JP2622015B2 - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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- JP2622015B2 JP2622015B2 JP2178735A JP17873590A JP2622015B2 JP 2622015 B2 JP2622015 B2 JP 2622015B2 JP 2178735 A JP2178735 A JP 2178735A JP 17873590 A JP17873590 A JP 17873590A JP 2622015 B2 JP2622015 B2 JP 2622015B2
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- Japan
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- optical disk
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- recording medium
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Description
【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は、浮上型ヘッドを利用した光磁気記録再生装
置において用いられる光磁気記録媒体に関するもので、
さらにはその表面処理方法に関するものである。
置において用いられる光磁気記録媒体に関するもので、
さらにはその表面処理方法に関するものである。
（ロ）従来の技術及び発明が解決しようとする課題 光磁気記録方式とは、ガラス、プラスチックス、セラ
ミックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁
化膜を形成させたものを記録媒体として記録、再生を行
うものである。
ミックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁
化膜を形成させたものを記録媒体として記録、再生を行
うものである。
即ち、記録する際には、記録媒体をまず、強力な外部
磁場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向
き、又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエ
リアにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュ
リー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その部
分の保磁力（Hc）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
た磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。
磁場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向
き、又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエ
リアにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュ
リー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その部
分の保磁力（Hc）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
た磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。
再生の際は、別の直線偏光とされたレーザビームを記
録媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気
ファラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行なう。
録媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気
ファラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行なう。
上記のような光磁気記録方式は、書き換え可能な大容
量メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の
情報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化
することにより従前に記録された情報を一旦消去する方
法、ii）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライト、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行なう方法の２通りある。
量メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の
情報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化
することにより従前に記録された情報を一旦消去する方
法、ii）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライト、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行なう方法の２通りある。
その内ｉ）の方法では、初期化装置が必要となるか又
は２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことにな
る、また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去
する場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非
効率的である。
は２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことにな
る、また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去
する場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非
効率的である。
一方、ii）における記録媒体に工夫をする方法では、
記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。そ
のため、ii）における外部磁場発生装置を工夫する方
法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを高
速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用と
なる。
記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。そ
のため、ii）における外部磁場発生装置を工夫する方
法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを高
速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用と
なる。
ところで、外部磁場の向きを高速で反転させるために
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域
も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要があるので、一般には、第３図（ａ）及び
（ｂ）に示すように外部磁場発生装置を図示しない記録
媒体上で滑走可能なスライダー形式の浮上ヘッド31と
し、この浮上ヘッド31におけるスライダ部33に磁気ヘッ
ド部34を設けるとともに、浮上ヘッド31をサスペンショ
ン32により支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回
転に伴って浮上ヘッド31を記録媒体の表面から浮上させ
るようにしている。
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域
も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要があるので、一般には、第３図（ａ）及び
（ｂ）に示すように外部磁場発生装置を図示しない記録
媒体上で滑走可能なスライダー形式の浮上ヘッド31と
し、この浮上ヘッド31におけるスライダ部33に磁気ヘッ
ド部34を設けるとともに、浮上ヘッド31をサスペンショ
ン32により支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回
転に伴って浮上ヘッド31を記録媒体の表面から浮上させ
るようにしている。
この浮上ヘッド31は、スライダ部33と記録媒体間の空
気の流れによって生じる上向きの浮上力とサスペンショ
ン32による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダーであ
る。一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、
可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増
加し、また接近しすぎるとクラッシュ等が起こることが
考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量を
大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜15μｍ必
要である。
気の流れによって生じる上向きの浮上力とサスペンショ
ン32による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダーであ
る。一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、
可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増
加し、また接近しすぎるとクラッシュ等が起こることが
考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量を
大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜15μｍ必
要である。
また、この光磁気ディスクの浮上ヘッド側の表面上に
は、ディスク表面と浮上ヘッド表面の滑りを良くするた
めに潤滑剤が塗布されている。潤滑剤は一般にパーフル
オロポリエーテル（以下PFPE）に代表されるフッ素カー
ボン系オイルが用いられ、スピンコート法やスプレー法
によってディスク全面に均一に塗布される。しかし、こ
のオイルは、ディスクの回転で飛散したり、長期の潤滑
性の保持に難点があった。
は、ディスク表面と浮上ヘッド表面の滑りを良くするた
めに潤滑剤が塗布されている。潤滑剤は一般にパーフル
オロポリエーテル（以下PFPE）に代表されるフッ素カー
ボン系オイルが用いられ、スピンコート法やスプレー法
によってディスク全面に均一に塗布される。しかし、こ
のオイルは、ディスクの回転で飛散したり、長期の潤滑
性の保持に難点があった。
一方、光磁気ディスクの表面に保護膜層を設け、この
層内に潤滑剤の粉末を混入する提案があるが（特開昭63
−98857号公報参照）、これでも十分な潤滑性を付与す
るには困難性があると考えられる。
層内に潤滑剤の粉末を混入する提案があるが（特開昭63
−98857号公報参照）、これでも十分な潤滑性を付与す
るには困難性があると考えられる。
さらに、表面の保護膜層自体をグラファイト状炭素、
ダイアモンド状炭素、硫化物で形成する示唆がなされて
いるが（特開昭63−122035号公報参照）、その形成には
苛酷な条件を必要とし、ディスク本体に悪影響を与える
可能性がある。
ダイアモンド状炭素、硫化物で形成する示唆がなされて
いるが（特開昭63−122035号公報参照）、その形成には
苛酷な条件を必要とし、ディスク本体に悪影響を与える
可能性がある。
このような事情下で、光磁気ディスクにその表面に簡
便で効率的でかつ緩和な条件下で潤滑性を付与する方法
が望まれていた。
便で効率的でかつ緩和な条件下で潤滑性を付与する方法
が望まれていた。
（ハ）課題を解決するための手段 本発明によれば、透明基板上に、単層もしくは多層か
らなる記録層と、紫外線硬化型もしくは熱硬化型の樹脂
を塗布硬化させて得られる保護層とを少なくともこの順
で形成し、保護層の表面にフッ化カーボン系のイオンビ
ームを照射して表面潤滑性を付与することを特徴とする
光磁気ディスクの製造方法及び透明基板上に、単層もし
くは多層からなる記録層と、紫外線硬化型もしくは熱硬
化型の樹脂を塗布硬化させて得られる保護層とを少なく
ともこの順で形成し、保護層の表面に炭化水素のイオン
ビームを照射して表面潤滑性を付与することを特徴とす
る光磁気ディスクの製造方法が提供される。
らなる記録層と、紫外線硬化型もしくは熱硬化型の樹脂
を塗布硬化させて得られる保護層とを少なくともこの順
で形成し、保護層の表面にフッ化カーボン系のイオンビ
ームを照射して表面潤滑性を付与することを特徴とする
光磁気ディスクの製造方法及び透明基板上に、単層もし
くは多層からなる記録層と、紫外線硬化型もしくは熱硬
化型の樹脂を塗布硬化させて得られる保護層とを少なく
ともこの順で形成し、保護層の表面に炭化水素のイオン
ビームを照射して表面潤滑性を付与することを特徴とす
る光磁気ディスクの製造方法が提供される。
本発明における透明基板とは、ガラス、プラスチック
ス、セラミック等の材質からなる透明基板が含まれる。
単層もしくは多層からなる記録層とは、例えば１）記録
膜のみ、２）記録膜とその上に誘電体膜、３）記録膜と
その上に反射膜、４）誘電体膜とその上に記録膜、５）
誘電体膜、記録膜、及びその上に誘電体膜、６）誘電体
膜、記録膜、誘電体膜、及びその上に反射膜からなるも
のが挙げられる。これらの材質は当該分野で公知のもの
が利用できる。
ス、セラミック等の材質からなる透明基板が含まれる。
単層もしくは多層からなる記録層とは、例えば１）記録
膜のみ、２）記録膜とその上に誘電体膜、３）記録膜と
その上に反射膜、４）誘電体膜とその上に記録膜、５）
誘電体膜、記録膜、及びその上に誘電体膜、６）誘電体
膜、記録膜、誘電体膜、及びその上に反射膜からなるも
のが挙げられる。これらの材質は当該分野で公知のもの
が利用できる。
本発明においては、上記の記録層上に、紫外線硬化型
又は熱硬化型の樹脂の層による保護層が設けられる。こ
れらの樹脂は当該分野で公知のものが利用できる。
又は熱硬化型の樹脂の層による保護層が設けられる。こ
れらの樹脂は当該分野で公知のものが利用できる。
上記の記録層及び保護膜の形成は、公知の方法を利用
して行われる。
して行われる。
保護層が樹脂の塗布、硬化によって形成された後に、
その表面にイオンビームの照射が行われる。
その表面にイオンビームの照射が行われる。
この発明では、表面にガラス質炭素の形成またはパー
フルオロカーボンの導入が行えるようなイオン源が用い
られる。イオン源としては、Arガス、炭化水素（メタ
ン、エタン、プロパン、ベンゼンなど）のガス、又はCF
4ガス、CHF3ガス、CFガスとO2ガスなどを用いることが
できる。この際、予め上記ガスをイオン化して照射する
方法や、その場でプラズマ放電させてイオンを発生させ
照射する方法を用いることができる。前者の方法を用い
る場合の照射条件は、約50〜60℃で１〜数分間である。
それによって所望する表面改質が得ることができる。
フルオロカーボンの導入が行えるようなイオン源が用い
られる。イオン源としては、Arガス、炭化水素（メタ
ン、エタン、プロパン、ベンゼンなど）のガス、又はCF
4ガス、CHF3ガス、CFガスとO2ガスなどを用いることが
できる。この際、予め上記ガスをイオン化して照射する
方法や、その場でプラズマ放電させてイオンを発生させ
照射する方法を用いることができる。前者の方法を用い
る場合の照射条件は、約50〜60℃で１〜数分間である。
それによって所望する表面改質が得ることができる。
（ニ）実施例 次にこの発明を実施例によって説明する。
実施例１ 第１図に、この発明の光磁気ディスクの１例の断面図
を示す。
を示す。
11はガラスからなる透明基板である。その片面には光
ビームを走査させるためのガイドラックや場所（番地）
を表すピット等（図示せず）が形成されている。12は、
上記の片面上に、AIN（800Å）/GdTbFe（200Å）/AIN
（250Å）/AI（500Å）が蒸着もしくはスパッタリング
で順次積層されてなる記録層である。13は、ウレタンア
クリレートとアクリル酸エステルモノマーを主成分とす
る紫外線硬化樹脂が塗布され紫外線照射で硬化して形成
された保護層である。
ビームを走査させるためのガイドラックや場所（番地）
を表すピット等（図示せず）が形成されている。12は、
上記の片面上に、AIN（800Å）/GdTbFe（200Å）/AIN
（250Å）/AI（500Å）が蒸着もしくはスパッタリング
で順次積層されてなる記録層である。13は、ウレタンア
クリレートとアクリル酸エステルモノマーを主成分とす
る紫外線硬化樹脂が塗布され紫外線照射で硬化して形成
された保護層である。
次に、第２図に、イオン注入装置を示す。22はシャッ
ター、23は真空チャンバー、24はガスイオン源、25は電
源である。
ター、23は真空チャンバー、24はガスイオン源、25は電
源である。
上記の光磁気ディスク21を所定位置に入れ、１×10-6
Torr以下の真空にする。次いでイオン源としてメタンガ
スを用いて2Torr程度になる様に導入してイオン化し
て、約１分間、約50〜60℃で照射する。
Torr以下の真空にする。次いでイオン源としてメタンガ
スを用いて2Torr程度になる様に導入してイオン化し
て、約１分間、約50〜60℃で照射する。
これによって、樹脂表面の潤滑性が改質される（結果
は表１に示す）。
は表１に示す）。
実施例２ 実施例１に記載の構成で、但しポリカーボネート基板
である光磁気ディスクを用い、イオン源としてテトラフ
ルオロメタンガスを5Torr程度になるように導入し、生
成したイオンガスを約50〜60℃で、約１〜２分間照射し
た。その表面改質の程度は次の表１に示す。
である光磁気ディスクを用い、イオン源としてテトラフ
ルオロメタンガスを5Torr程度になるように導入し、生
成したイオンガスを約50〜60℃で、約１〜２分間照射し
た。その表面改質の程度は次の表１に示す。
上記の係数は、光磁気ディスクとヘッドスライダーの
間で測定した結果である。押圧荷重は5g重である。
間で測定した結果である。押圧荷重は5g重である。
（ホ）発明の効果 この発明の方法によれば、最表層として樹脂の保護層
を有する光磁気ディスクが、短い時間でかつ低い温度で
のイオン照射によりその表面に潤滑性を付与することが
できる。従って、この発明の方法によれば、処理温度が
低いためポリカーボネートのような樹脂の基板からなる
光磁気ディスクへ適用しても、ディスクの欠損を来たす
ことなく表面に所望の潤滑性を与える。
を有する光磁気ディスクが、短い時間でかつ低い温度で
のイオン照射によりその表面に潤滑性を付与することが
できる。従って、この発明の方法によれば、処理温度が
低いためポリカーボネートのような樹脂の基板からなる
光磁気ディスクへ適用しても、ディスクの欠損を来たす
ことなく表面に所望の潤滑性を与える。
第１図はこの発明の光磁気ディスクの断面図、第２図は
この発明に用いられるイオンビーム照射装置の概略図、
第３図（ａ）は、浮上ヘッドとサスペンションを説明す
るための図、第３図（ｂ）は浮上ヘッドの拡大図であ
る。 11……透明基板、12……記録層、 13……保護膜、14……表面改質層、 21……光磁気ディスク、22……シャッター、 23……真空チャンバー、 24……ガスイオン源、25……電源、 31……浮上ヘッド、 32……サスペンション、 33……スライダー部、 34……磁気ヘッド部。
この発明に用いられるイオンビーム照射装置の概略図、
第３図（ａ）は、浮上ヘッドとサスペンションを説明す
るための図、第３図（ｂ）は浮上ヘッドの拡大図であ
る。 11……透明基板、12……記録層、 13……保護膜、14……表面改質層、 21……光磁気ディスク、22……シャッター、 23……真空チャンバー、 24……ガスイオン源、25……電源、 31……浮上ヘッド、 32……サスペンション、 33……スライダー部、 34……磁気ヘッド部。
Claims (2)
- 【請求項１】透明基板上に、単層もしくは多層からなる
記録層と、紫外線硬化型もしくは熱硬化型の樹脂を塗布
硬化させて得られる保護層とを少なくともこの順で形成
し、保護層の表面にフッ化カーボン系のイオンビームを
照射して表面潤滑性を付与することを特徴とする光磁気
ディスクの製造方法。 - 【請求項２】透明基板上に、単層もしくは多層からなる
記録層と、紫外線硬化型もしくは熱硬化型の樹脂を塗布
硬化させて得られる保護層とを少なくともこの順で形成
し、保護層の表面に炭化水素のイオンビームを照射して
表面潤滑性を付与することを特徴とする光磁気ディスク
製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2178735A JP2622015B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 光磁気ディスクの製造方法 |
| CA 2046178 CA2046178C (en) | 1990-07-05 | 1991-07-04 | Magneto-optical disk with lubricant film |
| EP91306149A EP0465269B1 (en) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | Magneto-optical disk and manufacturing method thereof |
| DE1991622440 DE69122440T2 (de) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | Magnetooptische Platte und deren Herstellungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2178735A JP2622015B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0467446A JPH0467446A (ja) | 1992-03-03 |
| JP2622015B2 true JP2622015B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=16053672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2178735A Expired - Lifetime JP2622015B2 (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2622015B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06203376A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-07-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 重合体薄膜を形成する方法及び磁気記録体 |
| US5525392A (en) * | 1992-12-10 | 1996-06-11 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording medium having a fluorinated polymeric protective layer formed by an ion beam |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2600710B2 (ja) * | 1987-09-10 | 1997-04-16 | 富士通株式会社 | 光磁気ディスクとその製造方法 |
| JPH02110829A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP2178735A patent/JP2622015B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0467446A (ja) | 1992-03-03 |
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Legal Events
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