
され、吸収係数の大きいテルル低酸化等も上記透過率を
満足する範囲まで膜厚を薄く制御すれば実用可能である
。
上記（Ａ）層の膜厚は、 １００〜５０００オングスト
ロームが一般的であるが、２００〜２０００オングスト
ロームが特に膜厚の均一性と感度の面から好ましい。
２ＱＯオングストローム以下では膜の均一性に問題が生
じやすく、又２０００オングストローム以上では感度が
おちるので好ましくない。
ロームが一般的であるが、２００〜２０００オングスト
ロームが特に膜厚の均一性と感度の面から好ましい。
２ＱＯオングストローム以下では膜の均一性に問題が生
じやすく、又２０００オングストローム以上では感度が
おちるので好ましくない。
（Ａ）層の金属の低酸化物膜は、熱によって結晶形態に
変化を生じその結果透過率や反射率が変化するが、酸化
モリブデン、酸化アンチモン、酸化テルル、酸化ゲルマ
ニウムの如く透過率が減少（反射率が増大）するもの、
或は酸化インジウム、酸化鉛の如く透過率が増大（反射
率が減少）するものがあるがいずれであっても良い。
変化を生じその結果透過率や反射率が変化するが、酸化
モリブデン、酸化アンチモン、酸化テルル、酸化ゲルマ
ニウムの如く透過率が減少（反射率が増大）するもの、
或は酸化インジウム、酸化鉛の如く透過率が増大（反射
率が減少）するものがあるがいずれであっても良い。
上記の（Ｂ）層における７００〜１０００ｎ＋ｓに極大
吸収を有する染料と樹脂バインダーとからなるレーザー
吸収層は、上記の（Ａ）層を通してくるレーザー光を吸
収し、熱エネルギーに変換せしめる熱発生層であり、こ
の層に発生した熱によって主に上記（Ａ）の金属の低酸
化物膜が結晶状態が変化し透過率や反射率が変化すると
共に（Ａ）層の保護層の機能をも兼ね備える。上記の如
く（Ａ）層は、直接記録層ではないので、必ずしも膜厚
の厳密な管理や極端な厳しい除塵対策を要せず、品質面
での向上と共に記録媒体の生産性を向上することが出来
る。
吸収を有する染料と樹脂バインダーとからなるレーザー
吸収層は、上記の（Ａ）層を通してくるレーザー光を吸
収し、熱エネルギーに変換せしめる熱発生層であり、こ
の層に発生した熱によって主に上記（Ａ）の金属の低酸
化物膜が結晶状態が変化し透過率や反射率が変化すると
共に（Ａ）層の保護層の機能をも兼ね備える。上記の如
く（Ａ）層は、直接記録層ではないので、必ずしも膜厚
の厳密な管理や極端な厳しい除塵対策を要せず、品質面
での向上と共に記録媒体の生産性を向上することが出来
る。
（Ｂ）層に用いられる染料としては、一般式［式中、Ｙ
及ヒＹ’ｔ＊−Ｈｌ−５Ｏ３ｅ 、 −３ｏ３Ｈ。
及ヒＹ’ｔ＊−Ｈｌ−５Ｏ３ｅ 、 −３ｏ３Ｈ。
７ＳＯ３Ｎａ又は−９ｏ３にであり、見及びｎはを１〜
４の整数であり、ｍは３又は４の整数であり、ｘ０ｔ±
ハロゲンイオン、ｃｌ Ｏａ又はＢＦＡで表される１価
の陰イオンであり、Ｙが−８０３°である特番こはｘｅ
ｔよ存在しない］の構造を有するいわゆるポジメチン系
色素数、フタロシアニン金属錯体類、芳香族ジチオール
金属錯体類、脂肪族ジチオール金属錯体類、芳香族ジア
ミン金属錯体類、スクアリウム色素類、ナフトキノン色
素類、アントラキノン色素類等７′あり・極大吸収７″
。０〜１０００”特１７５０〜 （９００
ｎｍに極大吸収を有するものが好ましく、上記
１の色素を複数混合使用しても良い、又、上記例
示以外の色素であっても７００〜１０００ｎｍに極大吸
収を有すれば使用可能である。上記の色素類は通常、有
機溶媒に溶解し、被膜形成能のある樹脂バインダーを加
え、精密濾過した後に上記（Ａ）層上にスピンコード、
ロールコート、グラビアコート等の方法にて塗布し、有
機溶媒を乾燥除去して （Ｂ）層−を形成する。上記の
樹脂バインダーは前記有機色素と相客し均一な被膜形成
能を有するものであれば、特をご限定されるものではな
いが、例えばメタクリル酸エステル共重合樹脂、スチレ
ン共重合樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、醋
酸セルロース等のセルロース誘導体類、ポリビニルブチ
ラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等の耐水性を有する樹
脂が好ましい。
４の整数であり、ｍは３又は４の整数であり、ｘ０ｔ±
ハロゲンイオン、ｃｌ Ｏａ又はＢＦＡで表される１価
の陰イオンであり、Ｙが−８０３°である特番こはｘｅ
ｔよ存在しない］の構造を有するいわゆるポジメチン系
色素数、フタロシアニン金属錯体類、芳香族ジチオール
金属錯体類、脂肪族ジチオール金属錯体類、芳香族ジア
ミン金属錯体類、スクアリウム色素類、ナフトキノン色
素類、アントラキノン色素類等７′あり・極大吸収７″
。０〜１０００”特１７５０〜 （９００
ｎｍに極大吸収を有するものが好ましく、上記
１の色素を複数混合使用しても良い、又、上記例
示以外の色素であっても７００〜１０００ｎｍに極大吸
収を有すれば使用可能である。上記の色素類は通常、有
機溶媒に溶解し、被膜形成能のある樹脂バインダーを加
え、精密濾過した後に上記（Ａ）層上にスピンコード、
ロールコート、グラビアコート等の方法にて塗布し、有
機溶媒を乾燥除去して （Ｂ）層−を形成する。上記の
樹脂バインダーは前記有機色素と相客し均一な被膜形成
能を有するものであれば、特をご限定されるものではな
いが、例えばメタクリル酸エステル共重合樹脂、スチレ
ン共重合樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、醋
酸セルロース等のセルロース誘導体類、ポリビニルブチ
ラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等の耐水性を有する樹
脂が好ましい。
染料とバインダーの固形分比は通常ｌ：９〜９：ｌであ
り、又り記（Ｂ）層の厚さは、特に制限がないが、レー
ザーの焦点は（Ａ）層において集束されるので、 （Ａ
）層との界面部分の（Ｂ）層が発熱部分として寄与する
のであまり厚くても意味がなく、通常１０００オングス
トロームから２Ｍ１１程度が一般的である。該（Ｂ）層
は発熱層ゆえに、焦点制御の為の反射率や透過率を一定
水準以上必要とすることがなく、吸収率が高い層高感度
となると考えてよく、好ましくは５０００オングストロ
ームにおける透過率が３０％以下となるように染料の種
類、濃度を選択する。
り、又り記（Ｂ）層の厚さは、特に制限がないが、レー
ザーの焦点は（Ａ）層において集束されるので、 （Ａ
）層との界面部分の（Ｂ）層が発熱部分として寄与する
のであまり厚くても意味がなく、通常１０００オングス
トロームから２Ｍ１１程度が一般的である。該（Ｂ）層
は発熱層ゆえに、焦点制御の為の反射率や透過率を一定
水準以上必要とすることがなく、吸収率が高い層高感度
となると考えてよく、好ましくは５０００オングストロ
ームにおける透過率が３０％以下となるように染料の種
類、濃度を選択する。
上記（Ａ）層及び（Ｂ）層の基板材料は透明であってか
つ複屈折等の光学的異方性のない材料であれば特に限定
されるものではなく、各種プラスチックのフィルム又は
シート、ガラス等が用いられる６又、案内溝や記録位置
信号をフィルム又はシートの上に、射出成形、プレス成
形等の方法又は紫外線硬化樹脂の如き硬化性樹脂によっ
て形成したものであっても勿論さし支えない、特に基板
材料がプラスチックである場合には、熱変形温度が１０
０℃以上ものが好ましい。
つ複屈折等の光学的異方性のない材料であれば特に限定
されるものではなく、各種プラスチックのフィルム又は
シート、ガラス等が用いられる６又、案内溝や記録位置
信号をフィルム又はシートの上に、射出成形、プレス成
形等の方法又は紫外線硬化樹脂の如き硬化性樹脂によっ
て形成したものであっても勿論さし支えない、特に基板
材料がプラスチックである場合には、熱変形温度が１０
０℃以上ものが好ましい。
、上記した記録媒体は、７００〜１００ｎｍに発振波長
を有するレーザー、特に好ましくは７５０〜８５０ｎｍ
に発振波長を有する半導体レーザーを光学系によって
（Ａ）層における反射で焦点制御を行い （Ａ）層にて
ビーム径を２μｓ以下に絞り、所望の信号変調に対応し
てパルス状に照射することによって書き込みを行うか、
（Ａ）層を透過したレーザービームが（Ｂ）層におい
て吸収され発熱することによって ＣＢ）層に熱を供給
し、 （Ｂ）層はこの熱により結晶状態が変化し、その
結果反射率が変化する。すなわち （Ａ）層が記録層で
あり、 （Ｂ）層は記録の増感度の役割を果す。（Ａ）
層は金属の低酸化物で又（Ｂ）層は有機物であることか
ら、いずれも熱伝導率が金属に比べ低く、又（Ｂ）層の
照射部周辺が溶融してちりあがる等の変化がない為に高
いＳ／Ｎ比を実現することが出来る。
を有するレーザー、特に好ましくは７５０〜８５０ｎｍ
に発振波長を有する半導体レーザーを光学系によって
（Ａ）層における反射で焦点制御を行い （Ａ）層にて
ビーム径を２μｓ以下に絞り、所望の信号変調に対応し
てパルス状に照射することによって書き込みを行うか、
（Ａ）層を透過したレーザービームが（Ｂ）層におい
て吸収され発熱することによって ＣＢ）層に熱を供給
し、 （Ｂ）層はこの熱により結晶状態が変化し、その
結果反射率が変化する。すなわち （Ａ）層が記録層で
あり、 （Ｂ）層は記録の増感度の役割を果す。（Ａ）
層は金属の低酸化物で又（Ｂ）層は有機物であることか
ら、いずれも熱伝導率が金属に比べ低く、又（Ｂ）層の
照射部周辺が溶融してちりあがる等の変化がない為に高
いＳ／Ｎ比を実現することが出来る。
上記の如く信号を書き込んだ記録媒体は、より低出力の
レーザービーム又はタングステンランプ等によって走査
され、記録及び未記録部の反射光量の差異をフォトダイ
オード、ＣＣＤアレー等によって検出し信号の読み出し
を行う。
レーザービーム又はタングステンランプ等によって走査
され、記録及び未記録部の反射光量の差異をフォトダイ
オード、ＣＣＤアレー等によって検出し信号の読み出し
を行う。
この際の読み出しの光は必ずしも７００〜１０ＧＯｎ腸
の波長でなくてもよいが、未記録部に反射率変化を生じ
ない弱い光量であることが望まれ、好ましくは２ａ＋Ｗ
以下の出力の半導体レーザー及びヘリウムネオンレーザ
−が用いられる。
の波長でなくてもよいが、未記録部に反射率変化を生じ
ない弱い光量であることが望まれ、好ましくは２ａ＋Ｗ
以下の出力の半導体レーザー及びヘリウムネオンレーザ
−が用いられる。
本発明の光学的記録及び読み出し方法において、高い感
度と高いＳ／Ｎ比が実現出来、又本発明に用いられる記
録媒体は耐久性にすぐれかつ生産技術的に容易である。
度と高いＳ／Ｎ比が実現出来、又本発明に用いられる記
録媒体は耐久性にすぐれかつ生産技術的に容易である。
以下に実施例を示して本発明を、さらに具体的に説明す
る。
る。
実施例１
ポリエーテルサルフォン樹脂のキヤ７）フィルム（膜厚
７５ｗ）を基板材料とし、酸化モリブデン及びタングス
テン粉末を混合し、石英器に入れて加熱し、２ＸＩＯ’
）−ルの真空状態において蒸着を行い、低酸化モリブデ
ン膜を形成した。得られた蒸着フィルムの８３０ｎｍ波
長光に対する透過率は７５％、反射率は１２％、蒸着膜
厚は１８００オングストロームであった。
７５ｗ）を基板材料とし、酸化モリブデン及びタングス
テン粉末を混合し、石英器に入れて加熱し、２ＸＩＯ’
）−ルの真空状態において蒸着を行い、低酸化モリブデ
ン膜を形成した。得られた蒸着フィルムの８３０ｎｍ波
長光に対する透過率は７５％、反射率は１２％、蒸着膜
厚は１８００オングストロームであった。
次に低酸化モリブデン層の上に構造式
２式％
）ブ
チルアンモニウム
ビニルブチラール樹脂１ｇをジメチルアセトアミド、エ
チレングリコール七ツメチルエーテル及びエタノールか
らなる混合有機溶媒に溶解し、カートリッジ型フィルタ
ーにて濾過した後スピンコーティング法にて塗布し、８
０℃で１０分間乾燥して５ＱＯｎａ＋の熱発生層を形成
し、２００１径のドーナツ板状に打ち抜いて記録媒体を
作成した。別途に未蒸着のポリエーテルサルフォン゛樹
脂フィルムＬに同様にして形成した厚み５００ｎｍ膜の
透過率（８３０ｎ１波長）は９％であった。
チレングリコール七ツメチルエーテル及びエタノールか
らなる混合有機溶媒に溶解し、カートリッジ型フィルタ
ーにて濾過した後スピンコーティング法にて塗布し、８
０℃で１０分間乾燥して５ＱＯｎａ＋の熱発生層を形成
し、２００１径のドーナツ板状に打ち抜いて記録媒体を
作成した。別途に未蒸着のポリエーテルサルフォン゛樹
脂フィルムＬに同様にして形成した厚み５００ｎｍ膜の
透過率（８３０ｎ１波長）は９％であった。
上記の記録媒体を平滑な厚さ１ｍｍのドーナツ板状のガ
ラス板を用いて文書ファイル用書き込み装置のタンテー
ブルとの間に固定し、最大出力２０禦Ｗの半導体レーザ
ー（発振波長８３０ｎｍ）を用いレーザーの強度を各々
かえながら２メガメルツにてパルスを発生させ、毎分１
２００回転で回転させて信号の書き込みを行った。この
結果出力基準５ｍＷ（媒体ｈ ２．５ｍＷ）で信号の書
き込みで書き込み部の反射率が増大し書き込み可能であ
り、出力基準１０ｍＷ（媒体上５ ｍＷ）で書き込んだ
信号を出力基準１．８ａ＋Ｗ（媒体上０．９ｍＷ）に出
力をさげ記録信号の読み出しを行い、オシロスコープを
用いてＳ／Ｎ比を検出した結果Ｓ／Ｎ比は５８ｄＢであ
った。又、上記の信号の書き込みを行った記録媒体を５
０℃、８０％相対湿度の恒温恒湿層に５００時間貯蔵し
た後、上記と同様な方法にてＳ／Ｎ比を測定した結果、
Ｓ／Ｎ比は５７ｄＢで殆ど変化がなかった。
ラス板を用いて文書ファイル用書き込み装置のタンテー
ブルとの間に固定し、最大出力２０禦Ｗの半導体レーザ
ー（発振波長８３０ｎｍ）を用いレーザーの強度を各々
かえながら２メガメルツにてパルスを発生させ、毎分１
２００回転で回転させて信号の書き込みを行った。この
結果出力基準５ｍＷ（媒体ｈ ２．５ｍＷ）で信号の書
き込みで書き込み部の反射率が増大し書き込み可能であ
り、出力基準１０ｍＷ（媒体上５ ｍＷ）で書き込んだ
信号を出力基準１．８ａ＋Ｗ（媒体上０．９ｍＷ）に出
力をさげ記録信号の読み出しを行い、オシロスコープを
用いてＳ／Ｎ比を検出した結果Ｓ／Ｎ比は５８ｄＢであ
った。又、上記の信号の書き込みを行った記録媒体を５
０℃、８０％相対湿度の恒温恒湿層に５００時間貯蔵し
た後、上記と同様な方法にてＳ／Ｎ比を測定した結果、
Ｓ／Ｎ比は５７ｄＢで殆ど変化がなかった。
実施例２
実施例１の基板材料を用い、酸化モリブデンの代りに酸
化アンチモン（Ｓｂ２０３）を用いタングステンとの共
存下において同様に蒸着を行い低酸化アンチモン膜を形
成した。該蒸着フィルムの８３０ｎｍ波長光に対する透
過率は６８％、反射率は１８％、。
化アンチモン（Ｓｂ２０３）を用いタングステンとの共
存下において同様に蒸着を行い低酸化アンチモン膜を形
成した。該蒸着フィルムの８３０ｎｍ波長光に対する透
過率は６８％、反射率は１８％、。
膜厚は１１００オングストロームであった。この蒸着層
の上にビス（４−メチル−ローフェニレンジアミノ）ニ
ッケル（入ｍａ冨７９５ｎｍ）３ｇとメタクリル酸メヂ
ルピロリドン共重合体２ｇをアセトン、アセトニトリル
、ジメチルスルフォキサイドの混合有機溶媒に溶解し濾
過した後実施例１と同様にして塗布、乾燥して ８００
ｎ層の熱発生層しを形成し、ドーナツ板状に打ち抜いて
記録媒体を作成した。
の上にビス（４−メチル−ローフェニレンジアミノ）ニ
ッケル（入ｍａ冨７９５ｎｍ）３ｇとメタクリル酸メヂ
ルピロリドン共重合体２ｇをアセトン、アセトニトリル
、ジメチルスルフォキサイドの混合有機溶媒に溶解し濾
過した後実施例１と同様にして塗布、乾燥して ８００
ｎ層の熱発生層しを形成し、ドーナツ板状に打ち抜いて
記録媒体を作成した。
別途未蒸着のポリエーテルサルフォノ樹脂フィルム上に
、 ５００ｍｍの厚味にて作成した塗布膜の透過率（
８３０ｎｍ）は１４％であった。
、 ５００ｍｍの厚味にて作成した塗布膜の透過率（
８３０ｎｍ）は１４％であった。
実施例１と同様にして信号の書き込みを行った結果、出
力基準６ｍＷ（媒抹上３ ｍＷ）で書き込み部の反射率
が増大し書き込み可能であり出力基準１０１０ｌ１媒体
上５ ｍＷ）で書き込んだ信号を実施例１と同様な条件
で読み出した結果Ｓ／Ｎ比は５４ｄＢであった。又、同
様の耐久試験後のＳ／Ｎ比も５４ｄＢであり、記録媒体
はすぐれた耐久性を示した。
力基準６ｍＷ（媒抹上３ ｍＷ）で書き込み部の反射率
が増大し書き込み可能であり出力基準１０１０ｌ１媒体
上５ ｍＷ）で書き込んだ信号を実施例１と同様な条件
で読み出した結果Ｓ／Ｎ比は５４ｄＢであった。又、同
様の耐久試験後のＳ／Ｎ比も５４ｄＢであり、記録媒体
はすぐれた耐久性を示した。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
Ｌ 続 補 正 占（自発補ｉＥ）
昭和５９年８月７日 。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）透明基板上に、 （Ａ）読みとりレーザービームの５０％以上を透過し、
１０％以上を反射し、かつ加熱時に反射率が変化する金
属の低酸化物膜からなる層と、 （Ｂ）７００〜１０００ｎｍに極大吸収を有する染料と
樹脂バインダーとからなるレーザー吸収層とを積層して
なる記録媒体に７００〜１０００ｎｍの発振波長を有す
るレーザースポットビームを上記透明基板を通して照射
し、上記（Ａ）層において発生する熱によって（Ａ）層
の反射率を変化せしめることによって記録信号を書き込
み、透明基板を通して（Ａ）層及び（Ｂ）層に変化を生
じさせない低エネルギー光ビームによって反射率の差異
を検出して記録信号を読み出すことを特徴とする光学的
記録及び読み出し方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125064A JPS615441A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 光学的記録及び読み出し方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125064A JPS615441A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 光学的記録及び読み出し方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS615441A true JPS615441A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14900922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59125064A Pending JPS615441A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | 光学的記録及び読み出し方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS615441A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01116929A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法 |
| JPH01243237A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法 |
| JPH07163801A (ja) * | 1994-09-12 | 1995-06-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 低粘性物質中の揮発性物質除去装置 |
-
1984
- 1984-06-20 JP JP59125064A patent/JPS615441A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01116929A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法 |
| JPH01243237A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法 |
| JPH07163801A (ja) * | 1994-09-12 | 1995-06-27 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 低粘性物質中の揮発性物質除去装置 |
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