JPH0644621A - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH0644621A JPH0644621A JP19831292A JP19831292A JPH0644621A JP H0644621 A JPH0644621 A JP H0644621A JP 19831292 A JP19831292 A JP 19831292A JP 19831292 A JP19831292 A JP 19831292A JP H0644621 A JPH0644621 A JP H0644621A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- optical disk
- disk
- flying
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光磁気ディスクの磁界変調オーバーライトに
用いられるフライング磁気ヘッドの光磁気ディスクへの
吸着を防ぐことを目的とする。 【構成】 光磁気ディスクのオーバーコート層表面をレ
ーザーアブレーション、プラズマアッシング、ＵＶアッ
シングまたはコロナ放電により微細な凹凸を設ける。 【効果】 光磁気ディスク表面にフライング磁気ヘッド
が吸着されることがなくなり表面が傷つく等のトラブル
がなくなる。また、表面処理の時間が大幅に短縮され
る。
用いられるフライング磁気ヘッドの光磁気ディスクへの
吸着を防ぐことを目的とする。 【構成】 光磁気ディスクのオーバーコート層表面をレ
ーザーアブレーション、プラズマアッシング、ＵＶアッ
シングまたはコロナ放電により微細な凹凸を設ける。 【効果】 光磁気ディスク表面にフライング磁気ヘッド
が吸着されることがなくなり表面が傷つく等のトラブル
がなくなる。また、表面処理の時間が大幅に短縮され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスク、とりわけフ
ライング磁気ヘッドを用いてオーバーライトを行う磁界
変調タイプの光磁気ディスクの製造方法に関するもので
あり、更に詳しくはフライング磁気ヘッドが摺動する側
の光磁気ディスク表面の処理方法に関するものである。
ライング磁気ヘッドを用いてオーバーライトを行う磁界
変調タイプの光磁気ディスクの製造方法に関するもので
あり、更に詳しくはフライング磁気ヘッドが摺動する側
の光磁気ディスク表面の処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光磁気ディスクは情報の記録消去が可能
な書換え可能型光ディスクである。光磁気ディスクにお
いては微細な光スポットを用いて記録がなされるため
に、高密度かつ大容量の記録媒体として期待されてい
る。たとえば、３．５インチの光磁気ディスクは１２８
ＭＢの容量のものが既に市販され、コンピューターの外
部記憶媒体等の分野で徐々に普及しつつある。
な書換え可能型光ディスクである。光磁気ディスクにお
いては微細な光スポットを用いて記録がなされるため
に、高密度かつ大容量の記録媒体として期待されてい
る。たとえば、３．５インチの光磁気ディスクは１２８
ＭＢの容量のものが既に市販され、コンピューターの外
部記憶媒体等の分野で徐々に普及しつつある。
【０００３】光磁気ディスクの構造は、おおよそ図１に
示されるものであり、ガラスやプラスチック等からなる
ディスク基板11上に誘電体膜、光磁気記録膜、誘電体
膜、反射膜の順に積層され、更にこれらの膜を保護する
目的で一般に紫外線硬化型樹脂のコーティング14がなさ
れる。
示されるものであり、ガラスやプラスチック等からなる
ディスク基板11上に誘電体膜、光磁気記録膜、誘電体
膜、反射膜の順に積層され、更にこれらの膜を保護する
目的で一般に紫外線硬化型樹脂のコーティング14がなさ
れる。
【０００４】光磁気ディスクへの記録および再生は以下
のようにしてなされる。まず信号の記録に際しては、レ
ーザービームの照射によって光磁気記録膜は温度上昇
し、同時に保磁力が減少するので、外部からの磁界によ
って光磁気記録膜の磁化方向が決定される。一方、信号
の再生に際しては光磁気記録膜に記録時よりもかなり弱
いレーザービームを照射し、反射光の偏光面が記録膜の
磁化方向に応じて回転することを利用する。
のようにしてなされる。まず信号の記録に際しては、レ
ーザービームの照射によって光磁気記録膜は温度上昇
し、同時に保磁力が減少するので、外部からの磁界によ
って光磁気記録膜の磁化方向が決定される。一方、信号
の再生に際しては光磁気記録膜に記録時よりもかなり弱
いレーザービームを照射し、反射光の偏光面が記録膜の
磁化方向に応じて回転することを利用する。
【０００５】現在、情報の記録は三段階にて行われてい
る。まず記録膜は初期化され、次に信号の記録がなさ
れ、更に記録信号の確認（ベリファイ）がなされる。こ
のために光磁気ディスクの情報の記録に際しては、１ト
ラックの記録に対してディスクが３回転する必要があ
り、情報転送速度の面で非効率的である。
る。まず記録膜は初期化され、次に信号の記録がなさ
れ、更に記録信号の確認（ベリファイ）がなされる。こ
のために光磁気ディスクの情報の記録に際しては、１ト
ラックの記録に対してディスクが３回転する必要があ
り、情報転送速度の面で非効率的である。
【０００６】そこで、磁気ディスクのように情報の消
去、記録が一度になされる、いわゆるオーバーライトが
提案されている。オーバーライトの手法としては、二つ
の方式が有効である。一つはレーザーを照射したまま磁
界の向きを変えて記録を行う磁界変調方式であり、もう
一つは光の強弱にて記録を行う光変調方式である。
去、記録が一度になされる、いわゆるオーバーライトが
提案されている。オーバーライトの手法としては、二つ
の方式が有効である。一つはレーザーを照射したまま磁
界の向きを変えて記録を行う磁界変調方式であり、もう
一つは光の強弱にて記録を行う光変調方式である。
【０００７】磁界変調方式においては磁界の向きを数Ｍ
Ｈｚの高周波数で反転させることが必要となる。このた
め、磁気ヘッドのコイルおよびコイル芯はインダクタン
スを小さくするために極めて小さくする必要がある。結
果として、磁気ヘッドの磁界発生領域は小さくなり、磁
気ヘッドとディスクとをかなり接近させる必要が生じて
おり、磁気ヘッドとしてスライダーをともなったフライ
ング磁気ヘッド30が一般に用いられる。このようなフラ
イング磁気ヘッドは既にハードディスクの分野で採用さ
れている。フライングヘッドの浮上量はハードディスク
ではサブミクロンのオーダーである。しかし、これはデ
ィスクが密閉された固定型ディスクであるために磁気ヘ
ッドを近接させられるのであって、可搬性の光磁気ディ
スクでは塵が媒体表面に付着し易くヘッドクラッシュの
危険性が高いため、数ミクロンの浮上量が要求される。
フライングヘッドを用いた場合、ディスクの回転始動時
及び停止時には、フライングヘッドがディスク表面に接
しスライダー部分が吸着し、ディスク表面を傷つけるこ
とがある。これを防ぐために、ディスク表面にテクスチ
ャーと呼ばれる微細な凹凸を設ける処理がなされ、これ
をもってディスクへの吸着を防いでいる。テクスチャー
を設ける方法としては、表面に微細な凹凸を持つテクス
チャーテープを光磁気ディスクに押圧するとともにディ
スクを回転させる方法（特開平４−７９０４５公報）
や、スタンパーにて凹凸を形成した後にコーティング樹
脂を硬化させる方法等が従来用いられていた。
Ｈｚの高周波数で反転させることが必要となる。このた
め、磁気ヘッドのコイルおよびコイル芯はインダクタン
スを小さくするために極めて小さくする必要がある。結
果として、磁気ヘッドの磁界発生領域は小さくなり、磁
気ヘッドとディスクとをかなり接近させる必要が生じて
おり、磁気ヘッドとしてスライダーをともなったフライ
ング磁気ヘッド30が一般に用いられる。このようなフラ
イング磁気ヘッドは既にハードディスクの分野で採用さ
れている。フライングヘッドの浮上量はハードディスク
ではサブミクロンのオーダーである。しかし、これはデ
ィスクが密閉された固定型ディスクであるために磁気ヘ
ッドを近接させられるのであって、可搬性の光磁気ディ
スクでは塵が媒体表面に付着し易くヘッドクラッシュの
危険性が高いため、数ミクロンの浮上量が要求される。
フライングヘッドを用いた場合、ディスクの回転始動時
及び停止時には、フライングヘッドがディスク表面に接
しスライダー部分が吸着し、ディスク表面を傷つけるこ
とがある。これを防ぐために、ディスク表面にテクスチ
ャーと呼ばれる微細な凹凸を設ける処理がなされ、これ
をもってディスクへの吸着を防いでいる。テクスチャー
を設ける方法としては、表面に微細な凹凸を持つテクス
チャーテープを光磁気ディスクに押圧するとともにディ
スクを回転させる方法（特開平４−７９０４５公報）
や、スタンパーにて凹凸を形成した後にコーティング樹
脂を硬化させる方法等が従来用いられていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法によりテクスチャーを形成するには、ディスク一枚一
枚に対して処理していくため、非効率的であり、手間も
かかるために量産に対応することは困難であった。
法によりテクスチャーを形成するには、ディスク一枚一
枚に対して処理していくため、非効率的であり、手間も
かかるために量産に対応することは困難であった。
【０００９】本発明が解決しようとする課題は、生産性
に優れたテクスチャーの形成方法を提供することにあ
る。
に優れたテクスチャーの形成方法を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、オーバーコート層を有する単板構造光ディ
スクにおいて、オーバーコート層の表面がレーザーアブ
レーション、プラズマアッシング、ＵＶアッシングまた
はコロナ放電によって設けられた微細な凹凸を有するこ
とを特徴とする光ディスクを提供する。
するために、オーバーコート層を有する単板構造光ディ
スクにおいて、オーバーコート層の表面がレーザーアブ
レーション、プラズマアッシング、ＵＶアッシングまた
はコロナ放電によって設けられた微細な凹凸を有するこ
とを特徴とする光ディスクを提供する。
【００１１】以下、本発明について詳細に説明する。
【００１２】本発明において、光磁気ディスクは一般に
使用されているものと同様の手法で製造される。光磁気
ディスクの反射膜上には、紫外線硬化型樹脂のコーティ
ング14が設けられる。紫外線硬化型樹脂は一般に市販さ
れているものを用いてよい。紫外線硬化型樹脂のコーテ
ィング膜厚は５μｍ〜２０μｍ程度が適当である。膜厚
が薄すぎると衝撃に対して弱くなり、フライングヘッド
が接触したときに記録膜が傷つき易くなる。逆に厚すぎ
ると応力によりディスクからコーティング膜が剥がれ易
くなり、更に記録膜とフライングヘッドとの距離が大き
くなるために記録膜上のフライングヘッドからの磁場が
弱くなる。適度の厚みのコーティング膜14に対して高エ
ネルギー密度のレーザーを照射すると、照射部分の表面
が高密度に光励起され、アブレーションされる。このと
きアブレーションされた部分には微細な凹凸が形成され
る。条件によっては照射部分が溶融し、ボイド（孔）が
形成されることもある。このようにアブレーションされ
た部分では、表面が滑らかでないためにフライングヘッ
ドが吸着されることがない。したがって、フライングヘ
ッドを乗せてディスクの回転始動、停止（Contact Star
t Stop 以下、ＣＳＳと略す）を繰り返してもディスク
への傷つきは少なくなる。アブレーションする部分はデ
ィスク全面でもよいがディスクの回転開始および停止時
に接触する半径位置のみでもかまわない。また、アブレ
ーションされた部分には潤滑油を含浸させてもよい。た
だし、単に含浸させるのみの潤滑剤では、ディスクの繰
り返し使用によって潤滑剤が揮発してしまうので、重合
等によってコーティング膜に固定できるものが耐久性に
おいて効果的である。フッ素系モノマーを含浸させて重
合させると、潤滑性に富み耐久性に優れたコーティング
膜が得られる。
使用されているものと同様の手法で製造される。光磁気
ディスクの反射膜上には、紫外線硬化型樹脂のコーティ
ング14が設けられる。紫外線硬化型樹脂は一般に市販さ
れているものを用いてよい。紫外線硬化型樹脂のコーテ
ィング膜厚は５μｍ〜２０μｍ程度が適当である。膜厚
が薄すぎると衝撃に対して弱くなり、フライングヘッド
が接触したときに記録膜が傷つき易くなる。逆に厚すぎ
ると応力によりディスクからコーティング膜が剥がれ易
くなり、更に記録膜とフライングヘッドとの距離が大き
くなるために記録膜上のフライングヘッドからの磁場が
弱くなる。適度の厚みのコーティング膜14に対して高エ
ネルギー密度のレーザーを照射すると、照射部分の表面
が高密度に光励起され、アブレーションされる。このと
きアブレーションされた部分には微細な凹凸が形成され
る。条件によっては照射部分が溶融し、ボイド（孔）が
形成されることもある。このようにアブレーションされ
た部分では、表面が滑らかでないためにフライングヘッ
ドが吸着されることがない。したがって、フライングヘ
ッドを乗せてディスクの回転始動、停止（Contact Star
t Stop 以下、ＣＳＳと略す）を繰り返してもディスク
への傷つきは少なくなる。アブレーションする部分はデ
ィスク全面でもよいがディスクの回転開始および停止時
に接触する半径位置のみでもかまわない。また、アブレ
ーションされた部分には潤滑油を含浸させてもよい。た
だし、単に含浸させるのみの潤滑剤では、ディスクの繰
り返し使用によって潤滑剤が揮発してしまうので、重合
等によってコーティング膜に固定できるものが耐久性に
おいて効果的である。フッ素系モノマーを含浸させて重
合させると、潤滑性に富み耐久性に優れたコーティング
膜が得られる。
【００１３】このような表面処理はプラズマアッシン
グ、ＵＶアッシング、コロナ放電によっても可能であ
る。しかしながらプラズマアッシング、コロナ放電によ
る表面処理ではディスクを真空雰囲気に置く必要があ
り、生産性においてはレーザーアブレーションが有利で
ある。
グ、ＵＶアッシング、コロナ放電によっても可能であ
る。しかしながらプラズマアッシング、コロナ放電によ
る表面処理ではディスクを真空雰囲気に置く必要があ
り、生産性においてはレーザーアブレーションが有利で
ある。
【００１４】
【実施例】以下、実施例及び比較例により、本発明を更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【００１５】（実施例）ポリカーボネート製光ディスク
基板にスパッタリング法によって、ＳｉＮx、ＴｂＦｅ
Ｃｏ、ＳｉＮx、Ａｌを順に成膜した後、 成膜面を紫外
線硬化型樹脂「ＳＤ−１７」（大日本インキ化学工業
(株)製）でコーティングした。コーティング膜厚は１５
μｍとした。その後、コーティング膜面にＹＡＧレーザ
ーを照射してレーザーアブレーションを行った。照射光
量は２００ｍＪ／cm2とした。 照射部は約３μｍエッチ
ングされ、微細な凹凸が形成されていた。
基板にスパッタリング法によって、ＳｉＮx、ＴｂＦｅ
Ｃｏ、ＳｉＮx、Ａｌを順に成膜した後、 成膜面を紫外
線硬化型樹脂「ＳＤ−１７」（大日本インキ化学工業
(株)製）でコーティングした。コーティング膜厚は１５
μｍとした。その後、コーティング膜面にＹＡＧレーザ
ーを照射してレーザーアブレーションを行った。照射光
量は２００ｍＪ／cm2とした。 照射部は約３μｍエッチ
ングされ、微細な凹凸が形成されていた。
【００１６】このディスクをコーティング膜を上にして
スピンドルに固定し、フライング磁気ヘッドをコーティ
ング膜に接触させた状態から２秒間でディスクを３６０
０ｒｐｍまで回転させ、ヘッドを浮上させた。その後２
秒間で回転を停止しフライング磁気ヘッドを接触させ
た。このＣＳＳ試験を１００万回繰り返した結果、ヘッ
ドクラッシュは観察されず、また、ディスクへの傷付き
も見られなかった。
スピンドルに固定し、フライング磁気ヘッドをコーティ
ング膜に接触させた状態から２秒間でディスクを３６０
０ｒｐｍまで回転させ、ヘッドを浮上させた。その後２
秒間で回転を停止しフライング磁気ヘッドを接触させ
た。このＣＳＳ試験を１００万回繰り返した結果、ヘッ
ドクラッシュは観察されず、また、ディスクへの傷付き
も見られなかった。
【００１７】（比較例）実施例と同様にして成膜したデ
ィスクに対して、「ＳＤ−１７」をコーティングし、膜
厚を１５μｍとした。このディスクに対してＣＳＳ試験
を１００万回行ったところ、３μｍを越える深さの傷が
多数観察された。
ィスクに対して、「ＳＤ−１７」をコーティングし、膜
厚を１５μｍとした。このディスクに対してＣＳＳ試験
を１００万回行ったところ、３μｍを越える深さの傷が
多数観察された。
【００１８】
【発明の効果】本発明によると、フライング磁気ヘッド
30がコーティング膜面14に吸着されることがなくなり、
表面が傷つきにくくなる。また、従来の方法に比べて処
理時間が大幅に短縮できるので、生産性が向上する。
30がコーティング膜面14に吸着されることがなくなり、
表面が傷つきにくくなる。また、従来の方法に比べて処
理時間が大幅に短縮できるので、生産性が向上する。
【図１】光磁気ディスクの縦断面図を示す図である。
１ 光ディスク ３ ハブ ６ 光ピックアップ １１ ディスク基板 １２ ハードコート １３ 記録膜 １４ オーバーコート ３０ フライング磁気ヘッド
Claims (1)
- 【請求項１】 オーバーコート層を有する単板構造光デ
ィスクにおいて、オーバーコート層の表面がレーザーア
ブレーション、プラズマアッシング、ＵＶアッシングま
たはコロナ放電によって設けられた微細な凹凸を有する
ことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19831292A JPH0644621A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19831292A JPH0644621A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0644621A true JPH0644621A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16389036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19831292A Pending JPH0644621A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644621A (ja) |
-
1992
- 1992-07-24 JP JP19831292A patent/JPH0644621A/ja active Pending
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