JPS63122035A - 光磁気デイスク - Google Patents
光磁気デイスクInfo
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- JPS63122035A JPS63122035A JP26751686A JP26751686A JPS63122035A JP S63122035 A JPS63122035 A JP S63122035A JP 26751686 A JP26751686 A JP 26751686A JP 26751686 A JP26751686 A JP 26751686A JP S63122035 A JPS63122035 A JP S63122035A
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- Japan
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- thickness
- magnetic
- magneto
- film
- protective film
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光磁気記録に係り、特に、情報の重ね書きに適
した光磁気ディスクに関する。
した光磁気ディスクに関する。
近年、情報の消去・書き換えが可能な光ディスクとして
、光磁気ディスクが注目を浴びている。
、光磁気ディスクが注目を浴びている。
光磁気ディスクは記録感度が高い、消去速度が速い等の
種々の特徴を有するが、重ね書きができない。即ち、デ
ィスク内の情報を書き換える場合には、−旦古い情報を
消去し、その後新しい情報を書き込むことになる。一方
、磁気ディスク、磁気テープなどでは、情報の消去動作
が不要であり。
種々の特徴を有するが、重ね書きができない。即ち、デ
ィスク内の情報を書き換える場合には、−旦古い情報を
消去し、その後新しい情報を書き込むことになる。一方
、磁気ディスク、磁気テープなどでは、情報の消去動作
が不要であり。
新しい情報を書き込むことが即、旧情報を消去すること
になる。このような重ね書きができない点が光磁気ディ
スクの量大の欠点であり、高いデータ転送速度が得られ
ない、アクセス時間が遅い等の問題があった。これに対
処するために、従来のレーザ光を情報信号により変調し
て記録する光変調方式にかわって、外部から与える磁界
を情報信号により変調して記録する磁界変調方式が、た
とえば特開昭５１−１０７１２１号公報によって提案さ
れている。
になる。このような重ね書きができない点が光磁気ディ
スクの量大の欠点であり、高いデータ転送速度が得られ
ない、アクセス時間が遅い等の問題があった。これに対
処するために、従来のレーザ光を情報信号により変調し
て記録する光変調方式にかわって、外部から与える磁界
を情報信号により変調して記録する磁界変調方式が、た
とえば特開昭５１−１０７１２１号公報によって提案さ
れている。
ところが、外部磁界で変調するためには、Ｉ ＫＯｅ近
い大きな磁界を印加しなければならないため、磁界発生
用の磁気コイルあるいは磁気ヘッドを光磁気ディスクの
媒体面側に充分接近させねばならない、このため光磁気
ディスクの媒体と磁界発生用磁気コイルあるいは磁気ヘ
ッドとの衝突、摩耗が発生し、媒体や磁気コイルあるい
は磁気ヘッドの寿命を低減する原因となっていた。
い大きな磁界を印加しなければならないため、磁界発生
用の磁気コイルあるいは磁気ヘッドを光磁気ディスクの
媒体面側に充分接近させねばならない、このため光磁気
ディスクの媒体と磁界発生用磁気コイルあるいは磁気ヘ
ッドとの衝突、摩耗が発生し、媒体や磁気コイルあるい
は磁気ヘッドの寿命を低減する原因となっていた。
本発明の目的は、上述した媒体、外部磁気発生用磁気コ
イル等のコイルあるいはヘッド間の衝突。
イル等のコイルあるいはヘッド間の衝突。
摩耗に対して強い耐性をもつ光磁気ディスクを提供する
ことにある。
ことにある。
上記目的は、光磁気ディスクの媒体表面に、保護皮膜を
設けることにより、達成される。保護皮膜としては、（
１）グラファイト状炭素、ダイアモンド状炭素、硫化物
（たとえば二硫化モリブデン）、パーフルオロポリエー
テル等の潤滑剤。
設けることにより、達成される。保護皮膜としては、（
１）グラファイト状炭素、ダイアモンド状炭素、硫化物
（たとえば二硫化モリブデン）、パーフルオロポリエー
テル等の潤滑剤。
（２）エポキシ系あるいはアクリル系樹脂、（３）塗布
型磁気ディスクで用いられる磁性塗料、などが用いられ
る。
型磁気ディスクで用いられる磁性塗料、などが用いられ
る。
上述した保護皮膜は、たとえば５０μｍ程度の厚さの膜
としてディスク媒体面の最上層に形成する。この皮膜は
いずれも充分な潤滑性と堅固さとを兼ね備えているため
、磁気ヘッドとの衝突・摩耗に対して耐性を示す、従っ
て磁気コイルあるいは磁気ヘッドとディスク媒体間の距
離を、必要とする大きさの磁界が得られるまでに、充分
接近させることが可能となる。
としてディスク媒体面の最上層に形成する。この皮膜は
いずれも充分な潤滑性と堅固さとを兼ね備えているため
、磁気ヘッドとの衝突・摩耗に対して耐性を示す、従っ
て磁気コイルあるいは磁気ヘッドとディスク媒体間の距
離を、必要とする大きさの磁界が得られるまでに、充分
接近させることが可能となる。
以下に本発明に関し図面を用いて説明する。第１図は本
発明の一実施例を示した光磁気ディスクの断面図で、
ある。ガラス基板１上にはト
ラッキング用の案内溝を有する厚さ３０μｍの紫外線硬
化樹脂２、厚さ８５ｎｍの窒化シリコン膜３．厚さ１１
００ｎの磁性膜４、厚さ３００ｎｍの窒化シリコン膜５
、および厚さ５０μｍの保護皮膜６が基板１のほぼ全面
にわたって設けられている。従って磁気ヘッドのいかな
る動作状態に対しても、常時磁性膜４を保護皮膜６は保
護することが可能である。
発明の一実施例を示した光磁気ディスクの断面図で、
ある。ガラス基板１上にはト
ラッキング用の案内溝を有する厚さ３０μｍの紫外線硬
化樹脂２、厚さ８５ｎｍの窒化シリコン膜３．厚さ１１
００ｎの磁性膜４、厚さ３００ｎｍの窒化シリコン膜５
、および厚さ５０μｍの保護皮膜６が基板１のほぼ全面
にわたって設けられている。従って磁気ヘッドのいかな
る動作状態に対しても、常時磁性膜４を保護皮膜６は保
護することが可能である。
第２図は本発明の他の実施例を示す断面図である。アク
リル基板１上には、二酸化シリコン膜７、磁性膜４．二
酸化シリコン膜８が、各々１００ｎｚの厚さ形成され、
二酸化シリコン膜８上の表面のうち磁気ヘッドとの衝突
・摩擦の生じ易い領域のみに保護皮膜６を厚さ１００μ
ｍ設けた。磁気へラドを通常は浮上させて使用し１時折
ディスク面に接触させて使用する場合には、本実施例で
示したような構成の光磁気ディスクが適当である。
リル基板１上には、二酸化シリコン膜７、磁性膜４．二
酸化シリコン膜８が、各々１００ｎｚの厚さ形成され、
二酸化シリコン膜８上の表面のうち磁気ヘッドとの衝突
・摩擦の生じ易い領域のみに保護皮膜６を厚さ１００μ
ｍ設けた。磁気へラドを通常は浮上させて使用し１時折
ディスク面に接触させて使用する場合には、本実施例で
示したような構成の光磁気ディスクが適当である。
以上２つの実施例で示した光磁気ディスクの中で、窒化
シリコン膜３．磁性１ｊｆｆ４．二酸化シリコン膜８は
、従来よりよく知られているように１．たとえばマグネ
トロン・スパッタ装置を用い、Ｘｉ！ｉｉ当なアルゴン
ガス圧、高周波電力を設定することにより容易に作製す
ることができる。保護皮膜６は、たとえばグラファイト
状炭素、ダイアモンド状炭素自体については、特許公報
特公昭６０−２３４０６号に記述があるような方法を用
いて、容易に作製することが可能である。これ以外の潤
滑剤、あるいは樹脂、磁性塗布などもその製造方法は既
によく知られており、これらを保護皮膜６として実施例
中に示したような構造に形成することは、従来技術を用
いて容易に行うことができる。
シリコン膜３．磁性１ｊｆｆ４．二酸化シリコン膜８は
、従来よりよく知られているように１．たとえばマグネ
トロン・スパッタ装置を用い、Ｘｉ！ｉｉ当なアルゴン
ガス圧、高周波電力を設定することにより容易に作製す
ることができる。保護皮膜６は、たとえばグラファイト
状炭素、ダイアモンド状炭素自体については、特許公報
特公昭６０−２３４０６号に記述があるような方法を用
いて、容易に作製することが可能である。これ以外の潤
滑剤、あるいは樹脂、磁性塗布などもその製造方法は既
によく知られており、これらを保護皮膜６として実施例
中に示したような構造に形成することは、従来技術を用
いて容易に行うことができる。
保護皮膜６の厚さは、磁気ヘッドと光磁気ディスクとの
間隙に応じて適宜設定すればよい。磁気ヘッドから発生
する磁界が充分大きい場合には、ヘッドとディスク間の
間隙を充分に取れるため、保護皮膜６の厚さをそれに応
じて設定する１発生磁界が弱い場合には、磁気コイルあ
るいは磁気ヘッドとディスク間の間隙を狭める必要があ
るため。
間隙に応じて適宜設定すればよい。磁気ヘッドから発生
する磁界が充分大きい場合には、ヘッドとディスク間の
間隙を充分に取れるため、保護皮膜６の厚さをそれに応
じて設定する１発生磁界が弱い場合には、磁気コイルあ
るいは磁気ヘッドとディスク間の間隙を狭める必要があ
るため。
これに応じて保護皮膜６の厚さを薄くする。
以上説明したように、本発明によれば、光磁気ディスク
の表面の全面もしくは一部分に保護皮膜を設けることに
より、磁界変調により記録する光磁気ディスクにおいて
、磁界発生用磁気コイルあるいは磁気ヘッドとの衝突・
摩耗に対して強くすることができる。
の表面の全面もしくは一部分に保護皮膜を設けることに
より、磁界変調により記録する光磁気ディスクにおいて
、磁界発生用磁気コイルあるいは磁気ヘッドとの衝突・
摩耗に対して強くすることができる。
第１図、第２図は本発明になる光磁気ディスクの断面図
である。 １・・・基板、４・・・磁性膜、６・・・保護皮膜、代
理人 弁理士 小川勝馬ｌ” 、−Ｈ’）’、１．’、
□ 、′ ゝ−ノ
である。 １・・・基板、４・・・磁性膜、６・・・保護皮膜、代
理人 弁理士 小川勝馬ｌ” 、−Ｈ’）’、１．’、
□ 、′ ゝ−ノ
Claims (1)
- １、基板上に磁性膜、誘電体膜、金属膜等を形成して成
る光磁気ディスクにおいて、前記形成膜の最上層に保護
皮膜を設けたことを特徴とする光磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26751686A JPS63122035A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 光磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26751686A JPS63122035A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 光磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63122035A true JPS63122035A (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=17445926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26751686A Pending JPS63122035A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 光磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63122035A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0253240A (ja) * | 1988-08-17 | 1990-02-22 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP26751686A patent/JPS63122035A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0253240A (ja) * | 1988-08-17 | 1990-02-22 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
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