JP2591940B2 - 光記録方法及び光記録媒体 - Google Patents
光記録方法及び光記録媒体Info
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
- G11B7/00455—Recording involving reflectivity, absorption or colour changes
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光記録方法及び光記録媒体に関するもので
ある。
ある。
[従来の技術] 従来、光記録媒体としては光ビーム、例えばレーザー
光の照射により、ピット(孔)を生じるタイプやバブル
を形成するタイプおよび相変態を起こすタイプ等が知ら
れている。
光の照射により、ピット(孔)を生じるタイプやバブル
を形成するタイプおよび相変態を起こすタイプ等が知ら
れている。
これらの中で、ピット(孔)を形成するものは、支持
体上にTe,Bi,Sn,Sb,In等の低融点金属やシアニン系、ス
クワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒドロコリ
ン系、メチン系、ナフトキノン系、ベンゼンジチオール
ニッケル錯体等の染・顔料(有機色素)、及びこれら有
機色素と金属との複合系の薄膜を設けて構成されてい
る。
体上にTe,Bi,Sn,Sb,In等の低融点金属やシアニン系、ス
クワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒドロコリ
ン系、メチン系、ナフトキノン系、ベンゼンジチオール
ニッケル錯体等の染・顔料(有機色素)、及びこれら有
機色素と金属との複合系の薄膜を設けて構成されてい
る。
これらの薄膜は光ビームの照射を受け、その吸収率に
応じて熱エネルギーにかえ、そのヒートモードによって
記録ピットを形成する。
応じて熱エネルギーにかえ、そのヒートモードによって
記録ピットを形成する。
この時の記録ピットは第3図に示すように記録ピット
5の周辺部がもりあがり、リム9とよばれる突起が生ず
る。
5の周辺部がもりあがり、リム9とよばれる突起が生ず
る。
このリムは光記録媒体の溶融−凝固プロセスによって
生じるものであるが、そのプロセスは非常に複雑で、そ
の形状や大きさは常に一定にはならず、読み取りの際に
再送信号のエラーに結びつく欠点となっていた。
生じるものであるが、そのプロセスは非常に複雑で、そ
の形状や大きさは常に一定にはならず、読み取りの際に
再送信号のエラーに結びつく欠点となっていた。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は、上述の如き従来の欠点を解決するも
ので、リムのない、常に一定の大きさと形状を示す記録
ピットを形成することができる光記録方法を提供するも
のである。
ので、リムのない、常に一定の大きさと形状を示す記録
ピットを形成することができる光記録方法を提供するも
のである。
さらに、本発明の目的は再生信号のエラー率の小さ
い、信頼性の高い光記録媒体を提供するものである。
い、信頼性の高い光記録媒体を提供するものである。
[問題点を解決するための手段]及び[作用] 即ち、本発明は、光吸収層、多孔質な記録補助層及び
光反射層がこの順番で積層された光記録層または多孔質
な記録補助層、光吸収層及び光反射層がこの順番で積層
された光記録層が、該光反射層が基板と対向しないよう
に該基板上に配置されている光記録媒体に光ビームを照
射して該記録補助層の光ビーム照射部を凹状に変形せし
めると共に該記録補助層の変形に沿って該光反射層を凹
状に変形せしめて該光反射層に記録ピットを形成して情
報の記録を行うことを特徴とする光記録方法である。
光反射層がこの順番で積層された光記録層または多孔質
な記録補助層、光吸収層及び光反射層がこの順番で積層
された光記録層が、該光反射層が基板と対向しないよう
に該基板上に配置されている光記録媒体に光ビームを照
射して該記録補助層の光ビーム照射部を凹状に変形せし
めると共に該記録補助層の変形に沿って該光反射層を凹
状に変形せしめて該光反射層に記録ピットを形成して情
報の記録を行うことを特徴とする光記録方法である。
また、本発明は、光吸収層、多孔質な記録補助層及び
光反射層がこの順番で積層された光記録層または多孔質
な記録補助層、光吸収層及び光反射層がこの順番で積層
された光記録層が、該光反射層が基板と対向しないよう
に該基板上に配置され、且つ該光記録層に情報が記録さ
れている光記録媒体において、凹状に変形した記録補助
層と該記録補助層の変形に沿って凹状に変形した光反射
層とによって形成されている記録ピットによって該情報
が該光記録層に記録されていることを特徴とする光記録
媒体である。
光反射層がこの順番で積層された光記録層または多孔質
な記録補助層、光吸収層及び光反射層がこの順番で積層
された光記録層が、該光反射層が基板と対向しないよう
に該基板上に配置され、且つ該光記録層に情報が記録さ
れている光記録媒体において、凹状に変形した記録補助
層と該記録補助層の変形に沿って凹状に変形した光反射
層とによって形成されている記録ピットによって該情報
が該光記録層に記録されていることを特徴とする光記録
媒体である。
以下、本発明の具体的構成を図面を用いて説明する。
第1図は本発明の代表的な構成例を示す断面図であ
る。同第1図において、本発明の光記録媒体は光反射層
6と光吸収層8との間に、多孔質な記録補助層7を介在
せしめて積層して光記録層2aを形成し、該光記録層2aを
光吸収層8が下になる様に基板3の上に設け、最外層に
保護層4を設けて光反射層6を保護してなるものであ
る。
る。同第1図において、本発明の光記録媒体は光反射層
6と光吸収層8との間に、多孔質な記録補助層7を介在
せしめて積層して光記録層2aを形成し、該光記録層2aを
光吸収層8が下になる様に基板3の上に設け、最外層に
保護層4を設けて光反射層6を保護してなるものであ
る。
また、本発明の光記録媒体の他の実施態様として光反
射層/光吸収層/多孔質な記録補助層/基板の順で積層
してもよい。
射層/光吸収層/多孔質な記録補助層/基板の順で積層
してもよい。
本発明において、基板3はガラス板、セラミックス
板、アルミ板、ステンレス板等の金属板、PVC.PMMA.PC
などのプラスチック板などを使用することが出来る。基
板は透明・不透明を問わず、又、その大きさも光記録媒
体の支持体である機能を満足すれば特に制限は無く、場
合によっては省略しても良い。
板、アルミ板、ステンレス板等の金属板、PVC.PMMA.PC
などのプラスチック板などを使用することが出来る。基
板は透明・不透明を問わず、又、その大きさも光記録媒
体の支持体である機能を満足すれば特に制限は無く、場
合によっては省略しても良い。
本発明において、光記録層2aが光反射層6と、多孔質
な記録補助層7と、光吸収層8からなることが本発明の
特徴の一つである。
な記録補助層7と、光吸収層8からなることが本発明の
特徴の一つである。
光記録層としては、光ビームの照射を受けてその光を
吸収し、これを熱に変換してその熱によって記録ピット
を形成する。所謂、ヒートモード記録材料であり、しか
も信号の読み取りの為の反射を有していることが要求さ
れる。
吸収し、これを熱に変換してその熱によって記録ピット
を形成する。所謂、ヒートモード記録材料であり、しか
も信号の読み取りの為の反射を有していることが要求さ
れる。
本発明は、この点に鑑み第1図に示される様に光反射
層6と記録補助層7および光吸収層8をそれぞれ順次積
層して光記録層とするもので、特に記録補助層7が多孔
質であることを特徴とするものである。
層6と記録補助層7および光吸収層8をそれぞれ順次積
層して光記録層とするもので、特に記録補助層7が多孔
質であることを特徴とするものである。
本発明において、光反射層は記録情報のS/Nを規定す
る重要な要因で、記録前の反射強度と記録後の反射強度
との比が大きいことが要求される。加えて、この光反射
層からの反射信号は光記録媒体の記録・再生にとって重
要なAT、AFを作動させる信号となる。
る重要な要因で、記録前の反射強度と記録後の反射強度
との比が大きいことが要求される。加えて、この光反射
層からの反射信号は光記録媒体の記録・再生にとって重
要なAT、AFを作動させる信号となる。
これらの点を考えると光反射層の反射率は高いほど好
ましいが、記録を考えると適当な透過率も必要であり、
両者の合理的な按分が必要となる。したがって、光反射
層の反射率としては10〜85%、好ましくは15〜60%が良
好である。
ましいが、記録を考えると適当な透過率も必要であり、
両者の合理的な按分が必要となる。したがって、光反射
層の反射率としては10〜85%、好ましくは15〜60%が良
好である。
光反射層としては金、銀、銅などの金属の蒸着、無電
解メッキやこれら金属粒子をベヒクル中に分散して塗布
することによって構成される。
解メッキやこれら金属粒子をベヒクル中に分散して塗布
することによって構成される。
光反射層の膜厚は、光記録層を構成する光吸収層との
関連によって決定される反射率と、その加工法、すなわ
ち蒸着か無電解メッキ、分散媒の塗布のいずれを選択す
るかで決定され、その範囲は数拾Å〜数m/m、好ましく
は20Å〜1.0m/mが望ましい。
関連によって決定される反射率と、その加工法、すなわ
ち蒸着か無電解メッキ、分散媒の塗布のいずれを選択す
るかで決定され、その範囲は数拾Å〜数m/m、好ましく
は20Å〜1.0m/mが望ましい。
本発明において、光吸収層は照射された光エネルギー
を吸収し、熱エネルギーに変換するもので、その熱によ
り記録補助層が変形して、積層した反射層と記録ピット
を形成する。
を吸収し、熱エネルギーに変換するもので、その熱によ
り記録補助層が変形して、積層した反射層と記録ピット
を形成する。
光吸収層は、光記録の際の記録ビームの波長に吸収特
性を持つ染・顔料などの物質、もしくはこれらの物質を
バインダー中に分散することによって構成される。
性を持つ染・顔料などの物質、もしくはこれらの物質を
バインダー中に分散することによって構成される。
光吸収層としてはTe,Bi,Sn,Sb,In等の低融点金属やそ
の合金及びAu,Ag,Cuなどの金属粒子、シアニン系、スク
ワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒドロコリン
系、メチン系、ナフトキン系の染・顔料及びベンゼンジ
チオールニッケル錯体などの有機金属錯体の類、カーボ
ンブラックやニグロシン等の黒色染・顔料などが好まし
く使用出来る。
の合金及びAu,Ag,Cuなどの金属粒子、シアニン系、スク
ワリウム系、フタロシアニン系、テトラデヒドロコリン
系、メチン系、ナフトキン系の染・顔料及びベンゼンジ
チオールニッケル錯体などの有機金属錯体の類、カーボ
ンブラックやニグロシン等の黒色染・顔料などが好まし
く使用出来る。
また、光吸収層の膜厚は数拾Å〜数m/m、好ましくは2
00Å〜0.5m/mが望ましい。
00Å〜0.5m/mが望ましい。
本発明において、記録補助層としては、ポリ塩化ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニル
系、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系、
ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等
のアクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリス
チレン系、セルローズ系、ポリカーボネート系、アイオ
ノマー系等の樹脂及びこれらの共重合体、混合物からな
る有機高分子物質やステアリン酸、パリミチン酸、フタ
ル酸、コハク酸などの有機カルボン酸及び固形パラフィ
ンなどが好ましく使用できる。
ル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニル
系、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系、
ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等
のアクリル系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリス
チレン系、セルローズ系、ポリカーボネート系、アイオ
ノマー系等の樹脂及びこれらの共重合体、混合物からな
る有機高分子物質やステアリン酸、パリミチン酸、フタ
ル酸、コハク酸などの有機カルボン酸及び固形パラフィ
ンなどが好ましく使用できる。
即ち、これらの物質としては400℃以下の低温、好ま
しくは200℃以下の低温で溶融、熱軟化などの熱変形を
起こすものである。
しくは200℃以下の低温で溶融、熱軟化などの熱変形を
起こすものである。
この様な記録補助層を多孔質にする方法としては以下
の手段で行うとが出来る。
の手段で行うとが出来る。
(1)成膜の際に、膨潤剤を作用させながらキャスティ
ングを行う方法。
ングを行う方法。
(2)成膜の際に、アゾジカルボンアミド、ジニトロペ
ンタメチレンテトラミン等の発泡剤を作用させる方法。
ンタメチレンテトラミン等の発泡剤を作用させる方法。
(3)成膜の際に、2種以上の樹脂もしくは2成分以上
から成る共重合体を分散剤として成膜し、その後溶剤を
作用させて分散剤の少なくとも一成分以上を溶解する方
法。
から成る共重合体を分散剤として成膜し、その後溶剤を
作用させて分散剤の少なくとも一成分以上を溶解する方
法。
共重合体としては、PVA−アクリロニトリル系グラフ
ト重合体、PVA−アクリル系グラフト重合体、アクリル
酸エチル−メタクリル酸メチル共重合体などを用いるこ
とができる。
ト重合体、PVA−アクリル系グラフト重合体、アクリル
酸エチル−メタクリル酸メチル共重合体などを用いるこ
とができる。
(4)成膜の際に、ジアゾ化合物、例えばジエチルアミ
ノベンゼンクロリドやジメチルアミノベンゼンジアゾニ
ウムクロリドの塩化亜鉛複塩やアジド化合物をバインダ
ーとし、これに光照射する方法。
ノベンゼンクロリドやジメチルアミノベンゼンジアゾニ
ウムクロリドの塩化亜鉛複塩やアジド化合物をバインダ
ーとし、これに光照射する方法。
(5)溶剤キャステングの際に、その溶剤の揮発速度を
制御することによって多孔質を作る方法。
制御することによって多孔質を作る方法。
多孔質の空隙は連続であっても、独立していても良
く、単位体積当りの空隙の割合、即ち空隙率は10%以
上、好ましくは10〜90%、特に20〜80%が良好である。
く、単位体積当りの空隙の割合、即ち空隙率は10%以
上、好ましくは10〜90%、特に20〜80%が良好である。
記録補助層の厚さは、数拾Å〜数m/m、好ましくは700
Å〜1.8m/mが望ましい。
Å〜1.8m/mが望ましい。
また、記録補助層の成膜はバーコート、ロールコート
などの通常知られている塗布方法によって行うことがで
きる。
などの通常知られている塗布方法によって行うことがで
きる。
本発明において、光記録層は基板3の上に設けられる
が、その場合、光吸収層、多孔質な記録補助層及び光反
射層を順次基板上に塗布あるいは蒸着して光記録層を設
定しても、ドライラミネート剤等の接着層を介して光記
録層を設けてもよい。
が、その場合、光吸収層、多孔質な記録補助層及び光反
射層を順次基板上に塗布あるいは蒸着して光記録層を設
定しても、ドライラミネート剤等の接着層を介して光記
録層を設けてもよい。
又、光記録層が、例えば銀塩感材のようにあらかじめ
薄いフィルム等の上にコートされているものは、そのフ
ィルムごと接着剤を介して基板上に設定することができ
る。
薄いフィルム等の上にコートされているものは、そのフ
ィルムごと接着剤を介して基板上に設定することができ
る。
本発明において、保護層4は、光記録層の機械的、化
学的、物理的な耐環境性を付与するもので、記録・再生
光に対し透明な材料で光記録層を被覆する。
学的、物理的な耐環境性を付与するもので、記録・再生
光に対し透明な材料で光記録層を被覆する。
例えば、ガラス板やセラミック板、ポリメチルメタア
クリレート、ポリカーボネート、塩化ビニル、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリスチレン、CR−39、ポリメチ
ルペンテンなどのプラスチック板を必要に応じて接着層
を介して光記録層上に設ける。
クリレート、ポリカーボネート、塩化ビニル、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリスチレン、CR−39、ポリメチ
ルペンテンなどのプラスチック板を必要に応じて接着層
を介して光記録層上に設ける。
別な例では、上述のプラスチック材料を直接光記録層
上にコートし、硬化せしめて保護層とする。この場合、
放射線硬化型の樹脂を使用することもできる。
上にコートし、硬化せしめて保護層とする。この場合、
放射線硬化型の樹脂を使用することもできる。
保護層は光記録層の上に設けられるが、必ずしも密着
している必要はなく、空気もしくは不活性ガスを介して
設けられても良い。
している必要はなく、空気もしくは不活性ガスを介して
設けられても良い。
保護層の外側の表面には、取扱いの上でキズやゴミの
付着を防ぐ為の耐磨耗処理、硬膜処理、防汚・防染処
理、帯電防止処理や耐久性向上を意図した、防湿処理、
防紫外線処理、防酸素透過処理(O2ガスバリヤー処理)
を必要に応じて施すことができる。
付着を防ぐ為の耐磨耗処理、硬膜処理、防汚・防染処
理、帯電防止処理や耐久性向上を意図した、防湿処理、
防紫外線処理、防酸素透過処理(O2ガスバリヤー処理)
を必要に応じて施すことができる。
本発明の光記録媒体に、第2図に示すように光記録層
2aの側からのレーザー光1を照射し情報の書き込みを行
うと、光記録層2aの光照射部には記録ピット5が形成さ
れる。この光照射により情報の書き込みが行われる際、
多孔質な記録補助層7の軟化、溶融に伴い、光照射部の
多孔質の空隙が減少することによって、記録ピットの形
状を整形、即ちリムが生じない、サイズの安定したピッ
トを作り、優れた再生信号を与えることができる。
2aの側からのレーザー光1を照射し情報の書き込みを行
うと、光記録層2aの光照射部には記録ピット5が形成さ
れる。この光照射により情報の書き込みが行われる際、
多孔質な記録補助層7の軟化、溶融に伴い、光照射部の
多孔質の空隙が減少することによって、記録ピットの形
状を整形、即ちリムが生じない、サイズの安定したピッ
トを作り、優れた再生信号を与えることができる。
さらに、本発明の光記録媒体は光記録層が高感度であ
る為に光を熱エネルギーに変換するための高い吸収があ
り、また、コントラストの良い信号を検出する為の適当
な反射率を持ち、さらに優れた耐久性(少なくとも10年
以上の保存に耐えること)を有するものである。
る為に光を熱エネルギーに変換するための高い吸収があ
り、また、コントラストの良い信号を検出する為の適当
な反射率を持ち、さらに優れた耐久性(少なくとも10年
以上の保存に耐えること)を有するものである。
[実施例] 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例1 サンクロミン・ブラック(Sunchormine Black)PEL
(住友化学工業(株)製)30重量部を、20重量%のポリ
ビニルブチラールを含有するエタノール溶液50重量部に
配合して均一に混合し、これを厚さ0.3mmの透明ポリエ
チレン基板上にバーコーターで塗布して成膜し、膜厚3.
5μmの光吸収層を設けた。
(住友化学工業(株)製)30重量部を、20重量%のポリ
ビニルブチラールを含有するエタノール溶液50重量部に
配合して均一に混合し、これを厚さ0.3mmの透明ポリエ
チレン基板上にバーコーターで塗布して成膜し、膜厚3.
5μmの光吸収層を設けた。
次に、ポリビニルブチラール20重量部と、発泡剤とし
てアゾジカルボンアミド20重量部を、シクロヘキサノン
溶液に分散して均一に混合し、前記の光吸収層の上にバ
ーコーターで塗布して成膜し、膜厚2μmで空隙率70%
の多孔質な記録補助層を設けた。
てアゾジカルボンアミド20重量部を、シクロヘキサノン
溶液に分散して均一に混合し、前記の光吸収層の上にバ
ーコーターで塗布して成膜し、膜厚2μmで空隙率70%
の多孔質な記録補助層を設けた。
さらに、該記録補助層の上にAlを蒸着し、膜厚130Å
の光反射層を設け、多孔質な光記録層を有する光記録媒
体を得た。
の光反射層を設け、多孔質な光記録層を有する光記録媒
体を得た。
この光記録層に波長830nmの半導体レーザーをビーム
径3μm、記録面上でのパワー3mWで書き込みを行った
結果、再生パワー0.1mWで再生信号で0.75以上のコント
ラストが得られた。
径3μm、記録面上でのパワー3mWで書き込みを行った
結果、再生パワー0.1mWで再生信号で0.75以上のコント
ラストが得られた。
このときの記録ピットを走査電子顕微鏡で観察した結
果、リムの生成はなく、そのピット径は3±0.25μmの
非常に安定した大きさの記録ピットが得られた。
果、リムの生成はなく、そのピット径は3±0.25μmの
非常に安定した大きさの記録ピットが得られた。
実施例2 厚さ1.0mmのポリビニルクロライド基板上に酸性染料
アルファスト・ブラック(Alfast Black)SW(オリエン
ト化学工業(株))の40重量%水溶液をスピンナーコー
トにより乾燥膜厚1.5μmの光吸収性層を設けた。
アルファスト・ブラック(Alfast Black)SW(オリエン
ト化学工業(株))の40重量%水溶液をスピンナーコー
トにより乾燥膜厚1.5μmの光吸収性層を設けた。
次いで、ポリビニルアルコールの20重量%メタノール
溶液に発泡剤としてアゾジカルボンアミド(キシダ化
学)を該ポリビニルアルコールの1/2重量比を添加し、
この溶液を該吸収性層の上にバーコーター塗布し、膜厚
7μmの多孔質な記録補助層を積層した。さらにその上
に金蒸着膜を100Åの厚さに設け光記録媒体を得た。
溶液に発泡剤としてアゾジカルボンアミド(キシダ化
学)を該ポリビニルアルコールの1/2重量比を添加し、
この溶液を該吸収性層の上にバーコーター塗布し、膜厚
7μmの多孔質な記録補助層を積層した。さらにその上
に金蒸着膜を100Åの厚さに設け光記録媒体を得た。
この光記録媒体に波長830nmの半導体レーザーによ
り、ビームスポット径4μm、記録面上におけるパワー
6mWで記録を行ない、再生パワー0.2mWの条件下で再生信
号のコントラストは0.73以上であった。
り、ビームスポット径4μm、記録面上におけるパワー
6mWで記録を行ない、再生パワー0.2mWの条件下で再生信
号のコントラストは0.73以上であった。
このときの記録ピットを走査電子顕微鏡により観察し
た結果、リムの生成はなく、そのピット径は4.0±0.3μ
mであり非常に安定した大きさ及び形状の記録ピットが
得られた。
た結果、リムの生成はなく、そのピット径は4.0±0.3μ
mであり非常に安定した大きさ及び形状の記録ピットが
得られた。
比較例1 実施例1において発泡剤のアゾジカルボンアミドを使
用しない以外全て同じ手順、条件を用いて、膜厚3.3μ
mの光記録層を有する光記録媒体を得た。
用しない以外全て同じ手順、条件を用いて、膜厚3.3μ
mの光記録層を有する光記録媒体を得た。
この光記録層に実施例1と同一条件で記録を行ったと
ころ、0.40以上のコントラストが得られた。
ころ、0.40以上のコントラストが得られた。
また記録ピットの周辺に幅0.1〜0.5μm程度のリムが
発生し、またピット径及び形状にばらつきが認められ
た。
発生し、またピット径及び形状にばらつきが認められ
た。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明の光記録方法及び光記録
媒体によれば、記録ピットの形状を常に一定にし、また
読み取りの際に、再生信号のエラー率を低減することが
できる等の利点がある。
媒体によれば、記録ピットの形状を常に一定にし、また
読み取りの際に、再生信号のエラー率を低減することが
できる等の利点がある。
第1図は本発明の光記録媒体の代表的な構成例を示す断
面図、第2図は情報の書き込み状態を示す断面図および
第3図は従来の光記録媒体の記録ピットの形成状態を示
す説明図である。 1……レーザー光、2a,2b……光記録層 3……基板、4……保護層 5……記録ピット、6……光反射層 7……記録補助層、8……光吸収層 9……リム
面図、第2図は情報の書き込み状態を示す断面図および
第3図は従来の光記録媒体の記録ピットの形成状態を示
す説明図である。 1……レーザー光、2a,2b……光記録層 3……基板、4……保護層 5……記録ピット、6……光反射層 7……記録補助層、8……光吸収層 9……リム
フロントページの続き (72)発明者 芳野 斉 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 五十嵐 幸子 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 加藤 清二郎 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−20237(JP,A) 特開 昭57−150149(JP,A) 特開 昭57−55540(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】光吸収層、多孔質な記録補助層及び光反射
層がこの順番で積層された光記録層または多孔質な記録
補助層、光吸収層及び光反射層がこの順番で積層された
光記録層が、該光反射層が基板と対向しないように該基
板上に配置されている光記録媒体に光ビームを照射して
該記録補助層の光ビーム照射部を凹状に変形せしめると
共に該記録補助層の変形に沿って該光反射層を凹状に変
形せしめて該光反射層に記録ピットを形成して情報の記
録を行うことを特徴とする光記録方法。 - 【請求項2】光吸収層、多孔質な記録補助層及び光反射
層がこの順番で積層された光記録層または多孔質な記録
補助層、光吸収層及び光反射層がこの順番で積層された
光記録層が、該光反射層が基板と対向しないように該基
板上に配置され、且つ該光記録層に情報が記録されてい
る光記録媒体において、凹状に変形した記録補助層と該
記録補助層の変形に沿って凹状に変形した光反射層とに
よって形成されている記録ピットによって該情報が該光
記録層に記録されていることを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61089954A JP2591940B2 (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 光記録方法及び光記録媒体 |
US07/532,127 US5026623A (en) | 1986-04-21 | 1990-06-04 | Optical recording medium |
US07/683,319 US5158859A (en) | 1986-04-21 | 1991-04-10 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61089954A JP2591940B2 (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 光記録方法及び光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62246785A JPS62246785A (ja) | 1987-10-27 |
JP2591940B2 true JP2591940B2 (ja) | 1997-03-19 |
Family
ID=13985088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61089954A Expired - Fee Related JP2591940B2 (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | 光記録方法及び光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2591940B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6933032B2 (en) | 2003-04-15 | 2005-08-23 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording media and process for recording and reproducing information on the media |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54150149A (en) * | 1978-05-17 | 1979-11-26 | Hitachi Ltd | Production of liquid crystal display device |
JPS6120237A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-29 | Canon Inc | 光学的情報記録媒体 |
-
1986
- 1986-04-21 JP JP61089954A patent/JP2591940B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6933032B2 (en) | 2003-04-15 | 2005-08-23 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording media and process for recording and reproducing information on the media |
US7413788B2 (en) | 2003-04-15 | 2008-08-19 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording media and process for recording and reproducing information on the media |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62246785A (ja) | 1987-10-27 |
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