JPH10320767A

JPH10320767A - 記録媒体原盤及び記録媒体

Info

Publication number: JPH10320767A
Application number: JP9127494A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Suzuki; 一也鈴木
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-05-16
Filing date: 1997-05-16
Publication date: 1998-12-04

Abstract

(57)【要約】【課題】基板の表面にうねり等の変形を生じさせるよ
うなことがない記録媒体原盤及びこの記録媒体原盤を使
用して作製された記録媒体を提供する。【解決手段】記録媒体原盤１は、一方面が成形する基
板の表面形状に対応した形状とされた転写層２と、転写
層２の他方面に形成された第１の補強層３と、第１の補
強層３の一方面に形成された第２の補強層４とを有す
る。そして、記録媒体は、このような記録媒体原盤１に
より成形された基板を有する。また、この記録媒体原盤
１は、転写層２と第２の補強層４とが、同等の膜厚、熱
膨張係数を有することにより、熱により記録媒体原盤自
体が歪んでしまうようなことがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を成形する記
録媒体原盤及びこの記録媒体原盤により成形された基板
を有する記録媒体に関し、詳しくは、少なくとも一方面
に磁性層が形成され、情報信号、アドレス信号等が磁気
ヘッド等により記録される基板を成形する記録媒体原盤
及びこの基板を有する記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばコンピュータシステムにおいて
は、磁気ディスクに対して記録再生を行う磁気ディスク
記録再生装置としてハードディスク装置が用いられてい
る。このハードディスク装置に内蔵されている磁気ディ
スクの両表面には、磁性膜が成膜されている。この磁気
ディスクは、記録再生時において、浮上するヘッドスラ
イダに搭載されている磁気ヘッドにより、磁性膜に情報
信号等が同心円状に記録再生される。

【０００３】近年、このようなハードディスク装置にお
いては、装置自体の小型化及び記録信号の大容量化が望
まれている。これらを実現するための手段としては、磁
気ヘッドの位置決め精度、すなわちトラッキング精度を
向上させることが挙げられる。このようにトラッキング
精度を向上させる方法としては、種々のトラッキングサ
ーボ方式がある。

【０００４】通常のトラッキングサーボ方式としては、
磁気ディスク上に記録されているトラッキング信号を磁
気ヘッドにより再生し、再生されたトラッキング信号に
基づいてヘッドスライダの位置を制御して磁気ヘッドを
トラック上の中央に位置決めする方式が採用されてい
る。

【０００５】このトラッキングサーボ方式によるトラッ
キング精度は、磁気ヘッドによる磁気ディスク上へのト
ラッキング信号の記録精度により変動する。したがっ
て、トラッキング精度を向上させるためには、高精度の
トラッキング信号記録用のヘッド送り機構が必要とな
る。

【０００６】しかし、このヘッド送り機構は、機械式で
あるため精度に限界があり、所望のハードディスク装置
の小型化及び大記録容量化を達成することができないと
いう問題があった。

【０００７】そこで、このような問題を解決するため、
磁気ディスクの両表面に凹凸部からなるデータ記録領域
（以下、データゾーンと称する。）と制御信号記録領域
（以下、サーボゾーンと称する。）とを予め形成した、
いわゆるプリエンボス型の磁気ディスクが開発されてい
る。

【０００８】このプリエンボス型の磁気ディスクは、ガ
ラスもしくはアルミニウム等からなり、表面に凹凸が形
成されている基板を有している。また、この磁気ディス
クは、上述のように、情報信号が記録されるデータゾー
ンと制御信号が記録されるサーボゾーンが形成されてい
る。

【０００９】データゾーンには、ゾーン等を記録するデ
ータトラックが凸部となるように形成されるとともに、
隣接するデータトラックを区分するためのガードバンド
が凹部となるように形成されている。

【００１０】また、サーボゾーンには、サーボロックを
生成する際の基準となるバースト部、データトラックを
特定するためのアドレス部及び磁気ヘッドをトラッキン
グ制御するためのファインパターン部等のサーボパター
ンが凸部もしくは凹部となるように形成されている。

【００１１】これらデータゾーン及びサーボゾーンは、
円環状の基板を射出成形法により成形する際に、成形用
金型に取り付けられたスタンパにより、基板の外周縁と
内周縁との間に転写成形される。基板上に成形されたデ
ータゾーン及びサーボゾーンは、表面に磁性膜が形成さ
れ、凹部と凸部とが逆極性となるように信号が記録され
る。

【００１２】このような磁気ディスクは、基板の表面に
サーボパターンを予め凹凸部を形成することにより形成
しているので、この凹凸部のパターンニングの精度によ
りトラッキングの精度が左右される。また、この凹凸部
は、フォトリソグラフィー等を利用してパターンニング
されるので、パターンニングの精度を向上させることに
より従来のヘッド送り機構の送りの精度よりも高くする
ことができる。したがって、このサーボパターンが形成
された磁気ディスクは、ハードディスク装置の小型化及
び大記録容量化を達成することが可能である。

【００１３】従来、上述のように予め凹凸パターンがパ
ターンニングされたプリエンボス型の磁気ディスクを構
成する基板は、基板に成形する凹凸パターンとは逆の形
状をパターンニングしたスタンパーを金型に取り付け、
合成樹脂等により射出成形することによって成形され
る。

【００１４】このスタンパーは、生産性の観点から、Ｎ
ｉからなるメッキを形成することにより作製される。ま
た、このスタンパーは、約０．３ｍｍ程度の厚さで作製
されたものが通常使用されている。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、合成樹脂を
使用した射出成形によって作製される磁気ディスク基板
は、ガラスやアルミニウムからなるものよりも製造工程
が単純でかつ安価で大量に製造することが可能である。

【００１６】特に、製造工程の観点では、基板に凹凸が
形成されるプリエンボス型の磁気ディスクの基板の場合
において、アルミニウム基板やガラス基板にプリエンボ
ス型のパターンニングを行う工程が複雑で技術的にも困
難であるため、合成樹脂を使用した射出成形によって作
製することが有効である。

【００１７】しかしながら、上述したスタンパーを金型
に取り付けて射出成形を行う際には、一対の金型を型締
めしたときの圧力により、スタンパーが金型に高温高圧
で押しつけられるため、金型の表面の不均一性がスタン
パー側に写し込まれたり、スタンパー自体が高温高圧に
よるうねりをもって変形してしまう。このスタンパーの
変形の原因としては、主としてスタンパー自体の剛性不
足が挙げられる。なお、射出成形した際の型締めしたと
きの圧力は、１平方センチメートル当たり約１３０ｋｇ
程度である。

【００１８】また、ガラスやアルミニウムを磁気ディス
ク基板として使用した場合、基板表面に対して平滑化を
行う工程は、基板の表面に対して研磨を施すことにより
平滑化させる。一方、合成樹脂からなる基板において
は、上述したような基板表面に対して平滑化を行う工程
がないため、基板表面における歪の問題が更に大きくな
る。

【００１９】ここで、表面にエンボスピットを形成する
ことによって情報信号が記録された再生専用の光学式デ
ィスクや、光磁気ディスク等においては、同様に、合成
樹脂からなる基板を使用しており、うねりが半径方向に
数ｍｍ〜数十ｍｍ程度の間隔で、数十ｎｍ〜数百ｎｍ程
度の深さで形成された基板を使用していた。このため、
光学ピックアップを使用して記録再生を行っても、光磁
気ディスク等においては、サーボゾーンが十分なことも
あり、基板の変形等がほとんど問題になるようなことが
なかった。

【００２０】しかしながら、射出成形法によって作製さ
れる合成樹脂からなる基板を磁気ディスク用の基板とし
て使用する場合においては、基板の平面度が非常に重要
な要素となるため、大きな問題となる。

【００２１】例えば、磁気ディスクを記録再生する際に
おいては、ヘッドスライダを表面から約４０ｎｍ〜８０
ｎｍ程度で浮上させながら記録再生を行うので、基板の
変形等は、ヘッドスライダの浮上特性に悪影響を及ぼ
し、浮上量変動を引き起こす。このようなヘッドスライ
ダに搭載されている磁気ヘッドと磁気ディスクの表面と
の間に発生する微妙なスペーシング変動は、磁気ヘッド
による信号の記録再生に悪影響を与え、トラッキングエ
ラーや記録再生信号の振幅の変動を引き起こす。さらに
は、磁気ディスクの表面が平坦でないと、磁気ディスク
の表面と磁気ヘッドとが衝突してしまう可能性もある。

【００２２】本発明は、上述したような実情に鑑みて提
案されたものであり、基板の表面にうねり等の変形を生
じさせるようなことがない記録媒体原盤及びこの記録媒
体原盤を使用して作製された記録媒体を提供することを
目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決する本
発明にかかる記録媒体原盤は、一方面が成形する基板の
表面形状に対応した形状とされた転写層と、転写層の他
方面に形成された第１の補強層と、第１の補強層の一方
面に形成された第２の補強層とを有することを特徴とす
るものである。

【００２４】このように構成された記録媒体原盤は、転
写層の一方面に第１の補強層が形成され、この第１の補
強層の一方面に第２の補強層が形成されているので、記
録媒体原盤自体の剛性を高くすることができ、かつ、熱
によりひずみが不均一になってしまうようなことがな
い。したがって、この記録媒体原盤は、高温高圧下にお
かれても、変形やうねり等が少ない。

【００２５】また、本発明にかかる記録媒体は、一方面
が成形する基板の表面形状に対応した形状とされた転写
層と転写層の他方面に形成された第１の補強層と第１の
補強層の一方面に形成された第２の補強層とを有する記
録媒体原盤を用いて成形された基板を有することを特徴
とするものである。

【００２６】このように構成された記録媒体は、転写層
の一方面に第１の補強層が形成され、第１の補強層上に
第２の補強層が形成されている記録媒体原盤により成形
された基板を有するので、記録媒体原盤自体の剛性を高
くすることができ、かつ、基板成形時の熱によりひずみ
が不均一になってしまうようなことがない記録媒体原盤
自体の変形が転写されるようなことがない。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる記録媒体原
盤及び記録媒体について図面を参照しながら詳細に説明
する。

【００２８】本発明に係る記録媒体原盤及び記録媒体
は、例えば図１に示すように、例えば合成樹脂等からな
り、少なくとも一方面に凹凸パターンが形成される基板
を成形するディスク原盤、及びこのディスク原盤を使用
することによって成形された基板上に磁性膜等を形成し
てなる磁気ディスクに適用することが可能である。

【００２９】このディスク原盤１は、図１に示すよう
に、一方面に基板に成形する凹凸パターンに対応した凹
凸パターンが形成された転写層２と、この転写層２の一
方面に形成された第１の補強層３と、第１の補強層３の
他方面に形成された第２の補強層４とからなる。ディス
ク原盤１は、このように転写層２、第１の補強層３、第
２の補強層４が形成されることにより、第１の補強層３
を転写層２と第２の補強層４とで挟み込むように構成さ
れている。そして、このディスク原盤１は、転写層２，
第１の補強層３，第２の補強層４が形成されることによ
り、全体として約０．３ｍｍ程度の厚さとされている。

【００３０】転写層２は、Ｎｉ、Ｉｒ、ＴｉＮ、Ｔｉ
Ｃ、ＳｉＮ、Ｃｒ、カーボン等が使用され、一方面に第
１の補強層３が形成されている。なお、この転写層２
は、生産性の観点から、安価なＮｉが好適である。ま
た、この転写層２は、一方面に成形する基板の表面形状
に対応した形状を有している。すなわち、このような転
写層２を備えたディスク原盤１は、表面に凹凸パターン
が形成されたいわゆるプリエンボス型の基板を成形する
ときは表面に凹凸パターンが形成され、表面が鏡面状と
されたいわゆるミラー型の基板を成形するときは一方面
が鏡面状とされる。また、この転写層２は、図１に示し
たように単層構造としてもよいが、多層構造としても良
い。

【００３１】第１の補強層３は、上記転写層２の一方面
に形成され、ディスク原盤１自体の剛性を高めるように
形成される。この第１の補強層３は、材料として例えば
Ｎｉ、Ｉｒ、ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＳｉＮ、Ｃｒ、カーボン
等が使用可能である。また、この第１の補強層３は、上
記転写層２よりも高い剛性を有することが望ましい。ま
た、この第１の補強層３は、図１に示したように単層構
造としてもよいが、更なる硬度の向上を図り、多層構造
としても良い。

【００３２】第２の補強層４は、上記第１の補強層２の
他方面に形成されている。この第２の補強層４は、上述
した転写層２と同じ材料であることが望ましく、例えば
Ｎｉ、Ｉｒ、ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＳｉＮ、Ｃｒ、カーボン
等が使用可能である。また、この第２の補強層４は、転
写層２と同等の膜厚であることが望ましい。また、この
第１の補強層３は、図１に示したように単層構造として
もよいが、更なる硬度の向上を図り、多層構造としても
良い。

【００３３】また、これらの転写層２と第２の補強層４
とは、同等の熱膨張係数を有することが望ましい。すな
わち、これら転写層２，第１の補強層３，第２の補強層
４は、例えば射出成形装置に搭載されて基板を成形する
際、転写層２と第２の補強層４との熱膨張度を同等とす
ることにより、第１の補強層３に印加される歪の均衡を
図ることができる。

【００３４】つぎに、上述したディスク原盤１の構成
を、製造方法の一例を説明することにより詳細に説明す
る。

【００３５】このディスク原盤１の製造方法は、ガラス
材からなるガラス原盤の一方面を研磨する研磨工程と、
ガラス原盤上にレジスト層を形成するレジスト層形成工
程と、このレジスト層をレーザー光により露光する露光
工程と、レーザー光により露光されたレジスト層を現像
する現像工程と、レジスト層上に転写層を形成する転写
層形成工程と、この転写層上に第１の補強層を形成する
第１の補強層形成工程と、第１の補強層上に第２の補強
層を形成する第２の補強層形成工程と、第２の補強層，
第１の補強層，転写層とからなるディスク原盤を金型に
取り付けるディスク原盤取付工程とを有する。

【００３６】先ず、研磨工程においては、図２に示すよ
うに、ガラス材からなるガラス板の一方面を研磨するこ
とによってガラス原盤５を作製する。この研磨工程で研
磨されたガラス原盤５は、一方面が研磨されることによ
り、後の工程でレジストが塗布される。

【００３７】次に、レジスト層形成工程においては、図
３に示すように、ガラス原盤５上に対して、露光処理に
よってアルカリ可溶性となるレジスト層６を形成する。

【００３８】次に、露光工程においては、図４に示すよ
うに、レーザー光Ｌをレジスト層６の表面に対物レンズ
７で集光して露光する。このとき、ガラス原盤５を回転
させながら、ガラス原盤５上に集光されているレーザー
光Ｌを一回転当たり等距離づつ半径方向に送る。このよ
うに、レーザー光Ｌを露光することにより、レジスト層
６にグルーブの潜像を一定の間隔のトラックピッチで螺
旋状に形成する。このとき、レーザー光Ｌの照射を断続
的に行うことにより、レジスト層６にランド及びグルー
ブ、又はエンボスピット等を潜像する。なお、表面が鏡
面とされたミラー型のディスク原盤を製造する際には、
上述したレジスト層形成工程、この露光工程、以下に述
べる現像工程を行わない。

【００３９】次に、現像工程においては、このガラス原
盤５をアルカリ性現像液で現像することにより、上述の
工程でレーザー光Ｌによって露光された部分を除去す
る。これにより、ディスク原盤に形成する凹凸パターン
を形成する。このレジスト層６で形成された凹凸パター
ンは、連続的な溝であるグルーブと、グルーブ間に残さ
れたランドとがガラス原盤５の半径方向に交互に形成さ
れる。

【００４０】次に、転写層形成工程においては、図５に
示すように、ガラス原盤５上に、一方面に成形する基板
の表面形状に対応した形状を有する転写層８を形成す
る。この転写層８は、例えばＮｉを無電解メッキ法によ
り形成する。

【００４１】次に、第１の補強層形成工程においては、
図６に示すように、上述の工程で形成された転写層８上
に第１の補強層９を形成する。このとき、第１の補強層
９は、転写層８よりも剛性が高い材料であることが望ま
しい。すなわち、この第１の補強層形成工程において
は、上述の工程で形成された例えばＮｉからなる転写層
８上に、Ｎｉよりも剛性の高い、例えばＣｒ等を所定の
厚さでメッキすることにより第１の補強層９を形成す
る。

【００４２】次に、第２の補強層形成工程においては、
図６に示すように、上述した工程で形成された第１の補
強層９上に第２の補強層１０を形成する。この第２の補
強層１０は、上記の転写層８と同様に、例えば、無電解
メッキ法によりＮｉを転写層８と同等の厚さで形成す
る。

【００４３】次に、ディスク原盤取付工程においては、
図７に示すように、ガラス原盤５上に形成された転写層
８，第１の補強層９及び第２の補強層１０をガラス原盤
５から剥離する。このとき、転写層８に付着している余
計なレジスト層を除去することにより、転写層８，第１
の補強層９，第２の補強層１０とからなるディスク原盤
１１を作製する。そして、このディスク原盤１１を、例
えば射出成形法によりディスク基板を作製する場合にお
いては、図８に示すように、射出成形装置を構成する金
型１２に取り付ける。

【００４４】なお、上述したディスク原盤の製造工程に
おいて、例えば図９に示すように、第１の補強層９を厚
さ方向における中心位置に配して、転写層８を２層構造
とし、第２の補強層１０を転写層８と同様に２層構造し
ても良い。このように、ディスク原盤１１は、転写層８
及び第２の補強層１０の積層数を増加させることにより
剛性を更に向上させることができる。より具体的には、
このように転写層８及び第２の補強層１０をそれぞれ２
層構造とすることによって製造されるディスク原盤は、
例えばＮｉ−Ｉｒ−Ｃｒ−Ｉｒ−Ｎｉからなる構造とし
ても良い。

【００４５】また、上述したディスク原盤の製造方法に
おいては、転写層８及び第２の補強層１０としてＮｉを
使用し、第１の補強層９としてＣｒを使用してＮｉ−Ｃ
ｒ−Ｎｉ構造を有するディスク原盤を製造する際の一例
について説明したが、例えばＮｉ−Ｉｒ−Ｎｉ構造を有
するディスク原盤を製造しても良いことは勿論であり、
転写層８と第２の補強層１０とが材料、膜厚等について
同等あれば種々の組み合わせが可能である。

【００４６】つぎに、上述したディスク原盤の製造方法
の他の一例について説明する。

【００４７】このディスク原盤の製造方法は、ガラス材
からなるガラス原盤の一方面を研磨する研磨工程と、こ
のガラス原盤の一方面に第２の補強層を形成する第２の
補強層形成工程と、この第２の補強層上に第１の補強層
を形成する第１の補強層形成工程と、この第１の補強層
上に転写層を形成する工程と、この転写層上にレジスト
を塗布するレジスト層形成工程と、このレジスト層をレ
ーザー光により露光する露光工程と、レーザー光により
露光されたレジスト層を現像する現像工程と、転写層に
凹凸パターン形成するようエッチングを施すエッチング
工程と、これら転写層と第１の補強層，第２の補強層と
からなるディスク原盤を金型に取り付けるディスク原盤
取付工程とを有する。なお、上述したディスク原盤の製
造方法と同一部分については、同一符号を付して説明す
る。

【００４８】先ず、研磨工程においては、上述したディ
スク原盤の製造方法と同様に、図１０に示すように、ガ
ラス材からなるガラス板の一方面を研磨することによっ
てガラス原盤５を作製する。この研磨工程で研磨された
ガラス研磨５は、一方面が研磨されることにより、後の
工程で第２の補強層が形成される。

【００４９】次に、第２の補強層形成工程においては、
図１１に示すように、一方面が研磨されたガラス原盤５
に対して第２の補強層１０を形成する。この第２の補強
層１０としては、例えばメッキ形成法によりガラス原盤
５上に例えばＩｒとＣｒとを順次形成することにより所
定の厚さに形成する。

【００５０】次に、第１の補強層形成工程においては、
図１２に示すように、第１の補強層１０上に製造された
ディスク原盤の剛性を向上させる第１の補強層９を形成
する。この第１の補強層９は、例えばＮｉを所定の厚さ
に形成する。

【００５１】次に、転写層形成工程では、図１２に示す
ように、ガラス原盤５上に基板成形時に対応した凹凸パ
ターンが形成される転写層８を形成する工程である。こ
の転写層８は、上述した第２の補強層１０に対応して第
１の補強層９上にＣｒとＩｒとを第２の補強層１０と同
等の厚さで順次形成する。

【００５２】このように第２の補強層１０，第１の補強
層９，転写層８を形成することにより、ガラス原盤５上
にＩｒ−Ｃｒ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｉｒの５層構造からなる積
層体が形成されることとなる。そして、このように第２
の補強層１０，第１の補強層９，転写層８を形成するこ
とにより、例えば積層体として約０．３ｍｍ程度の厚さ
となるようなされている。

【００５３】次に、レジスト層形成工程においては、図
１３に示すように、転写層８に対して、露光処理によっ
てアルカリ可溶性となるレジスト層６を形成する。

【００５４】次に、露光工程においては、図１４に示す
ように、レーザー光Ｌをレジスト層６の表面に対物レン
ズ７で集光して露光する。このように、レーザー光Ｌで
露光された部分は、後の現像工程において現像されるこ
とにより剥される。なお、表面が鏡面とされたミラー型
のディスク原盤を製造する際には、上述のレジスト層形
成工程、この露光工程、以下に述べる現像工程及びエッ
チング工程を行わない。

【００５５】次に、現像工程においては、このガラス原
盤をアルカリ性現像液で現像することにより、上述の工
程でレーザー光Ｌによって露光された部分を除去する。
これにより、レジスト層６でディスク原盤に形成する凹
凸パターン転写層８上に形成する。

【００５６】次に、エッチング工程においては、図１５
に示すように、アルカリ性現像液で現像されてレジスト
層６が剥された部分が凹部となるようにエッチングを施
す。このとき、エッチングは、イオンエッチング法等で
行う。このように、転写層８にエッチングが施されるこ
とにより、ディスク原盤上に形成される凹凸パターンが
形成される。なお、ここで形成する凹凸パターンは、デ
ィスク基板に成形する凹凸パターンとは逆の凹凸パター
ンとなる。

【００５７】次に、エッチング工程の後、転写層８上に
形成されている余分なレジスト層６を除去した後、ガラ
ス原盤取付工程においては、図１６に示すように、ガラ
ス原盤５から第１の補強層８，転写層９，第２の補強層
１０とからなるディスク原盤１１をガラス原盤５から剥
離する。そして、このディスク原盤１１を、図１７に示
すように、例えば射出成形法によりディスク基板を作製
する場合においては、射出成形装置を構成する金型１２
に取り付ける。

【００５８】このように製造されたディスク原盤は、図
１８に示すような表面形状で成形されている。ここで、
図１８は、縦軸としてディスク原盤の表面の凹凸深さ
［ｎｍ］を示し、横軸としてディスク原盤の円周方向に
おける位置［ｍｍ］を示した図である。このような表面
形状を有するディスク原盤は、転写層としてＮｉを使用
して約０．１２ｍｍの厚さで成膜したものであり、第１
の補強層としてＣｒを使用して約０．０６ｍｍの厚さで
成膜したものであり、第２の補強層としてＮｉを使用し
て約０．１２ｍｍの厚さで成膜されてなり、全体として
厚さが約０．３ｍｍの３層構造とされたものである。す
なわち、このディスク原盤は、Ｃｒからなる第１の補強
層をＮｉからなる転写層，第２の補強層で挟み込むよう
に構成されている。

【００５９】なお、以下に述べるディスク原盤又はディ
スク基板の表面の凹凸深さ［ｎｍ］とディスク原盤又は
ディスク基板の円周方向における位置［ｍｍ］との関係
は、接針式の表面形状検査装置により測定を行い、表面
に形成される情報信号等に対応した凹凸パターンの形状
を除去して示している。すなわち、ディスク原盤又はデ
ィスク基板の表面の凹凸深さ［ｎｍ］とディスク原盤又
はディスク基板の円周方向における位置［ｍｍ］との関
係は、ディスク原盤又はディスク基板に形成された凹凸
パターン以外の余計な凹凸やうねりを示している。ま
た、この表面の凹凸深さ［ｎｍ］と円周方向における位
置［ｍｍ］との関係が湾曲した特性となっているのは、
ディスク原盤又はディスク基板を表面形状検査装置に固
定したために生じたうねりであって、ディスク原盤又は
ディスク基板自体のうねりとは異なる。

【００６０】この図１８によれば、転写層，第１の補強
層，第２の補強層とからなるディスク原盤は、表面が平
滑な形状を有しており、余分な凹凸が形成されていない
ことがわかる。

【００６１】このようなディスク原盤に形成されている
凹凸パターンが転写されて成形されたディスク基板は、
図１９に示すように、射出成形されても、僅かな凹凸が
形成されているのみであって、ほぼディスク原盤の形状
が正確に転写されていることがわかる。

【００６２】一方、比較例として、Ｎｉのみからなり、
厚さが約０．３ｍｍのディスク原盤は、図２０に示すよ
うな表面形状を有している。そして、このようなディス
ク原盤を使用して射出成形されたディスク基板は、図２
１に示すように、表面に大きな凹凸が生じていることが
わかる。この凹凸は、約１００ｎｍ程度の深さを有し、
約２ｍｍ程度の周期で生じている。ただし、このディス
ク基板は、情報信号等の凹凸パターンは、正確に転写さ
れている。

【００６３】このように、約１００ｎｍ程度の深さの凹
凸が約２ｍｍ程度の周期で生じているディスク基板を有
する磁気ディスクに対して記録再生を行う際において
は、円周方向に約２ｍｍ程度の長さ寸法を有するスライ
ダに備えられた磁気ヘッドにより行う。このように、円
周方向に約２ｍｍ程度の長さ寸法を有するスライダを磁
気ディスク上に浮上させて記録再生を行うと、ディスク
基板に形成されている約２ｍｍ程度の周期の凹凸に振幅
も大きいため、スライダが追従できなくなってしまう。
すなわち、このような凹凸が生じている部分において
は、情報信号やアドレス信号等の記録再生が行われない
こととなってしまう。

【００６４】したがって、第１の補強層を挟み込むよう
に形成された転写層及び第２の補強層を有するディスク
原盤によれば、第１の補強層及び第２の補強層を形成す
ることによりディスク原盤自体の強度を向上させ、情報
信号やアドレス信号等の記録再生ができなくなってしま
うような凹凸がなく、記録再生が行われなくなるような
ことがないディスク基板を成形することが可能である。

【００６５】また、このディスク原盤は、例えば射出成
形法によりディスク基板を成形する際に熱が印加された
場合、図２２中の矢印で示すように膨張する。なお、こ
の図２２及び下記の図２３（ａ）及び図２３（ｂ）にお
ける図中の矢印は、熱による各層の膨張する様子を示
し、その膨張方向によって生じる応力の大きさを矢印の
太さにより示したものである。

【００６６】この図２２に示すように、ディスク原盤
は、各層の膨張によって生じる応力が、転写層と第２の
補強層とで同一であるならば、厚さ方向に歪んでしまう
ようなことがない。したがって、このディスク原盤は、
上述したように、例えばＮｉ−Ｃｒ−Ｎｉからなる３層
構造とすることにより、射出成形時において溶融された
高温の合成樹脂により熱が加えられ、熱膨張係数や膜厚
に起因して隣合う各層間のバランスが崩れたとしても、
ディスク原盤全体でのバランスを保つことができる。

【００６７】一方、ディスク原盤は、図２３（ａ）や図
２３（ｂ）のように、各層を異なる材料，膜厚からなる
２層構造または３層構造とした場合においては、各層間
の熱膨張係数や膜厚が異なることにより、射出成形時に
おいて例えば溶融された高温の合成樹脂により熱が加え
られると、各層間の膨張による方向は同一であるが、各
層間における膨張による力の強さが異なり、厚さ方向に
歪んでしまう虞がある。

【００６８】したがって、第１の補強層，転写層，第２
の補強層からなるディスク原盤は、従来のＮｉのみから
なるディスク原盤と比較してＮｉよりも硬度の高い材料
を使用して多層構造することにより、強度を高くするこ
とができるとともに、第１の補強層及び第２の補強層の
材料，熱膨張係数，膜厚等を略同一とすることにより、
多層構造としても熱による歪が大きくなってしまうよう
なことがない。

【００６９】つぎに、上述したようなディスク原盤を使
用して製造される磁気ディスクについて説明する。

【００７０】この磁気ディスク２０は、図２４に示すよ
うに、上述したような工程により製造されたディスク原
盤を備えた射出成形装置により成形されたディスク基板
上に磁性層等が形成され、情報信号やアドレス信号等が
記録される。この磁気ディスク２０は、情報信号が記録
されるデータゾーン２１と、アドレス信号等が記録され
るサーボゾーン２２とを有する。

【００７１】データゾーン２１は、磁気ディスク２０の
同心円状に凹凸パターンが形成され、凸状に形成された
信号情報が記録されるデータトラック部２３と、凹状に
形成されたガードバンド部２４である凹部とが形成され
る。このデータゾーン２１には、浮上する磁気ヘッドが
追従されることによって、情報信号の記録及び／又は再
生が行われる。

【００７２】データトラック部２３は、ディスク基板の
表面に形成された凸部によって形成される。このデータ
トラック部２３は、凸部で形成されることによって、所
定のトラックピッチを有してなる。また、このデータト
ラック部２３上には、磁性層が形成され、この磁性層の
磁化方向を変化させることで情報信号の記録が行われ
る。また、このデータトラック部２３は、記録された情
報信号に対応した漏れ磁界が磁気ヘッドにより検出され
ることによって再生が行われる。

【００７３】ガードバンド部２４は、上記データトラッ
ク部２３間の凹部によって形成される。また、このガー
ドバンド部２４には、磁性層が形成されるが、データト
ラック部２３よりもくぼんでいるために、磁気ヘッドと
の間にスペーシングロスが生じ、ほどんど情報信号等の
記録が行われない。したがって、このガードバンド部２
４は、磁気ヘッドによって情報信号の記録を行う際にヘ
ッド・ギャップの側面から生じる漏れ磁界によって、記
録されていたノイズ成分を低減させる働きをし、ＳＮ比
を向上させるという利点を有するようにしている。

【００７４】サーボゾーン２２は、図２５及び図２６に
示すように、磁気ディスク２０の中心から放射線状に形
成された凹凸部であり、データトラック部２３を分割し
て同心円状に配置された複数のセクタを形成する。この
セクタは、データトラック部２３を凹凸によって略垂直
に区切ることによって形成され、所定量の情報信号が記
録される。

【００７５】このサーボゾーン２２には、サーボロック
を生成する際の基準となるバースト部２５、データトラ
ック部２３を特定するためのアドレス部２６及び磁気ヘ
ッドをトラッキング制御するためのファインパターン部
２７等のサーボパターンが凹部又は凸部となるように形
成されている。そして、このサーボゾーン２２は、成形
されたディスク基板の表面に磁性層が形成され、凹部と
凸部に図２５中の矢印で示す逆極性ｍ１，ｍ２の信号が
記録される。すなわち、このサーボゾーン２２は、磁気
ヘッドを正確にデータトラック部２３上に追従させる機
能を持つ。

【００７６】このような磁気ディスク２０のサーボゾー
ン２２に対して記録されたサーボ信号の再生信号波形を
図２７に示す。この図２７は、横軸に時間［μｓｅｃ］
を示し、縦軸に再生信号波形の電圧値［ｍＶ］を示した
図である。この図２７によれば、上述したディスク基板
を有する磁気ディスク２０は、サーボ信号をほぼ一定の
振幅、一定の周期で再生していることがわかる。なお、
この磁気ディスク２０は、Ｎｉからなる転写層及び第２
の補強層とＣｒからなる第１の補強層とからなる３層構
造とすることにより全体の厚さを約０．３ｍｍ程度に形
成したディスク原盤を使用して成形されたディスク基板
を有している。

【００７７】一方、比較例として、Ｎｉのみからなり、
厚さが約０．３ｍｍのディスク原盤を使用して成形され
たディスク基板を有する磁気ディスクのサーボゾーンに
対して記録されたサーボ信号の再生信号波形を図２８に
示す。この図２８によれば、サーボ信号が一定の振幅、
一定の周期となっていないことがわかる。このような磁
気ディスクでは、正確な磁気ヘッドのトラッキング等を
とることができなくなる可能性がある。

【００７８】したがって、上述したようなディスク原盤
により成形されたディスク基板を有する磁気ディスク２
０は、表面の凹凸の周期が表面上を浮上するスライダの
円周方向の長さ寸法よりも小さくなってスライダが追従
できなくなってしまうようなことがない。したがって、
この磁気ディスク２０によれば、表面に形成された凹凸
により信号が再生できなくなってしまうようなことがな
い。

【００７９】なお、以上の説明においては、表面に情報
信号やアドレス信号が凹凸パターンとして成形された基
板を成形するディスク原盤及びこのディスク原盤により
成形された基板を有する磁気ディスクを主として説明し
たが、本発明に係る記録媒体原盤及び記録媒体は、表面
が鏡面とされたミラー型の基板を成形するミラー型のデ
ィスク原盤及びこのディスク原盤により成形されたミラ
ー型の基板を有する磁気ディスクについても適用可能で
あることは勿論である。

【００８０】以上の説明においては、本発明に係る記録
媒体原盤及び記録媒体をディスク原盤及び磁気ディスク
に適用した一例について説明したが、本発明に係る記録
媒体原盤及び記録媒体は、光ディスク、光磁気ディスク
等を構成する合成樹脂等からなる基板を成形する記録媒
体原盤及びこの記録媒体原盤を使用して作製された記録
媒体に適用することが可能であることは勿論である。

【００８１】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる記録媒体原盤は、一方面が成形する基板の表面形状
に対応した形状とされた転写層と、転写層の他方面に形
成された第１の補強層と、第１の補強層の一方面に形成
された第２の補強層とを有するので、記録媒体原盤自体
の強度を向上させ、かつ、熱により膨張しても全体とし
て歪の均衡を図ることができる。したがって、この記録
媒体原盤によれば、射出成形して記録媒体基板を成形し
ても、高温高圧に起因する凹凸やうねり等が生ずるよう
なことがない。したがって、この記録媒体原盤によれ
ば、表面に凹凸やうねり等のない記録媒体基板を成形す
ることが可能である。したがって、この記録媒体原盤に
より成形された基板は、例えば表面に磁性層が形成さ
れ、低浮上量で信号の記録再生を行う磁気ヘッドにより
記録再生を行うことが可能であり、情報信号の高密度化
を実現することが可能である。

【００８２】また、本発明に係る記録媒体は、一方面が
成形する基板の表面形状に対応した形状とされた転写層
と転写層の他方面に形成された第１の補強層と第１の補
強層の一方面に形成された第２の補強層とを有する記録
媒体原盤により成形された基板を有するので、表面に記
録媒体原盤の変形やうねり等が転写されるようなことが
ない。したがって、この記録媒体によれば、基板の表面
の凹凸やうねり等により、情報信号やアドレス信号等が
記録再生できなくなってしまうようなことがなく、情報
信号等の高密度化を実現することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用したディスク原盤の一例を示す断
面図である。

【図２】ガラス原盤の一例を示す断面図である。

【図３】ガラス原盤上にレジスト層を形成した状態の一
例を示す断面図である。

【図４】レジスト層上にレーザー光を露光する状態の一
例を示す断面図である。

【図５】レジスト層上に転写層を形成した状態の一例を
示す断面図である。

【図６】転写層上に第１の補強層，第２の補強層を形成
した状態の一例を示す断面図である。

【図７】ガラス原盤から第１の補強層と転写層と第２の
補強層とからなるディスク原盤を剥離する状態の一例を
示す断面図である。

【図８】射出成形装置の金型にディスク原盤を取り付け
る状態の一例を示す図である。

【図９】本発明を適用したディスク原盤の他の一例を示
す断面図である。

【図１０】ガラス原盤の一例を示す断面図である。

【図１１】ガラス原盤上に第２の補強層を形成した状態
の一例を示す断面図である。

【図１２】第２の補強層上に第１の補強層，転写層を形
成した状態の一例を示す断面図である。

【図１３】転写層上にレジスト層を形成した状態の一例
を示す断面図である。

【図１４】レジスト層上にレーザー光を露光する状態の
一例を示す断面図である。

【図１５】転写層上にエッチングを施す状態の一例を示
す断面図である。

【図１６】ガラス原盤から転写層，第１の補強層，第２
の補強層とからなるディスク原盤を剥離する状態の一例
を示す断面図である。

【図１７】射出成形装置の金型にディスク原盤を取り付
ける状態の一例を示す図である。

【図１８】Ｎｉ−Ｃｒ−Ｎｉの３層構造からなるディス
ク原盤の凹凸深さと円周方向における位置との関係を示
す図である。

【図１９】Ｎｉ−Ｃｒ−Ｎｉの３層構造からなるディス
ク原盤により成形されたディスク基板の凹凸深さと円周
方向における位置との関係を示す図である。

【図２０】Ｎｉのみからなるディスク原盤の凹凸深さと
円周方向における位置との関係を示す図である。

【図２１】Ｎｉのみからなるディスク原盤により成形さ
れたディスク基板の凹凸深さと円周方向における位置と
の関係を示す図である。

【図２２】本発明を適用したディスク原盤が受ける熱に
よる影響を説明するために示した断面図である。

【図２３】他のディスク原盤が受ける熱による影響を説
明するために示した断面図である。

【図２４】本発明を適用した磁気ディスクの一例を示す
平面図である。

【図２５】本発明を適用した磁気ディスクのサーボゾー
ンの一例を示す平面図である。

【図２６】本発明を適用した磁気ディスクのサーボゾー
ンの一例を示す断面図である。

【図２７】本発明を適用した磁気ディスクのサーボゾー
ンの再生信号の一例を示す図である。

【図２８】従来の磁気ディスクのサーボゾーンの再生信
号を示す図である。

【符号の説明】

１，１１ディスク原盤、２，９転写層、３，８第
１の補強層、４，１０第２の補強層、２０磁気ディス
ク、２１データゾーン、２２サーボゾーン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一方面が成形する基板の表面形状に対応
した形状とされた転写層と、上記転写層の他方面に形成された第１の補強層と、上記第１の補強層の一方面に形成された第２の補強層と
を有することを特徴とする記録媒体原盤。
【請求項２】上記転写層と、上記第２の補強層とは、
同じ材料からなることを特徴とする請求項１記載の記録
媒体原盤。
【請求項３】上記転写層と、上記第２の補強層とは、
同じ熱膨張係数を有することを特徴とする請求項１記載
の記録媒体原盤。
【請求項４】上記第１の補強層は、上記転写層及び第
２の補強層より剛性が高いことを特徴とする請求項１記
載の記録媒体原盤。
【請求項５】上記転写層の一方面には、信号に対応し
た凹凸パターンが形成されていることを特徴とする請求
項１記載の記録媒体原盤。
【請求項６】上記転写層の一方面が、鏡面とされてい
ることを特徴とする請求項１記載の記録媒体原盤。
【請求項７】磁気ヘッドにより情報信号の記録及び／
又は再生が行われる磁気ディスクを構成する基板を成形
することを特徴とする請求項１記載の記録媒体原盤。
【請求項８】一方面が成形する基板の表面形状に対応
した形状とされた転写層と、上記転写層の他方面に形成
された第１の補強層と、上記第１の補強層上に形成され
た第２の補強層とを有する記録媒体原盤を用いて成形さ
れた基板を有することを特徴とする記録媒体。
【請求項９】上記転写層と、上記第２の補強層とは、
同じ材料からなる記録媒体原盤を用いて成形された基板
を有することを特徴とする請求項８記載の記録媒体。
【請求項１０】上記転写層と上記第２の補強層とが同
じ熱膨張係数を有する記録媒体原盤を用いて成形された
基板を有することを特徴とする請求項８記載の記録媒
体。
【請求項１１】上記第１の補強層の剛性が、上記転写
層及び第２の補強層より高い記録媒体原盤を用いて成形
された基板を有することを特徴とする請求項８記載の記
録媒体。
【請求項１２】上記基板の少なくとも一方面には、信
号に対応した凹凸パターンが形成されていることを特徴
とする請求項８記載の記録媒体。
【請求項１３】上記基板の少なくとも一方面が、鏡面
とされていることを特徴とする請求項８記載の記録媒
体。
【請求項１４】上記基板の少なくとも一方面に磁性層
が形成され、磁気ヘッドにより情報信号の記録及び／又
は再生が行われる磁気ディスクであることを特徴とする
請求項８記載の記録媒体。