JPH0354744A

JPH0354744A - 光情報記録媒体及びそれを用いた光情報記録方法

Info

Publication number: JPH0354744A
Application number: JP1191148A
Authority: JP
Inventors: Yoshikazu Takagishi; 高岸　吉和; Kunihiko Otaguro; 大田黒　国彦; Emiko Hamada; 浜田　恵美子; Toru Fujii; 徹藤井
Original assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Current assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date: 1989-07-24
Filing date: 1989-07-24
Publication date: 1991-03-08
Anticipated expiration: 2011-03-21
Also published as: JPH0827992B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野コ本発明は、少なくとも透光性基板と、該基板上に設けら
れた色素を含む光吸収層と、該光吸収層上に設けられた
反射層とを有するｔｉｌｔ報を光学的に書き込みあるい
は読み出し得る光情報記録媒体および該記録媒体への記
録方法に関するものである。

［従来の技術コ現在においては、ピットをあらかじめプレス等の手段で
基板の上に形成し、ピットが形成された面に金属の反射
膜を形成した再生算用の情報記録媒体としてコンパクト
ディスク（以下ＣＤという）が実用化されており、広く
普及している。

また、レーザービームを基板に照射して情報を記録する
光情報記録媒体も検討がされており、その中で、少なく
とも透光性基板と、該基板上に設けられた色素を含む光
吸収層と、該光吸収層上に設けられた反射層とを有し、
情報を光学的に書き込みあるいは読み出し得る光情報記
録媒体は、たとえば特開昭５４−８９６０５等によって
知られており、このような光情報記録媒体への記録状態
を示すものとして光吸収層に隣接する層が変形するもの
としては、特開昭５８−１８９８５１，　　特開昭５９
−１７１６８９等が知られている。

しかし、従来の吸収層として色素を用いた書き込み可能
な情報記録媒体では、記録された信号を再生Ｗ用の情報
記録媒体として広く知られているコンパクトディスク（
以下ＣＤという）と同じようにＣＤプレーヤーで再生す
ることはできなかった。

ＣＤとして再生するためには、ＣＤ規格に準拠する再生
信号が得られなければならない。ＣＤ規格に準拠するた
めには、反射率が７０％以上、！＋＋／Ｉｔ０−が０．
６以上、１３／Ｉｌ。，が０．３〜０．７、ブロックエ
ラーレートが３，ＯＸＩＯ−２以下、プッシュブル値が
０．０４〜０．０７の範囲内でなければならない。

また、光情報記録媒体から得られる再生信号のコントラ
ストを良くするために、プリグルーブ５が形成された基
板上に設けられた光吸収層の反射層側を略平坦にするこ
と（以下「レベリング」といろ）については、特開昭５
９−１３５６４０、特開昭５９−２１０５４６によって
知られており、プレピットを有する情報記録媒体ではあ
るが、プレピットの深さを規定したものとして、特開昭
６３−２５７９３　１等が知られている。

［発明が解決しようとする課題］しかし、プリグルーブ５が形成された基板に色素を含む
光吸収層が設けられ、さらに反Ｑ４ＥＪが設けられた光
情報記録媒体として、上記ＣＤ規格を満足するための光
吸収層の最適条件は何等示されていなかった。

したがって、本発明は、第一に、現在のＣＤ規格に準拠
可能な再生信号が得られる光情報記録媒体およびその光
情報記録媒体への記録方法を提供することを目的とし、
第二に、特に再生信号のコントラストの良い、具体的に
は、現在のＣＤ規格に定められたプッシュブルの値が良
好な光情報記録媒体を提供することを目的とし、第三、
に変調度の大きな再生信号が得られる光情報記録媒体を
提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段コ本発明の要旨は、第一に、透光性を有し、スパイラル状
にプリグルーブが形成された基板上に、直接または他の
層を介して色素からなる光吸収層が設けられ、該光吸収
層に直接または他の層を介して金ｆｉｔ摸からなる光反
射層が設けられた光情報記録媒体において、該光吸収層
の基？側の層界のプリグルーブ部分の深さをｄ　Ｒｕｂ
ｓ光吸収層の反射層側の層界のプリグルーブ部分の深さ
をｄ．■、光吸収層より透光性基板側にある層の複素屈
折率の実数部をｎｓｕｂ、光１及収層の鳩素屈折率の実
数部をｎ。５、再生光の波長をλとしたときの光学的位
相差ΔＳ＝２ｄｓｕｂ　｛ｎｓｕｂ　−　ｎｓｂ＊　（
　１　−　ｄａｂｓ／　ｄａｔ＋ｂ）　　）　／λ　が
、　ΔＳ≦０．　　３であることを特徴とする光情報記
録媒体である。

第二に、上記光情報記録媒体において、光吸収層の基板
側の層界のプリグルーブ部分の深さｄ　ｓｕｂがｄ　ｓ
ｕｌ＋≧５０ｎｍである光情報記録媒体である。

なお、上記光情報記録媒体は、光吸収層が透光性基板上
の一部の領域に形成され、同光吸収層の無い領域に予め
信号再生用のピットが形成されたＲＯＭ領域を有する光
情報記録媒体であってもよい。

第三に、透光性を有し、スパイラル状にプリグルーブが
形成された基板上に直接または他の層を介して色素から
なる光吸収層が設けられ、該光吸収層に直接または他の
層を介して金ａｉからなる光反射層が設けられた光情報
記録媒体に光学的に情報を記録する光情報記録方法にお
いて、光吸収層の基板側の層界のプリグルーブ部分の深
さをｄ　ｓｕｂ＋光吸収層の反射層側の層界のプリグル
ーブ部分の深さをｄａｂｓ、光吸収層より透光性基板側
にある層の複素屈折率の実数部をｎｓｕｂｓ光吸収層の
複素屈折率の実数部をｎｓｂ，、再生光の波長をλとし
たときの光学的位相差ΔＳ　”２　ｄａｕｂ　｛ｎｓｕ
ｂ−　ｎａｂｓ　（　１　−　ｄａｂｓ／　ｄ．，．）
）／λ　が、ΔＳ≦０、３である光情報記録媒体を用い
、透光性基板から記録光を照射し、光吸収層の基板側の
層を変形させることを特徴とする光情報記録方法である
。

第四に、上記光情報記録媒体において、光吸収層の基板
側の層界のプリグルーブ部分の深゜さｄ　ｓｕｍがｄ　
ｓｕｂ≧５０ｎｍである光情報記録方法である。

［作　　　用コ後に詳しく述べるように、上記光情報記録媒体において
、基板側から再生レーザー光を照射したとき、光反射層
によりプリグルーブの部分とそれ以外の部分Ｃ以下「ラ
ンド部」という。）とで反射されたレーザー光の光学的
位相差（ΔＳ＝２ＮＤ／λ）は、　ΔＳ　”　２　ｄ　
ｓｕｂ　（　ｎ　ｓｕｌ＋−ｎａｂｓ　（　ｌ−ｄａｂ
ｓ／ｄｓｕｂ）　）　／λ　で表わされ、第３図のよう
に、ΔＳを、一〇．５≦ΔＳ≦０．５で変化させるとき
、反射光は、干渉効果により、ΔＳ＝０で最大となり、
ΔＳ＝±０．５で最小となる。

本発明者らは、実験およびシミュレーシβンの結果より
、後述する各実施例の説明において明らかにされる通り
、ΔＳ≦０．３の範囲でＣＤ規格にＱ’ｌＡ可能な光情
報記録媒体が得ることができることを見出だした。さら
に、ｄｓｕｂを５０ｎｍ以上とすることにより変調度が
大きく、波形ひずみおよびジッターの少ない、ＣＤ規格
に準拠した光情報記録媒体が得るこ−とができる。

［実　施　例］次に、本発明に好適な光情報記録媒体を以下具体的に説
明する。

第１図と第２図において、ｌａは基板、２は光吸収層、
ｌｂは光吸収層２の透光性基板１側の層界、３は反射層
、３ｂは光吸収層２の反射層３側の層界、４は保ｒ！ｉ
層である。５は上記透光性基板ｌの上にスパイラル状に
形成されたプリグルーブ、６はこのプリグルーブ５以外
の部分、すなわちランド６である。

第１図において、ｄａｕｂは、光吸収層２に隣接する透
光性基板１側のランド６の部分の層界１ｂを基準とした
ときのプリグルーブ５の部分の同層界１ｂの最底部の深
さを示す。ｄ　ａｂｓ　は、光吸収層２の反射層３側の
ランド６の部分の履界３ｂを基準としたときのプリグル
ーブ５の部分の同層界３ｂの最底部の深さを示す。ｎ＊
ｕｋは、光吸収層２より透光性基板１側にある層の合成
複素屈折率の実数部を示し、それらの層が透光性基板１
を含んでＫｉ数層あるときは、各層の合成された複素屈
折率の実数部を示す。ｎｓｋ１は、光吸収Ｉ！！２の複
素屈折率の実数部を示し、ｄｇは、プリグルーブ５の部
分の光吸収層２の厚さを示し、ｄ９は、ランド６の部分
の光吸収層２の厚さを示す。

この場合において、透光性基板！側から光を照射したと
きに、プリグルーブ内の光吸収層２の上記基板１　ｆｉ
ｌｌｌの層を基準としたときのランド６の部分の光学的
距離は、ｎ　ｓｕｂ　”　ｄ　ｓｕｋ＋　ｎ　ａｂ，−
ｄＲ　　で表され、光吸収層２の上記基板１側の層を基
準としたときのプリグルーブ５の部分の光学的距離は、
ｎ．ｂ．●ｄｇで表される。したがって、その光学的距
離差（ＮＤ）は、ＮＤ＝ｎｓｕｂ　＠ｄｇｕｂ−　ｎａ
ｂｓ　（ｄ　Ｋ−　ｄ　９　）である。このとき、ｄ　
ｇ＋　ｄ　ａｂｌ　＝　ｄ　１１　＋　ｄ　ｓｕｂ　で
あり、変形すると、ｄｇ−ｄΩ＝ｄ．，．−ｄ。，であ
るから、透光性基板１側から再生レーザー光を照射した
とき、反射層３によりプリグルーブ５の部分とランド６
の部分とで反射されたレーザー光の光学的位相差（ΔＳ
＝２ＮＤ／λ）は、ΔＳ＝２　ｄａｕｂ　｛　ｎｓｕｂ
−　ｎａｂｓ　（　１　−　ｄｅｂｔ／　ｄｓｕｂ）　
）／λ　となる。

この場合において、第３図のように、ΔＳを、一〇．５
≦ΔＳ≦０．　　５で変化させるとき、反射光は、干渉
効果により、△Ｓ＝Ｏで最大となり、ΔＳ＝±０．５で
最小となる。

既に述べた通り本件発明による光情報記録媒体では、上
記ΔＳをΔＳ≦０．３の範囲とする。

そして、この光情報記録媒体に本発明による記録方法で
記録されたものをＣＤ規格に従って再生すると、ＣＤ規
格に準拠した出力信号が得れれる。なお、製造上の要求
、すなわち塗膜の均一性、透光性基板１の成形性の点か
ら−０．４≦ΔＳ≦０．３であることが望ましい。

さらに、ｄ，．を５０　ｎｍ以上、より望ましくは８０
ｎｍ以上とすることにより、変調度が大きく、波形ひず
みおよびジッターの少ない、ＣＤ規格に準拠した再生信
号が出力できる光情報記録媒体を得ることができる。

また、実験およびシミュレーシリンの結果より、光学的
パラメーターとして与えられるρ＝ｒｉｓｂｓ・ａ／λ
（ａはｄｇとｄｉ？の平均厚さ）が、０．０５≦ρ≦１
．　　６であることが望ましいことが分かっている。

このような条件を得るための光情報記録媒体は、以下の
ようなものである。

透光性基板ｌの材料は、レーザー光？二対する屈折率が
１．４〜１．　　６の範囲の透明度の高い材料で、耐術
撃注に優れた樹脂が望ましい。具体的には、ポリカーポ
ネート、アクリル等が例示できるが、これらに限られる
わけではない。

透光性基板１は上記のような材料を用いて、例えば射出
成形等の手段により成形される。

プリグルーブ５は、通常考えられる条件のものであれば
どのようなものでもよいが、５０〜２５０μｍの深さが
好適であり、さらに望ましくは８０〜１８０μｍの深さ
であることが望ましい。

プリグルーブ５は、基板の射出成形時にスタンバを即し
当てることにより形成されるのが通常であるが、レーザ
ーによってカッティングすることや２Ｐ法？こよって作
られるものでもよい。

光吸収層２と透光性基板ｌどの間には、Ｓｉ０２等の耐
溶剤層やエンハンス層をコーティングしておいてもよい
。

光吸収層２の材料は、光吸収性の仔機色素であり、シア
ニン色素、ボリメチン色素、トリアリールメタン色素、
ビリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデヒドロ
コリン色素、１・リアリールアミン色素、スクアリリウ
ム色素、クロコニックメチン色素等が例示できるが、こ
れらに限定されるものではなく、光吸収性のＹ７［色素
であるかぎり本発明の効果を得ることが可能である。

なお、光吸収層２には、他の色素、樹脂（例えばニトロ
セルロース等の熟可塑性招脂、熱可塑性エラストマー）
、液ゴム等を含んでいても良い。具体的には、イソブチ
レン、無水マレイン酸共重合体、エチレン酢ビコボリｖ
一塩Ｚ化ポリブロビレン、ポリエチレンオキシド、ポリ
アミド、ナイロン、クマロン樹脂、ケ］・ン樹脂、酢酸
ビニル、ボリスチレン、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール
）、ＰＶＥ（ポリビニルエステル）算が、セルロース誘
導体としては、カルボキシメチルセルロース、ニトロセ
ルロース、ＨＰＣ　（ヒドロキシブロビルセルロース）
、ＨＥＣ（ヒドロキシエチルセルロース）、ＭＣ（メチ
ルセルロース）、ＥＣ（エチルセルロース）ＥＨＥＣ　
（エチルヒドロキシエチルセルロース）、ＣＭＥＣ　（
カルボキシメチルエチルセルロース）等が、オリゴマー
としては、オリゴスチレン、メチルスチレンオリゴマー
等が、エラストマーゴムとしては、スチレンブロックコ
ボリマー　ウレタン系熱可塑性エラストマー等が挙げら
れる。

光吸収層２は、上記の色素および任意の添加剤を公知の
有機溶媒（たとえばケトンアルコール、アセチルアセト
ン、メチルセルロプ、トル工冫等）で溶解●溶媒和した
ものをプリグルーブが形成された透光性基板ｌの表面、
または同基板ｌの上にさらに他の層をコーティングした
表面上に形成される。

この場合の形成手段としては、蒸着法、ＬＢ法、スビン
コート法等が挙げられるが、光吸収層の濃度、粘度、溶
剤の乾燥速度を調節することにより層厚を制御できるた
めに、スビンコート法が望ましい。

光吸収層２の層厚を調整する方法は、具体的には、スビ
ンコートの回転数を変化させる、粘性の異なる物質を混
在させてスビンコートを行う、溶剤を複数種類用いて溶
解させた光吸収物質を用いてスビンコートを行う、高沸
点物質を混在させてスビンコートを行う等の手段が挙げ
られる。

反射ＮＪ３は、金ｉ膜が望ましく、例えば、金、銀、ア
ルミニウムあるいはこれらを含む合金を、蒸着法、スパ
ッタ法等の手段により形成される。

反射率が７０％以上を有することが必要であるため、特
に金または金を含む合金を主体とする金属で形成するこ
とが望ましい。

また、反射層３の酸化を防止するため、反射ｆｇＪ３の
上に耐酸化層等の他の層を設けてもよい。

なお、光吸収層２より反射層３側にある層は、基板側の
層に比べて熱変形温度が高く、かつ硬度が高いものであ
ることが望ましい。このように構成することによって記
録信号のブロックエラーレートの低減に効果が認められ
る。

上記反射層３の上には、保護Ｊｌｉ４を設けても良い。

保護層４は耐衝撃性の優れた樹脂によって形成されるこ
とが望ましい。たとえば紫外線硬化樹脂をスビンコート
法により塗布し、紫外線を照射して硬化させることによ
り形成する。

また、ウレタン等の仰性材で形成してもよい。

このようにして製造された光情報記録媒体では、第４図
に示すように、基板側から光吸収層に記録レーザー光を
照射することによって、光吸収痛のレーザー光照射部分
にエネルギーが与えられ、光吸収層の基板側の層を変形
させる。

この変形部分は、ＣＤの基板表面にあらかじめプレス等
の手段ζこより形成されたピットに近似したものである
。

記録信号の再生は、基板側から読取りレーザーを！１ａ
射することにより、ピット部分の反射光とピット以外の
部分の反射光の光学的位相差を読み取ることにより行わ
れる。

また、本発明では、光吸収層２が透光性基板ｌのほぼ全
面に形成された光情報記録媒体の他、透光性基板ｌの一
部が光吸収層２を有する記録可能領域であり、その他の
部分がＣＤフォーマット信号が再生できるピットを有す
る．Ｒ　Ｏ　Ｍ領域である光情報記録媒体にも適用が可
能である。

このような光情報記録媒体は、例えば、透光性基板Ｉの
表面のＲＯＭ頭域となる部分に信号再生用のピットをス
タンパ等で予め形成しておき、その外側の記録可能領域
にのみ光吸収層２を形成したものである。

このような光情報記録媒体では、ＲＯＭ領域に予めプレ
ス等で大量に画一的なデータを記録しておくことができ
、しかもここには光吸収層が無いため、誤消去や別なデ
ータの誤記録のおそれが無い。また、光吸収層を有する
領域では、使用考独自のデータを任意に記録することが
できる。そして、この記録されたデータがＣＤ規格に準
じた信号をもって再生できるため、上記ＲＯＭ領域の情
報と同様に、市販のＣＤプレーヤで再生することができ
る。

次に本発明の具体的な実施例について、数値を挙げて詳
細に説明する。

（実施例１）幅０．４ｕｍｓ　深さ１　３　０　ｎ　ｆｆｈ　　ピッ
チ１．６μｍのスパイラル状のプリグルーブが形成され
た厚さ１．２ｍｍｓ　外径１　２　０　ｍ　ｍｓ　内径
１５ｍｍのポリカーボネート基板を射出成形法により成
形した。

シアニン色素として、０．５５ｇの１，１′一ジブチル
３．　　３．　　３’，　　３’テトラメチル４ｌ５，
４’，５’　−ジベンゾインドジカーボシアニンバーク
ロレート（日本感光色素■製、品番ＮＫ３２　１　９）
を、アセチルアセトン溶剤１〇一に溶解し、これを上記
基板の上に３００Ｏｒｐｍで約５秒間スビンコートシ、
膜化を始めたところで回転数を３００ｒｐｍに下げて十
分乾燥するまで回転させ、膜厚（ｄｇ　）１５０ｎｍの
光吸収層を形成した。

この先啜収層のグループ内の深さ（ｄｓｈｓ）は、６２
ｎｍであり、複素屈折率（ｎｍｂｓ）は、２。７である
。再生光の波長（λ）は、７８０ｎｍであり、このとき
の光学的バラメーター（ρ）は、０．５２である。また
、基板材料であるポリカーボネートの屈折率（　ｎｓｕ
ｂ　）は１．５８であるから、未記録状態のプリグルー
ブとランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、０．０５６で
ある。

このディスクの全面に真空蒸着法により、ｊ摸厚６０ｎ
ｍのＡｕｌ摸を形成した。さらに、この反射層の上に紫
外線硬化性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射
して硬化させ、厚みＩＯμｍの保護層を形成した。

こうして得られた光記録媒体に、波長７８０ｎｍの半導
体レーザーを線速１．２ｍ／ｓｅｅｓ記録パワー６．８
ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録した。そして、この光
記録媒体を、市販のＣＤプレーヤー（Ａｕｒｅｘ　　Ｘ
Ｒ−Ｖ７３、再生光λは、７　８　０　ｎ　ｍ＋　　再
生パワー０．５ｍＷのレーザー）で再生したところ、光
記録媒体の反０１率が７３．５％、再生信号のアイパタ
ーンから求められる！＋＋／Ｌ。，が、０．７８、Ｉｚ
／Ｉｔ。，が、０．　　４５、ブロックエラーレートが
、２．ＯＸＩＯ”　　プッシュプル値は、０．０６７で
あった。これは、ＣＤ規格に定める基準を十分に満足し
ている。

（実施例２）上記実施例ｌと同様に成形されたポリカーボネート基板
に、実施例ｌと同じシアニン色素０．６５ｇを、アセチ
ルアセトン溶剤１０ｃｃに溶解したものをスピンコート
法により２５０Ｏｒｐｍで約５秒間スビンコートした。

脱化を始めたところで回転数を８００ｒｐｍに下げて十
分乾燥するまで回転させ、ｊ摸厚（ｄｇ）１６０ｎｍの
光吸収層を形成した。

この光吸収層のグループ内の深さ（ａ．ｂ．）は、７５
ｎｍであり、複素廊折率（ｎａｉｌｓ）は、２．７であ
る。再生光の波長（／１）は、７８０ｎｍであり、この
ときの光学的バラメーター（ρ）は、０．５５である。

また、基板材料であるポリカーボネートの屈折１’（ｎ
ｓｏｂ）はｌ．５８であるから、未記録状態のプリグル
ーブとランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、０．１５で
ある。

このディスクの全面に真空蒸着法により、膜厚６０ｎｍ
のＡｕｇを形成した。さらに、この反０４Ｍｊの上に紫
外線硬化性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射
して硬化させ、厚みＩＯμｍの保護層を形成した。

こうして得られた光記録媒体に、実施例１と同様に、波
長７８０ｎｍの半導体レーザーを線速１．２ｍ／ｓｅｃ
ｓ　　記録パワー６．８ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記
録し、市販のＣＤプレーヤーで再生したところ、光記録
媒体の反射早が７０．３％、再生信号のアイパターンか
ら求められるＩ＋＋／Ｌ−　　が、０。７５、　Ｉｉ／
Ｌ。，が、０．　　４２、プロックエラーレートが、２
．２Ｘ１０−２　　プッシュプル値は、０．０６９であ
った。これは、ＣＤ規格に定める基準を十分に満足して
いる。

（実施例３）Ｗ　（）　．　　３　μｆｆｈ　　深さ１　８　０　ｎ
　ｍ−．　　ピッチ１．６μｍのスパイラル状のプリグ
ルーブが形成された厚さ１．２ｍｍｔ　外径１　２　０
　ｍ　ｆｆｈ　　内径１５ｍｍのポリカーボネート基板
を射出成形法により成形した。このように成形されたポ
リカーボネー１・基板に、実施例Ｉと同じシアニン色素
０．５０ｇを、アセチルアセトン溶剤１０ｃｃに溶解し
たものをスビンコー１・法により３０００ｒｐｍで約５
秒間スビンコートした。脱化を始めたところで回転数を
３０Ｏｒｐｍに下げて十分乾燥するまで回転させ、膜厚
（ｄｇ）１４０ｎｍの光吸収層を形成した。

この光吸収層のグループ内の深さＣｄ−ｂ−　）は、８
６ｎｍであり、複素屈折率（ｎｓｈ）は、２．７である
。再生光の波長（λ）は、７８０ｎｍであり、このとき
の光学的バラメーター（ρ）は、０．４８である。また
、基板材料であるポリカーボネートの屈折率（ｎｓｕｂ
）は１．５８であるから、未記録状態のプリグルーブと
ランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、一０．０６８であ
る。

このディスクの全面に実施例１と同様に反０｛層および
保護層を形成した。

こうして得られた光記録媒体に、実施例ｌと同様に、波
長７８０ｎｍの半導体レーザーを線速１．２ｍ／ｓｅｃ
ｘ　記録パワー６．８ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録
し、市販のＣＤプレーヤーで再生したところ、光記録媒
体の反射率が７７．５％、再生信号のアイパターンから
求められるＩ＋＋／Ｉｔ−，が、０．８５、　Ｉ３／Ｉ
ｔ。，が、０．４０，　　ブロックエラーレートが、５
，２Ｘ１０”　　プッシュプル値は、０．０５５であっ
た。これは、ＣＤ規格に定める基準を十分に満足してい
る。

（実施例４）幅０．８μｍｓ　　深さ１　８　０　ｎ　ｍｓ　　ビッ
チｌ．６μｍのスパイラル状のプリグルーブが形成され
た厚さ１．２ｒｎｍｓ　外径１　２　０　ｍ　ｒｒｈ　
　内径１５ｍｍのポリカーボネート基板を射出成形法に
より成形した。このように成形されたポリカーボネーＨ
Ｓ板に、実施例ｌと同じシアニン色素０．６０ｇを、ア
セチルアセトン溶剤１　０ｃｃに溶解したものをスビン
コート法により２５０Ｏｒｐｍで約５秒間スピンコート
した。脱化を始めたところで回転数を１５０Ｏｒｐｍに
下げて十分乾燥するまで回転させ、膜厚（ｄｇ　）　１
５０ｎｍの光吸収層を形成した。

この光吸収層のグループ内の深さ（ｄ−ｂ−）は、１１
８ｎｒｎであり、複素屈折率（ｎｉ−）は、２．７であ
る。再生光の波長（λ）は、７８０ｎｍであり、このと
きの光学的パラメーター（ρ）は、０．５２である。ま
た、基板材料であるポリカーポネートの屈折率（ｎｓｕ
ｂ）は１．５８であるから、未記録状態のプリグルーブ
とランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、Ｏ．３である。

このディスクの全面に実施例１と同様に反射層および保
護層を形成した。

こうして得られた光記録媒体に、実施例ｌと同様に、波
長７８０ｎｍの半導体レーザーを線ｉｔ。２ｍ／ｓｅｅ
ｓ　　記録パワー８．８ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記
録し、市販のＣＤプレーヤーで再生したところ、光記録
媒体の反射車が７０．０％、再生信号のアイパターンか
ら求められるＩ　＋＋／　Ｉ　ｔｏｐ　が、Ｏ．　　ｆ
３１、Ｉｔ／Ｉｔ。，が、０．３２、ブロックエラーレ
ートが、５．５Ｘ１０−’　　プッシュブル値は、０．
０７０であった。これは、ＣＤ規格に定める基準を十分
に満足している。

（実施例６）幅０，４μｍ１　深さ１　８　０　ｎ　ｆｆｈ　　ピッ
チ１．６μｍのスパイラル状のプリグルーブが形成され
た厚さ１．２ｍｍｓ　外径１　２　０　ｍ　ｒｒｈ　　
内径ｌ５ｍｍのポリカーポネート基板を射出成形法によ
り成形した。このように成形されたポリカーボネート基
板に、実施例ｌと同じシアニン色素０．６５ｇを、アセ
チルアセトン溶剤１０ｃｃに溶解し、さらに６−ナイロ
ン（Ｍｗ＝３５０００）を０．１ｇ溶解したものをスビ
ンコート法により３０００ｒｐｍで約５砂間スピンコー
トした。膜化を始めたところで回転数を３００ｒｐｍに
下げて十分乾燥するまで回転させ、１摸厚（ｄｇ　）２
５０ｎｍの光吸収層を形成した。

この光吸収層のグループ内の深さ（ｄ．ｂ．）は、１０
ｎｍであり、複素屈折率（ｎａｂｓ）は、２．４である
。再生光の波長（λ）は、７８０ｎｍであり、このとき
の光学的バラメーター（ρ）は、０．７７である。また
、基板材料であるポリカーボネートの屈折’Ｆ　（　ｎ
　ｓｕｍ　）は１８５８であるから、未記録状態のプリ
グルーブとランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、−０．
３２である。

こうして得られた光記Ｄ媒体に、実施例１と同様に、波
長７８０ｎｍの半導体レーザーを線速１．　　２ｍ／ｓ
ｅｃ，　　記録パワー６．８ｍＷでｊｊｒ１射し、ＥＦ
Ｍ信号を記録し、市販のＣＤプレーヤーで再生したとこ
ろ、光記録媒体の反射率が７０．５％、再生信号のアイ
パターンから求められるＩ，，／昌。，が、０．６５、
　１３／１．。，が、０，３５、ブロックエラーレート
が、３．ＯＸＩＯ−２　　プッシュブル値は、０．０４
８であった。これは、ＣＤ規格に定める基準を十分に満
足している。

（実施例６）直径４６〜１００ｍｍφの範囲（　Ｒ　Ｏ　Ｍ　ｆｉｎ
ｌｘＮ）に、１４’ｌ　０．　　６　μｆｆｈ　　深さ
０．　　０８μｍｓ　　ピッチ１．６μｍのスパイラル
状のＣＤフォーマット信号が再生できるプレピット８が
形成され、その外側の直径１００−１１．７ｍｍφの範
囲（記録可能領ｂＡ）に、幅０−　　８ｕｍ１　深さ５
　０　ｎ　ｆｆｈピッチ１．　　６μｍのスパイラル状
のプリグルーブが形成された厚さ１．　　２ｍｍｓ　　
外径１２０ｍｍ１　　内径１５ｍｍのボリカーボネート
基板を射出成形法により成形した。このように成形され
たポリカーボネート基板の直径１００ｍｍφより外周側
の部分、つまり記録可能領域の上にのみ、実施例ｌと同
じシアニン色素０．５Ｆｌｚｒを、アセチルアセトン溶
剤１０ｃｃに溶解したものをスビンコート法により３０
００ｒｐｒｎで約５秒間スビンコートした。ｊ摸化を始
めたところで回転数を３００ｒｐｍに下げで十分乾燥す
るまで回転させ、ｊ模１！！　（ｄｇ　）１５０ｎｍの
光吸収層を形成した。

この光吸収層のグループ内の深さ（ｄ．ｂ．）は、４０
　ｎｍであり、複素屈折車（ｎａｂｓ）は、２．７であ
る。再生光の波長（λ）は、７８０ｎｍであり、このと
きの光学的バラメーター（ρ）は、０．５２である。ま
た、基板材料であるポリカーボネートの屈折率（ｎｓｕ
ｂ）は！．５８であるから、未記録状態のプリグルーブ
とランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、０．１３である
。

このディスクの全面に実施例ｌと同様に反Ｑ１層および
保護層を形成した。

こうして得られた光記録媒体の記録可能領域に、実施例
１と同様に、波長７８０ｎｍの半導体レーザーを線速１
．２ｍ／ｓｅｅｓ　　記録パワー６．８ｍＷで！Ｉｑ射
し、ＥＦＭ信号を記録し、市販のＣＤプレーヤーで再生
したところ、光記録媒体の反射率が７５．０％、再生信
号のアイパターンから求められるＩｘ／ＩＬ０−　が、
０．６　０−　　１　ｚ／　Ｉ　ｔ−−が、０，３１、
ブロックエラーレートが、６．ＯＸＩＯ−３　　プッシ
ュブル値は、０．０７０であった。これは、ＣＤ規格に
定める基準を十分に満足している。

（比較例■）上記実施例ｌと同様に成形されたポリカーボネートλ（
板に、実施例ｌと同じシアニン色素０．５５ｇを、アセ
チルアセトン溶剤１０ｃｃに溶解したものをスビンコー
ト法により３０００ｒｐｍで十分乾燥するまで回転させ
、膜厚（ｄｇ）１３０ｎｍの光吸収層を形成した。

この光吸収層のグループ内の深さ（ｄ−ｂ−）は、　１
０５ｎｍであり、複素屈折率（ｎｓｂａ）は、２，７で
ある。再生光の波長（／１）は、１８００ｍであり、こ
のときの光学的パラメー２−（ρ）は、０．４５である
。また、基板材ｔであるポリカーボネートの屈折率（ｎ
ｓｕｂ）ｃ；ｌ．５８であるから、未記録状態のプリグ
ルーブとランドとの光学的位相差（ΔＳ）は、０．３５
である。

このディスクの全面に真空蒸着法により、那厚６０ｎｍ
のＡｕ膜を形成した。さらζこ、こＣ反射層の上に紫外
線硬化性樹脂をスピンコートし、これに紫外線を照射し
て硬化させ、厚み１０μｍの（！１護層を形成した。

こうして得られた光記録媒体に、実施例１と同様に、波
長７８０ｎｍの半導体レーザーを斜速１，　　２ｍ／ｓ
ｅｃｔ　　記録パワー８．８ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号
を記録し、市販のＣＤプレーヤーで再生したところ、光
記録媒体の反射率が６３，Ｏ％、再生信号のアイパター
ンから求められるＩｚ／Ｌ−　　が、０．７５、　Ｉｉ
／ｒｔ。，が、０．５２、ブロックエラーレートが、３
．ＯＸＩＯ−３　　プッシュブル（直は、０．０８７で
あった。

このようにΔＳが、０．３５のときは、反射率が低く、
プッシュブル値が悪くなり、ＣＤ規格の基準値を満足す
ることはできない。

［発明の効果コ本発明によれば、現在のＣＤ規格に準拠した、特にＣＤ
規格に定められたプッシュプル値の良好な光情報記録媒
体および該記録媒体への記録方法を提供することができ
る。さらに、上記第二と第四の手段によれば、良好な変
調度を有する再生信号が得られる光情報記Ｂ媒体および
該記録媒体への記録方法を提供することができる。

４，図面の１１１Ｉ１ｉな説明第１図は、本発明の実施例を示す光情報記録媒体の部分
的断面図、第２図は、同光情報記録媒体の半断面斜視図
、第３図は、光情報記録媒体の光学的位相差と反射光の
岳の関係を示すグラフ、第４図は、光情報記録媒体に光
学的に記録した状態を模式的に示す部分的断面図である
。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）透光性を有し、スパイラル状にプリグルーブが形
成された基板上に、直接または他の層を介して色素から
なる光吸収層が設けられ、該光吸収層に直接または他の
層を介して金属膜からなる光反射層が設けられた光情報
記録媒体において、該光吸収層の基板側の層界のプリグ
ルーブ部分の深さをｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ、光吸収層の反射層
側の層界のプリグルーブ部分の深さをｄ＿ａ＿ｂ＿ｓ、
光吸収層より透光性基板側にある層の複素屈折率の実数
部をｎ＿ｓ＿ｕ＿ｂ、光吸収層の複素屈折率の実数部を
ｎ＿ａ＿ｂ＿ｓ、再生光の波長をλとしたときの光学的
位相差ΔＳ＝２ｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ｛ｎ＿ｓ＿ｕ＿ｂ−ｎ＿
ａ＿ｂ＿ｓ（１−ｄ＿ａ＿ｂ＿ｓ／ｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ）｝
／λが、ΔＳ≦０．３であることを特徴とする光情報記
録媒体。
（２）光吸収層の基板側の層界のプリグルーブ部分の深
さｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂがｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ≧５０ｎｍである上
記第１請求項記載の光情報記録媒体。
（３）光吸収層が透光性基板上の一部の領域に形成され
、同光吸収層の無い領域に予め信号再生用のピットが形
成されたＲＯＭ領域を有する上記第１たは第２請求項の
何れかに記載の光情報記録媒体。
（４）透光性を有し、スパイラル状にプリグルーブが形
成された基板上に直接または他の層を介して色素からな
る光吸収層が設けられ、該光吸収層に直接または他の層
を介して金属膜からなる光反射層が設けられた光情報記
録媒体に光学的に情報を記録する光情報記録方法におい
て、光吸収層の基板側の層界のプリグルーブ部分の深さ
をｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ光吸収層の反射層側の層界のプリグル
ーブ部分の深さをｄ＿ａ＿ｂ＿ｓ、光吸収層より透光性
基板側にある層の複素屈折率の実数部をｎ＿ｓ＿ｕ＿ｂ
、光吸収層の複素屈折率の実数部をｎ＿ａ＿ｂ＿ｓ、再
生光の波長をλとしたときの光学的位相差ΔＳ＝２ｄ＿
ｓ＿ｕ＿ｂ｛ｎ＿ｓ＿ｕ＿ｂ−ｎ＿ａ＿ｂ＿ｓ（１−ｄ
＿ａ＿ｂ＿ｓ／ｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ）｝／λが、ΔＳ≦０．
３である光情報記録媒体を用い、透光性基板から記録光
を照射し、光吸収層の基板側の層を変形させることを特
徴とする光情報記録方法。
（５）光吸収層の基板側の層界のプリグルーブ部分の深
さｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂがｄ＿ｓ＿ｕ＿ｂ≧５０ｎｍである上
記第４請求項記載の光情報記録方法。