JPH0863815A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH0863815A JPH0863815A JP19403294A JP19403294A JPH0863815A JP H0863815 A JPH0863815 A JP H0863815A JP 19403294 A JP19403294 A JP 19403294A JP 19403294 A JP19403294 A JP 19403294A JP H0863815 A JPH0863815 A JP H0863815A
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- magneto
- resin coating
- optical disk
- ultraviolet curable
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録エリアを広くとることができ、高記録容
量化を可能とする光磁気ディスクを製造する。 【構成】 紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法に
より塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜５の最外周部の盛り
上がり部分６を平坦化した後、硬化して保護膜を形成す
る。このとき、ノズル７により内周側から紫外線硬化型
樹脂塗膜５の最外周部の盛り上がり部分６に向けて気体
を吹き付けても良い。或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最
外周部の盛り上がり部分を吸引しても良く、また上記手
段を併用しても良い。
量化を可能とする光磁気ディスクを製造する。 【構成】 紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法に
より塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜５の最外周部の盛り
上がり部分６を平坦化した後、硬化して保護膜を形成す
る。このとき、ノズル７により内周側から紫外線硬化型
樹脂塗膜５の最外周部の盛り上がり部分６に向けて気体
を吹き付けても良い。或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最
外周部の盛り上がり部分を吸引しても良く、また上記手
段を併用しても良い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気ディスクの製造
方法に関し、詳細には少なくとも記録磁性膜を含む記録
磁性層上に形成される保護膜の形成に関する。
方法に関し、詳細には少なくとも記録磁性膜を含む記録
磁性層上に形成される保護膜の形成に関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピュータの外部記憶装
置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピュータの外部記憶装
置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。
【０００３】上記光磁気記録方式には、大きく分けて光
変調方式と磁界変調方式があるが、このうち磁界変調方
式は、オーバーライトが可能であることから注目されて
いる。また、上記磁界変調方式を用いれば高密度記録化
や高アクセス化が可能であり、このことからも注目され
ている。
変調方式と磁界変調方式があるが、このうち磁界変調方
式は、オーバーライトが可能であることから注目されて
いる。また、上記磁界変調方式を用いれば高密度記録化
や高アクセス化が可能であり、このことからも注目され
ている。
【０００４】上記磁界変調方式は、印加磁界を高速で反
転することにより磁性薄膜に情報を書き込むものであっ
て、磁界の印加は通常磁界発生手段を有する磁気ヘッド
によって行われる。
転することにより磁性薄膜に情報を書き込むものであっ
て、磁界の印加は通常磁界発生手段を有する磁気ヘッド
によって行われる。
【０００５】この場合、記録磁界の強さは磁気ヘッドと
磁性薄膜間の距離により決定されるため、磁気ヘッドを
なるべく磁性薄膜と近接させなければならない。また、
このことは、磁気ヘッド装置のシステムの低価格化にも
つながることから重要である。
磁性薄膜間の距離により決定されるため、磁気ヘッドを
なるべく磁性薄膜と近接させなければならない。また、
このことは、磁気ヘッド装置のシステムの低価格化にも
つながることから重要である。
【０００６】そこで、このような磁界変調方式において
は、光磁気記録媒体である、例えば光磁気ディスクの表
面に対して直接接触し、摺動しながら記録を行う摺動型
磁気ヘッド、或いは光磁気ディスク等の光磁気記録媒体
に対して数十μｍ〜数μｍ程度の微小な間隙を有して浮
上走行しながら情報の記録を行う浮上型磁気ヘッドの採
用が検討されている。これらの磁気ヘッドを採用すれ
ば、光磁気ディスクの磁性薄膜に対して十分な磁力が印
加できる。
は、光磁気記録媒体である、例えば光磁気ディスクの表
面に対して直接接触し、摺動しながら記録を行う摺動型
磁気ヘッド、或いは光磁気ディスク等の光磁気記録媒体
に対して数十μｍ〜数μｍ程度の微小な間隙を有して浮
上走行しながら情報の記録を行う浮上型磁気ヘッドの採
用が検討されている。これらの磁気ヘッドを採用すれ
ば、光磁気ディスクの磁性薄膜に対して十分な磁力が印
加できる。
【０００７】上記光磁気ディスクとしては、例えば、ポ
リカーボネート等からなる透明基板の一主面上に、膜面
と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大
きな磁性薄膜である記録磁性膜（例えば希土類−遷移金
属合金非晶質薄膜）や誘電体膜を積層し、さらに反射膜
を積層することにより記録磁性層を形成し、また上記記
録磁性膜の腐食を防止するために、記録磁性層の最上層
である反射膜上に紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜を
覆う如く形成したものが知られている。
リカーボネート等からなる透明基板の一主面上に、膜面
と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大
きな磁性薄膜である記録磁性膜（例えば希土類−遷移金
属合金非晶質薄膜）や誘電体膜を積層し、さらに反射膜
を積層することにより記録磁性層を形成し、また上記記
録磁性膜の腐食を防止するために、記録磁性層の最上層
である反射膜上に紫外線硬化型樹脂等よりなる保護膜を
覆う如く形成したものが知られている。
【０００８】そして、上記のような光磁気ディスクの保
護膜は、一般に、いわゆるスピンコーティング法により
紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外線を照射して硬化
させることにより形成される。
護膜は、一般に、いわゆるスピンコーティング法により
紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外線を照射して硬化
させることにより形成される。
【０００９】上記スピンコーティング法とは、以下のよ
うにして塗膜を形成する方法である。すなわち、塗膜を
形成しようとする基板を低速で回転させながら、その内
周側に塗料を供給した後、上記基板を高速で回転させ、
塗料を基板の外周側に向かって広げて全面に塗膜を形成
するものである。
うにして塗膜を形成する方法である。すなわち、塗膜を
形成しようとする基板を低速で回転させながら、その内
周側に塗料を供給した後、上記基板を高速で回転させ、
塗料を基板の外周側に向かって広げて全面に塗膜を形成
するものである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な光磁気ディスクにおいては、高記録容量化が要求され
ており、記録エリアをなるべく広くとることが重要な課
題となっている。
な光磁気ディスクにおいては、高記録容量化が要求され
ており、記録エリアをなるべく広くとることが重要な課
題となっている。
【００１１】しかしながら、上記のような光磁気ディス
クにおいては、保護膜を形成する紫外線硬化型樹脂をス
ピンコーティング法により塗布する際に最外周部に形成
され、そのまま硬化された盛り上がり部分が存在する。
なお、上記盛り上がり部分は、紫外線硬化型樹脂の粘
度，表面張力により異なるが、幅が１．２〜２．５ｍｍ
程度、高さが１５〜３０μｍ程度の大きさとなることが
多い。
クにおいては、保護膜を形成する紫外線硬化型樹脂をス
ピンコーティング法により塗布する際に最外周部に形成
され、そのまま硬化された盛り上がり部分が存在する。
なお、上記盛り上がり部分は、紫外線硬化型樹脂の粘
度，表面張力により異なるが、幅が１．２〜２．５ｍｍ
程度、高さが１５〜３０μｍ程度の大きさとなることが
多い。
【００１２】そして、例えば浮上型磁気ヘッドを用いた
場合、上記盛り上がり部分においては安定した浮上が困
難であり、かつ上記盛り上がり部分が浮上型磁気ヘッド
の浮上距離よりも高い場合には、磁気ヘッドが該盛り上
がり部分にぶつかってしまう。
場合、上記盛り上がり部分においては安定した浮上が困
難であり、かつ上記盛り上がり部分が浮上型磁気ヘッド
の浮上距離よりも高い場合には、磁気ヘッドが該盛り上
がり部分にぶつかってしまう。
【００１３】そのため、上記光磁気ディスクの記録エリ
アは盛り上がり部分の存在しない部分に限定され、記録
エリアを狭めざるを得ず、高記録容量化は難しい。
アは盛り上がり部分の存在しない部分に限定され、記録
エリアを狭めざるを得ず、高記録容量化は難しい。
【００１４】なお、磁気ヘッドとして摺動型磁気ヘッド
を用いた場合においても同様であり、光磁気ディスクの
保護膜の最外周部に盛り上がり部分が存在すると、盛り
上がり部分が存在する箇所には記録が行えないため、記
録エリアを狭めざるを得ず、高記録容量化は難しい。
を用いた場合においても同様であり、光磁気ディスクの
保護膜の最外周部に盛り上がり部分が存在すると、盛り
上がり部分が存在する箇所には記録が行えないため、記
録エリアを狭めざるを得ず、高記録容量化は難しい。
【００１５】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、保護膜の最外周部の盛り上がり部分
の発生を抑え、記録エリアを広くとり、高記録容量化を
可能とする光磁気ディスクの製造方法を提供することを
目的とする。
されたものであり、保護膜の最外周部の盛り上がり部分
の発生を抑え、記録エリアを広くとり、高記録容量化を
可能とする光磁気ディスクの製造方法を提供することを
目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、基板上に少なくとも記録磁性膜を形成
し、その上に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法
により塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させて保護
膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、紫外
線硬化型樹脂の塗布後に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周
部の盛り上がり部分を平坦化することを特徴とするもの
である。
めに本発明は、基板上に少なくとも記録磁性膜を形成
し、その上に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法
により塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させて保護
膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、紫外
線硬化型樹脂の塗布後に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周
部の盛り上がり部分を平坦化することを特徴とするもの
である。
【００１７】なお、本発明においては、紫外線硬化型樹
脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分を平坦化するため
に、内周側から紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り
上がり部分に向けて気体を吹き付ける、或いは紫外線硬
化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分を吸引しても
良く、また上記手段を併用しても良い。
脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分を平坦化するため
に、内周側から紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り
上がり部分に向けて気体を吹き付ける、或いは紫外線硬
化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分を吸引しても
良く、また上記手段を併用しても良い。
【００１８】
【作用】本発明の光磁気ディスクの製造方法において
は、保護膜を形成する紫外線硬化型樹脂をスピンコーテ
ィング法により塗布した後、紫外線硬化型樹脂塗膜の最
外周部の盛り上がり部分を平坦化するため、製造される
光磁気ディスクの保護膜の最外周部の盛り上がり部分の
発生が抑えられ、使用可能な記録エリアが広くなる。
は、保護膜を形成する紫外線硬化型樹脂をスピンコーテ
ィング法により塗布した後、紫外線硬化型樹脂塗膜の最
外周部の盛り上がり部分を平坦化するため、製造される
光磁気ディスクの保護膜の最外周部の盛り上がり部分の
発生が抑えられ、使用可能な記録エリアが広くなる。
【００１９】なお、本発明の光磁気ディスクの製造方法
においては、紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上
がり部分を平坦化するために、内周側から紫外線硬化型
樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分に向けて気体を吹
き付ける、或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛
り上がり部分を吸引しても良く、また上記手段を併用し
ても良く、簡便な手法で保護膜の平坦化が達成される。
においては、紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上
がり部分を平坦化するために、内周側から紫外線硬化型
樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分に向けて気体を吹
き付ける、或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛
り上がり部分を吸引しても良く、また上記手段を併用し
ても良く、簡便な手法で保護膜の平坦化が達成される。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例について実験結
果に基づいて説明する。
果に基づいて説明する。
【００２１】先ず、本実験例において使用した浮上型磁
気ヘッドについて述べる。図１に模式的に示すように、
上記浮上型磁気ヘッドは、図示しない磁気ヘッドが搭載
されたスライダー１が板バネであるサスペンション２に
支持されて光磁気ディスク３上に微小間隙を有して配さ
れてなるものである。上記光磁気ディスク３は例えば図
中矢印Ｍ方向に回転可能となされており、また、サスペ
ンション２はスライダー１を図中矢印Ｗで示す方向、す
なわち、光磁気ディスク３に押し付ける方向へのバネ荷
重を有する。
気ヘッドについて述べる。図１に模式的に示すように、
上記浮上型磁気ヘッドは、図示しない磁気ヘッドが搭載
されたスライダー１が板バネであるサスペンション２に
支持されて光磁気ディスク３上に微小間隙を有して配さ
れてなるものである。上記光磁気ディスク３は例えば図
中矢印Ｍ方向に回転可能となされており、また、サスペ
ンション２はスライダー１を図中矢印Ｗで示す方向、す
なわち、光磁気ディスク３に押し付ける方向へのバネ荷
重を有する。
【００２２】従って、磁気ヘッドの浮上距離、すなわち
スライダー１の浮上距離は、光磁気ディスク３の回転に
より生じる浮力とサスペンション２がスライダー１に与
えるバネ荷重により決定され、具体的には数１により求
められる。
スライダー１の浮上距離は、光磁気ディスク３の回転に
より生じる浮力とサスペンション２がスライダー１に与
えるバネ荷重により決定され、具体的には数１により求
められる。
【００２３】
【数１】
【００２４】なお、数１中、スライダー１の浮上距離を
ｈ（μｍ）とし、サスペンション２のバネ荷重をｗ
（Ｎ）とし、光磁気ディスク３の回転方向Ｍに対して垂
直方向のスライダー１の長さをＬ（ｍ）、平行方向の長
さをＢ（ｍ）とし、光磁気ディスの回転速度（線速）を
Ｕ（ｍ／ｓ）とした。本実験例で使用した浮上型磁気ヘ
ッドにおいては、Ｌが５．２ｍｍであり、Ｂが６．０ｍ
ｍであり、ｗが２．５×１０-2Ｎであるため、例えば線
速が１０．５５ｍ／ｓ（測定位置は中心から最外周に向
かって２８ｍｍの位置、回転数は１８００ｒｐｍに相
当）のときのスライダー１の浮上距離ｈは６μｍとな
る。従って、この浮上型磁気ヘッドを使用する場合、光
磁気ディスク上に６μｍよりも高い盛り上がり部分が存
在すると、光磁気ディスク全面にわたって安定した走行
を行うことができない。
ｈ（μｍ）とし、サスペンション２のバネ荷重をｗ
（Ｎ）とし、光磁気ディスク３の回転方向Ｍに対して垂
直方向のスライダー１の長さをＬ（ｍ）、平行方向の長
さをＢ（ｍ）とし、光磁気ディスの回転速度（線速）を
Ｕ（ｍ／ｓ）とした。本実験例で使用した浮上型磁気ヘ
ッドにおいては、Ｌが５．２ｍｍであり、Ｂが６．０ｍ
ｍであり、ｗが２．５×１０-2Ｎであるため、例えば線
速が１０．５５ｍ／ｓ（測定位置は中心から最外周に向
かって２８ｍｍの位置、回転数は１８００ｒｐｍに相
当）のときのスライダー１の浮上距離ｈは６μｍとな
る。従って、この浮上型磁気ヘッドを使用する場合、光
磁気ディスク上に６μｍよりも高い盛り上がり部分が存
在すると、光磁気ディスク全面にわたって安定した走行
を行うことができない。
【００２５】次に光磁気ディスクの製造について述べ
る。なお、本実験例においては、３．５インチの光磁気
ディスクを製造するものとした。先ず、基板上に前述の
ような構成の記録磁性層をこの種の光磁気ディスクの製
造に通常用いられる手段により形成した。
る。なお、本実験例においては、３．５インチの光磁気
ディスクを製造するものとした。先ず、基板上に前述の
ような構成の記録磁性層をこの種の光磁気ディスクの製
造に通常用いられる手段により形成した。
【００２６】そして、上記記録磁性層上に紫外線硬化型
樹脂をスピンコーティング法により塗布した。このと
き、紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部には盛り上がり部
分が形成される。
樹脂をスピンコーティング法により塗布した。このと
き、紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部には盛り上がり部
分が形成される。
【００２７】本実験例においては、紫外線硬化型樹脂と
して大日本インキ社製のＳＤ−３０１（商品名）を使用
し、基板を６０ｒｐｍで回転させながら、その内周側に
上記紫外線硬化型樹脂を供給した後、３０００ｒｐｍで
５秒間回転させることで均一に広げ、平均膜厚が１５μ
ｍとなるように塗膜を形成した。なお、上記ＳＤ−３０
１は、粘度が５００ｃＰ，表面張力３．８×１０-2Ｎ／
ｍの特性を有する。
して大日本インキ社製のＳＤ−３０１（商品名）を使用
し、基板を６０ｒｐｍで回転させながら、その内周側に
上記紫外線硬化型樹脂を供給した後、３０００ｒｐｍで
５秒間回転させることで均一に広げ、平均膜厚が１５μ
ｍとなるように塗膜を形成した。なお、上記ＳＤ−３０
１は、粘度が５００ｃＰ，表面張力３．８×１０-2Ｎ／
ｍの特性を有する。
【００２８】そして、このようにして形成した紫外線硬
化型樹脂塗膜に積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照
射を行い、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させてみたとこ
ろ、図２に示すように、紫外線硬化型樹脂塗膜２５の最
外周部の盛り上がり部分２６は、最外周から内周に向か
って０．６ｍｍの位置が最大高さ（２４μｍ）となり、
３．４ｍｍの位置までにわたるように形成されていた。
このとき、盛り上がり部分２６の高さは紫外線硬化型樹
脂塗膜２５の平坦面２５ａを基準として測定した。
化型樹脂塗膜に積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照
射を行い、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させてみたとこ
ろ、図２に示すように、紫外線硬化型樹脂塗膜２５の最
外周部の盛り上がり部分２６は、最外周から内周に向か
って０．６ｍｍの位置が最大高さ（２４μｍ）となり、
３．４ｍｍの位置までにわたるように形成されていた。
このとき、盛り上がり部分２６の高さは紫外線硬化型樹
脂塗膜２５の平坦面２５ａを基準として測定した。
【００２９】次に、図３中に示すような紫外線硬化型樹
脂塗膜５を平坦化するべく、最外周部を除いて紫外線硬
化型樹脂塗膜５が均一に形成された基板４を、紫外線照
射する直前に低速（６０ｒｐｍ）で回転させながら、ノ
ズル７により図中矢印Ｐで示すように、内周側から盛り
上がり部分６に向かって気体を吹き付けた。このように
気体を吹き付けることにより盛り上がり部分６が外周側
に押し流され、紫外線硬化型樹脂塗膜５は平坦化され
る。
脂塗膜５を平坦化するべく、最外周部を除いて紫外線硬
化型樹脂塗膜５が均一に形成された基板４を、紫外線照
射する直前に低速（６０ｒｐｍ）で回転させながら、ノ
ズル７により図中矢印Ｐで示すように、内周側から盛り
上がり部分６に向かって気体を吹き付けた。このように
気体を吹き付けることにより盛り上がり部分６が外周側
に押し流され、紫外線硬化型樹脂塗膜５は平坦化され
る。
【００３０】なおこのとき、上記ノズル７としてφ０．
５ｍｍのものを使用し、気体として窒素ガスを使用し
た。また、図中矢印Ｐで示すノズル７の窒素ガス吹き付
け方向と紫外線硬化型樹脂塗膜５の膜厚方向がなす角度
θを７０゜とし、ノズル７の先端から盛り上がり部分６
までの距離を１０ｍｍとし、窒素ガスの圧力を１．０ｋ
ｇ／ｃｍ2 とし、３秒間吹き付けるものとした。
５ｍｍのものを使用し、気体として窒素ガスを使用し
た。また、図中矢印Ｐで示すノズル７の窒素ガス吹き付
け方向と紫外線硬化型樹脂塗膜５の膜厚方向がなす角度
θを７０゜とし、ノズル７の先端から盛り上がり部分６
までの距離を１０ｍｍとし、窒素ガスの圧力を１．０ｋ
ｇ／ｃｍ2 とし、３秒間吹き付けるものとした。
【００３１】次に、上記紫外線硬化型樹脂塗膜５に紫外
線を照射して硬化させ、保護膜を形成して光磁気ディス
クを完成し、この光磁気ディスクを実施例１とした。上
記実施例１の保護膜の外周部の断面図を図４に示す。図
４に示すように、実施例１においては、保護膜８の最外
周部の盛り上がり部分９の最大高さは３μｍと、スライ
ダー浮上距離よりも小さくなっており、平坦化されてい
た。しかしながら、保護膜８の最外周から内周に向かっ
て１．７ｍｍの位置が最大深さ（３μｍ）となる凹部１
０が形成されていた。
線を照射して硬化させ、保護膜を形成して光磁気ディス
クを完成し、この光磁気ディスクを実施例１とした。上
記実施例１の保護膜の外周部の断面図を図４に示す。図
４に示すように、実施例１においては、保護膜８の最外
周部の盛り上がり部分９の最大高さは３μｍと、スライ
ダー浮上距離よりも小さくなっており、平坦化されてい
た。しかしながら、保護膜８の最外周から内周に向かっ
て１．７ｍｍの位置が最大深さ（３μｍ）となる凹部１
０が形成されていた。
【００３２】続いて、実施例１を回転数１８００ｒｐｍ
で回転させて、上述の浮上型磁気ヘッドを浮上走行させ
てみたところ、光磁気ディスク全面にわたって安定した
走行を行うことができた。すなわち、本発明の光磁気デ
ィスクの製造方法に従って製造した実施例１において
は、保護膜の最外周部の盛り上がり部分の発生が抑えら
れており、記録エリアを広くとり、高記録容量化が可能
であることが確認された。なお、紫外線硬化型樹脂塗膜
を平坦化する際の条件を適宜変更することにより、様々
な仕様の磁気ヘッドへの対応が可能である。
で回転させて、上述の浮上型磁気ヘッドを浮上走行させ
てみたところ、光磁気ディスク全面にわたって安定した
走行を行うことができた。すなわち、本発明の光磁気デ
ィスクの製造方法に従って製造した実施例１において
は、保護膜の最外周部の盛り上がり部分の発生が抑えら
れており、記録エリアを広くとり、高記録容量化が可能
であることが確認された。なお、紫外線硬化型樹脂塗膜
を平坦化する際の条件を適宜変更することにより、様々
な仕様の磁気ヘッドへの対応が可能である。
【００３３】次に、紫外線硬化型樹脂の塗布工程までは
上記実施例１と同様に製造を行い、紫外線硬化型樹脂塗
膜に形成される最外周部の盛り上がり部分を吸引して平
坦化した後、硬化させて保護膜を形成した光磁気ディス
クを製造し、これを実施例２とした。
上記実施例１と同様に製造を行い、紫外線硬化型樹脂塗
膜に形成される最外周部の盛り上がり部分を吸引して平
坦化した後、硬化させて保護膜を形成した光磁気ディス
クを製造し、これを実施例２とした。
【００３４】すなわち、図５に示すように、紫外線硬化
型樹脂塗膜１５の形成された基板１４を低速（６０ｒｐ
ｍ）で回転させながら、紫外線硬化型樹脂塗膜１５の最
外周部の盛り上がり部分１６を側部から図中矢印Ｒで示
すようにノズル１７により吸引し、盛り上がり部分１６
を平坦化した後、硬化して保護膜を形成した。
型樹脂塗膜１５の形成された基板１４を低速（６０ｒｐ
ｍ）で回転させながら、紫外線硬化型樹脂塗膜１５の最
外周部の盛り上がり部分１６を側部から図中矢印Ｒで示
すようにノズル１７により吸引し、盛り上がり部分１６
を平坦化した後、硬化して保護膜を形成した。
【００３５】なお、上記ノズル１７としてφ５ｍｍのも
のを使用し、ノズル１７の先端から盛り上がり部分１６
までの距離を３ｍｍとし、５秒間吸引するものとした。
のを使用し、ノズル１７の先端から盛り上がり部分１６
までの距離を３ｍｍとし、５秒間吸引するものとした。
【００３６】上記実施例２の保護膜の外周部の断面図を
図６に示す。図６に示すように、実施例２においては、
保護膜１８の最外周部の盛り上がり部分１９の最大高さ
は５．７μｍとなっており、スライダー浮上距離よりも
小さくなっていた。上記実施例２は、紫外線硬化型樹脂
塗布工程までは実施例１と同様に製造されているため、
紫外線硬化型樹脂を塗布した後、そのまま硬化すれば、
実施例１と同様に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部に最
大高さ２４μｍ程度の盛り上がり部分が形成されると思
われ、実施例２においても、保護膜の平坦化がなされて
いる。また、上記実施例２においては、実施例１のよう
に、凹部は形成されていなかった。
図６に示す。図６に示すように、実施例２においては、
保護膜１８の最外周部の盛り上がり部分１９の最大高さ
は５．７μｍとなっており、スライダー浮上距離よりも
小さくなっていた。上記実施例２は、紫外線硬化型樹脂
塗布工程までは実施例１と同様に製造されているため、
紫外線硬化型樹脂を塗布した後、そのまま硬化すれば、
実施例１と同様に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部に最
大高さ２４μｍ程度の盛り上がり部分が形成されると思
われ、実施例２においても、保護膜の平坦化がなされて
いる。また、上記実施例２においては、実施例１のよう
に、凹部は形成されていなかった。
【００３７】続いて、実施例２を回転数１８００ｒｐｍ
で回転させて上述の浮上型磁気ヘッドを浮上走行させて
みたところ、光磁気ディスク全面にわたって安定した走
行を行うことができた。すなわち、本発明の光磁気ディ
スクの製造方法に従って製造した実施例２においては、
保護膜の最外周部の盛り上がり部分の発生が抑えられて
おり、記録エリアを広くとり、高記録容量化が可能であ
ることが確認された。なお、紫外線硬化型樹脂塗膜を平
坦化する際の条件を適宜変更することにより、様々な仕
様の磁気ヘッドへの対応が可能である。
で回転させて上述の浮上型磁気ヘッドを浮上走行させて
みたところ、光磁気ディスク全面にわたって安定した走
行を行うことができた。すなわち、本発明の光磁気ディ
スクの製造方法に従って製造した実施例２においては、
保護膜の最外周部の盛り上がり部分の発生が抑えられて
おり、記録エリアを広くとり、高記録容量化が可能であ
ることが確認された。なお、紫外線硬化型樹脂塗膜を平
坦化する際の条件を適宜変更することにより、様々な仕
様の磁気ヘッドへの対応が可能である。
【００３８】本実験例においては示さなかったが、光磁
気ディスクを製造する際、上記実施例１，実施例２で用
いた手法を併用して保護膜の平坦化を行って製造した光
磁気ディスクにおいても、実施例１及び実施例２と同様
の効果があると思われる。
気ディスクを製造する際、上記実施例１，実施例２で用
いた手法を併用して保護膜の平坦化を行って製造した光
磁気ディスクにおいても、実施例１及び実施例２と同様
の効果があると思われる。
【００３９】また、磁気ヘッドとして摺動型磁気ヘッド
を用いた場合においても、上記実施例１及び実施例２の
効果は同様である。
を用いた場合においても、上記実施例１及び実施例２の
効果は同様である。
【００４０】次に、比較のために、紫外線硬化型樹脂の
塗布工程までは上記実施例１と同様に製造を行い、平坦
化処理を行わずそのまま硬化させて保護膜を形成した光
磁気ディスク（比較例）を製造し、これに浮上型磁気ヘ
ッドを走行させてみた。
塗布工程までは上記実施例１と同様に製造を行い、平坦
化処理を行わずそのまま硬化させて保護膜を形成した光
磁気ディスク（比較例）を製造し、これに浮上型磁気ヘ
ッドを走行させてみた。
【００４１】上記比較例においては、紫外線硬化型樹脂
塗布工程までは実施例１と同様に製造を行い、そのまま
硬化させていることから、保護膜の最外周部に最大高さ
２４μｍ程度の盛り上がり部分が形成されている。
塗布工程までは実施例１と同様に製造を行い、そのまま
硬化させていることから、保護膜の最外周部に最大高さ
２４μｍ程度の盛り上がり部分が形成されている。
【００４２】従って、比較例を回転数１８００ｒｐｍで
回転させて上述の浮上型磁気ヘッドを浮上走行させてみ
たところ、図７に示すように、最外周から内周に向かっ
て１．７μｍの位置でスライダー１の外周側の端部１ａ
が保護膜２８の盛り上がり部分２９に接触してしまい、
光磁気ディスク全面にわたって安定した走行を行うこと
はできなかった。
回転させて上述の浮上型磁気ヘッドを浮上走行させてみ
たところ、図７に示すように、最外周から内周に向かっ
て１．７μｍの位置でスライダー１の外周側の端部１ａ
が保護膜２８の盛り上がり部分２９に接触してしまい、
光磁気ディスク全面にわたって安定した走行を行うこと
はできなかった。
【００４３】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、基板上に少なくとも記録磁性膜を形成し、その上
に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布
し、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させて保護膜を形成す
る光磁気ディスクの製造方法において、紫外線硬化型樹
脂の塗布後に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上
がり部分を平坦化するため、製造される光磁気ディスク
の保護膜の最外周部の盛り上がり部分の発生が抑えら
れ、使用可能な記録エリアが広くなり、高記録容量化が
可能となる。
明は、基板上に少なくとも記録磁性膜を形成し、その上
に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布
し、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させて保護膜を形成す
る光磁気ディスクの製造方法において、紫外線硬化型樹
脂の塗布後に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上
がり部分を平坦化するため、製造される光磁気ディスク
の保護膜の最外周部の盛り上がり部分の発生が抑えら
れ、使用可能な記録エリアが広くなり、高記録容量化が
可能となる。
【００４４】なお、本発明の光磁気ディスクの製造方法
においては、紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上
がり部分を平坦化するために、内周側から紫外線硬化型
樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分に向けて気体を吹
き付ける、或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛
り上がり部分を吸引しても良く、また上記手段を併用し
ても良く、簡便な手法で保護膜の平坦化が達成され、生
産性も良好である。
においては、紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上
がり部分を平坦化するために、内周側から紫外線硬化型
樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分に向けて気体を吹
き付ける、或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛
り上がり部分を吸引しても良く、また上記手段を併用し
ても良く、簡便な手法で保護膜の平坦化が達成され、生
産性も良好である。
【図１】実験において使用した浮上型磁気ヘッドを示す
模式図である。
模式図である。
【図２】実施例１の紫外線硬化型樹脂塗膜をそのまま硬
化させた状態を模式的に示す要部拡大断面図である。
化させた状態を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図３】実施例１の紫外線硬化型樹脂塗膜平坦化工程を
模式的に示す要部拡大断面図である。
模式的に示す要部拡大断面図である。
【図４】実施例１の保護膜を模式的に示す要部拡大断面
図である。
図である。
【図５】実施例２の紫外線硬化型樹脂塗膜平坦化工程を
模式的に示す要部拡大断面図である。
模式的に示す要部拡大断面図である。
【図６】実施例２の保護膜を模式的に示す要部拡大断面
図である。
図である。
【図７】比較例上に浮上型磁気ヘッドを浮上走行させた
状態を模式的に示す要部拡大断面図である。
状態を模式的に示す要部拡大断面図である。
４，１４ 基板 ５，１５ 紫外線硬化型樹脂塗膜 ６，９，１６，１９ 盛り上がり部分 ７，１７ ノズル ８，１８ 保護膜 ８ａ 平坦面 １０ 凹部
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に少なくとも記録磁性膜を形成
し、その上に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法
により塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させて保護
膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、 紫外線硬化型樹脂の塗布後に紫外線硬化型樹脂塗膜の最
外周部の盛り上がり部分を平坦化することを特徴とする
光磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 内周側から紫外線硬化型樹脂塗膜の最外
周部の盛り上がり部分に向けて気体を吹き付け、平坦化
することを特徴とする請求項１記載の光磁気ディスクの
製造方法。 - 【請求項３】 紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り
上がり部分を吸引し、平坦化することを特徴とする請求
項１記載の光磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項４】 内周側から紫外線硬化型樹脂塗膜の最外
周部の盛り上がり部分に向けて気体を吹き付けるととも
に、上記紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり
部分を吸引し、平坦化することを特徴とする請求項１記
載の光磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19403294A JPH0863815A (ja) | 1994-08-18 | 1994-08-18 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19403294A JPH0863815A (ja) | 1994-08-18 | 1994-08-18 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0863815A true JPH0863815A (ja) | 1996-03-08 |
Family
ID=16317810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19403294A Withdrawn JPH0863815A (ja) | 1994-08-18 | 1994-08-18 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0863815A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11203724A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sony Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
| WO2002101737A1 (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information-recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus |
| GB2549209A (en) * | 2014-10-29 | 2017-10-11 | Nec Corp | Tap water management system, tap water management device, tap water management method, and tap water management program recording medium |
-
1994
- 1994-08-18 JP JP19403294A patent/JPH0863815A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11203724A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sony Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
| WO2002101737A1 (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information-recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus |
| US7396562B2 (en) | 2001-06-06 | 2008-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information-recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus |
| GB2549209A (en) * | 2014-10-29 | 2017-10-11 | Nec Corp | Tap water management system, tap water management device, tap water management method, and tap water management program recording medium |
| GB2549209B (en) * | 2014-10-29 | 2020-11-04 | Nec Corp | Tap water management system, tap water management device, tap water management method, and tap water management program recording medium |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011106 |