JPS61273761A - 光磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 回転する際の線速か異なる光磁気ディスクの内周部と外
周部とで同一のパワーで記録と消去とを行う方法として
、内周部より外周部に向かって垂直磁性膜の厚さを減少
せしめた光磁気ディスク。

〔産業上の利用分野〕

本発明はディスク全域にわたって均一なレーザパワーで
記録と消去を可能とする光磁気ディスクの構成に関する
。

光磁気ディスクはレーザ光を用いて高密度の情報記録を
行うメモリであり、光ディスクと同様に記録容置が大き
く、非接触で記録と再生を行うことができ、また塵埃の
影響を受けないなど優れた特徴をもつメモリである。

すなわちレーザ光はレンズによって直径が１μｍ以下の
小さなスポットに絞り込むことが可能であり、従って１
ビツトの情報記録に要する・面積が１μｌ１１２程度で
足りる。

そのため磁気ディスク或いは磁気テープが１ビツトの情
報記録に数１０〜数１００μｆｆ１２の面積が必要なの
と較べて道かに少なくて済み、従って大容量記録が可能
である。

またレンズで絞り込む際に光磁気ディスクの基板面では
ビーム径は約１１１ｍ程度の広さになるので、基板面に
大きさが数１０μｍ２の塵埃が存在していても記録・再
生に殆ど影響を与えずに済ませることができる。

このように光源としてレーザ光を用いる光磁気ディスク
及び光ディスクは優れた特性を備えているが、この両者
を比較すると、光ディスクは記録媒体として低融点金属
を用い、情報の記録と再生を穴（ビット）の有無により
行う読出し専用メモリ（Ｒｅａｄ　０ｎｌｙ　Ｍｅｍｏ
ｒｙ）が主であり、既に実用化されている。

一方、光磁気ディスクは書替え可能なメモリ（Ｅｒａｓ
ａｂｌｅ　Ｍｅｍｏｒｙ）として開発が進められている
もので、レーザ照射された磁性膜の温度上昇による磁化
反転が情報の記録と消去に用いられ、磁性膜からの反射
光或いは透過光の偏光面の回転が光続出しに使用されて
いる。

ここで磁性膜として垂直磁性膜が用いられているが、こ
れは１．！：０の記録ビットが隣接するときに垂直磁性
膜がより安定で高密度記録が可能なためである。

〔従来の技術〕

光磁気ディスクは先に記したように１μｍ以下の直径に
まで絞ったレーザ光を記録媒体である垂直磁化膜に投射
し、照射部が部分的に加熱されてキュリ一温度の近傍或
いはこれ以上の温度にまで上昇するのを利用して記録や
消去を行うものである。

ここでディスクの回転数を一定とすると光磁気ディスク
の外周部と内周部とでは線速か異なるために同一のレー
ザパワーで照射を行っても被照射部の温度が異なると云
う問題がある。

すなわち内周から外周に行くに従って線速か大きくなる
ので温度上昇が小さくなる。

従ってレーザパワーを一定とし、また回転数を一定とし
た状態で記録と消去を行うには工夫が必要である。

然し、光磁気ディスクの実用化が行われていない現在、
未だ明確な処理方法は決まっておらず、実験的には情報
の記録或いは消去位置により連続的にレーザパワーを変
化させる方法が採られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

以上記したように光磁気ディスクはディスク基板の回転
中に内周部と外周部とでは線速か異なるためにディスク
基板の回転速度を一定とし、またレーザパワーを一定に
保持する場合に線速とどのようにして調和させるかが問
題である。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の問題は透明なディスク基板上に情報の記録・再生
を行う垂直磁性膜と保ｉ１膜とが層形成されてなる光磁
気ディスク基板において、前記磁性膜の膜厚が内周部よ
り外周部に向かうて薄く、傾斜して形成された構造をと
る光磁気ディスクにより解決することができる。

〔作用〕

光磁気ディスクへの情報の記録と消去は垂直磁性膜に磁
場を加えた状態でレーザ照射してキュリ一温度にまで加
熱し、垂直磁性膜の磁化を磁場の方向に変えることによ
り行うものであるが、その際に垂直磁性膜の温度上昇は
膜厚に反比例することから垂直磁性膜を内周より外周方
向に薄くなるように形成することにより、温度上昇を線
速にマンチして一定条件に保持するものである。

（実施例） 第１図は本発明を実施した光磁気ディスクの断面図で、
ポリメチル・メタクリエイト（ＰＭＭＡ）　、ポリカー
ボネート（ＰＣ）或いは硝子なとからなるディスク基板
１の上に例えばテルビウム・鉄・コバルト（Ｔｂ　Ｆｅ
　Ｃｏ）、ガドリニウム・テルビウム・鉄（Ｇｄ　Ｔｂ
　Ｆｅ）など希土類−遷移金属系アモルファス記録媒体
からなる垂直磁性膜２が内周部より外周部に向って薄く
なるように僅かの傾斜をつけて設けられている。

そして、この垂直磁性膜２の上には酸化硅素（Ｓｉｎ）
などからなる保護膜３が設けられている。

かかる二枚のディスク基板１は図に示すように垂直磁性
膜２を内側とし、内周部と外周部にプラスチック或いは
金属からなるスペーサリング４を置き、上下から接着固
定した構造をとる。

さて、第２図はこのように傾斜した垂直磁性膜２を形成
する真空蒸着装置の構成を示すもので、第３図はこれに
使用するマスクを示している。

すなわち垂直磁性膜を形成するディスク基板１はベルシ
ア５の上部に設けたモータ６により低速回転が可能な保
持枠に固定される。

一方、蒸発源７とディスク基板１の間には第３図に示す
ようなマスク８を置く。

ここでマスク８には図に示すような開口部９が設けられ
ていて、蒸発源７から蒸発される材料の蒸着量を制限し
、そのため内周部より外周部に行くに従って析出量が少
なくなる。

以下Ｔｅ　Ｆｅ　Ｃｏからなる垂直磁性膜を形成した実
施例について述べると次ぎのようになる。

ＴｅとＦｅ　Ｃｏの二元蒸発源を用い、厚さ１．２ｍ。

直径２００　ｔｍのＰＭＭＡよりなるディスク基板１を
第２図に示すように保持枠に取りつけて回転させた。

そして排気系を動作させて３　Ｘ　１０””　ｔｏｒｒ
にまで排気した状態で第３図に示す形状のマスク８を用
いて、Ｔｂは蒸着速度２人／秒、またＦｅ　Ｃｏは２．
２人／秒の速度で蒸着を行い、内周端で０．１３μｍま
た外周端で０．０８μｍの直線的な勾配をもつ垂直磁性
膜２を作ることができた。

次ぎにかかる垂直磁性膜２を備えたディスク基板１に通
常の真空蒸着装置を用いてＳｉＯ膜を０．１μｍの厚さ
に形成して保護膜３とした。

そして、かかるディスク基板を用いて光磁気ディスクを
形成し、２１のレーザパワーで情報の記録を行ったが、
均一な条件で記録が行われており、読出し光強度に差は
認められなかった。

〔発明の効果〕

以上記したように本発明は垂直磁性膜の膜厚を調節する
ことによりディスク基板の内周と外周とで線速か異なる
にも拘わらず同一のレーザパワーで記録或いは消去を可
能にするもので、本発明の実施により光磁気ディスクの
機構を簡単化することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施した光磁気ディスクの断面図、 第２図は本発明を実施する真空蒸着装置の断面図、 第３図は本発明を実施する蒸着マスクの平面図である。 図において、 １はディスク基板、　　　　２は垂直磁性膜、３は保護
膜、　　　　　　７は蒸発源、８はマスク、　　　　　
　　９は開口部、である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 透明なディスク基板上に情報の記録・再生を行う垂直磁
   性膜と保護膜とが層形成されてなる光磁気ディスク基板
   において、前記磁性膜の膜厚が内周部より外周部に向か
   って薄く、傾斜して形成されてなることを特徴とする光
   磁気ディスク。