JP2730224B2

JP2730224B2 - 光磁気ディスク

Info

Publication number: JP2730224B2
Application number: JP1296535A
Authority: JP
Inventors: 清内田; 範夫宮武
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1989-11-15
Filing date: 1989-11-15
Publication date: 1998-03-25
Anticipated expiration: 2013-03-25
Also published as: JPH03157837A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明はオーバーライト可能な磁界変調方式の光磁気
記録媒体の媒体構成に関するものである。

従来の技術近年、光磁気ディスクは高密度記録メディアとして注
目され、一部商品化されている。

光磁気ディスクは半導体レーザなどの光を用いて記録
再生を行う記録メディアである。

垂直磁化膜である光磁気記録膜（TbFeCo、DyFeCoなど
の希土類−遷移金属非晶質合金）にレーザ光を照射して
局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の保磁力が減
少する。この時、外部磁化を印加して磁化の向きを変
え、情報の書き込み、消去を行う。

情報の再生は、カー効果やファラデー効果などの磁気
光学効果を利用する。

さて、記録方法には、前記レーザ光の照射及び外部印
加磁界のいずれを変調するかにより、光変調方式と磁界
変調方式がある。

前記光変調方式は外部印加磁界の向きを固定し、レー
ザ光の強度変調を行う。通常、消去と書き込みを同時に
行うオーバーライトはできず、消去モードと書き込みモ
ードが必要であり、情報の転送速度が遅いという課題が
ある。

前記光変調方式のオーバーライトを行うために、磁気
交換結合を用いた２層膜方式（例えば特開昭62−17594
8）や磁壁エネルギーを制御する方式（例えばデー．ル
ーガー，ジェー．シー．スゥィツ，アンドシー．ジェ
ー．リン：熱誘導磁壁エネルギー勾配を利用したテリビ
ュウム鉄の熱磁気ダイレクトオーバーライト，アプライ
ドフィジックスレター,52巻（18）,2号,1537頁,198
8年５月［D.Ruger,J.C.Suits,and C.−J.Lin:Thermo−
magnetic direct overwrite in TbFe using ther
mally induced domain wall energygradient,Appl.
Phys.Lett.52（18）,2,p.1537,May 1988］）が考案さ
れているが、前者は3KOeから5KOeという大きな外部印加
磁界が必要である、光磁気ディスクドライブ装置の小型
化、低コスト化が困難であるという課題を有している。
また、後者はその制御性の困難さから、まだ実用化に至
っていない。

前記磁界変調方式はレーザ光の強度を固定し、外部印
加磁界の向きを変調する方式である。変調した外部印加
磁界を発生する手段として、例えば光磁気ディスク装置
に用いられている浮動型磁気ヘッドがある（例えば公開
特許公報昭63−229643）。磁気ヘッドのコイルに流す電
流を変調し、外部印加磁界の変調を行うことができる。

しかしながら、レーザ光により局部的に加熱された光
磁気記録層の磁化を反転する為に必要な磁界は、磁気ヘ
ッドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記
録層の距離はできる限り近づける必要がある。

浮動型磁気ヘッドは、気体潤滑作用を利用して低浮上
（例えば数μｍ以下）できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクトスタートストップ（以下CSS
と略す）方式が必須である。

光磁気ディスクにおいてCSS方式を行うためには、１、光磁気ディスク静止時に、ディスク面と磁気ヘッド
スライダー面が吸着しないこと、２、光磁気ディスクの回転始動及び停止時の磁気ヘッド
接触走行時に、磁気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気
記録層を破壊しないこと、３、磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライ
ダー面に付着しないこと、が必要である。

上述した条件を満たすために、基板上に、第１保護
膜、光磁気記録層及び第２保護膜を順次形成し、前記第
２保護膜上に、熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性
樹脂を配合し、かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂組
成物を設けた光磁気ディスクが提案されている。（例え
ば公開特許公報昭63−229643）以下、図面を参照しながら、上述した従来の光磁気デ
ィスクの一例について説明する。

第５図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図で
ある。第５図において、11はガラス基板、12はプリグル
ーブパターンを持つ紫外線硬化性樹脂膜（通常厚さ10〜
100μｍ）、13はZnSまたはSiNで構成される第１保護膜
（通常厚さ60〜150nm）、14はTbFeCo光磁気記録膜（通
常厚さ20〜150nm）、15はZnSまたはSiNで構成される第
２保護膜（通常厚さ60〜150nm）、16はアルミナ粉、ポ
リビニルメチルエーテル樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂で
構成される混合樹脂組成物を塗布したクラッシュ防止膜
（厚さ１μｍ）、17はフッ化カーボン系オイル、19はス
ライダー、20はスライダー19の一端に設置される磁気ヘ
ッド、21は対物レンズ、22はレーザ光、23はディスク回
転駆動装置である。

以上のように構成された従来の光磁気ディスクについ
て、以下第５図を参照しながらその動作について説明す
る。

ディスク回転駆動装置23が静止時はスライダー19は光
磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カーボン系
オイル17を介して接触している。

ディスク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は
フッ化カーボン系オイル17上を滑走する。ディスク回転
駆動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19とクラッ
シュ防止膜16の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20はフッ化カーボン系オイル
17から浮上する。

磁気ヘッド20が浮上後、磁気ヘッド20と対物レンズ21
及びレーザ光22はアクセス駆動系（図示せず）により、
ディスク上の任意の位置に移動し、レーザ光22で光磁気
記録膜14を局所的に加熱し、磁気ヘッド20のヘッドコイ
ル（図示せず）に変調電流を流すことにより、光磁気記
録膜14に情報を書き込む。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了し、ディス
ク回転駆動装置23を停止する場合、スライダー19及び磁
気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、フッ化カー
ボン系オイル17を潤滑剤として接触走行し、クラッシュ
防止膜16上に静止する。

発明が解決しようとする課題しかしながら上記のような構成では、光磁気記録膜14
の記録再生特性の経年劣化が部分的に生じるという課題
を有していた。

幾多の実験を重ねた結果、この経年劣化はクラッシュ
防止膜16中に含有されるアルミナ粉が第２保護膜15に接
触し、第２保護膜15の接触部分の保護性が劣化し、光磁
気記録膜14の酸化が進み、この影響により発生している
ことが判明した。

また、CSS試験を繰り返すとクラッシュ防止膜16上の
フッ化カーボン系オイル17に大気中を浮遊する塵が付着
し、この塵がスライダー19及び磁気ヘッド20に再付着
し、磁気ヘッド20の浮上走行が妨げられ、光磁気記録膜
14への印加磁界の強度が安定せず、情報の書き込みが完
全に行われないという課題も有していた。

さらに、多湿状態のCSS試験では、クラッシュ防止膜1
6と磁気ヘッド20との吸着も、非定常的ながら発生する
という課題を有していた。

本発明は上記課題に鑑み、光磁気記録膜14の記録再生
特性の経年劣化がなく、スライダー19及び磁気ヘッド20
への塵付着がなく、磁気ヘッド20の光磁気ディスクへの
吸着もない光磁気ディスクを提供するものである。

課題を解決するための手段上記課題を解決するために本発明の光磁気ディスク
は、基板上に第１保護膜、光磁気記録膜、第２保護膜を
順次形成し、前記第２保護膜上に紫外線硬化性樹脂膜を
形成し、前記紫外線硬化性樹脂膜の上に熱硬化性樹脂に
研磨剤と静電防止剤と潤滑剤を混合した複合熱硬化性樹
脂膜を順次形成するか、または複合熱硬化性樹脂膜の代
わりに研磨剤と静電防止剤と潤滑剤を混合した複合紫外
線硬化性樹脂膜とを順次形成して光磁気ディスクを得る
構成である。

作用本発明は上記した構成、すなわち複合熱硬化性樹脂膜
または複合紫外線硬化性樹脂膜の何れかと第２保護膜と
間に紫外線硬化樹脂膜を設けることによって、複合熱硬
化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹脂膜に含有される
アルミナ粉（研磨剤）が直接第２保護膜に接触しない構
成となり、光磁気記録膜の記録再生特性の経年劣化がな
い光磁気ディスクを提供できる。

また、複合熱硬化性樹脂膜中または複合紫外線硬化性
樹脂中に含まれる潤滑剤により複合熱硬化性樹脂膜表面
または複合紫外線硬化性樹脂膜表面と磁気ヘッド、スラ
イダーの動摩擦係数を低減して、磁気ヘッドの複合熱硬
化性樹脂膜上または複合紫外線硬化性樹脂膜上の滑走を
滑らかにしている。

さらに複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹
脂膜に含まれる静電防止剤により複合熱硬化性樹脂また
は複合紫外線硬化性樹脂の電気伝導率を向上させて、光
磁気ディスクの回転時に生じる空気との摩擦による複合
熱硬化性樹脂または複合紫外線硬化性樹脂の帯電電圧を
下げることができ、この効果により複合熱硬化性樹脂上
または複合紫外線硬化性樹脂上への塵の静電吸着を低減
し、複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹脂膜
に含まれる研磨剤により、スライダー及び磁気ヘッドに
付着した塵を清浄する効果を持たせたことにより、安定
した磁気ヘッド浮上が達成可能な光磁気ディスクを提供
できる。

実施例以下本発明の一実施例の光磁気ディスクについて、図
面を参照しながら説明する。

第１図は、本発明の第１の実施例における光磁気ディ
スクの構成を示す断面図である。第１図に於いて、１は
基板、13はZnS、ZnSe・SiO₂またはSiNで構成される第１
保護膜（厚さ80nm）、14はTbFeCo光磁気記録膜（厚さ10
0nm）、15はZnS、ZnSe・SiO₂またはSiNで構成される第
２保護膜（厚さ80nm）、２は紫外線硬化性樹脂膜（厚さ
５μｍ）、３は研磨剤として粒径0.5μｍのAl₂O₃微粒
子、潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレ
ート、静電防止剤としてカーボン粒子を混入した複合熱
硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）、19はMnZnフェライトで構
成されたスライダー、20はスライダー19の一端に取り付
けられたMnZnフェライトで構成された磁気ヘッド、21は
対物レンズ、22はレーザ光、23はディスク回転駆動装置
である。

以上のように構成された本発明の第１の実施例による
光磁気ディスクについて、以下第１図を用いてその動作
を説明する。

ディスク回転駆動装置23が静止時はスライダー19は光
磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜３に接触している。

複合熱硬化性樹脂膜３に含有している潤滑剤が複合熱
硬化性樹脂３の表面ににじみ出し、複合熱硬化性樹脂膜
３とスライダー19の動摩擦係数は0.3〜0.5となる。ディ
スク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は複合熱
硬化性樹脂膜３上を滑らかに滑走する。ディスク回転駆
動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19と複合熱硬
化性樹脂膜３の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20は複合熱硬化性樹脂膜３か
ら浮上する。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了し、ディス
ク回転駆動装置23を停止した場合、スライダー19および
磁気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、複合熱硬
化性樹脂膜３上に静止する。

光磁気記録膜14の記録再生特性の経時変化を第２図に
描く。第２図は60℃80％RH環境下で、１回/15分の割合
でCSS、記録再生を繰り返した場合の経過時間に対する
再生S/Nの変化を示す。第２図に於いて、Ｂは従来の構
成による光磁気ディスクの再生S/Nの変化、Ａは本実施
例に於ける構成による光磁気ディスクの再生S/Nの変化
である。第２図から明らかなように従来例にみられる劣
化は認められない。

また、複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる静電防止剤に
より複合複合熱硬化性樹脂膜３上への塵の静電吸着は低
減され、熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤によりスラ
イダー19及び磁気ヘッド20に付着した塵を清浄する効果
があり、磁気ヘッド20は安定した浮上走行を行うことが
でき、磁気ヘッド20による光磁気記録膜14への磁界印加
が安定する。

以上のように本実施例によれば、基板１上に第１保護
膜13、光磁気記録層14及び第２保護膜15を順次形成し、
第２保護膜15上に紫外線硬化性樹脂膜２、紫外線硬化性
樹脂２上に研磨剤として粒径0.5μｍのAl₂O₃微粒子、潤
滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレート、
及び静電防止剤としてカーボン粒子を混入した複合熱硬
化性樹脂膜３を設けることにより、複合熱硬化性樹脂膜
３中の研磨粒子Al₂O₃が第２保護膜15に直接接触しない
こととなり、光磁気記録膜14の記録再生特性の経時劣化
がなく、安定した記録が実現できる光磁気ディスクを提
供することができる。

なお、本実施例では、複合熱硬化性樹脂膜３に混入す
る研磨剤としてAl₂O₃微粒子を用いたが、この研磨剤はZ
rOやSiO₂の微粒子としてもよい。

この場合、スライダー19の材質がMnZnフェライトより
低硬度のガラスを用いた場合でも、スライダー19の表面
を傷つけることがないという特徴を有する。

また、本実施例では、紫外線硬化性樹脂膜２上に塗布
する樹脂として、研磨剤、潤滑剤、静電防止剤を混入し
た複合熱硬化性樹脂膜３を用いたが、紫外線硬化樹脂膜
２上に塗布する樹脂として、研磨剤、潤滑剤、静電防止
剤を混入した複合紫外線硬化性樹脂膜としてもよい。

この場合、本実施例の効果と共に、紫外線硬化樹脂の
採用によって樹脂の硬化時間を数10秒に短縮できるとい
う効果を合わせ持つことができる。

さらに、本実施例では、紫外線硬化性樹脂膜２と複合
熱硬化性樹脂膜３の厚みを５μｍとしたが、紫外線硬化
性樹脂膜２の厚みをH1、複合熱硬化性樹脂膜３の厚みを
H2としたとき、H1≧１μｍ、H2≧１μｍ、H1＋H2≦10μ
ｍの範囲であれば、同様な効果を実現できる。

そして、本実施例で用いたAl₂O₃微粒子、ZrO微粒子や
SiO₂微粒子等の研磨剤の粒径は、複合熱硬化性樹脂膜３
の厚みをH2、各微粒子の粒径をR1としたとき、0.2μｍ
≦R1≦H2の範囲であれば、同様な効果を得ることができ
る。

また、本実施例では複合熱硬化性樹脂膜３に混入する
潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレート
を用いたが、潤滑剤はラウリン酸、ミリスチン酸、オレ
イン酸、ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと、
ノルマルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果が
得られる。

そして、本実施例では第２保護膜15上に紫外線硬化性
樹脂膜２を塗布して得たが、第２保護膜上に反射膜を設
け、この反射膜上に紫外線硬化樹脂膜２及び研磨剤、潤
滑剤、静電防止剤を混入した複合熱硬化性樹脂膜３を塗
布した構成に於いても同様の効果が得られる。

また、本実施例では、光磁気記録膜14が第１保護膜13
と第２保護膜15の間に設けられているが、光磁気記録膜
14及び反射膜を第１保護膜13と第２保護膜15の間に設け
た構成に於いても同様な効果が獲られる。以下本発明の
第２の実施例について図面を参照しながら説明する。

第３図は、本発明の第２の実施例における光磁気ディ
スクの構成を示す断面図である。第１図に於いて、１は
基板、13はZnS、ZnSe・SiO₂またはSiNで構成される第１
保護膜（厚さ80nm）、14はTbFeCo光磁気記録膜（厚さ10
0nm）、15はZnS、ZnSe・SiO₂またはSiNで構成される第
２保護膜（厚さ80nm）、２は紫外線硬化性樹脂膜（厚さ
５μｍ）、４は研磨剤として粒径0.5μｍのAl₂O₃微粒
子、潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレ
ート、静電防止剤としてカーボン粒子を混入した複合熱
硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）であり表面に高低差１μｍ
の凹凸処理を施している。19はスライダー、20は磁気ヘ
ッド、21は対物レンズ、22はレーザ光、23はディスク回
転駆動装置である。

以上のように構成された本発明の第２の実施例による
光磁気ディスクについて、以下第３図を用いてその動作
を説明する。

ディスク回転駆動装置23が静止時はスライダー19は光
磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜４上に形成された凸
面を介して接触している。

複合熱硬化性樹脂膜４に含有している潤滑剤が複合熱
硬化性樹脂膜４の表面ににじみ出し、複合熱硬化性樹脂
膜４とスライダー19の動摩擦係数は0.2〜0.4となる。デ
ィスク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は熱硬
化性樹脂膜４上を滑らかに滑走する。ディスク回転駆動
装置23の回転速度が上昇し、スライダー19と熱硬化性樹
脂膜４の相対速度が概略1m/s以上に達すると、スライダ
ー19及び磁気ヘッド20は複合熱硬化性樹脂４の凸面上か
ら浮上する。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了し、ディス
ク回転駆動装置23を停止する場合、スライダー19及び磁
気ヘッド20は浮上走行から滑走走行に移り、複合熱硬化
性樹脂膜４の凸面上に静止する。

光磁気ディスクは可搬性メディアであるため、低温環
境や多湿環境に放置される可能性がある。本実施例の構
成による光磁気ディスクを低温環境から多湿環境に移
し、光磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜４上に露結し
た際に、スライダー19が複合熱硬化性樹脂膜４上に接触
した場合でも、スライダー19と複合熱硬化性樹脂膜４の
吸着は発生しない。

これは、複合熱硬化性樹脂膜４の表面に凹凸処理を施
すことにより、接触面積が小さくなり吸着防止に効果的
であったことによる。

以上のように本実施例によれば、基板１上に第１保護
膜13、光磁気記録層14及び第２保護膜15を順次形成し、
第２保護膜15上に紫外線硬化樹脂膜２、紫外線硬化性樹
脂膜２上に、研磨剤として粒径0.5μｍのAl₂O₃微粒子、
潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレー
ト、及び静電防止剤としてカーボン粒子を混入した複合
熱硬化性樹脂膜４を設け、前記の複合熱硬化性樹脂膜４
の表面に高低差１μｍの凹凸処理を施すことにより、ス
ライダー19と複合熱硬化性樹脂膜４の接触面積が小さく
なり、前記スライダー19と複合熱硬化性樹脂膜４の吸着
がない光磁気ディスクを提供することができる。

なお、本実施例では、複合熱硬化性樹脂膜４の凹凸処
理の高低差を１μｍとしたが、凹凸処理の高低差Ｒは、
0.1μｍ≦Ｒ≦２μｍの範囲であれば同様な硬化が獲ら
れる。

また、本実施例では、複合熱硬化性樹脂膜４に混入す
る研磨剤としてAl₂O₃微粒子を用いたが、この研磨剤はZ
rOやSiO₂の微粒子としてもよい。

そして、本実施例では、紫外線硬化性樹脂膜２上に塗
布する樹脂として、研磨剤、潤滑剤、静電防止剤を混入
した複合熱硬化性樹脂膜４を用いたが、紫外線硬化樹脂
膜２上に塗布する樹脂として、研磨剤、潤滑剤、静電防
止剤を混入した紫外線硬化性樹脂膜としてもよい。

この場合、本実施例の効果と共に、樹脂の硬化時間を
短縮できるという効果を合わせ持つことができる。

さらに、本実施例では、紫外線硬化性樹脂膜２と複合
熱硬化性樹脂膜４の厚みを５μｍとしたが、紫外線硬化
性樹脂膜２の厚みをH1、複合硬化性樹脂膜４の厚みをH2
としたとき、H1≧１μｍ、H2≧１μｍ、H1＋H2≦10μｍ
の範囲であれば、同様な効果を実現できる。

そして、本実施例で用いたAl₂O₃微粒子、ZrO微粒子や
SiO2微粒子等の研磨剤の粒径は、複合熱硬化性樹脂膜４
の厚みをH2、各研磨微粒子の粒径をR1としたとき、0.2
μｍ≦R1≦H2の範囲であれば、同様な効果を得ることが
できる。

また、本実施例では熱硬化性樹脂膜４に混入する潤滑
剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレートを用
いたが、潤滑剤はラウリン酸、ミリスチン酸、オレイン
酸、ステアリン酸のいずれか１つ以上の組合せと、ノル
マルブチルスタレートとの混合剤でも同様な効果が得ら
れる。

以下本発明の第３の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。

第４図は、本発明の第３の実施例の光磁気ディスクと
同ディスクを装着する光磁気ディスク及び光磁気ディス
クカートリッジの構成を示す断面図である。第４図に於
いて、１は基板、13はZnS、ZnSe・SiO₂またはSiNで構成
される第１保護膜（厚さ80nm）、14はTbFeCo光磁気記録
膜（厚さ100nm）、15はZnS、ZnSe・SiO₂またはSiNで構
成される第２保護膜（厚さ80nm）、２は紫外線硬化性樹
脂膜（厚さ５μｍ）、３は研磨剤として粒径0.5μｍのA
l₂O₃微粒子、潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチ
ルスタレート、静電防止剤としてカーボン粒子を混入し
た複合熱硬化性樹脂膜（厚さ５μｍ）である。19はスラ
イダー、20は磁気ヘッド、21は対物レンズ、22はレーザ
光、23はディスク回転駆動装置、24は光磁気ディスクカ
ートリッジ、25はレーヨン等の不織布で構成されたライ
ナーである。

以上のように構成された本発明の第３の実施例による
光磁気ディスクについて、以下第４図を用いてその動作
を説明する。

ディスク回転駆動装置23が静止時はスライダー19は光
磁気ディスクの複合熱硬化性樹脂膜３上に接触してい
る。

複合熱硬化性樹脂膜３に含有している潤滑剤が複合熱
硬化性樹脂４の表面ににじみ出し、複合熱硬化性樹脂膜
３とスライダー19の動摩擦係数は0.3〜0.5となる。ディ
スク回転駆動装置23が駆動するとスライダー19は複合熱
硬化性樹脂膜３上を滑らかに滑走する。ディスク回転駆
動装置23の回転速度が上昇し、スライダー19と複合熱硬
化性樹脂膜３の相対速度が概略1m/s以上に達すると、ス
ライダー19及び磁気ヘッド20は複合熱硬化性樹脂膜３上
から浮上する。

光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了し、ディス
ク回転駆動装置23を停止する場合、磁気ヘッド20は浮上
走行から滑走走行に移り、複合熱硬化性樹脂膜３上に静
止する。

スライダー19が複合熱硬化性樹脂膜３上を滑走走行す
る際に、複合熱硬化性樹脂膜３上に存在する若干の塵
や、複合熱硬化性樹脂膜３に含まれる研磨剤によりスラ
イダー19や磁気ヘッド20から削り落とされた塵は、ライ
ナー25の繊維間に入り、複合熱硬化性樹脂膜３やスライ
ダー19、磁気ヘッド20に再付着することがなく、４万回
以上のCSS試験に対しても、スライダー19に塵付着はな
く、磁気ヘッド20は安定した浮上走行を続けることがで
きる。

以上のように本実施例によれば、基板１上に第１保護
膜13、光磁気記録層14及び第２保護膜15を順次形成し、
第２保護膜15上に紫外線硬化樹脂膜２、紫外線硬化性樹
脂膜２上に、研磨剤として粒径0.5μｍのAl₂O₃微粒子、
潤滑剤としてステアリン酸、ノルマルブチルスタレー
ト、及び静電防止剤としてカーボン粒子を混入した複合
熱硬化性樹脂膜３を設け、光磁気ディスクカートリッジ
24の複合熱硬化性樹脂膜３に面する内壁にライナー25を
設置することにより、複合熱硬化性樹脂膜３やスライダ
ー19、磁気ヘッド20に付着した塵が再付着することを防
止し、磁気ヘッド20の安定した浮上走行を行うことがで
き、光磁気記録膜14への磁界印加を確実に行うことがで
き、記録再生の信頼性が高い光磁気ディスクを提供する
ことができる。

この場合、本実施例の効果と共に、紫外線樹脂の採用
で樹脂の硬化時間を数10秒短縮でき、低コスト光磁気デ
ィスクを作製することができるという効果を合わせ持つ
ことができる。

発明の効果以上のように本発明は、基板上に第１保護膜、光磁気
記録層及び第２保護膜を順次形成し、第２保護膜上に紫
外線硬化性樹脂膜を形成し、前記紫外線硬化性樹脂膜上
に、熱硬化性樹脂に研磨剤、潤滑剤、及び静電防止剤を
混入した複合熱硬化性樹脂膜、または紫外線硬化性樹脂
に研磨剤、潤滑剤、及び静電防止剤を混入した複合紫外
線硬化性樹脂膜を設けることにより、光磁気、ディスク
停止時に、ディスク面と磁気ヘッド、スライダー面が吸
着しないこと、光磁気ディスクの回転始動及び停止時の
磁気ヘッドが光磁気ディスクの光磁気記録部を破壊しな
いことの課題が解決すると共に、さらに光磁気ディスク
カートリッジの内壁にライナーを設置することにより、
複合熱硬化性樹脂膜脂び複合紫外線硬化性樹脂膜中の研
磨粒子が第２保護膜に直接接触しないこととなり、光磁
気記録膜の記録再生特性の経時劣化がなく、複合熱硬化
性樹脂膜また複合紫外線硬化性樹脂膜、スライダー、磁
気ヘッドに付着した塵が再付着することを防止し、磁気
ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライダー面に
付着しないので安定した浮上走行を行うことができ、光
磁気記録膜14への磁界印加を確実に行え、記録再生の信
頼性が高い光磁気ディスクを提供することができる。

また、複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化樹脂
膜の表面に高低差が0.1μｍ以上２μｍ以下の凹凸処理
を施すことにより、スライダーと複合熱硬化性樹脂膜ま
たは複合紫外線硬化性樹脂膜の接触面積が小さくなるこ
とにより、複合熱硬化性樹脂膜、または複合紫外線硬化
性樹脂膜上に露結が発生した場合に於いても、前記スラ
イダーと複合熱硬化性樹脂膜または複合紫外線硬化性樹
脂膜の吸着がない光磁気ディスクを提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の第１の実施例における光磁気ディス
クの構成を示す断面図、第２図は本発明の第１の実施例
における光磁気ディスクのCSSを繰り返した場合の、経
過時間に対する再生S/Nの変化を示す図、第３図は、本
発明の第２の実施例における光磁気ディスクの構成を示
す断面図、第４図は本発明の第３の実施例の光磁気ディ
スクと同ディスクを装着する光磁気ディスク及び光磁気
ディスクカートリッジの構成を示す断面図、第５図は従
来例における光磁気ディスクの構成を示す断面図であ
る。１……基板、２……紫外線硬化性樹脂膜、３、４……複
合熱硬化性樹脂膜、11……ガラス基板、12……複合紫外
線硬化性樹脂膜、13……第１保護膜、14……光磁気記録
膜、15……第２保護膜、16……クラッシュ防止膜、17…
…フッ化カーボン系オイル、19……スライダー、20……
磁気ヘッド、21……対物レンズ、22……レーザ光、23…
…ディスク回転駆動装置、24……光磁気ディスクカート
リッジ、25……ライナー。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に第１保護膜、光磁気記録膜、第２
保護膜を順次形成し、前記第２保護膜上に紫外線硬化性
樹脂膜を形成し、前記紫外線硬化性樹脂膜の上に熱硬化
性樹脂に研磨剤と静電防止剤と潤滑剤とを含有する複合
熱硬化性樹脂膜を順次形成したことを特徴とする光磁気
ディスク。
【請求項２】熱硬化性樹脂膜が、紫外線硬化性樹脂に研
磨剤と静電防止剤と潤滑剤とを含有する複合紫外線硬化
性樹脂膜であることを特徴とする請求項１記載の光磁気
ディスク。
【請求項３】研磨剤が、Al₂O₃微粒子、ZrO微粒子、SiO₂
微粒子の少なくとも何れか１つであることを特徴とする
請求項１記載の光磁気ディスク。
【請求項４】熱硬化性樹脂膜の表面に、高低差が0.1μ
ｍ以上２μｍ以下の凹凸を形成したことを特徴とする請
求項１記載の光磁気ディスク。