JPWO2004010429A1 - 記録媒体、記録媒体の製造方法、樹脂のスピンコート方法及び光磁気ディスク装置 - Google Patents
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Abstract
光磁気記録媒体であって、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第１の厚さで該メタル層との間に段差を有する印刷層とを含んでいる。前記光磁気記録媒体は更に、透明基板の一方の面上に塗布された第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層を含んでいる。第２の厚さは１０〜３０μｍであるのが好ましい。
Description
本発明は、一般的に記録媒体に関し、特に、磁界変調記録方式の光磁気記録媒体に関する。
従来の光ディスクは、コンパクトディスク（ＣＤ）のように記録再生のための光ビームが透過する基板の逆側表面に、例えばディスクが格納しているソフトウェア等の内容が印刷されたタイプと、３．５インチ光磁気ディスク（ＭＯディスク）或いはミニディスク（ＭＤ）のように表面に印刷がされていないタイプの２種類がある。現在のＭＯディスク或いはミニディスクはカートリッジケース中に収納されて使用されるため、カートリッジケースにディスクが格納しているソフトウェアの内容等が印刷されている。
ところで、ミニディスクのような磁界変調記録方式の光磁気ディスク装置では光透過基板の逆側表面に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて情報の記録を行うがこのような磁気ヘッドによる記録では基板表面に形成された記録層と磁気ヘッド間の距離が変化すると磁界強度が変化し、正常な記録が行われなくなる。また、磁気ヘッドが基板上の凸部に衝突すると磁気ヘッドが損傷し、記録再生ができなくなることもある。よって、磁界変調記録方式の光磁気ディスク装置等の磁気記録装置では、ディスク表面はフラットでなければならない。
ミニディスクのように記録面上に印刷がされていない媒体では、表面の凹凸は光ディスク基板に形成された１００ｎｍ程度の案内溝のみであり、磁気ヘッドの浮上特性に影響を及ぼすことはない。上述したように、現在のＭＯディスク或いはミニディスクはカートリッジケース中に収納されているため、媒体の記録面上に印刷を施す必要はない。しかし、将来的にはＭＯディスク或いはミニディスクを裸のままスピンドルモータに装着する応用も考えられる。また、磁気ディスク装置においても、リムーバルな磁気ディスクをスピンドルモータに装着して使用する形態も考えられる。このような場合には、ディスクに格納されているソフトウェアの内容を表示するために記録層表面側に印刷を施す必要性が生じる。記録層表面側に印刷を施された光磁気ディスク等においては、印刷層が厚いため段差が生じ、磁気ヘッドの安定浮上が困難となり記録を正常に行うことができなくなる。
ところで、ミニディスクのような磁界変調記録方式の光磁気ディスク装置では光透過基板の逆側表面に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて情報の記録を行うがこのような磁気ヘッドによる記録では基板表面に形成された記録層と磁気ヘッド間の距離が変化すると磁界強度が変化し、正常な記録が行われなくなる。また、磁気ヘッドが基板上の凸部に衝突すると磁気ヘッドが損傷し、記録再生ができなくなることもある。よって、磁界変調記録方式の光磁気ディスク装置等の磁気記録装置では、ディスク表面はフラットでなければならない。
ミニディスクのように記録面上に印刷がされていない媒体では、表面の凹凸は光ディスク基板に形成された１００ｎｍ程度の案内溝のみであり、磁気ヘッドの浮上特性に影響を及ぼすことはない。上述したように、現在のＭＯディスク或いはミニディスクはカートリッジケース中に収納されているため、媒体の記録面上に印刷を施す必要はない。しかし、将来的にはＭＯディスク或いはミニディスクを裸のままスピンドルモータに装着する応用も考えられる。また、磁気ディスク装置においても、リムーバルな磁気ディスクをスピンドルモータに装着して使用する形態も考えられる。このような場合には、ディスクに格納されているソフトウェアの内容を表示するために記録層表面側に印刷を施す必要性が生じる。記録層表面側に印刷を施された光磁気ディスク等においては、印刷層が厚いため段差が生じ、磁気ヘッドの安定浮上が困難となり記録を正常に行うことができなくなる。
よって、本発明の目的は、記録層表面側に印刷が施されていても正常に記録再生可能な記録媒体を提供することである。
本発明の他の目的は、記録媒体の印刷面上に一様に樹脂をスピンコートして印刷面の段差を解消可能な樹脂のスピンコート方法を提供することである。
本発明の一側面によると、基板と、該基板の一方の面上に設けられた第１の厚さと該基板との間に段差を有する印刷層と、前記基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層と、を具備したことを特徴とする記録媒体が提供される。
好ましくは、第２の厚さは１０〜３０μｍである。樹脂保護層は基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている。例えば、基板の一方の面上には磁性記録層が設けられており、樹脂保護層上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、磁気ヘッドと基板とを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う。
好ましくは、印刷層はスクリーン印刷により形成されており、印刷層の厚さは５〜１５μｍ、好ましくは５〜１０μｍである。好ましくは、スクリーン印刷に使用するスクリーンのメッシュ数は３５０〜４５０／インチであり、スクリーン印刷時のスキージ角度は６０〜９０度の範囲内である。
本発明の他の側面によると、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第１の厚さを有する印刷層と、前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層と、を具備したことを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
好ましくは、第２の厚さは１０〜３０μｍである。樹脂保護層は基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている。情報の記録は、基板の他方の面側から光ビームを照射しつつ、樹脂保護層上に磁気ヘッド接触或いは浮上させて、磁気ヘッドと基板を相対移動させながら磁場を反転して行う。
本発明の更に他の側面によると、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第１樹脂保護層と、該第１樹脂保護層上に設けられた第１の厚さと該第１樹脂保護層との間に段差を有する印刷層と、前記第１樹脂保護層上に設けられた前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する第２樹脂保護層とを具備し、前記第１樹脂保護層、印刷層及び第２樹脂保護層の合計厚さが３０μｍ以下であることを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
本発明の更に他の側面によると、基板を回転しながら、印刷を有する印刷面上に樹脂をスピンコートする方法であって、基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、基板を前記第１の速度より速い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、前記第２の速度より速い第３の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、前記段差解消工程は毎分４０００回転以上で基板を回転させて実行することを特徴とする樹脂のスピンコート方法が提供される。
好ましくは、段差解消工程は１秒以内である。
本発明の他の目的は、記録媒体の印刷面上に一様に樹脂をスピンコートして印刷面の段差を解消可能な樹脂のスピンコート方法を提供することである。
本発明の一側面によると、基板と、該基板の一方の面上に設けられた第１の厚さと該基板との間に段差を有する印刷層と、前記基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層と、を具備したことを特徴とする記録媒体が提供される。
好ましくは、第２の厚さは１０〜３０μｍである。樹脂保護層は基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている。例えば、基板の一方の面上には磁性記録層が設けられており、樹脂保護層上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、磁気ヘッドと基板とを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う。
好ましくは、印刷層はスクリーン印刷により形成されており、印刷層の厚さは５〜１５μｍ、好ましくは５〜１０μｍである。好ましくは、スクリーン印刷に使用するスクリーンのメッシュ数は３５０〜４５０／インチであり、スクリーン印刷時のスキージ角度は６０〜９０度の範囲内である。
本発明の他の側面によると、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第１の厚さを有する印刷層と、前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層と、を具備したことを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
好ましくは、第２の厚さは１０〜３０μｍである。樹脂保護層は基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている。情報の記録は、基板の他方の面側から光ビームを照射しつつ、樹脂保護層上に磁気ヘッド接触或いは浮上させて、磁気ヘッドと基板を相対移動させながら磁場を反転して行う。
本発明の更に他の側面によると、透明基板と、該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、該磁性記録層上に設けられたメタル層と、該メタル層上に設けられた第１樹脂保護層と、該第１樹脂保護層上に設けられた第１の厚さと該第１樹脂保護層との間に段差を有する印刷層と、前記第１樹脂保護層上に設けられた前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する第２樹脂保護層とを具備し、前記第１樹脂保護層、印刷層及び第２樹脂保護層の合計厚さが３０μｍ以下であることを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
本発明の更に他の側面によると、基板を回転しながら、印刷を有する印刷面上に樹脂をスピンコートする方法であって、基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、基板を前記第１の速度より速い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、前記第２の速度より速い第３の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、前記段差解消工程は毎分４０００回転以上で基板を回転させて実行することを特徴とする樹脂のスピンコート方法が提供される。
好ましくは、段差解消工程は１秒以内である。
図１は比較例の樹脂のスピンコート方法を示す図；
図２は本発明の樹脂のスピンコート方法を示す図；
図３は図１に示した比較例のスピンコート方法により印刷面に樹脂を塗布した記録媒体の断面図；
図４はその一部破断平面図；
図５は図２に示す本発明のスピンコート方法により印刷面に樹脂を塗布した本発明第１実施形態の光磁気ディスクの断面図；
図６はその一部破断平面図；
図７は第１実施形態の光磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；
図８は印刷層端部の拡大断面図；
図９は図７に示した第１実施形態の一部拡大断面図；
図１０はスクリーン印刷方法の説明図；
図１１はスクリーンのメッシュ数と印刷層の厚さの関係を示すグラフ；
図１２はスキージの角度と印刷層の厚さの関係を示すグラフ；
図１３は第１実施形態の変形例の光磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；
図１４は印刷面上に形成した樹脂保護膜の厚さと必要磁界の関係を示すグラフ；
図１５は本発明第２実施形態の光磁気ディスクの断面図；
図１６はその一部破断平面図；
図１７は本発明第３実施形態の磁気ディスクの断面図；
図１８はその一部破断平面図；
図１９は第３実施形態の磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；
図２０Ａ〜図２０Ｅは樹脂のスピンコート方法の他の実施形態を示す図；
図２１Ａ及び図２１Ｂは樹脂のスピンコート方法の更に他の実施形態を示す図；
図２２はオフセット印刷方法の説明図；
図２３は光磁気ディスク装置の概略構成図である。
図２は本発明の樹脂のスピンコート方法を示す図；
図３は図１に示した比較例のスピンコート方法により印刷面に樹脂を塗布した記録媒体の断面図；
図４はその一部破断平面図；
図５は図２に示す本発明のスピンコート方法により印刷面に樹脂を塗布した本発明第１実施形態の光磁気ディスクの断面図；
図６はその一部破断平面図；
図７は第１実施形態の光磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；
図８は印刷層端部の拡大断面図；
図９は図７に示した第１実施形態の一部拡大断面図；
図１０はスクリーン印刷方法の説明図；
図１１はスクリーンのメッシュ数と印刷層の厚さの関係を示すグラフ；
図１２はスキージの角度と印刷層の厚さの関係を示すグラフ；
図１３は第１実施形態の変形例の光磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；
図１４は印刷面上に形成した樹脂保護膜の厚さと必要磁界の関係を示すグラフ；
図１５は本発明第２実施形態の光磁気ディスクの断面図；
図１６はその一部破断平面図；
図１７は本発明第３実施形態の磁気ディスクの断面図；
図１８はその一部破断平面図；
図１９は第３実施形態の磁気ディスクの積層構造を示す概略断面図；
図２０Ａ〜図２０Ｅは樹脂のスピンコート方法の他の実施形態を示す図；
図２１Ａ及び図２１Ｂは樹脂のスピンコート方法の更に他の実施形態を示す図；
図２２はオフセット印刷方法の説明図；
図２３は光磁気ディスク装置の概略構成図である。
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。図１は比較例の樹脂のスピンコート方法を示しており、図２は本発明を実現するための樹脂のスピンコート方法を示している。図１に示す比較例のスピンコート方法は、回転する基板の内周上に有機系樹脂を塗布した後に、瞬時に回転数を上昇させて有機系樹脂を外周方向全面に塗布する２段階塗布方法である。即ち、低速の１段階目で樹脂を基板の内周に塗布し、更に高速の２段階目で樹脂を基板上全面に塗布する。或いは、揮発成分を含む樹脂の場合は、高速の２段階目で樹脂の乾燥も行う。
しかしながらこのようなスピンコート方法では、図３の記録媒体２の断面図に示すように、有機系樹脂保護層８が基板４上に形成された印刷層６より薄くなってしまう。或いは、印刷層６より薄い部分があるため、図４に示すように印刷層及び印刷層の外周側に放射状の膜厚斑１０が発生したり、樹脂保護層８の膜厚が不均一になる。このような膜厚斑１０は、印刷面側に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、基板と磁気ヘッドを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う記録方法を採用する記録媒体では致命的な欠陥になる。
本発明の樹脂のスピンコート方法は、図２に示すように、回転する印刷層を有する記録媒体の内周に有機系樹脂を塗布した後、瞬時に回転数を上昇させて有機系樹脂を記録媒体の外周方向全面に塗布し、更に記録媒体を高速で回転させて短時間に有機系樹脂の振切を行うスピンコート方法である。即ち、本発明の樹脂のスピンコート方法は、基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、基板を第１の速度より速い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、第２の速度より速い第３の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを含んでいる。この樹脂のスピンコート方法により、印刷層及び印刷層の外周側に発生する放射状膜厚斑及び膜厚の不均一性を抑制できる。
詳細な実施例について更に説明する。記録層側の表面に印刷層が施された光磁気ディスクを用意する。光磁気ディスクを１０ｒｐｍで回転させながら紫外線硬化型のエポキシ樹脂等の有機系樹脂を光磁気ディスクの内周側に円周状に塗布した。次に、回転数を１０ｒｐｍから５００ｒｐｍまで上昇させて樹脂を光磁気ディスクの表面全体に広げた。次に、回転数を更に上昇させて有機系樹脂を振切って樹脂保護層の段差を解消する工程を追加した。表１に段差解消工程回転数と樹脂保護層のむらの関係を示す。
表１より、光磁気ディスクの回転数を４０００ｒｐｍ以上にすることにより、印刷層での樹脂保護層のむらがなくなることが分かる。このときの、段差解消工程時間は０．５秒とした。
表２に段差解消工程時間と樹脂保護層のむら及び膜厚の関係を示す。
表２より、段差解消工程を１．０秒以上とすると樹脂保護層の厚さが１０μｍ以下となり、１０μｍ程度の厚さの印刷層との段差が発生する。表２の実験では、光磁気ディスクの回転数は５０００ｒｐｍとした。以上の実験より、段差解消工程を毎分４０００回転以上で光磁気ディスクを回転させて行うことにより、印刷層及び印刷層の外周側に発生する放射状膜厚斑及び膜厚の不均一性を抑制可能となり、図５の断面図に示すようなフラットな樹脂保護層を有する本発明第１実施形態の光磁気ディスク２Ａを実現できる。尚、回転数や回転数切替回数は実施例に限定されず、適宜変更可能である。実施例は、工程時間や膜の状況から、より効率的で効果的な結果が出たものを例示している。
図５において、４は光磁気ディスク２Ａの透明基板であり、透明基板４上には図示しない記録層等が形成されており、記録層側の表面に印刷層６が施されている。印刷層６の高さは約１０μｍである。８は樹脂保護層であり、印刷層６を完全に覆っており、その表面はフラットである。図６は図５に示した第１実施形態の光磁気ディスク２Ａの一部破断平面図である。本実施形態の光磁気ディスク２Ａでは、樹脂保護層８の材料として大日本インキ株式会社製の商品名ＳＤ７１５（粘度４５ｍｐａ・ｓ）を使用した。
図７を参照すると、第１実施形態の光磁気ディスク２Ａの積層構造を示す概略断面図が示されている。透明基板４上にＳｉＮから成る下地誘電体層１２、ＴｂＦｅＣｏ系材料から成る記録層１４、ＧｄＦｅＣｏ系材料から成る記録補助層１６、ＳｉＮオーバコート層１８、Ａｌを含むメタル層２０、樹脂保護層２２がこの順に積層されている。更に、樹脂保護層２２上に印刷層６が施され、この印刷層６を樹脂保護層８が覆っている。本実施形態の光磁気ディスク２Ａは通常タイプの光磁気記録媒体である。この光磁気ディスク２Ａは、基板４側から所定パワーのレーザビームを照射しながら、樹脂保護層８上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、磁界変調記録を行う光磁気ディスク装置に適用すると特に効果がある。
図８は印刷層端部の拡大断面図を示している。印刷層６をスクリーン印刷により形成すると、印刷層６の端部に凸部６ａが形成される。本実施形態においては、この印刷層６の最大厚さＴｍａｘ及び最小厚さＴｍｉｎともに５〜１５μｍが好ましい。より好ましくは５〜１０μｍである。図９は図７に示した第１実施形態の一部拡大断面図である。印刷層６は第１の厚さＴ１を有し、樹脂保護層８は第１の厚さＴ１以上の第２の厚さＴ２を有している。本実施形態では、樹脂保護層２２と、印刷層６と、樹脂保護層８の合計厚さは、３０μｍ以下であるのが好ましい。更に好ましくは、この合計厚さは２０μｍ以下である。上記合計厚さは、樹脂保護層８が印刷層６を完全に覆っているため、樹脂保護層２０と樹脂保護層８の厚さの合計と等しくなる。
図７に示した第１実施形態の光磁気ディスク２Ａの製造方法の概略は以下の通りである。基板４上に下地誘電体層１２、記録層１４、記録補助層１６、ＳｉＮオーバコート層１８、メタル層２０をスパッタ装置により順次成膜した後に、基板４をスパッタ装置から取り出し、スピンコート装置に取り付ける。メタル層２０上にスピンコートによりＵＶ硬化樹脂を塗布する。ＵＶ硬化樹脂は大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアクリアＳＤ−１７００を使用した。塗布後に紫外線を照射して樹脂を硬化させ、膜厚４μｍの樹脂保護層２２を形成した。
次に、基板４をスクリーン印刷装置に装着し、図１０に示すようなスクリーン印刷方法で印刷層６を形成した。図１０において、１５はスクリーン、１７はスキージである。印刷層６は、例えば図６に示すようなテストパターンで形成される。スクリーン１５のメッシュ数とスキージ１７の角度を変えて数種類のサンプルを作成し、印刷層６の膜厚を計測した。印刷に使用したインクは大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアＳＳＤである。
次に、基板４をスピンコート装置に装着し、表面平滑のための樹脂保護層８を形成した。使用した樹脂は大日本インキ株式会社製の商品名ＳＤ７１５である。ここで、スピンコートは図２に示した三段階の回転数で塗布し、第３の回転数を４０００ｒｐｍ以上とすることにより、樹脂保護層８が印刷層６を完全に覆い、印刷層６の端部の段差を解消することができる。表２より、印刷層６の膜厚が１０μｍ以上の場合は、段差解消工程時間を１．０秒以下に設定することにより表面を平坦化できる。印刷層６が薄い場合はそれに合わせて段差解消工程時間を長くすることで、表面平滑化のための樹脂保護層８を薄くできる。例えば、印刷層６の膜厚が６μｍの場合は、段差解消工程時間を２秒とすることで樹脂保護層８の膜厚を８μｍに設定できる。この表面平滑のための樹脂保護層８は塗布した後に紫外線を照射して硬化させる。
図１１にスクリーン１５のメッシュ数と印刷層６の膜厚の関係を示す。図１１から明らかなように、スクリーンのメッシュ数を大きくすると印刷層６の膜厚を薄くすることが可能である。スクリーンのメッシュ数を３５０／インチ以上とすることで、印刷層６の膜厚を１５μｍ以下にすることができる。印刷層６の厚さは５〜１５μｍが好ましく、更に好ましくは５〜１０μｍである。スクリーン１５のメッシュ数は３５０〜４５０／インチが好ましい。ここで、スキージ角度は７０度とした。
図１２にスキージ角度と印刷層６の膜厚の関係を示す。図１２から明らかな通り、スキージの角度を大きくすることで印刷層６を薄くすることができる。スキージ角度を６０度以上とすることで、印刷層６の膜厚を１５μｍ以下に設定できる。よって、スキージ角度は６０度〜９０度の範囲内が好ましい。ここで、スクリーン１５のメッシュ数は４２０／インチとした。
スクリーン１５のメッシュ数とスキージ１７の角度により印刷層６を１５μｍ以下に設定すれば、図９に示した樹脂保護層２２の厚さを４μｍとして、表面平滑用の樹脂保護層８のスピンコート時の段差解消時間を調整することで、合計厚さを２０μｍ以下にすることができる。
図１３は第１実施形態の変形例の光磁気ディスク２Ａ´の積層構造を示す概略断面図である。透明基板４上にＳｉＮから成る下地誘電体層１２、ＧｄＦｅＣｏ系材料から成る再生層２４、ＳｉＮから成る非磁性層２６、ＴｂＦｅＣｏ系材料から成る記録層２８がこの順に積層されている。更に、記録層２８上にＳｉＮオーバコート層１８、Ａｌを含むメタル層２０が積層されている。メタル層２０上には印刷層６が施され、この印刷層６は樹脂保護層８により覆われている。
本実施形態の光磁気ディスク２Ａ´は、記録層２８の記録マークが静磁結合により再生層２４に転写されるＣＡＤ（センター・アパチャー・ディテクション）タイプの磁気誘導超解像（ＭＳＲ）媒体である。再生層２４は、記録層２８に比較して相対的にカー回転角は大きく室温での保持力は小さい。一方、記録層２８は、再生層２４に比較して相対的にカー回転角は小さく室温での保持力が大きい。本実施形態の光磁気ディスク２Ａ´も、透明基板４側から所定パワーのレーザビームを照射しながら、樹脂保護層８上に磁気ヘッド接触或いは浮上させて、磁界変調記録を行う光磁気ディスク装置に適用して特に効果がある。層構成及び材料は実施例に限定されず適宜変更可能である。
図１４に樹脂保護層の膜厚とＴｂＦｅＣｏ記録層を有する第１実施形態の光磁気ディスク２Ａに情報を記録するのに必要な磁界の関係を示す。図１４より、樹脂保護層の膜厚が厚いと記録に必要な磁界が上昇し、膜厚が３０μｍ以上では２５０エルステッド（Ｏｅ）以上の磁界が必要なことが分かる。２５０エルステッド（Ｏｅ）以上の磁界を発生させるには消費電力が大きくなる、或いは光磁気ディスク装置の温度が上昇する等の問題があるため、樹脂保護層の膜厚は３０μｍ以下が好ましい。上述したように、印刷層の厚さとの関係から樹脂保護層の膜厚は１０μｍ以上必要であるため、樹脂保護層の膜厚は１０μｍ〜３０μｍの範囲内が好ましい。
図１４の横軸は図１３の構成では樹脂保護層８の厚さである。図７の構成では、樹脂保護層２２と表面平滑用樹脂保護層８の合計厚さである。記録再生速度向上のために線速が速くなると磁気ヘッドへの電流スイッチング速度が速くなり、それに伴って発生する磁界が低下してしまう。また、基板の反り等の機械的な特性が悪化すると、磁気ヘッドの浮上が不安定化し実効的な磁場も低下する。高速記録に対応し、しかも機械特性の不十分な媒体でも良好な記録再生特性を低電力で行うためには、２００エルステッド（Ｏｅ）以下の磁場で記録再生できることが求められている。よって、好ましくは２００エルステッド（Ｏｅ）以下の磁場で記録再生できるのがよい。そのためには、上述した合計厚さを２０μｍ以下にすればよい。
図１５は本発明第２実施形態の光磁気ディスクの断面図であり、図１６はその一部破断平面図である。図１５に示すように、樹脂保護層８は表面が完全なフラットでなくても磁気ヘッドの記録再生に障害にならない範囲以内で緩やかな曲面であっても構わない。
図１７は磁気ディスクに本発明を適用した本発明第３実施形態の断面図である。図１８は図１７の磁気ディスク２Ｃの一部破断平面図である。基板４上には図示しない磁性記録層等が形成されており、磁性記録層側の表面に印刷層６が施され、この印刷層６は樹脂保護層８で覆われている。更に、樹脂保護層８上には摩擦低減のための潤滑剤３０が塗布されている。
図１９は本発明第３実施形態に係る磁気ディスク２Ｃの積層構造を示す概略断面図である。ガラス基板４上にはＣｒ等から構成される密着層３２、ＮｉＰ等から構成される非磁性金属層３４が積層されている。非磁性金属層３４上にはＣｒを主成分とする下地層３６が積層され、下地層３６上には中間層３８が積層されている。中間層３８上には１層又は複数層のＣｏ合金磁性層４０が積層され、磁性層４０上には保護層４２が積層されている。保護層４２はＣｏ合金磁性層４０の磨耗防止と腐食防止の機能を有している。保護層４２上には印刷層６が施され、この印刷層６は樹脂保護層８により覆われている。更に、樹脂保護層８上には潤滑剤３０が塗布されている。なお、層構成及び材料は実施例に限定されず適宜変更可能である。
本実施形態は磁気ディスクの樹脂保護層上に潤滑剤を塗布した例について説明したが、図５及び図１５に示す光磁気ディスクの樹脂保護層８上に潤滑剤を塗布するようにしてもよい。
図３に示すような印刷層の段差が発生した場合でも、樹脂の塗布位置及び回転条件を調整し、本発明のスピンコート方法によって有機系樹脂を再度コーティングすることによって、欠陥を修復することが可能である。
印刷層を有する基板表面を平坦化する他のスピンコート方法について図２０Ａ〜図２０Ｅを参照して説明する。図７に示した第１実施形態の光磁気ディスク２Ａのように、基板４上にＳｉＮ、記録層、記録補助層、ＳｉＮ，Ａｌを順次成膜した後に基板４を成膜装置から取り出し、スピンコート装置に取り付ける。Ａｌ層上にスピンコートにより紫外線硬化樹脂を塗布する。紫外線硬化樹脂は大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアクリアＳＤ−１７００を使用した。塗布後に紫外線を照射して樹脂を硬化させ、膜厚約４μｍの樹脂保護層を形成した。次に、基板４をスクリーン印刷装置に装着し、図１０に示す方法で印刷層６を形成した。印刷層６は、例えば図６に示すようなテストパターンで形成される。印刷に使用したインクは大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアＳＳＤである。
次に、印刷層６の段差を改善する方法を説明する。まず、図２０Ａに示すように、紫外線硬化樹脂７を基板４の内周側に１周に渡り塗布する。次に、図２０Ｂに示すように、紫外線硬化樹脂７の上に紫外線に対して透明な上部カバー９を載置する。この上部カバー９は紫外線硬化樹脂との剥離性が非常によい物質を用いる。例えば、紫外線硬化樹脂７としては三菱レーヨン株式会社製の商品名ＳＡ１００２Ｓを用い、上部カバー９にＪＳＲ株式会社製の商品名Ａｒｔｏｎを使用することができる。代替案として、紫外線硬化樹脂７としては同じく三菱レーヨン株式会社製の商品名ＳＡ１００２Ｓを用い、上部カバー９にガラス基板を用いるようにしてもよい。
次に、図２０Ｃに示すように、スピンコート装置により上部カバー９を載置した状態で基板４を高速で回転し、紫外線硬化樹脂７を基板面全体に塗布する。上部カバー９を利用することで基板表面をほぼ完全に平坦化することが可能となる。紫外線硬化樹脂７の粘度とスピン動作時の回転数によって、樹脂保護層８の厚さを調整することも可能である。次に、図２０Ｄに示すように、紫外線硬化樹脂７が完全に硬化した後、上部カバー９を取り外す。この方法を用いることにより、樹脂保護層８で印刷層６を完全にカバーし、樹脂保護層８の表面を平坦化することができる。
樹脂保護層８表面の良好な摺動性を必要とする場合には、図２０Ｅに示すように、樹脂保護層８上に摺動性改善用の紫外線硬化樹脂１１を更に塗布することも可能である。使用した摺動性改善用の紫外線硬化樹脂１１は、ＪＳＲ株式会社製の商品名デソライト（ＫＺ７２３５Ｃ）である。
上述した実施形態の変形例として、図２０Ａに示すように紫外線硬化樹脂７を基板４の内周側で１周に渡り塗布した後、スピンコート装置で基板４を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂７を基板４の全面に塗布すると共に余分な樹脂を排出する。その後、図２１Ｂに示すように、紫外線硬化樹脂７の上に上部カバー９を取り付け、表面平坦化工程及び紫外線照射工程を実施するようにしてもよい。
基板表面に形成された印刷層の段差を解消する本発明は、スクリーン印刷に限らず例えばオフセット印刷にも当然適用可能である。図２２を参照して、オフセット印刷の概略を説明する。インクローラ４４からインク４５を版胴４６に転写し、この版胴４６のインクをゴム等で作られたブランケット４８に転写し、ブランケット４８から基板４表面にインク４５を転写する。オフセット印刷では、ブランケット４８を介してインクを紙等に転写するため、スクリーン印刷に比較して薄い印刷層を形成することが可能となるが、スクリーン印刷と同様に印刷層端部に段差が発生する。
本発明を適用することにより、基板表面に形成された印刷層の段差を解消することが可能となる。本発明は、スクリーン印刷、オフセット印刷だけに限られるものではなく、電子写真印刷等でも段差が発生するので、他の印刷方法で形成した印刷層に対しても汎用的に適用可能である。
上述した各実施形態では、全てディスクの例で示したが、カード状、テープ状の記憶媒体にも応用可能である。更に、各実施形態では、磁気ヘッドが印刷面側の媒体表面に対向する例で説明しているが、光ヘッドが同様に対向するものにも適用可能である。
図２３を参照すると、木発明の光磁気ディスクを駆動するのに適した光磁気ディスク装置の概略構成図が示されている。ハウジング５０内にはスピンドルモータ５２が設けられており、インレットドア５４を介して光磁気（ＭＯ）カートリッジ５６を装置内に挿入すると、内部の光磁気ディスク５８がスピンドルモータ５２の回転軸のハブにチャッキングされ、光磁気ディスク５８のローディングが行われる。ローディングされた光磁気ディスク５８の下側には、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）により媒体のトラックを横切る方向に移動自在なキャリッジ６０が設けられている。キャリッジ６０上には対物レンズ６２及びビーム立ち上げプリズム６４が搭載されている。更に、光磁気ディスク５８に対して対物レンズ６２と反対側には、対物レンズ６２に対向するように磁気ヘッド６８が設けられている。磁気ヘッド６８はキャリッジ６０に取り付けられたサスペンション６６により支持されている。
固定光学系７０に設けられているレーザダイオード７２からのレーザビームをビーム立ち上げプリズム６４により反射して対物レンズ６２に入射し、光磁気ディスク５８の記録面にビームスポットをフォーカスする。これと同時に、磁気ヘッド６８を記録すべき情報で変調して駆動し、光磁気ディスク５８に情報を書き込む。対物レンズ６２は図示しないフォーカスアクチュエータにより光軸方向に移動制御され、またトラックアクチュエータにより媒体トラックを横切る方向に、例えば数１０トラックの範囲内で移動することができる。
しかしながらこのようなスピンコート方法では、図３の記録媒体２の断面図に示すように、有機系樹脂保護層８が基板４上に形成された印刷層６より薄くなってしまう。或いは、印刷層６より薄い部分があるため、図４に示すように印刷層及び印刷層の外周側に放射状の膜厚斑１０が発生したり、樹脂保護層８の膜厚が不均一になる。このような膜厚斑１０は、印刷面側に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、基板と磁気ヘッドを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う記録方法を採用する記録媒体では致命的な欠陥になる。
本発明の樹脂のスピンコート方法は、図２に示すように、回転する印刷層を有する記録媒体の内周に有機系樹脂を塗布した後、瞬時に回転数を上昇させて有機系樹脂を記録媒体の外周方向全面に塗布し、更に記録媒体を高速で回転させて短時間に有機系樹脂の振切を行うスピンコート方法である。即ち、本発明の樹脂のスピンコート方法は、基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、基板を第１の速度より速い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、第２の速度より速い第３の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを含んでいる。この樹脂のスピンコート方法により、印刷層及び印刷層の外周側に発生する放射状膜厚斑及び膜厚の不均一性を抑制できる。
詳細な実施例について更に説明する。記録層側の表面に印刷層が施された光磁気ディスクを用意する。光磁気ディスクを１０ｒｐｍで回転させながら紫外線硬化型のエポキシ樹脂等の有機系樹脂を光磁気ディスクの内周側に円周状に塗布した。次に、回転数を１０ｒｐｍから５００ｒｐｍまで上昇させて樹脂を光磁気ディスクの表面全体に広げた。次に、回転数を更に上昇させて有機系樹脂を振切って樹脂保護層の段差を解消する工程を追加した。表１に段差解消工程回転数と樹脂保護層のむらの関係を示す。
表２に段差解消工程時間と樹脂保護層のむら及び膜厚の関係を示す。
図５において、４は光磁気ディスク２Ａの透明基板であり、透明基板４上には図示しない記録層等が形成されており、記録層側の表面に印刷層６が施されている。印刷層６の高さは約１０μｍである。８は樹脂保護層であり、印刷層６を完全に覆っており、その表面はフラットである。図６は図５に示した第１実施形態の光磁気ディスク２Ａの一部破断平面図である。本実施形態の光磁気ディスク２Ａでは、樹脂保護層８の材料として大日本インキ株式会社製の商品名ＳＤ７１５（粘度４５ｍｐａ・ｓ）を使用した。
図７を参照すると、第１実施形態の光磁気ディスク２Ａの積層構造を示す概略断面図が示されている。透明基板４上にＳｉＮから成る下地誘電体層１２、ＴｂＦｅＣｏ系材料から成る記録層１４、ＧｄＦｅＣｏ系材料から成る記録補助層１６、ＳｉＮオーバコート層１８、Ａｌを含むメタル層２０、樹脂保護層２２がこの順に積層されている。更に、樹脂保護層２２上に印刷層６が施され、この印刷層６を樹脂保護層８が覆っている。本実施形態の光磁気ディスク２Ａは通常タイプの光磁気記録媒体である。この光磁気ディスク２Ａは、基板４側から所定パワーのレーザビームを照射しながら、樹脂保護層８上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、磁界変調記録を行う光磁気ディスク装置に適用すると特に効果がある。
図８は印刷層端部の拡大断面図を示している。印刷層６をスクリーン印刷により形成すると、印刷層６の端部に凸部６ａが形成される。本実施形態においては、この印刷層６の最大厚さＴｍａｘ及び最小厚さＴｍｉｎともに５〜１５μｍが好ましい。より好ましくは５〜１０μｍである。図９は図７に示した第１実施形態の一部拡大断面図である。印刷層６は第１の厚さＴ１を有し、樹脂保護層８は第１の厚さＴ１以上の第２の厚さＴ２を有している。本実施形態では、樹脂保護層２２と、印刷層６と、樹脂保護層８の合計厚さは、３０μｍ以下であるのが好ましい。更に好ましくは、この合計厚さは２０μｍ以下である。上記合計厚さは、樹脂保護層８が印刷層６を完全に覆っているため、樹脂保護層２０と樹脂保護層８の厚さの合計と等しくなる。
図７に示した第１実施形態の光磁気ディスク２Ａの製造方法の概略は以下の通りである。基板４上に下地誘電体層１２、記録層１４、記録補助層１６、ＳｉＮオーバコート層１８、メタル層２０をスパッタ装置により順次成膜した後に、基板４をスパッタ装置から取り出し、スピンコート装置に取り付ける。メタル層２０上にスピンコートによりＵＶ硬化樹脂を塗布する。ＵＶ硬化樹脂は大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアクリアＳＤ−１７００を使用した。塗布後に紫外線を照射して樹脂を硬化させ、膜厚４μｍの樹脂保護層２２を形成した。
次に、基板４をスクリーン印刷装置に装着し、図１０に示すようなスクリーン印刷方法で印刷層６を形成した。図１０において、１５はスクリーン、１７はスキージである。印刷層６は、例えば図６に示すようなテストパターンで形成される。スクリーン１５のメッシュ数とスキージ１７の角度を変えて数種類のサンプルを作成し、印刷層６の膜厚を計測した。印刷に使用したインクは大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアＳＳＤである。
次に、基板４をスピンコート装置に装着し、表面平滑のための樹脂保護層８を形成した。使用した樹脂は大日本インキ株式会社製の商品名ＳＤ７１５である。ここで、スピンコートは図２に示した三段階の回転数で塗布し、第３の回転数を４０００ｒｐｍ以上とすることにより、樹脂保護層８が印刷層６を完全に覆い、印刷層６の端部の段差を解消することができる。表２より、印刷層６の膜厚が１０μｍ以上の場合は、段差解消工程時間を１．０秒以下に設定することにより表面を平坦化できる。印刷層６が薄い場合はそれに合わせて段差解消工程時間を長くすることで、表面平滑化のための樹脂保護層８を薄くできる。例えば、印刷層６の膜厚が６μｍの場合は、段差解消工程時間を２秒とすることで樹脂保護層８の膜厚を８μｍに設定できる。この表面平滑のための樹脂保護層８は塗布した後に紫外線を照射して硬化させる。
図１１にスクリーン１５のメッシュ数と印刷層６の膜厚の関係を示す。図１１から明らかなように、スクリーンのメッシュ数を大きくすると印刷層６の膜厚を薄くすることが可能である。スクリーンのメッシュ数を３５０／インチ以上とすることで、印刷層６の膜厚を１５μｍ以下にすることができる。印刷層６の厚さは５〜１５μｍが好ましく、更に好ましくは５〜１０μｍである。スクリーン１５のメッシュ数は３５０〜４５０／インチが好ましい。ここで、スキージ角度は７０度とした。
図１２にスキージ角度と印刷層６の膜厚の関係を示す。図１２から明らかな通り、スキージの角度を大きくすることで印刷層６を薄くすることができる。スキージ角度を６０度以上とすることで、印刷層６の膜厚を１５μｍ以下に設定できる。よって、スキージ角度は６０度〜９０度の範囲内が好ましい。ここで、スクリーン１５のメッシュ数は４２０／インチとした。
スクリーン１５のメッシュ数とスキージ１７の角度により印刷層６を１５μｍ以下に設定すれば、図９に示した樹脂保護層２２の厚さを４μｍとして、表面平滑用の樹脂保護層８のスピンコート時の段差解消時間を調整することで、合計厚さを２０μｍ以下にすることができる。
図１３は第１実施形態の変形例の光磁気ディスク２Ａ´の積層構造を示す概略断面図である。透明基板４上にＳｉＮから成る下地誘電体層１２、ＧｄＦｅＣｏ系材料から成る再生層２４、ＳｉＮから成る非磁性層２６、ＴｂＦｅＣｏ系材料から成る記録層２８がこの順に積層されている。更に、記録層２８上にＳｉＮオーバコート層１８、Ａｌを含むメタル層２０が積層されている。メタル層２０上には印刷層６が施され、この印刷層６は樹脂保護層８により覆われている。
本実施形態の光磁気ディスク２Ａ´は、記録層２８の記録マークが静磁結合により再生層２４に転写されるＣＡＤ（センター・アパチャー・ディテクション）タイプの磁気誘導超解像（ＭＳＲ）媒体である。再生層２４は、記録層２８に比較して相対的にカー回転角は大きく室温での保持力は小さい。一方、記録層２８は、再生層２４に比較して相対的にカー回転角は小さく室温での保持力が大きい。本実施形態の光磁気ディスク２Ａ´も、透明基板４側から所定パワーのレーザビームを照射しながら、樹脂保護層８上に磁気ヘッド接触或いは浮上させて、磁界変調記録を行う光磁気ディスク装置に適用して特に効果がある。層構成及び材料は実施例に限定されず適宜変更可能である。
図１４に樹脂保護層の膜厚とＴｂＦｅＣｏ記録層を有する第１実施形態の光磁気ディスク２Ａに情報を記録するのに必要な磁界の関係を示す。図１４より、樹脂保護層の膜厚が厚いと記録に必要な磁界が上昇し、膜厚が３０μｍ以上では２５０エルステッド（Ｏｅ）以上の磁界が必要なことが分かる。２５０エルステッド（Ｏｅ）以上の磁界を発生させるには消費電力が大きくなる、或いは光磁気ディスク装置の温度が上昇する等の問題があるため、樹脂保護層の膜厚は３０μｍ以下が好ましい。上述したように、印刷層の厚さとの関係から樹脂保護層の膜厚は１０μｍ以上必要であるため、樹脂保護層の膜厚は１０μｍ〜３０μｍの範囲内が好ましい。
図１４の横軸は図１３の構成では樹脂保護層８の厚さである。図７の構成では、樹脂保護層２２と表面平滑用樹脂保護層８の合計厚さである。記録再生速度向上のために線速が速くなると磁気ヘッドへの電流スイッチング速度が速くなり、それに伴って発生する磁界が低下してしまう。また、基板の反り等の機械的な特性が悪化すると、磁気ヘッドの浮上が不安定化し実効的な磁場も低下する。高速記録に対応し、しかも機械特性の不十分な媒体でも良好な記録再生特性を低電力で行うためには、２００エルステッド（Ｏｅ）以下の磁場で記録再生できることが求められている。よって、好ましくは２００エルステッド（Ｏｅ）以下の磁場で記録再生できるのがよい。そのためには、上述した合計厚さを２０μｍ以下にすればよい。
図１５は本発明第２実施形態の光磁気ディスクの断面図であり、図１６はその一部破断平面図である。図１５に示すように、樹脂保護層８は表面が完全なフラットでなくても磁気ヘッドの記録再生に障害にならない範囲以内で緩やかな曲面であっても構わない。
図１７は磁気ディスクに本発明を適用した本発明第３実施形態の断面図である。図１８は図１７の磁気ディスク２Ｃの一部破断平面図である。基板４上には図示しない磁性記録層等が形成されており、磁性記録層側の表面に印刷層６が施され、この印刷層６は樹脂保護層８で覆われている。更に、樹脂保護層８上には摩擦低減のための潤滑剤３０が塗布されている。
図１９は本発明第３実施形態に係る磁気ディスク２Ｃの積層構造を示す概略断面図である。ガラス基板４上にはＣｒ等から構成される密着層３２、ＮｉＰ等から構成される非磁性金属層３４が積層されている。非磁性金属層３４上にはＣｒを主成分とする下地層３６が積層され、下地層３６上には中間層３８が積層されている。中間層３８上には１層又は複数層のＣｏ合金磁性層４０が積層され、磁性層４０上には保護層４２が積層されている。保護層４２はＣｏ合金磁性層４０の磨耗防止と腐食防止の機能を有している。保護層４２上には印刷層６が施され、この印刷層６は樹脂保護層８により覆われている。更に、樹脂保護層８上には潤滑剤３０が塗布されている。なお、層構成及び材料は実施例に限定されず適宜変更可能である。
本実施形態は磁気ディスクの樹脂保護層上に潤滑剤を塗布した例について説明したが、図５及び図１５に示す光磁気ディスクの樹脂保護層８上に潤滑剤を塗布するようにしてもよい。
図３に示すような印刷層の段差が発生した場合でも、樹脂の塗布位置及び回転条件を調整し、本発明のスピンコート方法によって有機系樹脂を再度コーティングすることによって、欠陥を修復することが可能である。
印刷層を有する基板表面を平坦化する他のスピンコート方法について図２０Ａ〜図２０Ｅを参照して説明する。図７に示した第１実施形態の光磁気ディスク２Ａのように、基板４上にＳｉＮ、記録層、記録補助層、ＳｉＮ，Ａｌを順次成膜した後に基板４を成膜装置から取り出し、スピンコート装置に取り付ける。Ａｌ層上にスピンコートにより紫外線硬化樹脂を塗布する。紫外線硬化樹脂は大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアクリアＳＤ−１７００を使用した。塗布後に紫外線を照射して樹脂を硬化させ、膜厚約４μｍの樹脂保護層を形成した。次に、基板４をスクリーン印刷装置に装着し、図１０に示す方法で印刷層６を形成した。印刷層６は、例えば図６に示すようなテストパターンで形成される。印刷に使用したインクは大日本インキ株式会社製の商品名ダイキュアＳＳＤである。
次に、印刷層６の段差を改善する方法を説明する。まず、図２０Ａに示すように、紫外線硬化樹脂７を基板４の内周側に１周に渡り塗布する。次に、図２０Ｂに示すように、紫外線硬化樹脂７の上に紫外線に対して透明な上部カバー９を載置する。この上部カバー９は紫外線硬化樹脂との剥離性が非常によい物質を用いる。例えば、紫外線硬化樹脂７としては三菱レーヨン株式会社製の商品名ＳＡ１００２Ｓを用い、上部カバー９にＪＳＲ株式会社製の商品名Ａｒｔｏｎを使用することができる。代替案として、紫外線硬化樹脂７としては同じく三菱レーヨン株式会社製の商品名ＳＡ１００２Ｓを用い、上部カバー９にガラス基板を用いるようにしてもよい。
次に、図２０Ｃに示すように、スピンコート装置により上部カバー９を載置した状態で基板４を高速で回転し、紫外線硬化樹脂７を基板面全体に塗布する。上部カバー９を利用することで基板表面をほぼ完全に平坦化することが可能となる。紫外線硬化樹脂７の粘度とスピン動作時の回転数によって、樹脂保護層８の厚さを調整することも可能である。次に、図２０Ｄに示すように、紫外線硬化樹脂７が完全に硬化した後、上部カバー９を取り外す。この方法を用いることにより、樹脂保護層８で印刷層６を完全にカバーし、樹脂保護層８の表面を平坦化することができる。
樹脂保護層８表面の良好な摺動性を必要とする場合には、図２０Ｅに示すように、樹脂保護層８上に摺動性改善用の紫外線硬化樹脂１１を更に塗布することも可能である。使用した摺動性改善用の紫外線硬化樹脂１１は、ＪＳＲ株式会社製の商品名デソライト（ＫＺ７２３５Ｃ）である。
上述した実施形態の変形例として、図２０Ａに示すように紫外線硬化樹脂７を基板４の内周側で１周に渡り塗布した後、スピンコート装置で基板４を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂７を基板４の全面に塗布すると共に余分な樹脂を排出する。その後、図２１Ｂに示すように、紫外線硬化樹脂７の上に上部カバー９を取り付け、表面平坦化工程及び紫外線照射工程を実施するようにしてもよい。
基板表面に形成された印刷層の段差を解消する本発明は、スクリーン印刷に限らず例えばオフセット印刷にも当然適用可能である。図２２を参照して、オフセット印刷の概略を説明する。インクローラ４４からインク４５を版胴４６に転写し、この版胴４６のインクをゴム等で作られたブランケット４８に転写し、ブランケット４８から基板４表面にインク４５を転写する。オフセット印刷では、ブランケット４８を介してインクを紙等に転写するため、スクリーン印刷に比較して薄い印刷層を形成することが可能となるが、スクリーン印刷と同様に印刷層端部に段差が発生する。
本発明を適用することにより、基板表面に形成された印刷層の段差を解消することが可能となる。本発明は、スクリーン印刷、オフセット印刷だけに限られるものではなく、電子写真印刷等でも段差が発生するので、他の印刷方法で形成した印刷層に対しても汎用的に適用可能である。
上述した各実施形態では、全てディスクの例で示したが、カード状、テープ状の記憶媒体にも応用可能である。更に、各実施形態では、磁気ヘッドが印刷面側の媒体表面に対向する例で説明しているが、光ヘッドが同様に対向するものにも適用可能である。
図２３を参照すると、木発明の光磁気ディスクを駆動するのに適した光磁気ディスク装置の概略構成図が示されている。ハウジング５０内にはスピンドルモータ５２が設けられており、インレットドア５４を介して光磁気（ＭＯ）カートリッジ５６を装置内に挿入すると、内部の光磁気ディスク５８がスピンドルモータ５２の回転軸のハブにチャッキングされ、光磁気ディスク５８のローディングが行われる。ローディングされた光磁気ディスク５８の下側には、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）により媒体のトラックを横切る方向に移動自在なキャリッジ６０が設けられている。キャリッジ６０上には対物レンズ６２及びビーム立ち上げプリズム６４が搭載されている。更に、光磁気ディスク５８に対して対物レンズ６２と反対側には、対物レンズ６２に対向するように磁気ヘッド６８が設けられている。磁気ヘッド６８はキャリッジ６０に取り付けられたサスペンション６６により支持されている。
固定光学系７０に設けられているレーザダイオード７２からのレーザビームをビーム立ち上げプリズム６４により反射して対物レンズ６２に入射し、光磁気ディスク５８の記録面にビームスポットをフォーカスする。これと同時に、磁気ヘッド６８を記録すべき情報で変調して駆動し、光磁気ディスク５８に情報を書き込む。対物レンズ６２は図示しないフォーカスアクチュエータにより光軸方向に移動制御され、またトラックアクチュエータにより媒体トラックを横切る方向に、例えば数１０トラックの範囲内で移動することができる。
本発明によると、以上詳述したように、記録媒体の表面上に印刷層が施されていても、この印刷層の厚さ以上の樹脂保護層を塗布するようにしたので、表面がフラットな特に磁界変調記録方式に適した光磁気記録媒体を提供可能である。本発明の応用は光磁気記録媒体に限定されるものではなく、表面に印刷層を有する磁気記録媒体に適用しても同様な効果がある。
更に、記録媒体の表面全体がフラットになり、浮上バランスや接触状態を一定にすることで記録層と磁気ヘッドの距離を一定にでき、記録や再生の信号品質の均一化が図れ、良好な信号品質が得られることから結果的に高密度媒体においても印刷が可能になる。また、記録媒体の表面全体がフラットになることから、ヘッドの浮上バランスや接触状態を安定もしくはほぼ一定に制御可能である。故に、ヘッドは媒体表面のうねりで損傷することもなくなる。つまり、本発明の媒体が適用される装置に対して、装置の媒体互換性及び信頼性を向上させることができる。
更に、記録媒体の表面全体がフラットになり、浮上バランスや接触状態を一定にすることで記録層と磁気ヘッドの距離を一定にでき、記録や再生の信号品質の均一化が図れ、良好な信号品質が得られることから結果的に高密度媒体においても印刷が可能になる。また、記録媒体の表面全体がフラットになることから、ヘッドの浮上バランスや接触状態を安定もしくはほぼ一定に制御可能である。故に、ヘッドは媒体表面のうねりで損傷することもなくなる。つまり、本発明の媒体が適用される装置に対して、装置の媒体互換性及び信頼性を向上させることができる。
Claims (26)
- 基板と、
該基板の一方の面上に設けられた第１の厚さと、該基板との間に段差を有する印刷層と、
前記基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層と、
を具備したことを特徴とする記録媒体。 - 前記第２の厚さは１０〜３０μｍである請求項１記載の記録媒体。
- 前記樹脂保護層は前記基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている請求項１記載の記録媒体。
- 前記基板の前記一方の面上に設けられた磁性記録層を更に具備した請求項１記載の記録媒体。
- 前記樹脂保護層上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて、該磁気ヘッドと前記基板とを相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う請求項４記載の記録媒体。
- 前記印刷層の端部に凸部を有する請求項１記載の記録媒体。
- 前記印刷層はスクリーン印刷によって形成されている請求項１記載の記録媒体。
- 前記印刷層の厚さが５〜１５μｍである請求項７記載の記録媒体。
- 前記印刷層の厚さが５〜１０μｍである請求項７記載の記録媒体。
- 前記印刷層はオフセット印刷によって形成されている請求項１記載の記録媒体。
- 前記印刷層の厚さが０．５〜３μｍである請求項１０記載の記録媒体。
- 透明基板と、
該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、
該磁性記録層上に設けられたメタル層と、
該メタル層上に設けられた第１の厚さと、該メタル層との間に段差を有する印刷層と、
前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層と、
を具備したことを特徴とする光磁気記録媒体。 - 前記透明基板と前記磁性記録層の間に挿入された誘電体下地層と、
前記磁性記録層と前記メタル層の間に挿入された誘電体オーバコート層を更に具備した請求項１２記載の光磁気記録媒体。 - 前記第２の厚さは１０〜３０μｍである請求項１２記載の光磁気記録媒体。
- 前記樹脂保護層は前記基板を回転させながら樹脂を塗布するスピンコート法により形成されている請求項１２記載の光磁気記録媒体。
- 前記基板の他方の面側から光ビームを照射しつつ、前記樹脂保護層上に磁気ヘッドを接触或いは浮上させて該磁気ヘッドと前記基板を相対移動させながら磁場を反転させて記録を行う請求項１２記載の光磁気記録媒体。
- 透明基板と、
該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、
該磁性記録層上に設けられたメタル層と、
該メタル層上に設けられた第１樹脂保護層と、
該第１樹脂保護層上に設けられた第１の厚さと、該第１樹脂保護層との間に段差を有する印刷層と、
前記第１樹脂保護層上に設けられた前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する第２樹脂保護層とを具備し、
前記第１樹脂保護層、印刷層及び第２樹脂保護層の合計厚さが３０μｍ以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 - 前記第１樹脂保護層、印刷層及び第２樹脂保護層の合計厚さが２０μｍ以下である請求項１７記載の光磁気記録媒体。
- 記録媒体の製造方法であって、
基板の一方の面上に第１の厚さと、該基板との間に段差を有する印刷層をスクリーン印刷によって形成し、
前記基板の前記一方の面上に前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層を塗布するステップを具備し、
前記スクリーン印刷に使用するスクリーンのメッシュ数が３５０〜４５０／インチであることを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 前記スクリーン印刷時のスキージ角度は６０〜９０度の範囲内である請求項１９記載の記録媒体の製造方法。
- 基板上に形成された少なくとも磁性記録層、第１樹脂保護層、印刷層及び第２樹脂保護層を有し、第１樹脂保護層、印刷層及び第２樹脂保護層の合計厚さが３０μｍ以下である記録媒体の前記第２樹脂保護層の形成方法であって、
基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、
基板を前記第１の速度より早い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、
前記第２の速度より早い第３の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、
前記段差解消工程は毎分４０００回転以上で基板を回転させて３秒以内に行うことを特徴とする記録媒体の第２樹脂保護層の形成方法。 - 基板を回転しながら、印刷層を有する印刷面上に樹脂をスピンコートする方法であって、
基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布する樹脂塗布工程と、
基板を前記第１の速度より速い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板全面に広げる工程と、
前記第２の速度より速い第３の速度で基板を回転させて広げられた樹脂の段差を解消する段差解消工程とを具備し、
前記段差解消工程は毎分４０００回転以上で基板を回転させて実行することを特徴とする樹脂のスピンコート方法。 - 前記段差解消工程は１秒以内である請求項２２記載の樹脂のスピンコート方法。
- 基板を回転しながら、印刷層を有する印刷面上に樹脂をスピンコートする方法であって、
基板を第１の速度で回転させながら樹脂を基板の内周側に塗布し、
塗布された前記樹脂上にカバーを装着し、
カバーを装着した状態で前記基板を前記第１の速度より速い第２の速度で回転させて塗布された樹脂を基板面全体に広げることを特徴とする樹脂のスピンコート方法。 - 前記カバーは紫外線に対して透明な材料から形成されており、
樹脂を基板面全体に広げた後、カバーの上から紫外線を照射して樹脂を硬化させるステップを更に具備した請求項２４記載の樹脂のスピンコート方法。 - 光磁気記録媒体に対して情報を記録／再生可能な光磁気ディスク装置であって、
レーザビームを前記光磁気記録媒体に照射する光学ヘッドと、
記録すべき情報に応じて変調可能な磁気ヘッドと、
前記光磁気記録媒体で反射された反射光から再生信号を生成する光検出器とを具備し、
前記光磁気記録媒体は、
透明基板と、
該透明基板の一方の面上に設けられた磁性記録層と、
該磁性記録層上に設けられたメタル層と、
該メタル層上に設けられた第１の厚さと、該メタル層との間に段差を有する印刷層と、
前記透明基板の前記一方の面上に塗布された前記第１の厚さ以上の第２の厚さを有する樹脂保護層とを含んでいることを特徴とする光磁気ディスク装置。
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