JPH0467447A - 光磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光磁気ディスク及びその製造方法Info
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- JPH0467447A JPH0467447A JP17879490A JP17879490A JPH0467447A JP H0467447 A JPH0467447 A JP H0467447A JP 17879490 A JP17879490 A JP 17879490A JP 17879490 A JP17879490 A JP 17879490A JP H0467447 A JPH0467447 A JP H0467447A
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- Japan
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- magneto
- optical disk
- recording layer
- film
- solid lubricant
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、浮上型ヘッドを用いて記録及び/又は再生を
行う光磁気記録再生装置において使用される光磁気ディ
スク及びその製造方法に関するものである。
行う光磁気記録再生装置において使用される光磁気ディ
スク及びその製造方法に関するものである。
〔従来の技術9〕
光磁気記録方式とは、ガラス、プラスチック、セラミッ
クス等からなる基板上に金属磁性膜からなる垂直磁化膜
を形成したものを記録媒体とし、以下のような方法で記
録・再生を行うものである。
クス等からなる基板上に金属磁性膜からなる垂直磁化膜
を形成したものを記録媒体とし、以下のような方法で記
録・再生を行うものである。
即ち、記録時には、記録媒体をまず、強力な外部磁場等
によって初期化し、磁化の方向を一方同(上向き又は下
向き)に揃えておく。その後、記録したい領域にレーザ
ビームを照射して、照射領域の温度をキュリー点近傍以
上、もしくは補償点近傍に加熱し、その領域の保磁力を
“O”又はほぼ“0”とした上で、初期化の磁化の方向
と逆向きの外部磁場(バイアス磁場)を印加して磁化の
向きを反転させる。
によって初期化し、磁化の方向を一方同(上向き又は下
向き)に揃えておく。その後、記録したい領域にレーザ
ビームを照射して、照射領域の温度をキュリー点近傍以
上、もしくは補償点近傍に加熱し、その領域の保磁力を
“O”又はほぼ“0”とした上で、初期化の磁化の方向
と逆向きの外部磁場(バイアス磁場)を印加して磁化の
向きを反転させる。
レーザビームの照射を停止すると、記録媒体は常温に戻
るが、反転した磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録
される。
るが、反転した磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録
される。
再生時には、直線偏光とされたレーザビームを記録媒体
に照射して、その反射光又は透過光の偏光面の回転方向
が磁化の向きによって異なる現象(I気力−効果又は磁
気ファラデー効果)を利用して光学的に読出しを行う。
に照射して、その反射光又は透過光の偏光面の回転方向
が磁化の向きによって異なる現象(I気力−効果又は磁
気ファラデー効果)を利用して光学的に読出しを行う。
上記のような光磁気記録方式を用いた記録媒体は、書換
え可能な大容量メモリ素子として注目されているが、記
録媒体に一旦記録された情報を書き換える方法には、(
i)記録媒体を再度初期化することにより、従前に記録
されていた情報を一旦消去した後、新たな情報を記録す
る方法、(11)記録媒体、又は外部磁場を発生する磁
気ヘッドに工夫を加えてオーバーライド、つまり、消去
動作をせずに直接情報の書換えを行う方法の2通りがあ
る。
え可能な大容量メモリ素子として注目されているが、記
録媒体に一旦記録された情報を書き換える方法には、(
i)記録媒体を再度初期化することにより、従前に記録
されていた情報を一旦消去した後、新たな情報を記録す
る方法、(11)記録媒体、又は外部磁場を発生する磁
気ヘッドに工夫を加えてオーバーライド、つまり、消去
動作をせずに直接情報の書換えを行う方法の2通りがあ
る。
そのうち、(i)の方法では、記録用の磁気ヘッド以外
に初期化装置が必要となるか、或いは記録用及び消去用
に2個の磁気ヘッドが必要となり、部品点数の増加及び
コスト高を招くことになる。又、1個のみの磁気ヘッド
で記録及び消去を行う場合は、書換えの際の消去のため
に記録時と同し時間を要し、非効率的である。
に初期化装置が必要となるか、或いは記録用及び消去用
に2個の磁気ヘッドが必要となり、部品点数の増加及び
コスト高を招くことになる。又、1個のみの磁気ヘッド
で記録及び消去を行う場合は、書換えの際の消去のため
に記録時と同し時間を要し、非効率的である。
一方、(ii )における記録媒体に工夫する方法では
、記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。
、記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。
そのため、(ii)における外部磁場発生用の磁気ヘッ
ドに工夫を加える方法、具体的には、レーザビームの強
度は一定とし、外部磁場の向きを高速で反転させて記録
する方法が最も有力であると思われる。
ドに工夫を加える方法、具体的には、レーザビームの強
度は一定とし、外部磁場の向きを高速で反転させて記録
する方法が最も有力であると思われる。
ところで、外部磁場の向きを高速で反転させるためには
、外部磁場発生用の磁気ヘッドにおけるコイル及びコイ
ル芯は極めて小さくする必要があり、その場合、磁場の
発生領域も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体
とを接近させる必要があるので、一般には、第5図及び
第6図に示すように、外部磁場発生用の磁気ヘッドを図
示しない記録媒体上で滑走可能なスライダ1を有する浮
上型ヘッド2とし、上記スライダ1に磁気ヘンド部3を
設けるとともに、スライダ1をサスペンション4により
支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回転に伴って
浮上型ヘッド2を記録媒体の表面から浮上させるように
なっている。
、外部磁場発生用の磁気ヘッドにおけるコイル及びコイ
ル芯は極めて小さくする必要があり、その場合、磁場の
発生領域も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体
とを接近させる必要があるので、一般には、第5図及び
第6図に示すように、外部磁場発生用の磁気ヘッドを図
示しない記録媒体上で滑走可能なスライダ1を有する浮
上型ヘッド2とし、上記スライダ1に磁気ヘンド部3を
設けるとともに、スライダ1をサスペンション4により
支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回転に伴って
浮上型ヘッド2を記録媒体の表面から浮上させるように
なっている。
この浮上型へラド2は、スライダ1と記録媒体間の空気
の流れによって生じる上向きの浮上刃と、サスペンショ
ン4による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンオーダ程度であ
る。
の流れによって生じる上向きの浮上刃と、サスペンショ
ン4による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンオーダ程度であ
る。
一方、記録媒体が光磁気ディスクの場合は、ディスクを
記録再生装置から取り出すことが可能であるために塵の
付着が生しがちになる。その場合、浮上型ヘッド2が光
磁気ディスクに過度に接近するとヘッドクラッシュ等の
不具合を生じる恐れがあるので、ハードディスクに比べ
て浮上量を大きくする必要がある。従って、光磁気ディ
スクにおいては、5〜15μm程度の浮上量が必要であ
る。
記録再生装置から取り出すことが可能であるために塵の
付着が生しがちになる。その場合、浮上型ヘッド2が光
磁気ディスクに過度に接近するとヘッドクラッシュ等の
不具合を生じる恐れがあるので、ハードディスクに比べ
て浮上量を大きくする必要がある。従って、光磁気ディ
スクにおいては、5〜15μm程度の浮上量が必要であ
る。
又、上記の光磁気ディスクにおける浮上型ヘッド2に対
向する表面には、このディスク表面とスライダ1の滑走
時の滑りを良くするための潤滑剤を塗布するのが好まし
い。従来、この潤滑剤としては、一般にパーフルオロポ
リエーテルに代表されるフッ素カーボン系オイルが使用
され、上記の潤滑剤がスピンコード法又はスプレー法等
によって光磁気ディスクの全面に塗布される。
向する表面には、このディスク表面とスライダ1の滑走
時の滑りを良くするための潤滑剤を塗布するのが好まし
い。従来、この潤滑剤としては、一般にパーフルオロポ
リエーテルに代表されるフッ素カーボン系オイルが使用
され、上記の潤滑剤がスピンコード法又はスプレー法等
によって光磁気ディスクの全面に塗布される。
ところが、フッ素カーボン系オイルは液体であるために
、光磁気ディスクの表面にスライダ1が吸着したり、或
いは、光磁気ディスクの回転に伴って潤滑剤が飛散する
等の問題を有していた。
、光磁気ディスクの表面にスライダ1が吸着したり、或
いは、光磁気ディスクの回転に伴って潤滑剤が飛散する
等の問題を有していた。
又、潤滑剤として、ポリテトラフルオロエチレン、或い
はMoS2、WS2等の固体潤滑剤を使用することも考
えられるが、上記のような潤滑剤はミクロンオーダー程
度の厚みで均一に形成することが困難なものであった。
はMoS2、WS2等の固体潤滑剤を使用することも考
えられるが、上記のような潤滑剤はミクロンオーダー程
度の厚みで均一に形成することが困難なものであった。
なお、潤滑剤の厚みが変動すると、それに伴って浮上型
の磁気ヘッドと垂直磁化膜との間の距離が変動するので
、−様な外部磁場の印加が行えない等の問題が生しる。
の磁気ヘッドと垂直磁化膜との間の距離が変動するので
、−様な外部磁場の印加が行えない等の問題が生しる。
本発明に係る光磁気ディスクは、上記の課題を解決する
ために、基板上に記録層及び保護膜を順次形成してなり
、記録及び/又は再生に浮上型ヘッドが使用される光磁
気ディスクにおいて、保護膜上にパーフルオロアルキル
(perfluoroalkyl)基CH3(CFz)
11−を有するオレフィン(oleftn)Cn H2
++からなり、浮上型ヘッドが滑走する固体潤滑膜を形
成したことを特徴とするものである。
ために、基板上に記録層及び保護膜を順次形成してなり
、記録及び/又は再生に浮上型ヘッドが使用される光磁
気ディスクにおいて、保護膜上にパーフルオロアルキル
(perfluoroalkyl)基CH3(CFz)
11−を有するオレフィン(oleftn)Cn H2
++からなり、浮上型ヘッドが滑走する固体潤滑膜を形
成したことを特徴とするものである。
又、浮上型ヘッドが使用される光磁気ディスクにおいて
、記録層の種類によっては、保護膜を設けずに、記録層
上にパーフルオロアルキル基を有するオレフィンからな
る固体潤滑膜を直接形成しても良い。
、記録層の種類によっては、保護膜を設けずに、記録層
上にパーフルオロアルキル基を有するオレフィンからな
る固体潤滑膜を直接形成しても良い。
なお、上記のような光磁気ディスクの製造に際して、ポ
リテトラフルオロエチレン(polytetraflu
oroethylene)粉末とパーフルオロポリエー
テル(perf 1uoropolyet、her)を
混練してターゲットを作製した後、このターゲットをス
パッタリングすることにより上記パーフルオロアルキル
基を有するオレフィンからなる固体潤滑膜を形成するこ
とが好ましい。
リテトラフルオロエチレン(polytetraflu
oroethylene)粉末とパーフルオロポリエー
テル(perf 1uoropolyet、her)を
混練してターゲットを作製した後、このターゲットをス
パッタリングすることにより上記パーフルオロアルキル
基を有するオレフィンからなる固体潤滑膜を形成するこ
とが好ましい。
上記の光磁気ディスクにおいては、保護膜又は記録層上
にパーフルオロアルキル基を有するオレフィンからなる
固体潤滑膜を形成しているので、浮上型ヘッドの吸着又
は潤滑剤の飛散は生じにくくなる。
にパーフルオロアルキル基を有するオレフィンからなる
固体潤滑膜を形成しているので、浮上型ヘッドの吸着又
は潤滑剤の飛散は生じにくくなる。
又、パーフルオロアルキル基を有するオレフィンからな
る固体潤滑膜を、上記の如く、ポリテトラフルオロエチ
レン粉末とパーフルオロポリエーテルを混練してなるタ
ーゲットをスパッタリングして形成するようにすれば、
上記固体潤滑膜をサブミクロンオーダ又はミクロンオー
ダ程度の膜厚で均一に形成することができるようになる
。従って、このような方法で製造した光磁気ディスクに
おいては、浮上型ヘッドによりほぼ一定の強度で外部磁
場の印加が行えるようになる。
る固体潤滑膜を、上記の如く、ポリテトラフルオロエチ
レン粉末とパーフルオロポリエーテルを混練してなるタ
ーゲットをスパッタリングして形成するようにすれば、
上記固体潤滑膜をサブミクロンオーダ又はミクロンオー
ダ程度の膜厚で均一に形成することができるようになる
。従って、このような方法で製造した光磁気ディスクに
おいては、浮上型ヘッドによりほぼ一定の強度で外部磁
場の印加が行えるようになる。
〔実施例1〕
請求項第1項及び第3項に関連する本発明の一実施例を
第1図及び第2図に基づいて説明すれば、以下の通りで
ある。
第1図及び第2図に基づいて説明すれば、以下の通りで
ある。
第1図に示すように、本発明に係る光磁気ディスクは、
透光性の基板11と、基板11上に形成された記録層1
2と、記録層12上に形成され、記録層12を保護する
保護膜13と、保護膜13上に形成された固体潤滑膜1
4とを備えている。
透光性の基板11と、基板11上に形成された記録層1
2と、記録層12上に形成され、記録層12を保護する
保護膜13と、保護膜13上に形成された固体潤滑膜1
4とを備えている。
基板11は、例えば、ポリカーボネイト等の透光性の樹
脂を射出成形することにより形成され、中央に孔11a
が明けられるとともに、記録層12が形成される表面に
は、光ビームを案内する案内溝が設けられるとともに、
必要に応じて、アドレス等の情報を記録した凹凸ビット
(図示せず)が設けられる。
脂を射出成形することにより形成され、中央に孔11a
が明けられるとともに、記録層12が形成される表面に
は、光ビームを案内する案内溝が設けられるとともに、
必要に応じて、アドレス等の情報を記録した凹凸ビット
(図示せず)が設けられる。
記録層12は、具体的に図示しないが、例えば、基板1
1側から、順次、AINからなる第1の誘電体膜(膜厚
800人程度)、DyFeCoからなる磁性膜(膜厚2
00人程度)、leNからなる第2の誘電体膜(膜厚2
50人程度)及びA!からなる反射膜(膜厚500人程
度)の4層が積層されて構成されている。なお、第1及
び第2の誘電体膜はカー回転角を強調するためのもので
ある。
1側から、順次、AINからなる第1の誘電体膜(膜厚
800人程度)、DyFeCoからなる磁性膜(膜厚2
00人程度)、leNからなる第2の誘電体膜(膜厚2
50人程度)及びA!からなる反射膜(膜厚500人程
度)の4層が積層されて構成されている。なお、第1及
び第2の誘電体膜はカー回転角を強調するためのもので
ある。
保護膜13は、例えば、ウレタンアクリレート系等の紫
外線硬化樹脂からなり、スピンコード法により塗布され
て紫外線の照射により硬化される。
外線硬化樹脂からなり、スピンコード法により塗布され
て紫外線の照射により硬化される。
又、固体潤滑膜14は、パーフルオロアルキル基が表面
に配向したオレフィン(内部はオレフィンで表面にパー
フルオロアルキル基が存在している)からなり、厚みは
1100n程度とされる。
に配向したオレフィン(内部はオレフィンで表面にパー
フルオロアルキル基が存在している)からなり、厚みは
1100n程度とされる。
上記の光磁気ディスクに記録・再生又は消去を行う光磁
気記録再生装置は、対物レンズ15を有するとともに基
板11における記録層12等の設けられない側の表面に
対向させて配置された光ヘッド、サスペンション16に
より固体潤滑膜14側に付勢されるスライダ17と、ス
ライダ17に取り付けられた磁気ヘッド(図示せず)と
を有する浮上型磁気ヘッド、及び光磁気ディスクを回転
させるスピンドルモータ等を備えている。
気記録再生装置は、対物レンズ15を有するとともに基
板11における記録層12等の設けられない側の表面に
対向させて配置された光ヘッド、サスペンション16に
より固体潤滑膜14側に付勢されるスライダ17と、ス
ライダ17に取り付けられた磁気ヘッド(図示せず)と
を有する浮上型磁気ヘッド、及び光磁気ディスクを回転
させるスピンドルモータ等を備えている。
上記の構成において、光磁気ディスクの停止時には、ス
ライダ17は固体潤滑膜140表面に接触して静止して
いる。記録又は再生時に、光磁気ディスクを回転させる
と、回転に伴って光磁気ディスクとの間に生じる空気流
により、スライダ17が固体潤滑膜14上で滑走した後
、はぼ一定の浮上量で固体潤滑膜14から浮上する。
ライダ17は固体潤滑膜140表面に接触して静止して
いる。記録又は再生時に、光磁気ディスクを回転させる
と、回転に伴って光磁気ディスクとの間に生じる空気流
により、スライダ17が固体潤滑膜14上で滑走した後
、はぼ一定の浮上量で固体潤滑膜14から浮上する。
その後、記録時であ5ば、対物レンズ15を介して記録
層12にレーザ光を照射しながら、スライダ17に取り
付けた磁気ヘッドから記録層12に磁場を印加すること
により、記録層12に所望の情報が記録される。一方、
再生時であれば、記録層12に直線偏光のレーザ光を照
射し、反射光に基づいて上記光ヘッドで情報の検出が行
われる。又、光磁気ディスクの回転を終了する際には、
スライダ17は固体潤滑膜14に接触しながら滑走した
後、固体潤滑膜14上で静止する。゛なお、本実施例で
は、固体潤滑膜14はパーフルオロアルキル基を有する
オレフィンを使用しているので、スライダ17と固体潤
滑膜14との間の摩擦係数μは、μ〈1.0となる(従
来の光磁気ディスクでは、スライダとの間の摩擦係数μ
〉1.0)。これにより、スライダ17と光磁気ディス
クとの間での吸着は生じにくくなる。又、固体潤滑膜1
4を使用しているので、スライダ17の滑走時に潤滑側
が飛散する等の不具合は生じない。
層12にレーザ光を照射しながら、スライダ17に取り
付けた磁気ヘッドから記録層12に磁場を印加すること
により、記録層12に所望の情報が記録される。一方、
再生時であれば、記録層12に直線偏光のレーザ光を照
射し、反射光に基づいて上記光ヘッドで情報の検出が行
われる。又、光磁気ディスクの回転を終了する際には、
スライダ17は固体潤滑膜14に接触しながら滑走した
後、固体潤滑膜14上で静止する。゛なお、本実施例で
は、固体潤滑膜14はパーフルオロアルキル基を有する
オレフィンを使用しているので、スライダ17と固体潤
滑膜14との間の摩擦係数μは、μ〈1.0となる(従
来の光磁気ディスクでは、スライダとの間の摩擦係数μ
〉1.0)。これにより、スライダ17と光磁気ディス
クとの間での吸着は生じにくくなる。又、固体潤滑膜1
4を使用しているので、スライダ17の滑走時に潤滑側
が飛散する等の不具合は生じない。
次に、上記の光磁気ディスクの製造方法につき簡単に説
明する。
明する。
まず、案内溝及び/又は凹凸ビット等の設けられた基板
11上に蒸着、スパッタリング等により記録層12を形
成し、更に、スピンコード法及び紫外線照射等により保
護膜13を形成する。
11上に蒸着、スパッタリング等により記録層12を形
成し、更に、スピンコード法及び紫外線照射等により保
護膜13を形成する。
続いて、記録層12及び保護膜13の形成された基板1
1を、第2図に示す真空チャンバ18内に挿入し、排気
口18aから充分な真空引き(IXIO−5torr以
下)を行う。真空チャンバ18内において、ベース20
上にターゲット21が配置され、ターゲラ1−21はシ
ャッタ22を介して基板11上の保護膜13に対向して
いる。
1を、第2図に示す真空チャンバ18内に挿入し、排気
口18aから充分な真空引き(IXIO−5torr以
下)を行う。真空チャンバ18内において、ベース20
上にターゲット21が配置され、ターゲラ1−21はシ
ャッタ22を介して基板11上の保護膜13に対向して
いる。
この状態で、導入口18bから真空チャンバ18内にA
rガスを導入しくlXl0−’torr程度)、高周波
電源23からマツチング回路24を介してターゲット2
1と真空チャンバ18間に電圧を印加することにより、
ターゲット21をスパッタリングし、保護膜13上に、
パーフルオロアルキル基を有するオレフィンからなる固
体潤滑膜14を形成する。なお、ターゲット21は、ポ
リテトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロポリエー
テルとを重量比1:3で充分に混練し、グリース状とし
たものであり、このターゲット21をA1からなるベー
ス20上に塗布している。
rガスを導入しくlXl0−’torr程度)、高周波
電源23からマツチング回路24を介してターゲット2
1と真空チャンバ18間に電圧を印加することにより、
ターゲット21をスパッタリングし、保護膜13上に、
パーフルオロアルキル基を有するオレフィンからなる固
体潤滑膜14を形成する。なお、ターゲット21は、ポ
リテトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロポリエー
テルとを重量比1:3で充分に混練し、グリース状とし
たものであり、このターゲット21をA1からなるベー
ス20上に塗布している。
上記のような方法で固体潤滑膜14を形成すると、固体
潤滑膜14の厚みを光磁気ディスクの全面でほぼ均一と
することができる。これにより、スライダ17に取り付
けた磁気ヘッドによって、記録層12にほぼ一定強度で
外部磁場の印加が行えるようになる。
潤滑膜14の厚みを光磁気ディスクの全面でほぼ均一と
することができる。これにより、スライダ17に取り付
けた磁気ヘッドによって、記録層12にほぼ一定強度で
外部磁場の印加が行えるようになる。
〔実施例2〕
次に、請求項第2項及び第3項に関連する本発明の第2
実施例を説明する。
実施例を説明する。
第3図に示すように、この実施例の光磁気ディスクは、
ガラスからなる基板31上に記録層32を形成し、記録
層32を被覆するように固体潤滑膜33を形成してなる
ものである。この実施例は、記録層32としてptとC
oとを交互に複数回積層してなる多層膜等、耐候性を有
する材料を使用する光磁気ディスクに関するものであり
、従って、この実施例では、第1実施例における保護膜
13を省略している。
ガラスからなる基板31上に記録層32を形成し、記録
層32を被覆するように固体潤滑膜33を形成してなる
ものである。この実施例は、記録層32としてptとC
oとを交互に複数回積層してなる多層膜等、耐候性を有
する材料を使用する光磁気ディスクに関するものであり
、従って、この実施例では、第1実施例における保護膜
13を省略している。
次に、第3図の光磁気ディスクの製造方法にっき述べる
。
。
ガラス製の基板31には、まず、CF、ガスによるエツ
チング等により、第1実施例と同様の案内溝及び/又は
凹凸ピントを設ける。
チング等により、第1実施例と同様の案内溝及び/又は
凹凸ピントを設ける。
続いて、基板31に対し、第4図に示すような成膜装置
を使用して記録層32及び固体潤滑膜33を形成する。
を使用して記録層32及び固体潤滑膜33を形成する。
第4図において、成膜装置は、ロードチャンバ34、記
録層形成チャンバ35、固体潤滑膜形成チャンバ36及
びアンロードチャンバ37を備えている。記録層形成チ
ャンバ35内には、PtとCoとを交互に複数回積層し
た多層膜からなる記録層32を形成するために、それぞ
れpt及びCoからなるターゲット40・41が配置さ
れ、固体潤滑膜形成チャンバ36内には、第1実施例と
同様にポリテトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロ
ポリエーテルとを重量比1:3で充分に混練し、グリー
ス状としたターゲット42が配置されている。なお、各
チャンバ34〜37には、それぞれ真空引きのための排
気口34a〜37aが設けられるとともに、記録層形成
チャンバ35及び固体潤滑膜形成チャンバ36には、そ
れぞれArガスを導入するための導入口35b・36b
が設けられている。
録層形成チャンバ35、固体潤滑膜形成チャンバ36及
びアンロードチャンバ37を備えている。記録層形成チ
ャンバ35内には、PtとCoとを交互に複数回積層し
た多層膜からなる記録層32を形成するために、それぞ
れpt及びCoからなるターゲット40・41が配置さ
れ、固体潤滑膜形成チャンバ36内には、第1実施例と
同様にポリテトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロ
ポリエーテルとを重量比1:3で充分に混練し、グリー
ス状としたターゲット42が配置されている。なお、各
チャンバ34〜37には、それぞれ真空引きのための排
気口34a〜37aが設けられるとともに、記録層形成
チャンバ35及び固体潤滑膜形成チャンバ36には、そ
れぞれArガスを導入するための導入口35b・36b
が設けられている。
基板31(第4図には図示せず)は、まず、ロードチャ
ンバ34に挿入され、ここで、トレイ43に載置される
。そして、トレイ43上の基板31は、図示しないベル
トにより記録層形成チャンバ35に送られ、ここで、P
tのターゲット40とCoのターゲット41を交互に複
数回スパッタリングすることにより、基板31上にPt
とCOの多層膜からなる記録層32を形成する。具体的
には、ptの1層当たりの膜厚を8人程度、c。
ンバ34に挿入され、ここで、トレイ43に載置される
。そして、トレイ43上の基板31は、図示しないベル
トにより記録層形成チャンバ35に送られ、ここで、P
tのターゲット40とCoのターゲット41を交互に複
数回スパッタリングすることにより、基板31上にPt
とCOの多層膜からなる記録層32を形成する。具体的
には、ptの1層当たりの膜厚を8人程度、c。
の1層当たりの膜厚を3人程度とし、pt(例えば、3
0層)とCo(例えば、31層)を交互に積層する。
0層)とCo(例えば、31層)を交互に積層する。
記録層32の形成された基板31は、次に、固体潤滑膜
形成チャンバ36に送られ、ここで、ターゲット42を
スパッタリングすることにより、記録層32上に、パー
フルオロアルキル基を有するオレフィンからなる固体潤
滑膜33を形成する。その後、固体潤滑膜33の形成さ
れた光磁気ディスクは、アンロードチャンバ37を介し
て取り出される。
形成チャンバ36に送られ、ここで、ターゲット42を
スパッタリングすることにより、記録層32上に、パー
フルオロアルキル基を有するオレフィンからなる固体潤
滑膜33を形成する。その後、固体潤滑膜33の形成さ
れた光磁気ディスクは、アンロードチャンバ37を介し
て取り出される。
なお、簡単のため、第4図中の記録層形成チャンバ35
及び固体潤滑膜形成チャンバ36には電源等を図示して
いない。又、記録層形成チャンバ35において、記録層
32を構成するPt膜及びCo膜はスパッタリングによ
り形成する代わりに蒸着しても良い。
及び固体潤滑膜形成チャンバ36には電源等を図示して
いない。又、記録層形成チャンバ35において、記録層
32を構成するPt膜及びCo膜はスパッタリングによ
り形成する代わりに蒸着しても良い。
この第2実施例においても、固体潤滑膜33とスライダ
17との間の摩擦係数μはμ<1. 0となった。
17との間の摩擦係数μはμ<1. 0となった。
本発明に係る光磁気ディスクは、以上のように、基板上
に記録層及び保護膜が順次形成され、記録及び/又は再
生に浮上型ヘッドが使用される光磁気ディスクにおいて
、上記保護膜上にパーフルオロアルキル基を有するオレ
フィンがらなり、浮上型ヘッドが滑走する固体潤滑膜が
形成されている構成である。
に記録層及び保護膜が順次形成され、記録及び/又は再
生に浮上型ヘッドが使用される光磁気ディスクにおいて
、上記保護膜上にパーフルオロアルキル基を有するオレ
フィンがらなり、浮上型ヘッドが滑走する固体潤滑膜が
形成されている構成である。
コレにより、記録層上にパーフルオロアルキル基を有す
るオレフィンからなる固体潤滑膜を形成しているので、
浮上型ヘッドの吸着又は潤滑剤の飛散は生じにくくなる
。
るオレフィンからなる固体潤滑膜を形成しているので、
浮上型ヘッドの吸着又は潤滑剤の飛散は生じにくくなる
。
又、浮上型ヘッドが使用される光磁気ディスクにおいて
、記録層が耐候性を有する材料等がらなっている場合、
保護膜を形成せずに、記録層上にパーフルオロアルキル
基を有するオレフィンからなる固体潤滑膜を直接形成す
るようにしても良い。
、記録層が耐候性を有する材料等がらなっている場合、
保護膜を形成せずに、記録層上にパーフルオロアルキル
基を有するオレフィンからなる固体潤滑膜を直接形成す
るようにしても良い。
この場合も、上記の固体潤滑膜上で浮上型ヘッドの滑走
を行うことにより、浮上型ヘッドの吸着又は潤滑剤の飛
散は生じにくくなる。
を行うことにより、浮上型ヘッドの吸着又は潤滑剤の飛
散は生じにくくなる。
一方、本発明に係る光磁気ディスクの製造方法は、ポリ
テトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロポリエーテ
ルを混練してターゲットを作製した後、このターゲット
をスパッタリングすることにより、パーフルオロアルキ
ル基を有するオレフィンからなる固体潤滑膜を形成する
ようにした構成である。
テトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロポリエーテ
ルを混練してターゲットを作製した後、このターゲット
をスパッタリングすることにより、パーフルオロアルキ
ル基を有するオレフィンからなる固体潤滑膜を形成する
ようにした構成である。
これにより、上記固体潤滑膜をサブミクロンオ−ダ又は
ミクロンオーダ程度で均一に形成することができるよう
になる。従って、このような方法で製造した光磁気ディ
スクにおいては、浮上型ヘッドにより記録層にほぼ一定
強度で外部磁場の印加を行えるようになる。
ミクロンオーダ程度で均一に形成することができるよう
になる。従って、このような方法で製造した光磁気ディ
スクにおいては、浮上型ヘッドにより記録層にほぼ一定
強度で外部磁場の印加を行えるようになる。
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示すものである
。 第1図は光磁気ディスクの概略縦断面図である。 第2図は成膜装置を示す概略説明図である。″第3図及
び第4図は本発明の他の実施例を示すものである。 第3図は光磁気ディスクの概略縦断面図である。 第4図は成膜装置を示す概略説明図である。 第5図及び第6図は従来例を示すものである。 第5図は浮上型磁気ヘッドを示す斜視図である。 第6図は第5図の部分拡大図である。 11・31は基板、12・32は記録層、13は保護膜
、14・33は固体潤滑膜である。 j!6 図
。 第1図は光磁気ディスクの概略縦断面図である。 第2図は成膜装置を示す概略説明図である。″第3図及
び第4図は本発明の他の実施例を示すものである。 第3図は光磁気ディスクの概略縦断面図である。 第4図は成膜装置を示す概略説明図である。 第5図及び第6図は従来例を示すものである。 第5図は浮上型磁気ヘッドを示す斜視図である。 第6図は第5図の部分拡大図である。 11・31は基板、12・32は記録層、13は保護膜
、14・33は固体潤滑膜である。 j!6 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に記録層及び保護膜が順次形成されてなり、
記録及び/又は再生に浮上型ヘッドが使用される光磁気
ディスクにおいて、 上記保護膜上にパーフルオロアルキル基を有するオレフ
ィンからなり、浮上型ヘッドが滑走する固体潤滑膜が形
成されていることを特徴とする光磁気ディスク。 2、基板上に記録層が形成されてなり、記録及び/又は
再生に浮上型ヘッドが使用される光磁気ディスクにおい
て、 上記記録層上にパーフルオロアルキル基を有するオレフ
ィンからなり、浮上型ヘッドが滑走する固体潤滑膜が形
成されていることを特徴とする光磁気ディスク。 3、ポリテトラフルオロエチレン粉末とパーフルオロポ
リエーテルとを混練してターゲットを作製した後、この
ターゲットをスパッタリングすることにより上記パーフ
ルオロアルキル基を有するオレフィンからなる固体潤滑
膜を形成するようにしたことを特徴とする請求項第1項
又は第2項のいずれかに記載の光磁気ディスクの製造方
法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17879490A JPH0467447A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
CA 2046178 CA2046178C (en) | 1990-07-05 | 1991-07-04 | Magneto-optical disk with lubricant film |
DE1991622440 DE69122440T2 (de) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | Magnetooptische Platte und deren Herstellungsverfahren |
EP91306149A EP0465269B1 (en) | 1990-07-05 | 1991-07-05 | Magneto-optical disk and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17879490A JPH0467447A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0467447A true JPH0467447A (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=16054764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17879490A Pending JPH0467447A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0467447A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57145979A (en) * | 1981-03-04 | 1982-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Formation of protective film |
JPH01112547A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-01 | Toshiba Corp | 光メモリ媒体 |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP17879490A patent/JPH0467447A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57145979A (en) * | 1981-03-04 | 1982-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Formation of protective film |
JPH01112547A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-01 | Toshiba Corp | 光メモリ媒体 |
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