JPH0670861B2 - 光学式ディスク保護膜塗付方法およびディスク - Google Patents
光学式ディスク保護膜塗付方法およびディスクInfo
- Publication number
- JPH0670861B2 JPH0670861B2 JP59039902A JP3990284A JPH0670861B2 JP H0670861 B2 JPH0670861 B2 JP H0670861B2 JP 59039902 A JP59039902 A JP 59039902A JP 3990284 A JP3990284 A JP 3990284A JP H0670861 B2 JPH0670861 B2 JP H0670861B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- disk
- protective film
- rotation
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はコンパクトディスク、DRAWディスク等の光学式
ディスクの製造において光学式ディスクに保護膜を塗布
する光学式ディスク保護膜塗布方法に関するものであ
る。
ディスクの製造において光学式ディスクに保護膜を塗布
する光学式ディスク保護膜塗布方法に関するものであ
る。
従来例の構成とその問題点 通常、コンパクトディスクは第１図に示すように、信号
ピットが刻まれている基板１の信号ピット面上にアルミ
ニウムを蒸着した膜２をつけている。この蒸着膜２はピ
ットの凹凸を光ビーム４により読み出すときの光ビーム
４の反射膜としての役割をもっている。前記蒸着膜２は
外気等にさらしておくと酸化しやすく、すぐに劣化して
しまう。そのため、前記蒸着膜２を保護するために紫外
線硬化型樹脂を使用した膜３を蒸着膜２の上につけてい
る。
ピットが刻まれている基板１の信号ピット面上にアルミ
ニウムを蒸着した膜２をつけている。この蒸着膜２はピ
ットの凹凸を光ビーム４により読み出すときの光ビーム
４の反射膜としての役割をもっている。前記蒸着膜２は
外気等にさらしておくと酸化しやすく、すぐに劣化して
しまう。そのため、前記蒸着膜２を保護するために紫外
線硬化型樹脂を使用した膜３を蒸着膜２の上につけてい
る。
以下、従来の保護膜塗布方法について説明する。第２図
に示すように、従来は樹脂塗布工程、乾燥工程、硬化工
程の３工程から成っている。先ず、塗布工程は第２図ａ
に示すように、ディスク５を回転数w1r.p.m.で回転させ
ながらノズル６を半径方向に振って樹脂７をディスク５
全面に均一塗布している。次に乾燥工程は第２図ｂに示
すように、回転数w2r.p.m.でディスク５を回して塗布さ
れた樹脂膜７を乾燥させる。この工程は余分な樹脂を飛
散させるためと樹脂中に含まれている溶剤を飛散させる
ために行なわれる。通常、樹脂は粘度が高く塗布しにく
い場合があり、この場合樹脂にアルコールや酢酸エチル
等の溶剤を加えて、塗布時の粘度を下げて塗布しやすく
している。この溶剤は被膜としての効果を下げてしまう
ものであり、硬化前にディスク上から飛散させてしまう
ことが必要である。そして次に、硬化工程は第２図Ｃに
示すように、塗布された樹脂膜７を紫外線照射装置８に
より硬化させて、保護膜を形成する。この方法におい
て、塗布時の回転数W1と乾燥時の回転数W2との関係は、
W1《W2である。しかしながら、従来の保護膜塗布方法は
いくつかの欠点を有している。即ち、通常のコンパクト
ディスクにおいて、第３図Ａに示すように塗布工程９、
乾燥工程10において回転制御させ樹脂膜を形成させる
と、第４図Ａに示すようにディスクの内周（IN）、外周
（OUT）で膜厚に著しい差ができてしまい、内周が非常
に薄くなり、保護膜としての機能を果さなくなる。又、
ディスクの乾燥工程の回転数を第３図Ｂに示すようにＡ
よりも落すと、第４図Ｂに示すように内周は保護膜とし
て必要な膜厚は得られるが、外周が非常に厚くなり過ぎ
る。紫外線硬化型樹脂では硬化時において体積収縮を起
こすという問題があり、膜厚が厚くなり過ぎると収縮に
より蒸着膜をこわすか、或いは少なくともディスクが膜
側に凹状に反ってしまう。このように従来の方法ではデ
ィスクの内外周に必ず大きい膜厚差を生じてしまうの
で、上記のような問題が発生してしまう。又、樹脂を塗
布するときにディスクが回転しているので、樹脂を螺線
状に塗布することになり、ディスク上にムラとして残っ
てしまう。
に示すように、従来は樹脂塗布工程、乾燥工程、硬化工
程の３工程から成っている。先ず、塗布工程は第２図ａ
に示すように、ディスク５を回転数w1r.p.m.で回転させ
ながらノズル６を半径方向に振って樹脂７をディスク５
全面に均一塗布している。次に乾燥工程は第２図ｂに示
すように、回転数w2r.p.m.でディスク５を回して塗布さ
れた樹脂膜７を乾燥させる。この工程は余分な樹脂を飛
散させるためと樹脂中に含まれている溶剤を飛散させる
ために行なわれる。通常、樹脂は粘度が高く塗布しにく
い場合があり、この場合樹脂にアルコールや酢酸エチル
等の溶剤を加えて、塗布時の粘度を下げて塗布しやすく
している。この溶剤は被膜としての効果を下げてしまう
ものであり、硬化前にディスク上から飛散させてしまう
ことが必要である。そして次に、硬化工程は第２図Ｃに
示すように、塗布された樹脂膜７を紫外線照射装置８に
より硬化させて、保護膜を形成する。この方法におい
て、塗布時の回転数W1と乾燥時の回転数W2との関係は、
W1《W2である。しかしながら、従来の保護膜塗布方法は
いくつかの欠点を有している。即ち、通常のコンパクト
ディスクにおいて、第３図Ａに示すように塗布工程９、
乾燥工程10において回転制御させ樹脂膜を形成させる
と、第４図Ａに示すようにディスクの内周（IN）、外周
（OUT）で膜厚に著しい差ができてしまい、内周が非常
に薄くなり、保護膜としての機能を果さなくなる。又、
ディスクの乾燥工程の回転数を第３図Ｂに示すようにＡ
よりも落すと、第４図Ｂに示すように内周は保護膜とし
て必要な膜厚は得られるが、外周が非常に厚くなり過ぎ
る。紫外線硬化型樹脂では硬化時において体積収縮を起
こすという問題があり、膜厚が厚くなり過ぎると収縮に
より蒸着膜をこわすか、或いは少なくともディスクが膜
側に凹状に反ってしまう。このように従来の方法ではデ
ィスクの内外周に必ず大きい膜厚差を生じてしまうの
で、上記のような問題が発生してしまう。又、樹脂を塗
布するときにディスクが回転しているので、樹脂を螺線
状に塗布することになり、ディスク上にムラとして残っ
てしまう。
発明の目的 本発明は上記従来の欠点を解消したもので、コンパクト
ディスクをはじめ光学式ディスクの製造において、ディ
スク上に均一な保護膜を形成することを目的とする。
ディスクをはじめ光学式ディスクの製造において、ディ
スク上に均一な保護膜を形成することを目的とする。
発明の構成 上記目的を達成するため、本発明の光学式ディスク保護
膜塗布方法は、光学式ディスクの信号記録面或いは信号
読出し面を保護する被膜を形成すべく、液状の樹脂を用
いてディスクを回転させながら前記面上に塗布し、少な
くとも塗布工程、レベリング工程、乾燥回転工程の３段
階以上の異なる回転数の回転制御により前記ディスク面
上に均一な厚みの被膜を形成するものである。また本発
明のディスクは、光学式ディスクの信号記録面或いは信
号読出し面を保護する被膜が少なくとも塗布工程、レベ
リング工程、乾燥回転工程の３段階以上の異なる回転数
の回転制御により成形されてなるものである。
膜塗布方法は、光学式ディスクの信号記録面或いは信号
読出し面を保護する被膜を形成すべく、液状の樹脂を用
いてディスクを回転させながら前記面上に塗布し、少な
くとも塗布工程、レベリング工程、乾燥回転工程の３段
階以上の異なる回転数の回転制御により前記ディスク面
上に均一な厚みの被膜を形成するものである。また本発
明のディスクは、光学式ディスクの信号記録面或いは信
号読出し面を保護する被膜が少なくとも塗布工程、レベ
リング工程、乾燥回転工程の３段階以上の異なる回転数
の回転制御により成形されてなるものである。
実施例の説明 以下、本発明の一実施例について、図面（第５図〜第７
図）に基づいて説明する。先ず第５図ａ〜ｄに示すよう
に、樹脂塗布工程、レベリング工程、乾燥工程、硬化工
程の４工程から成っている。樹脂塗布工程は第５図ａに
示すようにディスク11を回転数w3r.p.m.で回転させなが
らノズル12を半径方向に振って、樹脂13を全面に均一塗
布する。次にレベレング工程は第５図ｂに示すように、
ディスク11を回転数w4r.p.mで回転させている。この回
転数は塗布回転W3との間に＜W4の関係にあり、又ディス
ク11上に塗布された樹脂中で膜として必要な量以外の余
分な樹脂をゆっくり飛ばすと共に、塗布時にできた塗布
ムラをなくしてディスク11上に必要量の樹脂だけを残
し、それをディスク11上にムラなく平均化して伸ばして
いる。そして次に第２図Ｃに示すように、回転数W5〔W5
＞W4〕でディスク11を回転させて、樹脂13を乾燥させ、
その後第５図ｄに示すように樹脂13を紫外線照射装置14
により硬化させている。W3は10〜100rpm、W4は300〜180
0rpm、W5は1000〜3000rpmの範囲で、W3＜W4＜W5となる
回転数にセットするのが好適である。
図）に基づいて説明する。先ず第５図ａ〜ｄに示すよう
に、樹脂塗布工程、レベリング工程、乾燥工程、硬化工
程の４工程から成っている。樹脂塗布工程は第５図ａに
示すようにディスク11を回転数w3r.p.m.で回転させなが
らノズル12を半径方向に振って、樹脂13を全面に均一塗
布する。次にレベレング工程は第５図ｂに示すように、
ディスク11を回転数w4r.p.mで回転させている。この回
転数は塗布回転W3との間に＜W4の関係にあり、又ディス
ク11上に塗布された樹脂中で膜として必要な量以外の余
分な樹脂をゆっくり飛ばすと共に、塗布時にできた塗布
ムラをなくしてディスク11上に必要量の樹脂だけを残
し、それをディスク11上にムラなく平均化して伸ばして
いる。そして次に第２図Ｃに示すように、回転数W5〔W5
＞W4〕でディスク11を回転させて、樹脂13を乾燥させ、
その後第５図ｄに示すように樹脂13を紫外線照射装置14
により硬化させている。W3は10〜100rpm、W4は300〜180
0rpm、W5は1000〜3000rpmの範囲で、W3＜W4＜W5となる
回転数にセットするのが好適である。
この実施例において第６図に示すように、塗布工程15、
レベリング工程16、乾燥工程17と３段階の回転制御を行
なって樹脂を塗膜すれば、第７図に示すように塗布ムラ
なく、内外周に殆んど膜厚差なく、保護膜を形成するこ
とができる。
レベリング工程16、乾燥工程17と３段階の回転制御を行
なって樹脂を塗膜すれば、第７図に示すように塗布ムラ
なく、内外周に殆んど膜厚差なく、保護膜を形成するこ
とができる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、コンパクトディスクをは
じめとする光学式ディスクの表面に液状の樹脂を用いて
塗布ムラなく均一な保護膜を形成することができる。
じめとする光学式ディスクの表面に液状の樹脂を用いて
塗布ムラなく均一な保護膜を形成することができる。
第１図は光学式ディスクの一方式であるコンパクトディ
スクの断面図、第２図〜第４図は従来例を示し、第２図
ａ〜ｃは保護膜塗布方法の工程図、第３図は回転制御説
明図、第４図は保護膜の膜厚を示した説明図、第５図〜
第７図は本発明の一実施例を示し、第５図ａ〜ｄは保護
膜塗布方法の工程図、第６図は回転制御説明図、第７図
は保護膜の膜厚を示した説明図である。 11……ディスク、12……ノズル、13……樹脂、14……紫
外線照射装置、15……塗布工程、16……レベリング工
程、17……乾燥工程
スクの断面図、第２図〜第４図は従来例を示し、第２図
ａ〜ｃは保護膜塗布方法の工程図、第３図は回転制御説
明図、第４図は保護膜の膜厚を示した説明図、第５図〜
第７図は本発明の一実施例を示し、第５図ａ〜ｄは保護
膜塗布方法の工程図、第６図は回転制御説明図、第７図
は保護膜の膜厚を示した説明図である。 11……ディスク、12……ノズル、13……樹脂、14……紫
外線照射装置、15……塗布工程、16……レベリング工
程、17……乾燥工程
Claims (3)
- 【請求項１】光学式ディスクの信号記録面或いは信号読
出し面を保護する被膜を形成すべく、液状の樹脂を用い
てディスクを回転させながら前記面上に塗布し、少なく
とも塗布工程、レベリング工程、乾燥回転工程の３段階
以上の異なる回転数の回転制御により前記ディスク面上
に均一な厚みの被膜を形成する光学式ディスク保護膜塗
布方法。 - 【請求項２】ディスクの回転制御において、塗布回転数
＜レベリング回転数＜乾燥回転数の関係を有する特許請
求の範囲第１項記載の光学式ディスク保護膜塗布方法。 - 【請求項３】光学式ディスクの信号記録面或いは信号読
出し面を保護する被膜が少なくとも塗布工程、レベリン
グ工程、乾燥回転工程の３段階以上の異なる回転数の回
転制御により成形されてなるディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59039902A JPH0670861B2 (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 光学式ディスク保護膜塗付方法およびディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59039902A JPH0670861B2 (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 光学式ディスク保護膜塗付方法およびディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182534A JPS60182534A (ja) | 1985-09-18 |
| JPH0670861B2 true JPH0670861B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=12565887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59039902A Expired - Lifetime JPH0670861B2 (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 光学式ディスク保護膜塗付方法およびディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0670861B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2003224384A1 (en) * | 2002-05-21 | 2003-12-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing an optical storage medium and optical storage medium |
| WO2004010428A1 (ja) * | 2002-07-18 | 2004-01-29 | Fujitsu Limited | 記録媒体、樹脂のスピンコート方法及び光磁気ディスク装置 |
| JP2006155726A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Tohoku Pioneer Corp | 光ディスクの製造方法および製造装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50136333A (ja) * | 1974-04-17 | 1975-10-29 | ||
| JPS5441703A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-03 | Hitachi Ltd | Information recording plate |
| JPS5541864A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Spin coating method |
-
1984
- 1984-03-01 JP JP59039902A patent/JPH0670861B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50136333A (ja) * | 1974-04-17 | 1975-10-29 | ||
| JPS5441703A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-03 | Hitachi Ltd | Information recording plate |
| JPS5541864A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Spin coating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60182534A (ja) | 1985-09-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0670861B2 (ja) | 光学式ディスク保護膜塗付方法およびディスク | |
| JPS6330880B2 (ja) | ||
| EP0074058B1 (en) | Disc coating method | |
| JPH057774B2 (ja) | ||
| JP2569627Y2 (ja) | 光ディスク用基板 | |
| JP3208583B2 (ja) | 光ディスク | |
| JPH1064119A (ja) | 光ディスクおよびその製造方法 | |
| JP3511687B2 (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPH05269425A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPS60256944A (ja) | 円盤保護硬化被膜の形成方法 | |
| JPH05309319A (ja) | 回転塗布方法 | |
| JP3277951B2 (ja) | 光ディスク用保護膜の形成方法 | |
| JPH06124485A (ja) | 回転塗布方法 | |
| JPH10199056A (ja) | 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 | |
| JPH0447905B2 (ja) | ||
| JPH09167382A (ja) | 貼り合わせディスク及びその製造方法 | |
| JP2001256683A (ja) | 情報記録媒体の製造装置及び製造方法並びに情報記録媒体 | |
| JP3068877B2 (ja) | 光ディスク原盤のグルーブ作製方法 | |
| JPH0877629A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JP2924255B2 (ja) | 紫外線硬化樹脂の硬化方法及び硬化装置 | |
| JP3156698B2 (ja) | 情報記録媒体の記録再生装置 | |
| JPH0729208A (ja) | 情報記録媒体及びその製造装置 | |
| JPS63268150A (ja) | 情報担体の被膜形成方法 | |
| JPH052783A (ja) | 光デイスクのハードコート剤又は保護コート剤の塗布方法 | |
| KR20010055044A (ko) | 에지 효과 제거를 위한 광 디스크의 스핀 코팅 방법 |