JPS61276148A - 光磁気デイスク - Google Patents
光磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPS61276148A JPS61276148A JP11702085A JP11702085A JPS61276148A JP S61276148 A JPS61276148 A JP S61276148A JP 11702085 A JP11702085 A JP 11702085A JP 11702085 A JP11702085 A JP 11702085A JP S61276148 A JPS61276148 A JP S61276148A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- irradiated
- magneto
- disk
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光吸収による発熱を利用してキュリー温度の近傍にまで
温度上昇させ磁化反転を行う磁性膜において、光照射側
のキュリー温度を裏面側よりも高くなるように形成する
ことを特徴とする光磁気ディスク。
温度上昇させ磁化反転を行う磁性膜において、光照射側
のキュリー温度を裏面側よりも高くなるように形成する
ことを特徴とする光磁気ディスク。
本発明は情報の記録と消去を行うレーザ照射部における
磁性膜の膜内温度を一定とする光磁気ディスクに関する
。
磁性膜の膜内温度を一定とする光磁気ディスクに関する
。
光磁気ディスクはレーザ光を用いて高密度の情報記録を
行うメモリであり、光ディスクと同様に記録容量が大き
く、非接触で記録と再生を行うことができ、また塵埃の
影響を受けないなど優れた特徴をもつメモリである。
行うメモリであり、光ディスクと同様に記録容量が大き
く、非接触で記録と再生を行うことができ、また塵埃の
影響を受けないなど優れた特徴をもつメモリである。
すなわちレーザ光はレンズによって直径が１μｍ以下小
さなスポットに絞り込むことが可能であり、従って１ビ
ツトの情報記録に要する面積が１μｌｌ＋２程度で足り
る。
さなスポットに絞り込むことが可能であり、従って１ビ
ツトの情報記録に要する面積が１μｌｌ＋２程度で足り
る。
そのため磁気ディスク或いは磁気テープが１ビツトの情
報記録に数１０〜数１００μｍ２の面積が必要なのと較
べて蟲かに少なくて済み、従って大容量記録が可能であ
る。
報記録に数１０〜数１００μｍ２の面積が必要なのと較
べて蟲かに少なくて済み、従って大容量記録が可能であ
る。
またレンズで絞り込む際に光磁気ディスクの基板面では
ビーム径は約１ ＋ｎ程度の広さになるので、基板面に
大きさが数１０μｍ２の塵埃が存在していても記録・再
生に殆ど影響を与えずに済ませることができる。
ビーム径は約１ ＋ｎ程度の広さになるので、基板面に
大きさが数１０μｍ２の塵埃が存在していても記録・再
生に殆ど影響を与えずに済ませることができる。
このように光源としてレーザ光を用いる光磁気ディスク
及び光ディスクは優れた特性を備えているが、この両者
を比較すると、光ディスクは記録媒体として低融点金属
を用い、情報の記録と再生を穴（ピット）の有無により
行う読出し専用メモリ（Ｒｅａｄ ０ｎｌｙ Ｍｅｍｏ
ｒｙ）が主であり、既に実用化されている。
及び光ディスクは優れた特性を備えているが、この両者
を比較すると、光ディスクは記録媒体として低融点金属
を用い、情報の記録と再生を穴（ピット）の有無により
行う読出し専用メモリ（Ｒｅａｄ ０ｎｌｙ Ｍｅｍｏ
ｒｙ）が主であり、既に実用化されている。
一方、光磁気ディスクは書替え可能なメモリ（Ｅｒａｓ
ａｂｌｅ Ｍｅｍｏｒｙ）として開発が進められている
もので、レーザ照射された磁性膜の温度上昇による磁化
反転が情報の記録と消去に用いられ、磁性膜からの反射
光或いは透過光の偏光面の回転が光続出しに使用されて
いる。
ａｂｌｅ Ｍｅｍｏｒｙ）として開発が進められている
もので、レーザ照射された磁性膜の温度上昇による磁化
反転が情報の記録と消去に用いられ、磁性膜からの反射
光或いは透過光の偏光面の回転が光続出しに使用されて
いる。
ここで磁性膜として垂直磁性膜が用いられているが、こ
れは１と０の記録ビットが隣接するときに垂直磁性膜が
より安定で高密度記録が可能なためである。
れは１と０の記録ビットが隣接するときに垂直磁性膜が
より安定で高密度記録が可能なためである。
光磁気ディスク（以下略してディスク）は先に記したよ
うに１μｍ以下の直径にまで絞ったレーザ光を記録媒体
である垂直磁化膜に投射し、照射部が部分的に加熱され
てキュリー温度の近傍或いはこれ以上の温度にまで上昇
するのを利用して記録や消去を行うものである。
うに１μｍ以下の直径にまで絞ったレーザ光を記録媒体
である垂直磁化膜に投射し、照射部が部分的に加熱され
てキュリー温度の近傍或いはこれ以上の温度にまで上昇
するのを利用して記録や消去を行うものである。
ここで光ディスクの記録媒体である垂直磁化膜としては
希土類−遷移金属系のアモルファス合金例えばテルビウ
ム・鉄・コバルト（Ｔｂ−Ｆｅ −Ｃｏ） 。
希土類−遷移金属系のアモルファス合金例えばテルビウ
ム・鉄・コバルト（Ｔｂ−Ｆｅ −Ｃｏ） 。
ガドリニウム・テルビウム・鉄（Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ）な
どが用いられ、真空蒸着法やスパッタ法などでディスク
基板上に膜形成されている。
どが用いられ、真空蒸着法やスパッタ法などでディスク
基板上に膜形成されている。
第２図は光磁気ディスクの断面構造を示すもので、ポリ
メチル・メタクリエイト（ＰＭＭ＾）、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）或いは硝子などからなるディスク基板１の上
に上記の垂直磁化膜２が約０．１μｍの厚さに形成され
ており、この上に例えば酸化硅素（Ｓｉｎ）などからな
る保護膜３が設けられている。
メチル・メタクリエイト（ＰＭＭ＾）、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）或いは硝子などからなるディスク基板１の上
に上記の垂直磁化膜２が約０．１μｍの厚さに形成され
ており、この上に例えば酸化硅素（Ｓｉｎ）などからな
る保護膜３が設けられている。
かかる二枚のディスク基板１は図に示すように垂直磁化
膜２を内側とし、内周部と外周部にプラスチック或いは
金属からなるスペーサリング４を置き、上下から接着固
定した構造をとる。
膜２を内側とし、内周部と外周部にプラスチック或いは
金属からなるスペーサリング４を置き、上下から接着固
定した構造をとる。
かかる光磁気ディスクへの情報の記録は垂直に磁場を加
えている状態で透明なディスク基板１の側からレンズで
集光したレーザ光を照射し、垂直磁化膜の被照射部の温
度が上昇してキュリー温度の近傍にまで達し、磁場の方
向に磁化反転するのを利用して行われている。
えている状態で透明なディスク基板１の側からレンズで
集光したレーザ光を照射し、垂直磁化膜の被照射部の温
度が上昇してキュリー温度の近傍にまで達し、磁場の方
向に磁化反転するのを利用して行われている。
また消去は記録位置の磁化の方向と逆の方向に磁場を加
えなからレーザ光を照射して加熱し、元どおりの方向に
磁化を反転させることにより行っている。
えなからレーザ光を照射して加熱し、元どおりの方向に
磁化を反転させることにより行っている。
ここで記録と消去には充分なレーザパワーを垂直磁化膜
に加えて完全に磁化を反転させることが必要であるが、
垂直磁化膜のキュリー温度が高く、レーザ照射による温
度上昇の限界に近い状態ではレーザ照射側では磁化反転
が充分に起こっているが、裏側では磁化反転が不充分な
状態が起こり易い。
に加えて完全に磁化を反転させることが必要であるが、
垂直磁化膜のキュリー温度が高く、レーザ照射による温
度上昇の限界に近い状態ではレーザ照射側では磁化反転
が充分に起こっているが、裏側では磁化反転が不充分な
状態が起こり易い。
すなわち垂直磁化膜２の中で光吸収が大きいために裏側
では充分な温度上昇が起こらないのである。
では充分な温度上昇が起こらないのである。
このような現象が起こると光磁気ディスクのＣ／Ｎ特性
（Ｃａｒｒｉｅｒ Ｌｅｖｅｌ ／ Ｎｏ１ｓｅ Ｉ
、ｅｖｅｌ）を低下させて品質が損われる。
（Ｃａｒｒｉｅｒ Ｌｅｖｅｌ ／ Ｎｏ１ｓｅ Ｉ
、ｅｖｅｌ）を低下させて品質が損われる。
一方、Ｃ／Ｎ特性を向上するためにはカー回転角（ｅｋ
）を大きくすればよいが、θにの大きな材料はキュリー
温度（Ｔｃ）も大きいと云う問題があり、そのためにｅ
ｋを大きくとると共に垂直磁化膜がレーザ照射面の反対
側でも良（磁化反転させることが必要である。
）を大きくすればよいが、θにの大きな材料はキュリー
温度（Ｔｃ）も大きいと云う問題があり、そのためにｅ
ｋを大きくとると共に垂直磁化膜がレーザ照射面の反対
側でも良（磁化反転させることが必要である。
以上記したようにＣ／Ｎ特性の優れた垂直磁化膜を形成
することが必要であるが、ｅｋの高い材料はＴｃが高い
ためにレーザ照射面の裏側では充分な磁化反転が起こり
にくいと云う問題がある。
することが必要であるが、ｅｋの高い材料はＴｃが高い
ためにレーザ照射面の裏側では充分な磁化反転が起こり
にくいと云う問題がある。
上記の問題はディスク基板上に情報の記録・再生を行う
垂直磁性膜が形成されてなる光磁気ディスク基板におい
て、前記磁性膜φの組成をレーザ光の照射が行われる表
面側はキュリー温度が高く、裏面側に行くに従って低く
なるように形成したことを特徴とする光磁気ディスクに
より解゛決することができる。
垂直磁性膜が形成されてなる光磁気ディスク基板におい
て、前記磁性膜φの組成をレーザ光の照射が行われる表
面側はキュリー温度が高く、裏面側に行くに従って低く
なるように形成したことを特徴とする光磁気ディスクに
より解゛決することができる。
本発明は垂直磁化膜の膜厚方向にキュリー温度Ｔｃを変
化させて膜形成を行うことにより上記の問題を解決する
ものである。
化させて膜形成を行うことにより上記の問題を解決する
ものである。
光磁気記録媒体として働く垂直磁化膜として先に記した
ように希土類−遷移金属系のアモルファス合金膜がよく
使用されているが、この代表種であるＴｂ Ｆｅ Ｃｏ
合金について本発明を説明する。
ように希土類−遷移金属系のアモルファス合金膜がよく
使用されているが、この代表種であるＴｂ Ｆｅ Ｃｏ
合金について本発明を説明する。
光磁気記録媒体としてＴｂ Ｆｅアモルファス膜を用い
る場合にＣｏの添加によりθにとＴｃが増加することは
公知である。
る場合にＣｏの添加によりθにとＴｃが増加することは
公知である。
（例えば 田中他、電気通信学会 磁気記録研究会資料
ＭＲ８３−２３１、１９８３）第１図はこの関係を示
すもので、Ｃｏ含有量が増すに従ってＴｃとθには共に
増加している。
ＭＲ８３−２３１、１９８３）第１図はこの関係を示
すもので、Ｃｏ含有量が増すに従ってＴｃとθには共に
増加している。
それ故に本発明は光磁気記録媒体を厚さ方向に組成を変
えて膜形成することにより、光照射側はＴｃが高く、裏
側に行くに従ってＴｃが低くなるようにするものである
。
えて膜形成することにより、光照射側はＴｃが高く、裏
側に行くに従ってＴｃが低くなるようにするものである
。
第３図は第２図におけるディスク基板１．垂直磁化膜２
．保護膜３の部分を拡大して示すもので、ディスク基板
１には位置決め用としてプリグループ５が一定の間隔を
置いて設けてあり、この上に垂直磁化膜２が真空蒸着、
スバフタなどの方法により設けられているが、本発明は
例えば垂直磁化膜２の組成としてＴｂ Ｆｅ Ｃｏを用
いる場合、レーザ光６の照射が行われる側はＣＯの含有
量を多くし、膜形成が進行するに従ってＣＯの量を少な
く形成するものである。
．保護膜３の部分を拡大して示すもので、ディスク基板
１には位置決め用としてプリグループ５が一定の間隔を
置いて設けてあり、この上に垂直磁化膜２が真空蒸着、
スバフタなどの方法により設けられているが、本発明は
例えば垂直磁化膜２の組成としてＴｂ Ｆｅ Ｃｏを用
いる場合、レーザ光６の照射が行われる側はＣＯの含有
量を多くし、膜形成が進行するに従ってＣＯの量を少な
く形成するものである。
ＴｅとＦｅとＣＯの三元蒸発源を備えた真空蒸着装置に
厚さ１．２龍、直径２００ ｍのＰＭＭ＾よりなるディ
スク基板を装着し、蒸着装置の上部に備えであるモータ
により低速回転させながら３ Ｘ １Ｏ−２ｔｏｒｒに
まで排気した状態で各蒸発源を加熱し、一定の蒸発速度
で蒸着を行った。
厚さ１．２龍、直径２００ ｍのＰＭＭ＾よりなるディ
スク基板を装着し、蒸着装置の上部に備えであるモータ
により低速回転させながら３ Ｘ １Ｏ−２ｔｏｒｒに
まで排気した状態で各蒸発源を加熱し、一定の蒸発速度
で蒸着を行った。
その蒸発速度はＣｏは当初は０．７人／ｓｅｃで最終段
階では０．２人／ｓｅｃ、 Ｐｅは当初は１．５人／ｓ
ｅｃで最終段階では２人へｅｃ、またＴｂは蒸着中を通
じて２人／ｓｅｃであり、このようにして０．１ μｍ
の垂直磁化膜２を形成した。
階では０．２人／ｓｅｃ、 Ｐｅは当初は１．５人／ｓ
ｅｃで最終段階では２人へｅｃ、またＴｂは蒸着中を通
じて２人／ｓｅｃであり、このようにして０．１ μｍ
の垂直磁化膜２を形成した。
次ぎにかかる磁化膜２の上にＳｉＯを０．１ μｍの厚
さに蒸着して保護膜３とした。
さに蒸着して保護膜３とした。
そしてかかるディスク基板を用いて光磁気ディスクを形
成し、２ＩｌｌＷのレーザパワーで情報の記録を行った
が再生特性は良好であり、本発明を実施しない光磁気デ
ィスクのＣ／Ｎが４５ｄＢであるのに対し４８ｄＢの値
を示し、本発明の有効性が証明された。
成し、２ＩｌｌＷのレーザパワーで情報の記録を行った
が再生特性は良好であり、本発明を実施しない光磁気デ
ィスクのＣ／Ｎが４５ｄＢであるのに対し４８ｄＢの値
を示し、本発明の有効性が証明された。
以上説明したように本発明の実施により光磁気ディスク
におけるＣ／Ｎ特性が改善され、品質の向上が可能とな
る。
におけるＣ／Ｎ特性が改善され、品質の向上が可能とな
る。
第１図はＣｏ含有量のＴｃ、θにとの関係図、第２図は
光ディスクの断面構造図、 第３図は光デイスク基板の部分拡大断面図、である。 図において、 １はディスク基板、 ２は垂直磁化膜、３は保護膜
、 である。
光ディスクの断面構造図、 第３図は光デイスク基板の部分拡大断面図、である。 図において、 １はディスク基板、 ２は垂直磁化膜、３は保護膜
、 である。
Claims (1)
- ディスク基板上に情報の記録・再生を行う垂直磁性膜が
形成されてなる光磁気ディスク基板において、前記磁性
膜の組成をレーザ光の照射が行われる表面側はキュリー
温度が高く、裏面側に行くに従って低くなるように形成
したことを特徴とする光磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11702085A JPS61276148A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11702085A JPS61276148A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61276148A true JPS61276148A (ja) | 1986-12-06 |
Family
ID=14701454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11702085A Pending JPS61276148A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61276148A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0362340A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-18 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| EP0657880A2 (en) * | 1993-12-06 | 1995-06-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
-
1985
- 1985-05-30 JP JP11702085A patent/JPS61276148A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0362340A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-18 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| EP0657880A2 (en) * | 1993-12-06 | 1995-06-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and manufacturing method thereof |
| EP0657880A3 (en) * | 1993-12-06 | 1995-09-20 | Sharp Kk | Magneto-optical recording medium and method for its production. |
| US5563852A (en) * | 1993-12-06 | 1996-10-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium having a readout layer with varying composition and curie temperature |
| US5764601A (en) * | 1993-12-06 | 1998-06-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a magneto-optical recording medium having a readout layer with varying composition and curie temperature |
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